KR920010791A - 열처리 방법 및 열처리 장치 - Google Patents

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이노우에 다케시
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Abstract

내용 없음

Description

열처리 방법 및 열처리 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 1실시예에 관한 열처리 장치의 개략 구성을 나타내는 단면도,
제2도는 상기 장치에 이용한 링 형성 트레이의 구조를 나타내는 단면도,
제3도는 가열 타이밍과 가스공급 타이밍과의 관계를 나타내는 모식도.

Claims (8)

  1. 열처리 되는 대상의 복수의 피처리기체(12)와, 상기 피처리기체를 지지하는 지그(17)와, 상기 지그에 의해서로 평행하게 배열된 복수의 상기 피처리기체에 대하여 열을 공급하는 가열히터(14)를 가지고, 상기 가열히터(14)는 상기 피처리기체를 소정의 거리를 통하여 서로 평행하게 포위하는 위치에 배설된 열처리 장치에 있어서, 상기 열처리 장치를 이용하여 상기 피처리기체(12)에 소정의 열처리를 시행하는 열처리 방법으로서, 상기 피처리기체(12)와 상기 지그(17)를 포함한 합계의 열용량이, 상기 피처리기체의 중앙부에 비교하여 상기 피처리기체의 주변부의 쪽의 열용량이 커지는 것 같은 형상으로 설정하는 것을 특징으로 하는 열처리 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 피처리기체와 상기 지그를 함유한 합계의 열용량이, 상기 피처리기체의 주변부 근방에서, 그 내측보다도 외측의 쪽의 열용량이 커지는 것 같은 형상을 설정하는 것을 특징으로 하는 열처리 방법.
  3. 열처리 되는 대상의 복수의 피처리기체(12)와, 상기 피처리기체를 지지하는 지그(17)와, 상기 지그에 의해 서로 평행하게 배열된 복수의 상기 피처리기체에 대하여 열을 공급하는 가열히터(14)를 가지고, 상기 가열히터(14)는 상기 피처리기체를 소정의 거리를 통하여 서로 평행하게 포위하는 위치에 배설된 열처리장치를 이용하여 상기 피처리기체(12)에 소정의 열처리를 시행하는 열처리 방법으로서, 상기 피처리기체의 가열처리에 있어서 그 지름방향의 온도분포를 균일하게 하기 위해 상기 지그(17)의 형상을 결정하기 위한 소정의 형상 결정 순서로 구성하는 열처리 방법이며, 상기의 형상 결정 순서는, 상기 지그의 형상(각 부위치수, 재질)결정의 전제로 되는 상기 가열히터의 설정조건 및 상기 피처리 기체(e·g·웨이퍼)의 형상(각 부위치수, 재질)조건을 미리 설정하는 초기설정스텝(S1)과; 상기 초기설정스텝의 설정조건에 있어서, 상기 지그(e·g·링 트레이)가 붙어 있지 않은 상태의 열처리 장치를 가열하여 그 기체의 슬립 발생의 유무를(웨이퍼 피치를 패러미터로 하여) 실험적으로 구하는 예비실험스텝(S2)과; 상기 가열히터로부터의 복사열량의 지름방향의 분포를(웨이퍼 피치를 페러미터로 하여)시뮬레이션에 의해 구하는 시뮬레이션 계산스텝(S3)과; 상기 예비설험스텝에서 슬립이 발생하지 않는 것이 확인된 4배 피치를 가지는 지그의 최대경사와, 실제로 실현 형성하려고 하는 1배치를 가지는 지그의 최대경사에 관한 최대경사(구배)비율(r)을 소정의 그래프를 토대로 하여 구하는 스텝(S4)과; 두께가 일정한 경우의 상기 지그인 링 트렌인(17)의 형상치수중에서 「폭」 및 「두께」를 결정하기 위한 상기 최대경사(구배)비율(r)을 이용하여, 링 트레이의 바람직한 두께를 결저하는 소정의 순서(SA)와, 링 트레이의 바람직한 폭을 결정하는 소정의 순서(SB)로부터 구성되고 있는 열처리 방법.
  4. 제3항에 있어서, 상기의 두께를 결정하는 소정의 순서(SA)는, 상기 피처리기체인 웨이퍼의 단위면적당의 열용량(GW)과, 링형상의 상기 지그인 링트레이의 단위면적당의 열용량(Gr)을 구하고, 상기 최대경사(구배)비율(r)과의 소정의 관계식(Gr=(r-1)GW)에 따라, 웨이퍼의 두께(tw)와, 링트레이의 비열(Cr) 및 밀도(ρr)와, 웨이퍼의 비열(Cw) 및 밀도(ρr)와의 사이에 성립하는 소정의 관계식(tw=(r-1)(ρw Cw)tw/ρr Cr)을 구하는 스텝(S5,S6)과; 소망에 의해 웨이퍼의 재질에 소정의 제1재질(e·g·실리콘)을 또 링 트레이의 재질에 소정의 제2재료(g·e·석영)를 채용한다고 가정하고, 각각 고유의 비열(Cw,Cr) 및 밀도(ρw,ρr) 및 웨이퍼 두께(tw)를 각각 상기 관계식에 대입하는 스텝(S7)과; 상기 링 트레이의 두께(tr)를 구함으로써, 상기 소정의 관계식에 따라 계산을 행하는 스텝(S8)과; 인접하는 2개의 웨이퍼 사이의 거리를 나타내는 웨이퍼 퍼치를 근사적으로 상기 링 트레이의 최대 두께라고 가정하고, 링 트레이의 바람직한 두께(tr)의 상한치 및 그 하한치의 범위(두께의 하한치(tl)바람직한 두께(tr)두께의 상한치(=웨이퍼피치))에 따라서 링 트레이의 두께를 상기 범위내에 결정하는 스텝(S9)으로 구성되는 것을 특징으로 하는 열처리 방법.
  5. 제3항에 있어서, 상기의 링 트레이의 바람직한 폭을 결정하는 소정의 순서(SB)는, 웨이퍼 에지에서의 복사열량(ø1)을 계산하고, 이 복사열량(ø1)과 상기 최대경사(구배)비율(r)에서 ø1/r을 계산한 후, 이 값 ø1/r과 일체하는 복사열량을 받는 웨이퍼 에지에서의 거리(위치)를 소정의 그래프를 토대로 하여 구하고, 링 트레이의 폭의 하한(n)을 결정하는 스텝(S10)과; 이어서, 다시 소정의 마진을 취하여 4배 피치의 최대경사를 얻는 위치를 소정의 그래프를 토대로 하여 구하고, 링 트레이폭의 상한(m)을 결정하는 스텝(S11)과; 최종적으로, 상기의 링 트레이폭의 상한 및 하한을 결정하는 스텝(S10,S11)에 의해 결정된 상한치 및 하한치의 범위(n폭(w)m)에 따라 링 트레이를 그 폭의 범위로 설형하는 스텝(S12)으로 구성되는 것을 특징으로 하는 열처리 방법.
  6. 소정의 가스가 도입되는 가열실(11)과, 이 가열실의 주위에 설치된 가열히터(14)와, 상기 가열실내에 배치되어 복수의 피처리기체를 서로 평행하게 지지하는 지그(17)로 구성된 열처리장치로서, 상기 지그(17)는 상기 피처리기체를 지지하여 일체로 되었을 때 그 기체의 지름방향에서, 그 내측보다도 외측의 쪽의 열용량이 커지는 것 같은 형상으로 형성되고 있는 것을 특징으로 하는 열처리 장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 지그(17)는, 상기 피처리기체를 그 주변부에서 유지하는 링형상의 트레이로 구성되는 것이며, 상기 트레이의 두께는 일정(균일), 또는 그 내주측보다도 외주측의 쪽이 두껍게 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 열처리 장치.
  8. 제6항에 있어서, 상기 지그(17)는, 상기 피처리기체를 그 주변부에서 유지하는 링형상의 트레인로 구성되는 것이며, 상기 트레이는 복수종류의 재료에서 형성되고, 또한, 그 내주측 보다도 외주측의 쪽이 비열의 커다란 재료로 형성되고 있는 것을 특징으로 하는 열처리 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개되는 것임.
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