KR930006986A - 적층 세라믹 캐패시터의 제조방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명을 세라믹 유전체층 사이에 형성된 가공층 내부로 용융금속을 주입하여 내부전극을 형성하는 주입전극법에 의한 적층 세라믹 캐패시터의 제조방법에 관한 것으로, 특히 내부전극 형성용 용융금속을 가공층 내부로 주입하기전에 세라믹 유전체의 양측면에 은이나 백금/은의 페이스트를 도포하여 소부함으로써 일차 외부전극을 형성한 후에 기공층으로 부터 세라믹 유전체의 외부표면을 향해 형성된 주입통로를 통하여 용융금속의 주입을 행하여 내부전극을 형성하는 방법에 관한 것이다.
본 발명의 주입통로를 통한 내부전극 주입방식은 종래의 다공성 침투층을 통한 방법에 비해 비교적 낮은 압력하에서도 신속하게 용융금속의 주입이 수행되는 장점이 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명의 실시예에 의한 적층 세라믹 캐패시터의 제작과정을 단계별로 보인 것으로,
(a)는 카본페이스트가 도포된 유전체 시이트의 적층이전의 상태이고,
(b)는 적층 소결한 세라믹 유전체의 정면도이며,
(c)는 (b)의 단면도이며,
(d)는 세라믹 유전체의 양측면에 일차 외부전극을 형성한 상태이고,
(e)는 내부전극의 주입이 완료된 적층 세라믹 캐패시터의 단면도이다.
Claims (4)
- 가연성물질로 이루어진 카본 페이스트가 도포된 유전체 시이트를 다수매 적층 소결하여 생성된 기공층의 내부로 용융금속을 주입하여 내부전극을 형성하는 적충세라믹 캐패시터의 제조방법에 있어서, 기공층에 세라믹 유전체의 표면과 연통되는 주입통로를 형성하고, 세라믹 유전체의 양측면에 금속전극 페이스트를 도포하여 소부한 일차 외부전극을 형성한 후에 상기 주입통로를 통하여 용융 금속의 주입을 행하여 내부전극을 형성한 다음 상기 일차 외부 전극상에 Ni나 Ni 합금층의 이차 외부전극을 형성함을 특징으로 하는 적층 세라믹 캐패시터의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 내부전극 형성용 금속이 Pb나 Pb합금 또는 Sn합금인 것을 특징으로 하는 적층 세라믹 캐패시터의 제조방법.
- 가연성물질로 이루어진 카본페이스트가 도포된 유전체 시이트를 다수매 적층 소결하여 생성된 적층세라믹 캐패시터의 제조방법에 있어서, 기공층에 세라믹 유전체의 표면과 연통되는 주입통로를 형성하고, 세라믹 유전체의 양측면에 은이나 백금/은의 금속 페이스트를 소부하여 일차 외부전극을 형성한 후 그 위에 도금이나 증착 또는 전극 페이스트 소부의 방법으로 Ni 나 Ni 합금층을 피복하여 외부전극 형성한 다음 상기 주입통로를 통하여 용융 금속의 주입을 행하여 내부전극을 형성함을 특징으로 하는 적층 세라믹 캐패시터의 제조방법.
- 제3항에 있어서, 내부전극 형성용 금속이 Pb 나 Pb합금 또는 Sn 합금인 것을 특징으로 하는 적층 세라믹 캐패시터의 제조방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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