KR950004146A - 광자기 기록매체용 표적물질 및 이의 제조방법 - Google Patents

광자기 기록매체용 표적물질 및 이의 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 RE가 Nd, Gd, Tb, Dy, Ho 및 Er로 이루어진 원소의 그룹 중에서 선택된 하나 이상의 회토류 원소이고 TM이 Fe, Co 및 Ni로 이루어진 철족 금속의 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 원소인, 화학식 TM2RE의 금속간 화합물의 조성보다 RE 함량이 많은 조성을 갖는 RE-TM상(A) 및 화학식 TM2RE의 금속간의 화합물의 조성보다 RE 함량이 적가나 동일한 조성을 갖는 TM-RE상(B)을 소결시킴으로써 형성된 구조를 갖는 광자기 기록매체용 표적 물질 및 이의 제조방법에 관한 것이다.

Description

광자기 기록매체용 표적물질 및 이의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 표적물질 구조의 한 예를 나타내는 금속 미세구조 사진이고, 제2도는 본 발명의 표적물질 구조의 한 예를 나타내는 스케치이며, 제3도는 본 발명의 표적물질 구조의 또 다른 예를 나타내는 금속 미세구조 사진이고,

Claims (20)

  1. RE가 Nd, Gd, Tb, Dy, Ho 및 Er로 이루어진 원소의 그룹 중에서 선택된 하나 이상의 회토류 원소이고 TM이 Fe, Co 및 Ni로 이루어진 철족 금속의 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 원소인, 화학식 TM2RE의 금속간 화합물의 조성보다 RE 함량이 많은 조성을 갖는 RE-TM상(A) 및 화학식 TM2RE의 금속간의 화합물의 조성보다 RE 함량이 적거나 동일한 조성을 갖는 TM-RE상(B)을 소결시킴으로써 형성된 구조를 갖는 광자기 기록매체용 표적 물질.
  2. 제1항에 있어서, RE-TM상(A)이 RE 함량이 66중량％ 이상인 RE와 Fe의 공정 합금 상인 광자기 기록매체용 표적 물질.
  3. 제1항에 있어서, RE-TM상(B)이 화학식 TM17RE2의 금속간 화합물의 조성보다 RE 함량이 적은 조성을 갖는 광자기 기록매체용 표적 물질.
  4. 제1항에 있어서, Al, Ti, Cu, Cr, Nb, Ta, Pd 및 Pt로 이루어진 그룹 중에서 선택된 하나 이상의 금속 원소 X가 10중량％ 이하의 양으로 존재하는 광자기 기록매체용 표적 물질.
  5. 제1항에 있어서, 최대 자기 투과성이 10이하인 광자기 기록매체용 표적 물질.
  6. 제1항에 있어서, 포화 자속 밀도(Bs)가 0.8T 이하인 광자기 기록매체용 표적 물질.
  7. 제1항에 있어서, RE 및 RE와 TM의 금속간 화합물이 RE-TM상(A)에 분산된 구조를 갖는 광자기 기록매체용 표적 물질.
  8. RE가 Nd, Gd, Tb, Dy, Ho 및 Er로 이루어진 원소의 그룹 중에서 선택된 하나 이상의 회토류 원소이고 TM이 Fe, Co 및 Ni로 이루어진 철족 금속의 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 원소인, 화학식 TM2RE의 금속간 화합물의 조성보다 RE 함량이 많은 조성을 갖는 RE-TM상(A) 및 화학식 TM2RE의 금속간의 화합물의 조성보다 RE 함량이 적거나 동일한 조성을 갖는 TM-RE상(B) 및 TM 단일 물질 또는 TM 원소의 합금으로 구성된 TM상(C)을 소결시킴으로써 형성된 구조를 갖는 광자기 기록매체용 표적 물질.
  9. 제8항에 있어서, RE-TM상(A)이 RE 함량이 66중량％ 이상인 RE와 Fe의 공정 합금 상인 광자기 기록매체용 표적 물질.
  10. 제8항에 있어서, RE-TM상(B)이 화학식 TM17RE2의 금속간 화합물의 조성보다 RE 함량이 적은 조성을 갖는 광자기 기록매체용 표적 물질.
  11. 제8항에 있어서, Al, Ti, Cu, Cr, Nb, Ta, Pd 및 Pt로 이루어진 그룹 중에서 선택된 하나 이상의 금속 원소 X가 10중량％ 이하의 양으로 존재하는 광자기 기록매체용 표적 물질.
  12. 제8항에 있어서, 4A족, 5A족 및 6A족에 해당되는 원소로부터 선택된 하나 이상의 원소가 50원자％ 이하이며 나머지는 사실상 Co로 구성된 Co 합금 상이 TM상(C)의 일부 또는 전부로서 존재하는 광자기 기록매체용 표적 물질.
  13. 제8항에 있어서, Cr 또는 V가 30원자％ 이하이며 나머지는 사실상 Co로 구성된 Co 합금상이 TM상(C)의 일부 또는 전부로써 존재하는 광자기 기록매체용 표적 물질.
  14. 제8항에 있어서, 최대 자기 투과성이 10 이하인 광자기 기록매체용 표적 물질.
  15. 제8항에 있어서, 포화 자속 밀도(Bs)가 0.8T 이하인 광자기 기록매체용 표적 물질.
  16. 제8항에 있어서, RE 및 RE와 TM의 금속간 화합물이 RE-TM상(A)에 분산된 구조를 갖는 광자기 기록매체용 표적 물질.
  17. RE가 Nd, Gd, Tb, Dy, Ho 및 Er로 이루어진 원소의 그룹 중에서 선택된 하나 이상의 회토류 원소이고 TM이 Fe, Co 및 Ni로 이루어진 철족 금속의 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 원소인, 화학식 TM2RE의 금속간 화합물의 조성보다 RE 함량이 많은 조성을 갖고 RE 및 RE와 TM의 금속간 화합물이 분산된 구조를 갖는 분말(a)와 화학식 TM2RE의 금속간의 화합물의 조성보다 RE 함량이 적거나 동일한 조성을 갖는 분말(b)를 가압하에서 소결시킴을 특징으로 하여, 광자기 기록매체용 표적 물질을 제조하는 방법.
  18. 제17항에 있어서, TM 단일 물질의 분말(A), 분말(b), 및 분말(c) 또는 TM 원소의 합금을 혼합한 후, 가압하에서 소결시킴을 특징으로 하는 방법.
  19. 제17항에 있어서, Al, Ti, Cu, Cr, Nb, Ta, Pd 및 Pt로 이루어진 그룹 중에서 선택된 하나 이상의 금속 원소 X를 단일 물질 분말 또는 회토류 원소 및/또는 금속과의 합금의 분말 형태로 하여 10중량％ 이하의 양으로 가함을 특징으로 하는 방법.
  20. 제18항에 있어서, 4A족, 5A족 및 6A족에 해당되는 원소로 부터 선택된 하나 이상의 원소가 50원자％ 이하이며 나머지는 사실상 Co로 구성된 Co 합금 분말을 TM 단일 물질 분말(c)의 일부 또는 전부를 대신하여 사용함을 특징으로 하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3098204B2 (ja) * 1997-03-07 2000-10-16 ティーディーケイ株式会社 光磁気記録用合金ターゲット、その製造方法およびその再生方法
US6592724B1 (en) 1999-09-22 2003-07-15 Delphi Technologies, Inc. Method for producing NiTiHf alloy films by sputtering
US6596132B1 (en) * 1999-09-22 2003-07-22 Delphi Technologies, Inc. Production of ternary shape-memory alloy films by sputtering using a hot pressed target
US6454913B1 (en) 2001-07-12 2002-09-24 Delphi Technologies, Inc. Process for deposition of sputtered shape memory alloy films
JP2006307345A (ja) * 2006-05-08 2006-11-09 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd スパッタリングターゲット
JP2007131941A (ja) * 2006-05-26 2007-05-31 Mitsubishi Materials Corp パーティクル発生の少ない相変化膜形成用スパッタリングターゲットの製造方法。
JP5403418B2 (ja) * 2008-09-22 2014-01-29 日立金属株式会社 Ｃｏ−Ｆｅ−Ｎｉ系合金スパッタリングターゲット材の製造方法
JP5376250B2 (ja) * 2010-03-28 2013-12-25 三菱マテリアル株式会社 スパッタリングターゲットの製造方法

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6195788A (ja) * 1984-10-17 1986-05-14 Mitsubishi Metal Corp 光磁気記録薄膜形成用複合ターゲット材
US4620872A (en) * 1984-10-18 1986-11-04 Mitsubishi Kinzoku Kabushiki Kaisha Composite target material and process for producing the same
JPS62274033A (ja) * 1986-05-22 1987-11-28 Hitachi Metals Ltd 希土類−遷移金属合金タ−ゲツトの製造方法
JPH0768611B2 (ja) * 1986-08-20 1995-07-26 日立金属株式会社 スパツタリング用合金タ−ゲツトの製造方法
JPS63143255A (ja) * 1986-12-04 1988-06-15 Mitsubishi Kasei Corp 合金タ−ゲツト材
JPH0768612B2 (ja) * 1987-04-20 1995-07-26 日立金属株式会社 希土類金属―鉄族金属ターゲット用合金粉末、希土類金属―鉄族金属ターゲット、およびそれらの製造方法
JPS63274763A (ja) * 1987-04-30 1988-11-11 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 光磁気記録用合金タ−ゲツト
JPS648367A (en) * 1987-06-29 1989-01-12 Maruyama Mfg Co Reciprocating pump device
JPS648243A (en) * 1987-06-30 1989-01-12 Mitsui Shipbuilding Eng Rare earth metal-transition metal alloy and its production
JP2633572B2 (ja) * 1987-08-08 1997-07-23 三井石油化学工業株式会社 光磁気記録体
EP0308201B1 (en) * 1987-09-17 1993-11-18 Seiko Epson Corporation Method of forming a sputtering target for use in producing a magneto-optic recording medium
US4824481A (en) * 1988-01-11 1989-04-25 Eaastman Kodak Company Sputtering targets for magneto-optic films and a method for making
JP2597380B2 (ja) * 1988-03-23 1997-04-02 日立金属株式会社 希土類金属−遷移金属ターゲット用合金粉末の製造方法および希土類金属−遷移金属ターゲットの製造方法
JP2894695B2 (ja) * 1988-03-30 1999-05-24 日立金属株式会社 希土類金属−鉄族金属ターゲットおよびその製造方法
JP2638988B2 (ja) * 1988-09-01 1997-08-06 大日本インキ化学工業株式会社 ジシアノ基を有する光学活性化合物
JPH0784658B2 (ja) * 1988-10-26 1995-09-13 住友金属鉱山株式会社 光磁気記録用合金ターゲット
DE3935698C2 (de) * 1988-10-26 1995-06-22 Sumitomo Metal Mining Co Legierungstarget für die Herstellung eines magneto-optischen Aufzeichnungsmediums
JPH0784657B2 (ja) * 1988-10-26 1995-09-13 住友金属鉱山株式会社 光磁気記録用合金ターゲット
JPH02138463A (ja) * 1988-11-16 1990-05-28 Hitachi Metals Ltd スパッタリング用ターゲット材
JPH04325670A (ja) * 1991-04-25 1992-11-16 Seiko Epson Corp スパッタリング用ターゲットの製造方法及びスパッタリング用ターゲット
JP2988021B2 (ja) * 1991-06-12 1999-12-06 三菱マテリアル株式会社 透磁率の低い光磁気記録薄膜形成用高強度ターゲット材
JPH05271915A (ja) * 1992-03-24 1993-10-19 Hitachi Metals Ltd 光磁気記録媒体用ターゲット材およびその製造方法
JP2986291B2 (ja) * 1992-06-15 1999-12-06 三井金属鉱業株式会社 光磁気記録媒体用スパッタリングターゲット及びその製造方法
JP2681737B2 (ja) * 1993-03-24 1997-11-26 日華化学株式会社 感熱記録材料
JPH06320896A (ja) * 1993-05-14 1994-11-22 Mimaki Eng:Kk プロッタのｘ―ｙ方向の直角度調整方法とそれに用いるプロッタ

Also Published As

Publication number Publication date
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DE69432002T2 (de) 2003-10-23
DE69432002D1 (de) 2003-02-20
JPH0790567A (ja) 1995-04-04
US5607780A (en) 1997-03-04
EP0640964A1 (en) 1995-03-01

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