KR930003278A - 완만한 프로화일을 갖는 개구부의 형성방법 - Google Patents
완만한 프로화일을 갖는 개구부의 형성방법 Download PDFInfo
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Abstract
내용 없음.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2A도 내지 제2D도는 본 발명에 따른 개구부의 형성방법을 도시한 공정순서도.
Claims (4)
- 반도체기판상에 제 1절연층을 형성하는 공정; 상기 제1절연층위에 제2절연층을 형성하는 공정; 상기 제2절연층위에 포토레지스트 패턴을 형성하는 공정; 상기 포토레지스트 패턴을 적용하여, 상기 제2절연층을 일정두께 등방성 식각하는 공정; 상기 포토레지스트 패턴을 적용하여, 상기 나머지 두께의 제2절연층 및 제1절연층을 이방성 식각함으로써 개구부를 형성하는 공정; 그리고, 상기 포토레지스트 패턴을 제거한 후, 상기 개구부가 형성된 절연층을 열처리시키는 공정으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 완만한 프로화일을 갖는 개구부의 형성방법.
- 제1항에 있어서, 상기 제1절연층 및 제2절연층은 BPSG막으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 완만한 프로화일을 갖는 개구부의 형성방법.
- 제2항에 있어서, 상기 제1절연층인 제1BPSG막의 불순물농도가 상기 제2절연층인 제2BPSG막의 불순물농도보다 낮게 형성되는 것을 특징으로 하는 완만한 프로화일을 갖는 개구부의 형성방법.
- 제3항에 있어서, 상기 열처리공정은 1000℃∼1100℃온도하에서 10초∼20초 동안RTA공정을 통하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 완만한 프로화일을 갖는 개구부의 형성방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019910011545A KR930003278A (ko) | 1991-07-08 | 1991-07-08 | 완만한 프로화일을 갖는 개구부의 형성방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1019910011545A KR930003278A (ko) | 1991-07-08 | 1991-07-08 | 완만한 프로화일을 갖는 개구부의 형성방법 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR930003278A true KR930003278A (ko) | 1993-02-24 |
Family
ID=67440580
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019910011545A KR930003278A (ko) | 1991-07-08 | 1991-07-08 | 완만한 프로화일을 갖는 개구부의 형성방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR930003278A (ko) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100473157B1 (ko) * | 1997-12-31 | 2005-05-19 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체소자의콘택홀형성방법 |
KR100477823B1 (ko) * | 1997-12-27 | 2005-06-29 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체소자의콘택홀형성방법 |
KR100814339B1 (ko) * | 2001-11-16 | 2008-03-18 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 콜레스테릭 액정 컬러필터를 가지는 반사형 액정표시장치 |
-
1991
- 1991-07-08 KR KR1019910011545A patent/KR930003278A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100477823B1 (ko) * | 1997-12-27 | 2005-06-29 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체소자의콘택홀형성방법 |
KR100473157B1 (ko) * | 1997-12-31 | 2005-05-19 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체소자의콘택홀형성방법 |
KR100814339B1 (ko) * | 2001-11-16 | 2008-03-18 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 콜레스테릭 액정 컬러필터를 가지는 반사형 액정표시장치 |
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