KR930024116A - 포토레지스터 현상방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 포토레지스터 현상방법에 관한 것으로, 종래에는 형성하고자 하는 패턴을 위해 마스크로서 자외선을 선택적으로 투과시킨 후 감광된 포토레지스터를 현상한 다음 식각한 후 잔류한 포토레지서터를 현상액을 현상하여 많은 현상액의 소비와 시간이 많이 소요되는 문제점이 있었다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 식각 후 잔류한 포토레지스터를 제거할때 포토레지스터 전면을 자외선을 조사하여 감광된 포토레지스터를 형성한 후 현상액으로 현상하여 사진식각 공정시 현상액 소비를 줄일수 있으며 또한 공정시간을 단축시키는 효과가 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도의 (가) 내지 (사)는 본 발명에 따른 사진식각 공정도.
Claims (1)
- 유리기판(1)과 투명도전막(2) 위의 포토레지스터(3)에 마스크(4)로 자외선(UV)을 선택적 투사하여 감광된 포토레지스터(5)를 형성한 후 현상하고 노출된 상기 투명도전막(2)을 식각한 후 잔류한 포토레지스터(3) 전면에 자외선(UV)을 투시하여 감광된 포토레지스터(5)를 형성한 후 현상액으로 현상하는 포토레지스터 현상방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR930024116A true KR930024116A (ko) | 1993-12-22 |
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