KR950012524A - 위상반전 마스크의 제조 방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 위상반전 마스크에 관한 것으로서, 크롬패턴이 형성되지 않아 광이 투과되는 부분의 석영기판에 광의 위상을 반전시키는 정도의 깊이의 홈을 형성하는 기판 에칭형 위상반전 마스크에서, 크롬패턴과 홈의 표면에 산화막을 도포한 후, 열처리하여 상기 크롬패턴상의 산화막은 크롬산화막이 되도록하고, 상기 홈의 표면에 도포되어 있는 산화막은 홈 표면의 불규칙한 난반사면을 평탄화하고 고밀도화 되도록하여 광이 전반사 되도록 하였으므로, 광의 산란이 방지되어 광의 세기가 증가되고, 크롬패턴의 테두리에서의 광간섭이 최소화되어 웨이퍼상에 형성되는 패턴의 정확도가 증가된다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 종래 위상 반전 마스크의 일실시예의 단면도.
제4도는 (A)∼(C)는 본 발명에 따른 위상 반전 마스크의 제조 공정도.
Claims (4)
- 크롬패턴이 형성되어 있는 투명기판상의 광이 투과되는 부분에 투과되는 광의 위상을 반번시키는 소정 깊이의 홈들이 형성되어 있는 위상반전 마스크의 제조 방법에 있어서, 상기 투명기판과 크롬패턴 및 홈 표면에 산화막을 형성하는 공정과, 상기 구조의 기판을 소정의 온도로 열처리하여 크롬 패턴상의 산화막은 산화 크롬막이되고 투명기판과 홈 표면의 산화막이 평탄화, 되도록 하는 공정을 구비하는 위상반전 마스크의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 투명기판이 석영기판인 것을 특징으로하는 위상반전마스크의 제조방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 홈의 깊이를 3400∼4000Å정도의 깊이로 형성하는 것을 특징으로하는 위상반전 마스크의 제조방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 산화막의 두께를 수십Å 정도로 형성하는 것을 특징으로 하는 위상반전 마스크의 제조방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019930021404A KR970005673B1 (ko) | 1993-10-15 | 1993-10-15 | 위상 반전 마스크의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1019930021404A KR970005673B1 (ko) | 1993-10-15 | 1993-10-15 | 위상 반전 마스크의 제조방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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KR950012524A true KR950012524A (ko) | 1995-05-16 |
KR970005673B1 KR970005673B1 (ko) | 1997-04-18 |
Family
ID=19365884
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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KR1019930021404A KR970005673B1 (ko) | 1993-10-15 | 1993-10-15 | 위상 반전 마스크의 제조방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
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KR (1) | KR970005673B1 (ko) |
-
1993
- 1993-10-15 KR KR1019930021404A patent/KR970005673B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
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KR970005673B1 (ko) | 1997-04-18 |
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