KR920009493A - 방전가공기의 적응제어장치 및 방법 - Google Patents

방전가공기의 적응제어장치 및 방법 Download PDF

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Abstract

내용 없음.

Description

방전가공기의 적응제어장치 및 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 따른 방전가공기의 적응제어장치의 1실시예를 도시한 도면,
제2도는 제1에 도시한 이상판단부의 구성을 상세하게 도시한 설명도,
제3도는 방전가공기에 사용된 평방 100mm의 가공전극의 움직임을 도시한 설명도.

Claims (19)

  1. 전극과 피가공물사이에 전압펄스를 인가하는 것에 의해 방전가공을 실행하는 방전가공기의 적응제어장치에 있어서, 전극의 가장 깊은 위치에서의 상기 전극의 릴리이프 량을 검출하는 검출수단, 상기 검출된 릴리이프 량이 소정의 제1의 스레쉬홀드값을 초과하였을때, 상기 방전가공의 불안정한 동작을 회피시키는 수단과 상기 검출된 릴리이프 량이 상기 불안정한 동작이 회피된 후에 발생하는 소정의 제2의 스레쉬홀드값이하로 된후의 소정의 가공조건으로 가공조건을 변경하는 가공조건변경수단을 포함하는 방전가공기의 적응제어장치.
  2. 특허청구의 범위 제1항에 있어서, 상기 가공조건변경수단은 상기 검출된 릴리이프 량이 최대 릴리이프량의 소정의 비율이 마모 되었을때 상기 가공조건을 복귀시키는 수단을 포함하는 방전가공기의 적응제어장치.
  3. 특허청구의 범위 제1항에 있어서, 상기 소정의 제2의 스레쉬홀드값은 상기 소정의 제1의 스레쉬홀드 값이하인 방전가공기의 적응제어장치.
  4. 특허청구의 범위 제2항에 있어서, 상기 소정의 가공조건은 회피동작전에 사용된 가공조건을 포함하는 방전가공기의 적응제어장치.
  5. 특허청구의 범위 제4항에 있어서, 상기 가공조건은 상기 전극의 하강시간과 상승거리를 포함하는 방전가공기의 적응제어장치.
  6. 특허청구의 범위 제2항에 있어서, 상기 소정의 비율은 0.2∼0.5의 범위대인 방전가공기의 적응제어장치.
  7. 전극과 피가공물사이에 전압펄스를 인가하는 것에 의해 방전가공을 실행하는 방전가공기의 적응제어장치에 있어서, 전극의 가장 깊은 위치에서의 상기 전극의 릴리이프 량을 검출하는 검출수단, 상기 검출된 릴리이프 량을 몇회의 점프에 걸져서 핑균하는 것에 의해 상기 전극의 가장 깊은 위치에서의 상기 전극의 릴리이프 량을 산출하는 산출수단과 방전가공의 개시로 부터 소정의 기간동안 상기 검출된 릴리이프량과 상기 산출된 릴리이프 량이 모두 소정의 스레쉬”홀드값을 초과하였을때, 상기 방전가공의 불안정한 동작을 회피시키는 수단을 포함하는 방전가공기의 적응제어장치.
  8. 전극과 피가공물사이에 전압펄스를 인가하는 것에 의해 방전가공을 실행하는 방전가공기의 적응제어장치에 있어서, 전극의 가장 깊은 위치에서의 상기 전극의 릴리이프 량을 검출하는 검출수단, 상기 전극과상기 피가공을 사이의 상기 전압펄스가 소정의 레벨로되었을때에 개시되는 상기 전극의 소정의 점프회수를 가운트하는 가운트수단, 상기 검출된 릴리이프 량과 소정의 제1의 스레쉬홀드값을 비교하는 비교수단, 상기 가운트수단 및 상기 비교수단에 따라서, 상기 가운트가 상기 소정회로수로 되지 않고, 상기 검출된 릴리이프 량이 상기 소정의 제1의 스레쉬홀드값을 초과하면 상기 방전가공기의 가공조건을 기억하는 기억수단, 상기 방전가공의 불안정한 동작을 회피하도록 상기 가공조건을 변경시키는 수단, 상기 검출된 값과 소정의 제2의 스레쉬홀드값을 비교하는 가공개시종료판단수단과 상기 검출된 값이 상기 소정의 제2의 스레쉬홀드값이하로 되었을때, 상기 기억수단에 기억된 상기 가공조건을 복귀시키는 수단을 포함하는 방전가공기의 적응제어장치.
  9. 전극과 피가공물사이에 전압펄스를 인가하는 것에 의해 방전가공을 실행하는 방전가공기의 적응제어장치에 있어서, 전극의 가장 깊은 위치에서의 상기 전극의 릴리이프 량을 검출하는 검출수단, 상기 전극과 상기 피가공물 사이의 상기 전압펄스가 소정의 레벨로 되었을때에 개시되는 시간의 기간을 설정하는 기간설정수단. 상기 검출된 릴리이프 량이 이상으로 되는 소정의 제1의 스레쉬홀드값을 초과하는가를 검출하는 이상판단수단. 상기 이상판단수단이 상기 시간의 기간내에서 상기 이상을 검출하면, 상기 방전가공기의 가공조건을 기억하는 기억수단, 상기 이상이 검출된 후에 상기 방전가공의 불안정한 동작을 회피하도록 상기 가공조건을 변경하는 수단, 상기 검출된 값과 소정의 제2의 스레쉬홀드값을 비교하는 가공개시 종료판단수단과 상기검출된 값이 상기 소정의 제2의 스레쉬홀드값이하로 되고, 상기 이상이 회피되었을때, 상기기억수단에 기억된 상기 가공조건을 복귀시키는 수단을 포함하는 방전가공기의 적응제어장치.
  10. 특허청구의 범위 제9항에 있어서, 상기 기간설정수단은 상기 전극과 상기 피가공물사이의 상기 전압이 상기 소정의 레벨이하로 되었을때를 검출하는 분압기, 상기 소정의 레벨을 기억하는 기억장치, 상기 전극과 상기 피가공물사이의 상기 전압과 상기 소정의 레벨을 비교하는 비교기와, 상기 비교기의 출력에 따라서 상기 전극의 점프회수를 카운트하는 카운터를 포함하는 방전가공기의 적응제어장치.
  11. 특허청구의 범위 제10항에 있어서, 상기 소정의 레벨은 40V인 방전가공기의 적응제어장치.
  12. 특허청구의 범위 제9항에 있어서, 상기 이상판단수단은 상기 소정의 제1의 스레쉬홀드값을 기억하는 기억 장치와 상기 검출된 릴리이프 량과 상기 소정의 제1의 스레쉬홀드값을 비교하는 제1의 비교기를 포함하는 방전가공기의 적응제어장치.
  13. 특허청구의 범위 제9항에 있어서, 상기 가공개시 종료판단수단은 상기 소정의 제2의 스레쉬홀드값을 기억하는 기억장치와 상기 검출된 릴리이프 량과 상기 소정의 제2의 스레쉬홀드값을 비교하는 비교기를 포함하는 방전가공기의 적응제어장치.
  14. 특허청구의 범위 제9항에 있어서, 상기 소정의 제1의 스레쉬홀드값은 상기 소정의 제2의 스레쉬홀드값이상인 방전가공기의 적응제어장치.
  15. 특허청구의 범위 제9항에 있어서, 상기 가공개시 종료판단수단은 상기 소정의 제1의 스레쉬홀드값을 선택하는 선택수단, 상기선택수단에 의해 선택된 상기 소정의 제1의 스레쉬홀드값을 기억하는 기억장치와 상기 검출된 릴리이프 량과 상기 소정의 제1의 스레쉬홀드값을 비교하고, 방전가공개시의 종료를 나다내도록 신호를 출력하는 비교기를 포함하는 방전가공기의 적응제어장치.
  16. 특허청구의 범위 제12항에 있어서, 상기 이상판단수단은 또, 상기 검출된 릴리이프 량에 따라 스레쉬홀드값을 선택하는 오퍼레이터, 소정의 제3의 스레쉬홀드값을 기억하는 제2의 기억장치, 상기 스레쉬홀드값과 상기 소정의 제3의 스레쉬홀드값을 비교하는 제2의 비교기와, 상기 제1및 제2의 비교기의 각각의 출력에 따라서 이상을 나타내는 신호를 출력하는 AND회로를 포함하는 방전가공기의 적응제어장치.
  17. 특허청구의 범위 제9항에 있어서, 상기 가공조건을 변경시키는 수단은 모두 한꺼번에 상기 전극의 상승거리를 증대시키고, 상기 견극의 하강시간을 거각시키는 수단을 포함하는 방전가공기의 적응제어장치.
  18. 전극과 피가공물사이에 전압펄스를 인가하는 것에 의해 방전가공을 실행하는 방전가공기의 적응제어어방법에 있어서, (a) 상기 전극과 상기 피가공물사이의 전압을 검출하는 스텝, (b) 가장 깊은 위치에서의 상기 전극의 릴리이프 량을 검출하는 스텝, (c) 상기 전압을 소정의 전압값과 비교하는 스텝, (d) 상기 전압이 소정의 레벨이하로 되었을때, 상기 전극의 점프회수를 가운트하고, 상기 가운트가 상기 소정의 회수로 될때까지 제1의 하이신호를 출력하는 스탭, (e) 상기 검출된 릴리이프 량과 소정의 제1의 스레쉬홀드값을 비교하고 검출된 릴리이프량이 상기 소정의 제1의 스레쉬홀드 값을 초과하었을때 제2의 하이신호를 출력하는 스탭, (f) 상기 제1의 신호 및 제2의 신호 모두가 하이이면, 상기 방전가공기의 가공조건을 기억하는 스텝, (g) 불안정한 동작을 회피하도록 상기 방전가공기의 가공조건을 변경하는 스탭, (h) 상기 검출된 릴리이프 량과 소정의 제2의 스레쉬홀드값을 비교하고, 방전가공의 개시의 종료를 나타내도록, 상기 검출된 릴리이프 랑이 상기 소정의 스레쉬홀드값이하로 되었을때 제3의 하이신호를 출력하는 스텝과 (i) 상기 방전가공의 개시의 종료시에 상기 가공조건을 복귀시키는 스텝을 포함하는 방전가공기의 적응제어방법.
  19. 전극과 피가공물사이에 전압펄스를 인가하는 것에 의해 방전가공을 실행하는 방전가공기의 적응제어방법에 있어서, (a) 상기 방전가공의 개시가 시작되는 시간의 기간을 설정하는 스텝, (b) 전극의 가장 깊은 위치에서의 상기 전극의 검출된 릴리이프 량이 상기 시간의 기간내에서 소정의 스레쉬홀드값을 초과하는 가를 판단하는 것에 의해 이상상태를 검출하는 스텝, (c) 상기 이상상태가 검출되면, 상기 방전가공기의 가공조건을 기억하는 스텝, (d) 상기 이상상태가 검출되면 그의 불안정한 동작을 회피하도록 상기 방전가공기의 가공조건을 소정하는 스텝, (e) 전극의 가장 깊은 위치에서의 상기 전극의 상기 검출된 릴리이프 량이 소정의 제2의 스레쉬홀드값이하로 되었을때를 판단하는 것에 의해 상기 방전가공의 개시의 종료를 검출하는 스텝과 (f) 상기 종료가 검출되었을 때, 상기 가공조건을 복귀시키는 스텝을 포함하는 방전가공기의 적응제어방법.
    ※참고사항:최초출원 내용에 의하여 공개되는 것임.
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