KR920008833A - 위상반전 마스크의 형성방법 - Google Patents
위상반전 마스크의 형성방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR920008833A KR920008833A KR1019900016318A KR900016318A KR920008833A KR 920008833 A KR920008833 A KR 920008833A KR 1019900016318 A KR1019900016318 A KR 1019900016318A KR 900016318 A KR900016318 A KR 900016318A KR 920008833 A KR920008833 A KR 920008833A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- phase inversion
- formation method
- inversion layer
- inversion mask
- forming
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/26—Phase shift masks [PSM]; PSM blanks; Preparation thereof
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
내용 없음.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 1 도는 종래의 위상반전 마스크의 제조과정을 나타낸 단면도.
제 2 도는 본 발명의 위상반전 마스크의 제조과정을 나타낸 단면도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 마스크기판 2 : 위상반전층
3 : 크롬차광막 4, 5 : 감광막
Claims (2)
- 마스크기판(1)의 상면에 위상반전층(2)과 크롬차광막(3)및 감광막(4)을 차례로 증착 또는 도포하는 단계와, 상기 감광막(4)을 이용하여 크롬차광막패턴(3a)을 형성하는 단계와, 다시 감광막(5)을 입히고 이를 이용하여 위상반전층 패턴(2a)을 형성하는 단계에 의해 포토마스크를 완성하도록한 위상반전 마스크의 형성방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 마스크기판(1)의 상면에 위상반전층(2)을 먼저 증착하고 이의 결함여부를 검사하도록한 위상 반전 마스크의 형성방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019900016318A KR930008846B1 (ko) | 1990-10-15 | 1990-10-15 | 위상반전 마스크의 형성방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019900016318A KR930008846B1 (ko) | 1990-10-15 | 1990-10-15 | 위상반전 마스크의 형성방법 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR920008833A true KR920008833A (ko) | 1992-05-28 |
| KR930008846B1 KR930008846B1 (ko) | 1993-09-16 |
Family
ID=19304670
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019900016318A KR930008846B1 (ko) | 1990-10-15 | 1990-10-15 | 위상반전 마스크의 형성방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR930008846B1 (ko) |
-
1990
- 1990-10-15 KR KR1019900016318A patent/KR930008846B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR930008846B1 (ko) | 1993-09-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR970016774A (ko) | 하프톤(Half-Tone) 위상반전마스크의 제조방법 | |
| EP0810474A3 (en) | Pattern exposing method using phase shift and mask used therefor | |
| KR920008833A (ko) | 위상반전 마스크의 형성방법 | |
| KR937000886A (ko) | 미세 레지스트 패턴의 형성 방법 | |
| KR910020493A (ko) | 레지스트의 이중 도포에 의한 이중 노광방법 | |
| KR970008364A (ko) | 미세패턴 형성방법 | |
| KR950020859A (ko) | 위상반전마스크 제조방법 | |
| KR970016789A (ko) | 위상반전 마스크 및 그 제조방법 | |
| KR950001355A (ko) | 칼라필터의 제조방법 | |
| KR970066705A (ko) | 마스크 및 그 제조방법 | |
| KR910002019A (ko) | 포토레지스터 리프트업을 이용한 콘텍트 메탈층 형성방법 | |
| KR970054993A (ko) | 부분 회절 격자 형성 방법 | |
| KR970016794A (ko) | 하프톤 위상 반전 마스크의 제조 방법 | |
| KR930006861A (ko) | 다층레지스트를 이용한 패턴형성방법 | |
| KR910013539A (ko) | 박막 패턴의 형성방법 | |
| KR960019536A (ko) | 리소그래피 공정에 의한 감광막 패턴 형성방법 | |
| KR890011047A (ko) | 차광성 박막의 에칭방법 | |
| KR970007485A (ko) | 하프톤막이 구비된 위상반전 마스크의 제조방법 | |
| KR960002592A (ko) | 반도체 소자의 제조방법 | |
| KR930017113A (ko) | 위상쉬프트 마스크 제조방법 | |
| KR970048937A (ko) | 미세 패턴 형성용 마스크 | |
| KR970024243A (ko) | 칼라 필터용 크롬/크롬 옥사이드 다층막 블랙 매트릭스의 제조방법 | |
| KR970022521A (ko) | 위상반전 마스크 및 그 제조방법 | |
| KR900007055A (ko) | 이미지 리버스 포토레지스트를 이용한 2중포토처리방법 | |
| KR950029846A (ko) | 위상반전마스크 제작 방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| G160 | Decision to publish patent application | ||
| G160 | Decision to publish patent application | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 19980616 Year of fee payment: 6 |
|
| LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |