KR920005761A - 가변 파장 광 필터 및 센서 시스템 - Google Patents

가변 파장 광 필터 및 센서 시스템 Download PDF

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KR920005761A
KR920005761A KR1019910002542A KR910002542A KR920005761A KR 920005761 A KR920005761 A KR 920005761A KR 1019910002542 A KR1019910002542 A KR 1019910002542A KR 910002542 A KR910002542 A KR 910002542A KR 920005761 A KR920005761 A KR 920005761A
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filter layer
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KR1019910002542A
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디. 빈센트 켄트
Original Assignee
디. 크레이그 노드런드
휴렛트 팩카드 캄파니
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Abstract

내용 없음

Description

가변 파장 광 필터 및 센서 시스템
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 1 도는 입사광비임을 수광하는 표준형의 파브리-페로에타론(Fabry-Perot etalon)의 작용에 관한 측면도.
제 2 도는 입사 광 비임을 수광하는 통상적인 다층 에지필터의 측면도.
제 3 도는 두개의 반사 평면들의 분리 거리가 공간 좌표 X에 따라 단조롭게 증가하는 본 발명 필터의 일실시예(투과모드)에 관한 측면도.

Claims (89)

  1. 필터의 수광 평면의 선택된 공간 방향에 위치변이에 따라 광의 중심 파장이 가변하는 통과 대역을 갖는 광 필터장치에 있어서; 서로 면하여 이격된 두개의 수광 표면을 가지고 있으며, 그 수광 평면에서 수광된 광의 파장들 중에서 선택된 통과 대역의 파장을 가지고 있는 광을 부분적으로 투과시키고 부분적으로 반사하는 제1필터 물질층으로서, 상기 두 표면들의 분리 거리가 상기 선택된 방향에서 위치의 변이에 따라 단조롭게 증가하며 적어도 한 위치에 대한 상기 분리 거리가 대략 mλc/2n과 대략 같으며, 상기 식에서 m은 양의 정수이고 n은 상기 선택된 통과 대역내 선택된 파장 λc의 광을 위한 상기 물질의 굴절율의 실수부인 상기 제1필터 물질층과; 상기 선택된 방향에서의 변위에 따라 분리거리가 가변하는 서로 면하여 이격된 두개의 수광 표면을 가지고 있으며, 파장 λc의 광을 적어도 부분적으로 투과 시키고, 상기 제1필터 물질 층의 어느 측파 대역의 파장과 대략 동일한 제2파장의 광을 실질적으로 완전히 흡수하거나 또는 반사하는 제2필터층 중의 한 층을 통하여 투과된 광이 다른 상기 필터층에 의해 수광 되도록 배치되어 있는 제2필터 물질층을 포함하는 장치.
  2. 필터의 수광 평면의 선택된 공간 방향에 위치변이에 따라 광의 중심 파장이 가변하는 통과 대역을 갖는 광 필터장치에 있어서; 서로 면하여 이격된 두개의 수광 표면을 가지고 있으며, 그 수광 평면에서 수광된 광의 파장들 중에서 선택된 통과 대역의 파장을 가지고 있는 광을 부분적으로 투과시키고 부분적으로 반사하는 제1필터 물질층으로서, 상기 두 표면들의 분리 거리가 상기 선택된 방향에서 위치의 변이에 따라 단조롭게 증가하며 적어도 한 위치에 대한 상기 분리 거리는 (m-1/2) λc/2n과 대략 같으며, 상기 식에서 m은 양의 정수이고 n은 상기 선택된 통과 대역내 선택된 파장 λc의 광을 위한 상기 물질의 굴절율의 실수부인 상기 제1필터 물질층과; 상기 선택된 방향에서의 변위에 따라 분리거리가 가변하는 서로 면하여 이격된 두개의 수광 표면을 가지고 있으며, 파장 λc의 광을 적어도 부분적으로 투과 시키고, 상기 제1필터 물질 층의 어느 측파 대역의 파장과 대략 동일한 제2파장의 광을 실질적으로 완전히 흡수하거나 또는 투과시키는 제2필터 물질층으로서 상기 제1필터층과 상기 제2필터층중의 한 층으로부터 발산된 광이 다른 상기 필터 층에 의해 수광되도록 배치되어 있는 상기 제2필터 물질층을 포함하는 장치.
  3. 필터의 수광 평면의 선택된 공간 방향에 위치변이에 따라 광의 중심 파장이 가변하는 통과 대역을 갖는 광 필터장치에 있어서; 서로 면하여 이격된 두개의 수광 표면을 가지고 있으며, 그 수광 평면에서 수광된 광의 파장들 중에서 선택된 통과 대역의 파장을 가지고 있는 광을 부분적으로 투과시키고 부분적으로 반사하는 제1필터 물질층으로서, 상기 두 표면들의 분리 거리가 상기 선택된 방향에서의 변위에 따라 단조롭게 증가하며 적어도 한 위치에 대한 상기 분리 거리는 대략 mλc/2n과 거리 대략 같으며, 상기 식에서 m은 양의 정수이고 n은 상기 선택된 통과 대역내 선택된 파장 λc의 광을 위한 상기 물질의 굴절율의 실수부인 상기 제1필터 물질층과; 상기 선택된 방향에서의 변위에 따라 분리거리가 가변하는 서로 면하여 이격된 두개의 수광 표면을 가지고 있으며, 파장 λc의 광을 적어도 부분적으로 투과 시키고, 상기 제1필터 물질 층의 어느 측파 대역의 파장과 대략 동일한 파장의 광을 실질적으로 완전히 흡수하거나 또는 투과시키는 제2필터 물질층으로서, 상기 제1필터층과 상기 제2필터층중의 한 층을 통하여 투과된 광이 다른 상기 필터 층에 의해 수광되도록 배치되어 있는 상기 제2필터 물질층을 포함하는 장치.
  4. 필터의 수광 평면의 선택된 공간 방향에 위치변이에 따라 광의 중심 파장이 가변하는 통과 대역을 갖는 광 필터장치에 있어서; 서로 면하여 이격된 두개의 수광 표면을 가지고 있으며, 그 수광 평면에서 수광된 광의 파장들 중에서 선택된 통과 대역의 파장을 가지고 있는 광을 부분적으로 투과시키고 부분적으로 반사하는 제1필터 물질층으로서, 상기 두 표면들의 분리 거리가 상기 선택된 방향에서의필터의 수광 평면의 선택된 공간 방향에 위치변이에 따라 광의 중심 파장이 가변하는 통과 대역을 갖는 광 필터장치에 있어서; 서로 면하여 이격된 두개의 수광 표면을 가지고 있으며, 그 수광 평면에서 수광된 광의 파장들 중에서 선택된 통과 대역의 파장을 가지고 있는 광을 부분적으로 투과시키고 부분적으로 반사하는 제1필터 물질층으로서, 상기 두 표면들의 분리 거리가 상기 선택된 방향에서의 위치의 변이에 따라 단조롭게 증가하며 적어도 한 위치에 대한 상기 분리 거리는(m-1/2) λc/2n과 대략 같으며, 상기 식에서 m은 양의 정수이고 n은 상기 선택된 통과 대역내 선택된 파장 λc의 광을 위한 상기 물질의 굴절율의 실수부인 상기 제1필터 물질층과; 상기 선택된 방향에서의 변위에 따라 분리거리가 가변하는 서로 면하여 이격된 두개의 수광 표면을 가지고 있으며, 파장 λc의 광을 적어도 부분적으로 반사하고, 상기 제1필터 물질 층의 어느 측파 대역의 파장과 대략 동일한 제2파장의 광을 실질적으로 완전히 흡수하거나 또는 투과시키는 제2필터 물질층으로서, 상기 제1필터층과 상기 제2필터층중의 한 층으로부터 발산된 광이 다른 상기 필터 층에 의해 수광되도록 배치되어 있는 상기 제2필터 물질층을 포함하는 장치.
  5. 제1항, 제2항, 제3항, 또는 제4항에 있어서, 상기 제2필터 물질 층은 파장의 광을 실질적으로 완전히 흡수 또는 투과시키며,인 장치.
  6. 제1항, 제2항, 제3항, 또는 제4항에 있어서, 상기 선택된 파장λc은 사전결정된 파장λ1과 동일하며; λ1과 대략 동일한 파장을 갖는 상기 광 필터에 의해 발산된 광 비임중의 대략 단색광 부분을 격리 또는 방향을 바꾸게 하는 수단을 더 포함하는 장치.
  7. 제1항, 제2항. 제3항, 또는 제4항에 있어서, 상기 정수 m은 적어도 2와 같은 장치.
  8. 제1항,제2항,제3항, 또는 제4항에 있어서, 상기 제2필터층은 불화 마그네슘, 황화아연, 방해석, 사파이어, 알루미늄과, 실리콘, 게르마늄, 칼슘, 가드뮴, 알루미늄, 티타늄세륨 및 지르코늄의 산화물로 이루어지는 물질들의 부류로 부터 선택되는 장치.
  9. 제1항,제2항,제3항, 또는 제4항에 있어서, 상기 제1필터층은 불화 마그네슘, 황화아연, 방해석, 사파이어, 알루미늄과, 실리콘, 게르마늄, 칼슘, 가드뮴, 알루미늄, 티타늄세륨 및 지르코늄의 산화물로 이루어지는 물질들의 부류로 선택되는 장치.
  10. 제1항,제2항,제3항, 또는 제4항에 있어서, 상기 제1필터층의 상기 두 표면들의 분리 거리는 상기 선택된 방향에서의 위치의 변이에 따라 연속적으로 변하며; 상기 제2필터층의 상기 두 표면들중의 상기 제1표면은 상기 제2필터층의 상기 제2표면과 대략 평행하게 이격된 둘 또는 그 이상의 계단 세그먼트 평면의 계단 구성을 갖는 장치.
  11. 제1항,제2항,제3항, 또는 제4항에 있어서, 상기 제1필터층의 상기 제1표면은 상기 제1필터층의 상기 제2표면과 대략 평행하게 이격된 둘 또는 그 이상의 계단 세그먼트 평면의 계단 구성을 가지고 있으며; 상기 제2필층의 상기 두 표면들의 상기 분리 거리는 상기 선택된 방향에서의 위치의 변이에 따라 연속적으로 변하는 장치.
  12. 제1항, 제2항, 제3항, 또는 제4항에 있어서, 상기 제1필터층의 상기 제1표면은 상기 제1필터층의 상기 제2표면과 대략 평행하게 이격된 둘 또는 그이상의 계단 세그먼트 평면의 계단 구성을 가지고 있으며; 상기 제2필터층의 상기 제1표면과 제2표면은 둘 또는 그 이상의 계단 세그먼트 평면들과 대략 평행하게 이격되어 있는 장치.
  13. 제1항, 제2항, 제3항, 또는 제4항에 있어서, 상기 제1필터층의 상기 제1표면과 제2표면은 각기 계단 구성을 가지며, 상기 제1표면의 둘 또는 그 이상의 계단 세그먼트 평면들은 상기 제2표면들의 둘 또는 그 이상의 계단 세그먼트 평면들과 대략 평행하게 이격되어 있으며; 상기 제2필터층의 상기 제1표면은 상기 제2필터층의 상기 제2표면과 대략 평행하게 이격된 둘 또는 그 이상의 계단 세그먼트 평면의 계단 구성을 갖는 장치.
  14. 제1항, 제2항, 제3항, 또는 제4항에 있어서, 상기 제1필터층과 상기 제2필터층과의 사이에 배치된 적어도 두개의 마주하는 수광 표면을 가지고 있는 광학적으로 투과시키는 기재를 더 포함하며, 상기 제1및 제2필터층중의 적어도 하나의 필터층은 상기 기재의 한 표면상에 배치되어 있는 장치.
  15. 제1항,제2항,제3항, 또는 제4항에 있어서, 적어도 두개의 마주하는 수광 표면을 가지고 있는 광학적으로 투과시키는 기재를 더 포함하며, 상기 제1필터층과 상기 제2필터층은 상기 기재의 동일 수광 표면상에 서로 인접하게 배치되어 있는 장치.
  16. 제1항,제2항,제3항, 또는 제4항에 있어서, 적어도 두개의 마주하는 수광 표면을 가지고 있으며, 파장들중에서 상기 선택된 통과 대역의 바깥에 있는 파장의 광을 실질적으로 완전히 흡수하는 물질을 내포하는 기재를 더 포함하는 장치.
  17. 제1항,제2항,제3항, 또는 제4항에 있어서, 상기 제1필터층과 상기 제2필터층은 직선 방향으로 서로 대략 평행하게 연장하는 장치.
  18. 제1항,제2항,제3항, 또는 제4항에 있어서, 상기 제1필터층과 상기 제2필터층은 각기 제1원과 제2원의 부채꼴을 따라 놓여 있으며, 상기 두원은 대략 동심원인 장치.
  19. 제1항,제2항,제3항, 또는 제4항에 있어서, 적어도 제1및 제2수광 표면을 가지고 있는 광학적으로 투과시키는 프리즘을 더 포함하며, 상기 제1및 제2필터층은 상기 프리즘의 상기 제1및 제2표면상에 배치되어 있는 장치.
  20. 제1항,제2항,제3항, 또는 제4항에 있어서, 상기 제1필터층이 상기 두 표면들의 분리 거리 h(x)는 상기 선택된 방향에서 위치 x의 함수로서 대략 h(x)=a+bxk이며, 상기식에서 a,b 및 k는 사전 결정된 상수이며 k≠0 인 장치.
  21. 필터의 수광 평면의 선택된 공간 방향에서 위치의 변이에 따라 투과된 광의 중심 파장이 가변하는 통과 대역을 갖는 광 필터 센서 시스템 장치에 있어서; 서로 면하는 두개의 이격된 수광 표면을 가지고 있으며, 그 수광 평면에서 광의 파장들 중에서 선택된 통과 대역의 파장을 갖는 광을 부분적으로 투과 시키고 부분적으로 반사하는 제1필터 물질층으로서, 상기 두 표면들의 분리 거리 h1는 상기 선택된 방향에서 위치의 변이에 따라 단조롭게 증가하며 적어도 한 위치에 대한 상기 분리 거리 h1는 대략 λc/2n과 같으며, 상기식에서, m은 양의 정수이고 n은 상기 선택된 통과 대역내 선택된 파장 λc의 광을 위한 상기 물질의 굴절율의 실수부인 상기 제1필터 물질층과; 상기 선택된 방향으로 연장하는 선택된 방향에서 측량한 위치에서 상기 제1필터층을 통해 투과된 광비임의 일부를 수광하도록 배치되어 있는 상기 광센서 어레이를 포함하는 장치.
  22. 제21항에 있어서, 상기 선택된 방향에서 위치의 변이에 따라 분리 거리가 단조롭게 증가하는 서로 면하는 두개의 이격된 표면을 가지고 있으며, 상기 λc의 광을 적어도 부분적으로 투과시키고, 상기 제1필터 물질층의 어느 측파 대역의 파장과 대략 동일한 제2파장의 광을 실질적으로 완전히 흡수 또는 반사하는 제2필터 물질층으로서, 상기 제1필터층과 상기 제2필터층중의 하나의 층을 통해 투과된 광이 다른 상기 필터층에 의해 수광되도록 배치되어 있는 상기 제2필터 물질층을 더 포함하는 장치.
  23. 제21항에 있어서, 상기 제1필터층의 상기 두 표면들중의 한 표면에 인접하게 배치되어 있으며, 상기 선택된 방향에서의 변위에 따라 분리 거리가 단조롭게 증가하는 서로 면하는 두개의 이격된 표면을 가지고 있고, 상기 파장 λc의 광을 부분적으로 투과시키고, 상기 제1필터 층의 어느 측파 대역의 파장과 대략 동일한 제2파장의 광을 실질적으로 완전히 흡수 또는 투과 시키는 제2필터 물질층으로서, 상기 제1필터 층과 상기 제2필터층중의 한 층으로부터 반사된 광이 다른 상기 필터층에 의해 수광되도록 배치되어 있는 상기 제2필터 물질층을 더 포함하는 장치.
  24. 필터의 수광 평면의 선택된 공간 방향에 위치의 변이에 따라 반사된 광의 중심 파장의 가변하는 통과 대역을 갖는 광 필터 센서 시스템 장치에 있어서; 서로 면하는 두개의 이격된 수광 표면을 가지고 있으며, 그 수광 평면에서 수광된 광의 파장들 중에서 선택된 통과 대역의 파장을 갖는 광을 부분적으로 투과시키고 부분적으로 반사하는 제1필터 물질층으로서, 상기 두 표면들의 분리 거리 h1는 상기 선택된 방향에서 위치의 변이에 따라 단조롭게 증가하며 적어도 한 위치에 대한 상기 분리 거리 h1는 대략 (m-1/2)λc/2n과 같으며, 상기식에서, m은 양의 정수이고 n은 상기 선택된 통과 대역내 선택된 파장 λc의 광을 위한 상기 물질의 굴절율의 실수부인 상기 제1필터 물질층과; 상기 선택된 방향으로 연장하는 광센서 어레이로서, 각각의 상기 광센서는 상기 선택된 방향에서 측량한 위치에서 상기 제1필터층으로부터 반사된 광 비임의 일부를 수광하도록 배치되어 있는 상기 광센서 어레이를 포함하는 장치.
  25. 제24항에 있어서, 상기 제1필터층의 상기 두 표면들중의 한 표면에 인접하게 배치되어 있으며, 상기 선택된 방향에서의 변위에 따라 분리 거리가 단조롭게 증가하는 서로 면하는 두개의 이격된 표면을 가지고 있으며, 상기 파장 λc의 광을 적어도 부분적으로 반사하고, 상기 제1필터 물질층의 어느 측파 대역의 파장과 대략 동일한 파장의 광을 실질적으로 완전히 흡수 또는 투과시키는 제2필터물질층으로서, 상기 제1필터층과 상기 제2필터층중의 하나의 층을 통해 투과된 광이 다른 상기 필터층에 의해 수광되도록 배치되어 있는 상기 제2필터 물질층을 더 포함하는 장치.
  26. 제24항에 있어서, 상기 제1필터층의 상기 두 표면들중의 한 표면에 인접하게 배치되어 있으며, 상기 선택된 방향에서의 변위에 따라 분리 거리 h2(X)가 단조롭게 증가하는 서로 면하는 두개의 이격된 표면을 가지고 있으며, 상기 파장 λc의 광을 적어도 부분적으로 투과시키고, 상기 제1필터 물질층의 측파 대역의 파장과 대략 동일한 제2파장의 광을 실질적으로 완전히 흡수 또는 투과시키는 제2필터 물질층으로서, 상기 제1필터층과 상기 제2필터층중의 하나의 층을 통해 투과된 광이 다른 상기 필터층에 의해 수광되도록 배치되어 있는 상기 제2필터 물질층을 더 포함하는 장치.
  27. 제21항 또는 제24항에 있어서, 상기 이격된 표면들은 모두 평탄하며 서로 제로가 아닌 작은 각도로 지향되어 있는 장치.
  28. 제21항 또는 제24항에 있어서, 상기 필터층과 상기 광센서 어레이는 직선 방향으로 서로 대략 평행하게 연장하는 장치.
  29. 제21항 또는 제24항에 있어서, 상기 필터층과 상기 광센서 어레이 각기 제1원과 제2원의 부채꼴을 따라서 놓여 있으며, 상기 두 원은 대략 동심원인 장치.
  30. 제21항 또는 제24항에 있어서, 각각의 상기 광센서는 수광면을 가지며 상기 광센서 수광면들중의 적어도 두 면은 서로 상이한 대응하는 선치수를 각기 갖는 장치.
  31. 제21항에 있어서, 상기 선택된 방향에서의 변위에 따라 실질적으로 분리 거리가 가변하지 않는 서로 면하는 두개의 이격된 표면을 가지고 있으며, 상기 파장 λc의 광을 적어도 부분적으로 투과시키고, 상기 제1필터 물질층의 어느 측파 대역의 대략 동일한 제2파장의 광을 실질적으로 완전히 흡수 또는 투과시키는 제2필터물질층으로서, 상기 제1필터층과 상기 제2필터층중의 하나의 층을 통해 투과된 광이 다른 상기 필터층에 의해 수광되도록 배치되어 있는 상기 제2필터 물질층을 더 포함하는 장치.
  32. 제24항에 있어서, 상기 제1필터층의 상기 두 표면들중의 한 표면에 인접하게 배치되어 있으며, 상기 선택된 방향에서의 변위에 따라 실질적으로 분리 거리가 가변하지 않는 서로 면하는 두개의 이격된 표면을 가지고 있으며, 상기 파장 λc의 광을 적어도 부분적으로 투과시키고, 상기 제1필터 물질층의 어느 측파 대역의 대략 동일한 제2파장의 광을 실질적으로 완전히 흡수 또는 투과시키는 제2필터물질층으로서, 상기 제1필터층과 상기 제2필터층중의 하나의 층을 통해 투과된 광이 다른 상기 필터층에 의해 수광되도록 배치되어 있는 상기 제2필터 물질층을 더 포함하는 장치.
  33. 제21항 또는 제24항에 있어서, 상기 필터 물질은 불화 마그네슘, 황화아연, 방해석, 사파이어, 알루미늄과, 실리콘, 게르마늄, 칼슘, 가드뮴, 알루미늄, 티타늄, 세류 및 지르코늄의 산화물로 이루어지는 물질들의 부류로부터 선택되는 장치.
  34. 제21항 또는 제24항에 있어서, 상기 이격된 표면들은 모두 평탄하며 서로 재로가 아닌 작은 각도로 지향되어 있는 장치.
  35. 제21항 또는 제24항에 있어서, 서로 면하는 두개의 이격된 표면을 가지고 있으며, 그 수광 평면에서 수광된 광의 파장들 중에서 선택된 통과 대역의 파장을 갖는 광을 부분적으로 투과시키고 부분적으로 반사하는 제2필터 물질층으로서, 상기 두 표면들의 분리 거리 h2는 상기 선택된 방향에서 위치의 변이에 따라 단조롭게 증가하며 적어도 한 위치에 대한 상기 분리 거리 h2는 대략 m'λc/2n'과 같으며, 상기 식에서 m'은 양의 정수이고, n'은 상기 선택된 파장 λc의 광을 위한 상기 물질의 굴절율의 실수부이며, 상기 제1필터 물질층과; 상기 제2필터 층은 상기선택된 방향에서 앤드-투-앤드 관계로 배치되어 있는 상기 제2필터 물질 층과; 상기 선택된 방향으로 연장하는 제2광센서 어레이로서 상기 각각의 광센서는 상기 선택된 방향으로 측량한 위치에서 상기 제2필터층으로 부터 반사된 광 비임의 일부를 수광하도록 배치되어 있는 상기 제2광센서 어레이를 더 포함하는 장치.
  36. 제35항에 있어서, 상기 제2필터층은 상기 제1필터층의 상기 선택된 제1대역에 포함되지 않는 적어도 하나의 파장을 포함하는 파장들의 선택된 대역을 갖는 장치.
  37. 제35항에 따른 광 필터 및 센서 시스템에 있어서, 상기 제1광센서 어레이는 제1파장 간격 Ⅰ1의 파장을 갖는 입사 광 비임의 일부를 수광하며 상기 제2광센서 어레이는 제2파장 간격 Ⅰ2의 파장을 갖는 입사 광 비임의 일부를 수광함으로써, 상기 시스템은 상기 각기 상이한 두 파장 간격의 입사 비임의 에너지를 판단할 수 있는 광 필터 및 센서 시스템.
  38. 제21항 또는 제24항에 있어서, 서로 면하는 두개의 이격된 표면을 가지고 있으며, 그 수광 평면에서 수광된 광의 파장들 중에서 선택된 통과 대역의 파장을 갖는 광을 부분적으로 투과시키고 부분적으로 반사하는 제2필터 물질층으로서, 상기 두 표면들의 분리 거리 h2는 상기 선택된 방향에서 위치의 변이에 따라 단조롭게 증가하면적어도 한 위치에 대한 상기 분리 거리 h2는 대략 m'λc/2n'과 같으며, 상기 식에서 m'은 양의 정수이고, n'은 상기 선택된 파장 λc의 광을 위한 상기 물질의 굴절율의 실수부이며, 상기 제2필터 필터층과 상기 제1필터층은 상기 선택된 방향에서 사이드-바이-사이드 관계로 배치되어 있는 상기 제2필터 물질 층과; 상기 선택된 방향으로 연장하는 제2광센서 어레이로서 상기 각각의 광센서는 상기 선택된 방향으로 측량한 위치에서 상기 제2필터층으로부터 반사된 광비임의 일부를 수광하도록 배치되어 있는 상기 제2광센서 어레이를 더 포함하는 장치.
  39. 제38항에 있어서, 상기 제2필터층은 상기 제1필터층의 상기 선택된 제1대역에 포함되지 않는 적어도 하나의 파장을 포함하는 파장들의 선택된 대역을 갖는 장치.
  40. 제38항에 따른 광 필터 및 센서 시스템에 있어서, 상기 제1광센서 어레이는 제1파장 간격 Ⅰ1의 파장을 갖는 입사 광 비임의 일부를 수광하며 상기 제2광센서 어레이는 제2파장 간격 Ⅰ2의 파장을 갖는 입사 광 비임의 일부를 수광함으로써, 상기 시스템은 상기 각기 상이한 두 파장 간격의 입사 비임의 에너지를 판단할 수 있는 광 필터 및 센서 시스템.
  41. 제21항 또는 제24항에 있어서, 광원과 상기 수광 평면과의 사이에 배치되어 광 비임이 상기 수광 평면에 도달하기전에 상기 광원으로부터 상기 광 비임을 수광하고 시준하는 시준기를 더 포함하는 장치.
  42. 제21항 또는 제24항에 있어서, 상기 수광 평면에서 수광된 광의 광 휘도 공간 분포가 상기 선택된 방향을 따라 보다 균일해지도록 광 비임을 수광하고 상기 광 비임의 상기 광 휘도 공간 분포를 변경시키며 상기 광 비임을 발산하는 광 분포 수단을 더 포함하는 장치.
  43. 제21항 또는 제24항에 있어서, 상기 수광 평면에서 수광된 광의 광 휘도 공간 분포가 상기 광센서 어레이의 한 단부 가까이에서 증가되도록 광 비임을 수광하고 상기 광 비임의 상기 광 휘도 공간 분포를 변경시키며 상기 광 비임을 발산하는 광 분포 수단을 더 포함하는 장치.
  44. 제21항 또는 제24항에 있어서, 입상 광 비임을 상기 필터 층상에 집속시키기 위하여 상기 필터 층이 렌즈와 상기 광 센서 어레이 사이에 놓이도록 배치된 상기 렌즈를 더 포함하는 장치.
  45. 제21항 또는 제24항에 있어서, 상기 필터층과 상기 센서 어레이와의 사이에 배치되어 상기 필터층으로부터 발산하는 과을 상기 광센서 어레이 상에 접속하는 렌즈를 더 포함하는 장치.
  46. 제21항 또는 제24항에 따른 광필터 및 센서 시스템에 있어서, 상기 광센서 어레이는 상기 필터 물질층을 통과한 제1및 제2파장 λ1및 λ2을 갖는 입사 광비임의 제1및 제2부분을 각기 수광하는 적어도 제1및 제2광센서를 가지며, 각각의 상기 제1및 제2광센서는 해당 광센서가 상기 필터 물질층으로부터 입사 광의 일부를 수광할 때 전기 출력 신호를 발생하는 광필터 및 센서 시스템.
  47. 제46항에 있어서, 상기 제1및 제2광센서 출력 신호를 각기 수신하는 제1및 제2입력 단자를 가지며, 상기 제1입력단자 또는 상기 제2입력단자에서 수신된 입력 신호를 출력 신호로서 교대로 출력하는 출력 단자를 가지고 있는 전기신호 멀티플랙서를 더 포함하는 장치.
  48. 제21항 또는 제24항에 있어서, 상기 광센서 소자의 상기 각각의 어레이는 상기 광센서 소자에서 광을 수광한 것에 응답하여 전기 신호를 발생하는 출력 단자를 갖는 장치.
  49. 제48항에 있어서, 상기 광센서 소자의 각각의 상기 전기 출력 신호는 그에 적용된 이득 계수를 가지며, 둘 또는 그 이상의 이러한 이득 계수는 그러한 이득 계수의 사전결정된 패턴에 대응하는 상이한 값을 갖는 장치.
  50. 제48항에 있어서, 상기 광센서 소자로 부터 상기 전기 출력 신호를 수신하며 둘 또는 그 이상의 각각의 상기 광센서 소자에 의해 수광된 파장 간격의 광의 상대량을 판단하는 파장 분석 수단을 더 포함하는 장치.
  51. 제48항에 있어서, 상기 광센서 소자로 부터 상기 전기 출력 신호를 수신하며 둘 또는 그 이상의 상기 광센서 소자에서 수광된 광의 양의 합을 판단하는 파장 축적 수단을 더 포함하는 장치.
  52. 제49항에 있어서, 상기 광센서 소자로 부터 상기 전기 출력 신호를 수신하며 둘 또는 그 이상의 상기 광센서 소자에서 수광된 광의 양의 합을 판단하는 파장 축적 수단을 더 포함하는 장치.
  53. 제22항, 제23항, 제25항, 또는 제26항에 있어서, 상기 제1필터층 및 상기 광센서 어레이는 각기 제1원, 제2원 및 제3원의 부채꼴을 따라서 놓여 있으며 상기 세 원은 대략 대칭인 장치.
  54. 제22항, 제23항, 제25항, 또는 제26항에 있어서, 적어도 제1및 제2수광 표면을 갖는 광학적으로 투과시키는 프리즘을 더 포함하며, 상기 제1및 제2층들은 상기 프리즘을 더 상기 제1및 제2표면상에 배치되어 있고 상기 광센서 어레이는 상기 제1및 제2필터층들중의 한 층에 인접하게 배치되어 있는 장치.
  55. 제22항, 제23항, 제25항, 또는 제26항에 있어서, 적어도 제1, 제2 및 제3의 수광 표면을 갖는 광학적으로 투과시키키는 프리즘을 더 포함하며, 상기 제1필터층, 상기 제2필터층 및 상기 광센서 어레이는 각기 상기 프리즘의 제1, 제2및 제3표면산에 배치되는 장치.
  56. 제22항 또는 제26항에 있어서, 상기 제2필터는 파장 λ=λc+△λ의 광을 실질적으로 완전히 흡수 또는 반사하며,인 장치.
  57. 제23항 또는 제25항에 있어서, 상기 제2필터는 파장 λ=λc+△λ의 광을 실질적으로 완전히 흡수 또는 투과시키며,인 장치.
  58. 제22항, 제23항, 제25항, 또는 제26항에 있어서, 상기 제2필터층 물질은 불화 마그네슘, 황화아연, 방해석, 사파이어, 알루미늄과, 실리콘, 게르마슘, 칼슘, 가드뮴, 알루미늄, 티타늄, 세륨 및 지르코늄의 산화물로 이루어지는 물질들의 부류들로부터 선택되는 장치.
  59. 제22항, 제23항, 제25항, 또는 제26항에 있어서, 상기 제2필터층의 상기 두 표면들의 상기 분리 거리는 상기 좌표 x에 따라 단조롭게 연속적으로 가변하는 장치.
  60. 제15항, 제16항, 제18항, 또는 제19항에 있어서, 상기 제2필터층의 상기 두 표면들의 상기 분리 거리는 상기 좌표 x에 따라 구분적으로 연속하는 장치.
  61. 제22항, 제23항, 제25항, 또는 제26항에 있어서, 상기 제2필터층의 상기 두 표면들의 상기 분리 거리 h2(x)는 x1〈x〈x2인 경우 h2(x)가 일정한 제1값 H1을 가지며 x3〈x〈x4인 경우 h2(x)가 일정한제2값 H2≠H1을 갖도록 상기위치 x에 따라 가변하며, 상기 x1, x2, x3및 x4는 상기 허용된 x범위내에 놓여 있는 네개의 x값인 장치.
  62. 제22항, 제23항, 제25항, 또는 제26항에 있어서, 상기 선택된 통과 대역내에 속하는 파장의 광을 적어도 부분적으로 반사하는 표면을 갖는 광학적으로 투과시키는 물질의 기재를 더 포함하며, 상기 제1필터 층과 상기 제2필터층은 서로 인접하고 상기 기판 표면에도 인접하게 배치되는 장치.
  63. 제22항, 제23항, 제25항, 또는 제26항에 있어서, 적어도 부분적으로 반사하는 제1및 제2의 마주하는 표면을 가지고 있으며 상기 선택된 통과 대역내 파장의 광을 적어도 부분적으로 투과시키는 물질의 기재를 더 포함하며, 상기 제1필터층과 상기 제2필터층은 상기 기재의 상기 제1및 제2의 마주하는 표면들과 인접하게 상기 기재의 양측에 각기 배치되는 장치.
  64. 제25항에 있어서, 상기 제1필터층은 제1의 제로가 아닌 입사 각도를 입사하는 광 비임의 일부를 수광하고 반사하며, 상기 제2필터층은 상기 제1필터층과 이격되고 상기 제1필터층으로 부터 반사된 광 비임을 제2의 제로가 아닌 입사 각로를 수광하며, 상기 광센서 어레이는 상기 제2필터 층과 이격되고 상기 제2필터층으로 부터 반사된 광 비임을 수광하는 장치.
  65. 제25항에 있어서, 상기 제2필터층은 제1의 제로가 아닌 입사 각도를 입사하는 광 비임의 일부를 수광하고 반사하며, 상기 제1필터층은 상기 제2필터층과 이격되고 상기 제2필터층으로 부터 반사된 광 비임을 제2의 제로가 아닌 입사 각로를 수광하며, 상기 광센서 어레이는 상기 제1필터 층과 이격되고 상기 제1필터층으로 부터 반사된 광 비임을 수광하는 장치.
  66. 필터의 수광 평면에서 선택된 공간 방향의 위치의 변이에 따라 투과된 광의 중심 파장이 연속적으로 가변하는 통과 대역을 갖는 광 필터 장치에 있어서; 선택된 중심 파장 λc와 동일한 파장의 입사 광을 대략 100퍼센트 투과시키며, △λ1/λc0.1의 관계인 파장 λ=λc+△λ1의 입사 광을 실질적으로 투과시키지 않는 제1에지필터와; 파장λc의 입사 광을 대략 100퍼센트 투과 시키며의 관계인 파장λ=λc-△λ2의 입사 광을 실질적으로 투과시키지 않는 제2에지필터로서, 상기 파장 λc은 선택된 공산 방향에서 위치의 변이에 따라 단조롭게 증가하는 상기 제2에지필터와; 상기 제1에지필터와 상기 제2에지필터중의 적어도 하나의 필터에 인접하게 배치되고, 파장 λc의 입사 광을 완전히 투과시키며,의 관계인 파장 λ=λc+△λ3의 광을 실질적으로 투과시키지 않는 대역 통과 필터 물질의 층을 포함하며, 상기 제1및 제2에지필터와 상기 대역 통과 필터는 입사 광비임의 일부를 차례로 수광하고 투과시키도록 배치되어 있는 광 필터 장치.
  67. 제66항에 있어서, 각각의 상기 제1에지필터와 상기 제2에지필터는 서로 면하는 두개의 이격된 표면을 가지며, 각각의 에지 필터의 두 표면들의 분리 거리는 상기 선택된 방향에서 위치의 변이에 따라 단조롭게 증가하며, 각각의 상기 제1및 제2에지필터는 상기 분리 거리가와 대략 같은 위치를 가지며, m1는 양의 정수이고 n1은 i(i=1,2,)번의 에지필터에서 사용된 물질의 굴절을 실수부인 광 필터 장치.
  68. 제66항에 있어서, 상기 선택된 방향으로 연장하는 광센서 어레이를 더 포함하며, 각각의 광센서는 상기 선택된 방향에서 측량한 위치에서 상기 제1및 제2에지필터와 상기 대역 통과 필터를 통행 차례로 투과되는 광 비임의 일부를 수광하도록 배치되어 있는 광 필터 장치.
  69. 필터의 수광 평면에서 선택된 공간 방향의 위치의 변이에 따라 반사된 광의 중심 파장이 가변하는 통과 대역을 갖는 광 필터 장치에 있어서; 선택된 중심 파장λc와 동일한 파장의 입사 광을 대략 완전리 반상하며,의 관계인 파장 λ=λc+△λ1의 입사 광을 실질적으로 반사하지 않는 제1에지필터와; 파장λc의 입사 광을 대략 100퍼센트 반사하며의 관계인 파장λ=λc-△λ2의 입사 광을 실질적으로 반사하지 않는 제2에지필터로서, 상기 파장 λc은 선택된 공산 방향에서 위치의 변이에 따라 단조롭게 증가하는 상기 제2에지필터와; 상기 제1에지필터와 상기 제2에지필터중의 적어도 하나의 필터에 인접하게 배치되고, 파장 λc의 입사 광을 대략 100퍼센트 반사하며,의 관계인 파장 λ=λc+△λ2의 광을 실질적으로 반사하지 않는 대역 통과 필터 물질의 층을 포함하며, 상기 제1및 제2에지필터와 상기 대역 통과 필터는 입사 광비임의 일부를 차례로 수광하고 반사하도록 배치되어 있는 광 필터 장치.
  70. 제69항에 있어서, 각각의 상기 제1에지필터와 상기 제2에지필터는 서로 면하는 두개의 이격된 표면을 가지며, 각각의 에지 필터의 두 표면들의 분리 거리는 상기 선택된 방향에서 위치의 변이에 따라 단조롭게 증가하며, 각각의 상기 제1및 제2에지필터는 상기 분리 거리 (m1-1/2)λc/2n1(i=1,2)와 대략 같은 위치를 가지며, m1는 양의 정수이고 n1은i(i=1,2)번의 에지필터에서 사용된 물질의 굴절율의 실수부인 광 필터 장치.
  71. 제69항에 있어서, 상기 선택된 방향으로 연장하는 광센서 어레이를 더 포함하며, 각각의 광센서는 상기 선택된 방향에서 측량한 위치에서 상기 제1및 제2에지필터와 상기 대역 통과 필터로부터 차례로 반사되는 광 비임의 일부를 수광하도록 배치되어 있는 광 필터 장치.
  72. 제66항 또는 제69항에 있어서, 상기 대역 통과 필터층은 상기 선택된 방향에서 상기 위치의 변이에 따라 실질적으로 가변하지 않는 파장 통과 대역을 갖는 광 필터 장치.
  73. 제66항 또는 제69항에 있어서, 상기 대역 통과 필터층은 서로 면하는 두개의 이격된 수광 표면을 가지며, 이들 두 표면들의 분리 거리는 상기 선택된 방향에서 상기 위치의 변이에 따라 단조롭게 증가하는 광 필터 장치.
  74. 필터의 수광 평면에서 선택된 공간 방향의 위치의 변이에 따라 광의 중심 파장이 가변하는 통과 대역을 갖는 광 필터 장치에 있어서; 파장 λc의 광을 적어도 부분적으로 투과시키며, 비교적 높은 굴절율 nH을 나타내는 물질의 N개 (N≥4)층을 가지며 비교적 낮은 굴절율 nL을 나타내는 물질의 N-1개 층을 갖는 다층의 제1필터로서, 상기 고 굴절율 층과 저 굴절율 층은 서로 인접하게 서로 교대로 배치되어 다층 구조를 형성하며, 각각의 고 굴절율 층은 p가 어떤 양의 정수로서와 동일한 두께를 가지며, 두개 층을 제외한 각각의 고 굴절율 층은 q가 어떤 양의 정수로서과 동일한 두께를 가지며, 상기 저 굴절율 층중의 상기 두 층은 상기 선택된 방향에서 방향에서 위치의 변이에 따라 단조롭게 증가하는 두께를 가지며 적어도 한 위치에 대한 상기 두개의 저 굴절율 층의 두께는 m1및 m2가 각기 양의 정수로서 대략이며, 상기 λc는 상기 선택된 통과대역에서의 선택된 파장인 상기 다층의 제1필터와; 상기 파장 λc의 광을 적어도 부분적으로 투과 시키고, 상기 제1필터 물질의 어느 측파 대역의 파장과 대략 동일한 파장의 광을 실질적으로 완전히 흡수 또는 반사하는 제2필터로서, 상기 제1필터와 제2필터중의 한 필터를 통해 투과된 광이 다른 상기 필터에 의해 수광되도록 배치되어 있는 상기 제2필터를 포함하는 광 필터 장치.
  75. 필터의 수광 평면에서 선택된 공간 방향의 위치의 변이에 따라 광의 중심 파장이 가변하는 통과 대역을 갖는 광 필터 장치에 있어서; 파장 λc의 광을 적어도 부분적으로 투과시키며, 비교적 높은 굴절율 nH을 나타내는 물질의 N개 (N≥4)층을 가지며 비교적 낮은 굴절율 nL을 나타내는 물질의 N-1개 층을 갖는 다층의 제1필터로서, 상기 고 굴절율 층과 저 굴절율 층은 서로 인접하게 서로 교대로 배치되어 다층 구조를 형성하며, 각각의 저 굴절율 층은 p가 어떤 양의 정수로서와 동일한 두께를 가지며, 두개 층을 제외한 각각의 고 굴절율 층은 q가 어떤 양의 정수로서과 동일한 두께를 가지며, 상기 고 굴절율 층중의 상기 두 층은 상기 선택된 방향에서 방향에서 위치의 변이에 따라 단조롭게 증가하는 두께를 가지며 적어도 한 위치에 대한 상기 두개의 고 굴절율 층의 두께는 m1및 m2가 각기 양의 정수로서 대략이며, 상기 λc는 상기 선택된 통과대역에서의 선택된 파장인 상기 다층의 제1필터와; 상기 파장λc의 광을 적어도 부분적으로 투과 시키고, 상기 제1필터 물질의 어느 측파 대역의 파장과 대략 동일한 파장의 광을 실질적으로 완전히 흡수 또는 반사하는 제2필터로서, 상기 제1필터와 제2필터중의 한 필터를 통해 투과된 광이 다른 상기 필터에 의해 수광되도록 배치되어 있는 상기 제2필터를 포함하는 광 필터 장치.
  76. 필터의 수광 평면에서 선택된 공간 방향의 위치의 변이에 따라 광의 중심 파장이 가변하는 통과 대역을 갖는 광 필터 장치에 있어서; 파장 λc의 광을 적어도 부분적으로 투과시키며, 비교적 낮은 굴절율 nH을 나타내는 물질의 N개 (N≥4)층을 가지며 비교적 높은 굴절율 nL을 나타내는 물질의 N-1개 층을 갖는 다층의 제1필터로서, 상기 고 굴절율 층과 저 굴절율 층은 서로 인접하게 서로 교대로 배치되어 다층 구조를 형성하며, 각각의 고 굴절율 층은 p가 어떤 양의 정수로서와 동일한 두께를 가지며, 두개 층을 제외한 각각의 저 굴절율 층은 q가 어떤 양의 정수로서과 동일한 두께를 가지며, 상기 저 굴절율 층중의 상기 두 층은 상기 선택된 방향에서 방향에서 위치의 변이에 따라 단조롭게 증가하는 두께를 가지며 적어도 한 위치에 대한 상기 두개의 저 굴절율 층의 두께는 m1및 m2가 각기 양의 정수로서 대략이며, 상기 λc는 상기 선택된 통과대역에서의 선택된 파장인 상기 다층의 제1필터와; 상기 파장 λc의 광을 적어도 부분적으로 투과 시키고, 상기 제1필터 물질의 어느 측파 대역의 파장과 대략 동일한 파장의 광을 실질적으로 완전히 흡수 또는 반사하는 제2필터로서, 상기 제1필터와 제2필터중의 한 필터를 통해 투과된 광이 다른 상기 필터에 의해 수광되도록 배치되어 있는 상기 제2필터를 포함하는 광 필터 장치.
  77. 필터의 수광 평면에서 선택된 공간 방향의 위치의 변이에 따라 광의 중심 파장이 가변하는 통과 대역을 갖는 광 필터 장치에 있어서; 파장 λc의 광을 적어도 부분적으로 투과시키며, 비교적 낮은 굴절율 nH을 나타내는 물질의 N개 (N≥4)층을 가지며 비교적 높은 굴절율 nL을 나타내는 물질의 N×1개 층을 갖는 다층의 제1필터로서, 상기 고 굴절율 층과 저 굴절율 층은 서로 인접하게 서로 교대로 배치되어 다층 구조를 형성하며, 각각의 저 굴절율 층은 p가 어떤 양의 정수로서와 동일한 두께를 가지며, 두개 층을 제외한 각각의 저 굴절율 층은 q가 어떤 양의 정수로서과 동일한 두께를 가지며, 상기 고 굴절율 층중의 상기 두 층은 상기 선택된 방향에서 방향에서 위치의 변이에 따라 단조롭게 증가하는 두께를 가지며 적어도 한 위치에 대한 상기 두개의 고 굴절율 층의 두께는 m1및 m2가 각기 양의 정수로서 대략이며, 상기 λc는 상기 선택된 통과대역에서의 선택된 파장인 상기 다층의 제1필터와; 상기 파장 λc의 광을 적어도 부분적으로 투과 시키고, 상기 제1필터의어느 측파 대역의 파장과 대략 동일한 파장의 광을 실질적으로 완전히 흡수 또는 반사하는 제2필터로서, 상기 상기 제1필터와 제2필터중의 한 필터를 통해 투과된 광이 다른 상기 필터에 의해 수광되도록 배치되어 있는 상기 제2필터를 포함하는 광 필터 장치.
  78. 제74항 또는 제76항에 있어서, 상기 제2필터는 파장 λ=λc+△λ의 광을 실질적으로 완전히 흡수 또는 반사하며,인 광 필터 장치.
  79. 제75항 또는 제77항에 있어서, 상기 제2필터는 파장 λ=λc+△λ의 광을 실질적으로 완전히 흡수 또는 투과시키며,인 광 필터 장치.
  80. 제74항, 제75항, 제76항, 또는 제77항에 있어서, 상기 제2필터는 서로 면하는 두개의 이격된 수광 표면을 가지며, 상기 두면 수광 표면들의 분리 거리는 상기 선택된 방향에서 변위에 따라 단조롭게 증가하는 광 필터장치.
  81. 광 비임을 선택된 공간 방향에서 단조롭게 증가하는 파장을 가진 연속 스펙트럼을 형성하는 다수의 파장간격으로 연속적으로 분산시키는 방법에 있어서; 서로 면하는 두개의 이격된 수광 표면을 갖는 제1필터 물질층을 제공하는 단계로서, 상기 제1필터층은 그의 수광 평면에서 수광된 광의 파장들중에서 선택된 통과 대역의 파장을 갖는 광을 부분적으로 투과시키고 부분적으로 반사하며, 상기 두 표면들의 분리 거리 h1는 상기 선택된 방향에서 위치의 변이 따라 단조롭게 증가하며 적어도 한 위치에 대한 상기 분리 거리 h1는 mλc/2n과 대략 같으며, 상기 m은 양의 정수이고 n은 상기 선택된 통과 대역에서의 선택된 파장 λc의 광을 위한 상기 물질의 굴절율의 실수부인 상기 단계와; 상기 선택된 방향에서 변위에 따라 분리 거리 h2가 단조롭게 증가하는 서로 면하는 두개의 이격된 수광 표면을 갖는 제2필터 물질층을 제공하는 단계로서, 상기 제2 필터층은 파장 λc의 광을 적어도 부분적으로 투과시키며, 상기 제1의 필터 물질층의 어느 측파 대역의 파장과 대략 동일한 제2파장의 광을 실질적으로 완전히 흡수 또는 반사하며, 상기 제1필터층과 상기 제2필터층중의 한 층을 통해 투과된 광이 다른 상기 필터층에 의해 수광되도록 배치되어 있는 상기 단계와; 광 비임이 상기 선택된 방향에서 상기 제1 필터층 또는 상기 제2필터층의 적어도 일부를 조명하도록 상기 광 비임을 지향시키는 단계를 포함하는 광 비임 분산 방법.
  82. 광 비임을 선택된 공간 방향에서 단조롭게 증가하는 파장을 가진 연속 스펙트럼을 형성하는 다수의 파장간격으로 연속적으로 분산시키는 방법에 있어서; 서로 면하는 두개의 이격된 수광 표면을 갖는 제1필터 물질층을 제공하는 단계로서, 상기 제1필터층은 그의 수광 평면에서 수광된 광의 파장들중에서 선택된 통과 대역의 파장을 갖는 광을 부분적으로 투과시키고 부분적으로 반사하며, 상기 두 표면들의 분리 거리 h1는 상기 선택된 방향에서 위치의 변이 따라 단조롭게 증가하며 적어도 한 위치에 대한 상기 분리 거리 h1는 (2m-1)λc/4n과 대략 같으며, 상기 m은 양의 정수이고 n은 상기 선택된 통과 대역내 선택된 파장 λc의 광을 위한 상기 물질의 굴절율의 실수부인 상기 단계와; 상기 선택된 방향에서 변위에 따라 분리 거리 h2가 단조롭게 증가하는 서로 면하는 두개의 이격된 수광 표면을 갖는 제2필터 물질층을 제공하는 단계로서, 상기 제2 필터층은 파장λc의 광을 적어도 부분적으로 투과시키며, 상기 제1의 필터 물질층의 어느 측파 대역의 파장과 대략 동일한 제2파장의 광을 실질적으로 완전히 흡수 또는 투과시키며, 상기 제1필터층과 상기 제2필터층 중의 한 층을 통해 투과된 광이 다른 상기 필터층에 의해 수광되도록 배치되어 있는 상기 단계와; 광 비임이 상기 선택된 방향에서 상기 제1 필터층 또는 상기 제2필터층의 적어도 일부를 조명하도록 상기 광 비임을 지향시키는 단계를 포함하는 광 비임 분산 방법.
  83. 광 비임을 선택된 공간 방향에서 단조롭게 증가하는 파장을 가진 연속 스펙트럼을 형성하는 다수의 파장간격으로 연속적으로 분산시키는 방법에 있어서; 서로 면하는 두개의 이격된 수광 표면을 갖는 제1필터 물질층을 제공하는 단계로서, 상기 제1필터층은 그의 수광 평면에서 수광된 광의 파장들중에서 선택된 통과 대역의 파장을 갖는 광을 부분적으로 투과시키고 부분적으로 투과시키고 부분적으로 반사하며, 상기 두 표면들의 분리 거리 h1는 상기 선택된 방향에서 위치의 변이에 따라 단조롭게 증가하며 적어도 한 위치에 대한 상기 분리 거리 h1는 mλc/2n과 대략 같으며, 상기 m은 양의 정수이고 n은 상기 선택된 통과 대역내 선택된 파장 λc의 광을 위한 상기 물질의 굴절율의 실수부인 상기 단계와; 상기 선택된 방향에서 변위에 따라 분리 거리 h2가 단조롭게 증가하는 서로 면하는 두개의 이격된 수광 표면을 갖는 제2필터 물질층을 제공하는 단계로서, 상기 제2 필터층은 파장 λc의 광을 적어도 부분적으로 투과시키며, 상기 제1의 필터 물질층의 어느 측파 대역의 파장과 대략 동일한 제2파장의 광을 실질적으로 완전히 흡수 또는 투과시키며, 상기 제1필터층과 상기 제2필터층중의 한 층을 통해 투과된 광이 다른 상기 필터층에 의해 수광되도록 배치되어 있는 상기 단계와; 광 비임이 상기 선택된 방향에서 상기 제1 필터층 또는 상기 제2필터층의 적어도 일부를 조명하도록 상기 광 비임을 지향시키는 단계를 포함하는 광 비임 분산 방법.
  84. 광 비임을 선택된 공간 방향에서 단조롭게 증가하는 파장을 가진 연속 스펙트럼을 형성하는 다수의 파장간격으로 연속적으로 분산시키는 방법에 있어서; 서로 면하는 두개의 이격된 수광 표면을 갖는 제1필터 물질층을 제공하는 단계로서, 상기 제1필터층은 그의 수광 평면에서 수광된 광의 파장들중에서 선택된 통과 대역의 파장을 갖는 광을 부분적으로 투과시키고 부분적으로 반사하며, 상기 두 표면들의 분리 거리 h1는 상기 선택된 방향에서 위치의 변이 따라 단조롭게 증가하며 적어도 한 위치에 대한 상기 분리 거리 h1는 (2m-1)λc/4n과 대략 같으며, 상기 In은 양의 정수이고 n은 상기 선택된 통과 대역에서 선택된 파장 λc의 광을 위한 상기 물질의 굴절율의 실수부인 상기 단계와; 상기 선택된 방향에서 변위에 따라 분리 거리 h2가 단조롭게 증가하는 서로 면하는 두개의 이격된 수광 표면을 갖는 제2필터 물질층을 제공하는 단계로서, 상기 제2 필터층은 파장 λc의 광을 적어도 부분적으로 투과시키며, 상기 제1의 필터 물질층의 어느 측파 대역의 파장과 대략 동일한 제2파장의 광을 실질적으로 완전히 흡수 또는 반사시키며, 상기 제1필터층과 상기 제2필터층의 한 층을 통해 투과된 광이 다른 상기 필터층에 의해 수광되도록 배치되어 있는 상기 단계와; 광 비임이 상기 선택된 방향에서 상기 제1 필터층 또는 상기 제2필터층의 적어도 일부를 조명하도록 상기 광 비임을 지향시키는 단계를 포함하는 광 비임 분산 방법.
  85. 제81항 또는 제84항에 있어서, 상기 선택된 방향의 상기 선택된 위치에 대하여, 상기 제2필터층의 상기 분리 거리 h2가 m' λc/2n'와 대략 같은 값을 갖게 하는 단계를 더 포함하며, n'은 상기 제2필터 물질의 굴절율의 실수부이고 m'는 상기 양의 정수 m에 대하여 상대적으로 솟수가 되는 양의 정수인 방법.
  86. 제82항 또는 제83항에 있어서, 상기 선택된 방향의 상기 선택된 위치에 대하여, 상기 제2필터층의 상기 분리 거리 hλ2가 m' λc/2n'와 대략 같은 값을 갖게 하는 단계를 더 포함하며, n'은 상기 제2필터 물질의 굴절율의 실수부이고 m'는 상기 양의 정수 m에 대하여 상대적으로 솟수가 되는 양의 정수인 방법.
  87. 제81항, 제82항, 제83항, 또는 제84항에 있어서, 상기 선택된 통과 대역내 파장의 광을 적어도 부분적으로 반사하는 표면을 갖는 기재 물질을 제공하는 단계와; 상기 제1필터층과 상기 제2필터층을 서로 인접하게 배치하고 상기 기재 표면에도 인접하게 배치하는 단계를 더 포함하는 방법.
  88. 제81항, 제82항, 제83항, 또는 제84항에 있어서, 적어도 각기 부분적으로 반사하는 제1 및 제2의 마주하는 표면을 갖는 기재 물질을 제공하는 단계로서, 상기 물질은 상기 선택된 통과 대역내 파장의 광을 적어도 부분적으로 투과시키는 상기 단계와; 상기 기재의 대향 측상의 상기 제1필터층과 상기 제2필터층을 상기 기재의 제1및 제2의 마주하는 표면에 각기 가깝게 배치하는 단계를 더 포함하는 방법.
  89. ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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Families Citing this family (179)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3021142B2 (ja) * 1990-11-28 2000-03-15 キヤノン株式会社 光学素子、映像安定化装置及び光学装置
US5784507A (en) * 1991-04-05 1998-07-21 Holm-Kennedy; James W. Integrated optical wavelength discrimination devices and methods for fabricating same
US6769792B1 (en) 1991-04-30 2004-08-03 Genlyte Thomas Group Llc High intensity lighting projectors
EP0557658B1 (en) * 1992-02-24 1997-05-07 Hewlett-Packard Company Raman spectroscopy of respiratory gases
US5432638A (en) * 1992-04-03 1995-07-11 Hughes Aircraft Company Spatially tunable rugate narrow reflection band filter and applications therefor
US5488511A (en) * 1992-04-03 1996-01-30 Hughes Aircraft Company Spatially tunable rugate narrow reflection band filter
US5303319A (en) * 1992-12-28 1994-04-12 Honeywell Inc. Ion-beam deposited multilayer waveguides and resonators
US5343542A (en) * 1993-04-22 1994-08-30 International Business Machines Corporation Tapered fabry-perot waveguide optical demultiplexer
JP3242495B2 (ja) * 1993-07-01 2001-12-25 シャープ株式会社 多層膜フィルタ付き受光素子及びその製造方法
FI98325C (fi) * 1994-07-07 1997-05-26 Vaisala Oy Selektiivinen infrapunadetektori
US5428700A (en) * 1994-07-29 1995-06-27 Litton Systems, Inc. Laser stabilization
DE4431412C1 (de) * 1994-08-24 1996-03-14 William Newton Vorrichtung zur Durchführung spektroskopischer Messungen
US5521703A (en) * 1994-10-17 1996-05-28 Albion Instruments, Inc. Diode laser pumped Raman gas analysis system with reflective hollow tube gas cell
US5583683A (en) * 1995-06-15 1996-12-10 Optical Corporation Of America Optical multiplexing device
US5999322A (en) * 1995-06-28 1999-12-07 Cushing; David Henry Multilayer thin film bandpass filter
US6018421A (en) * 1995-06-28 2000-01-25 Cushing; David Henry Multilayer thin film bandpass filter
US5719989A (en) * 1995-06-28 1998-02-17 Jds Fitel Inc. Multilayer thin film bandpass filter
US5671059A (en) * 1995-09-21 1997-09-23 Hewlett-Packard Company Electroluminescent color device
US5793884A (en) 1995-12-19 1998-08-11 Hewlett-Packard Company Spectral based color image editing
US6009219A (en) * 1996-04-08 1999-12-28 Axiom Analytical Incorporated Optical beam switching device
US5726805A (en) * 1996-06-25 1998-03-10 Sandia Corporation Optical filter including a sub-wavelength periodic structure and method of making
US5970190A (en) * 1996-12-02 1999-10-19 Photonics Research Ontario Grating-in-etalon polarization insensitive wavelength division multiplexing devices
PL181650B1 (pl) * 1996-12-30 2001-08-31 Jan Kuklinski Uklad optyczny, przeksztalcajacy promieniowanie ultrafioletowe PL PL
CA2199996C (en) * 1997-03-14 2002-08-13 Cindy Xing Qiu Methods to fabricate dense wavelength division multiplexers
FR2765971B1 (fr) * 1997-07-10 1999-09-24 Reosc Filtre optique a transmission spectrale variable et largeur de bande spectrale constante
US5850292A (en) * 1997-11-13 1998-12-15 Hewlett-Packard Company Wavelength monitor for optical signals
US6153043A (en) * 1998-02-06 2000-11-28 International Business Machines Corporation Elimination of photo-induced electrochemical dissolution in chemical mechanical polishing
CH693076A5 (de) * 1998-02-20 2003-02-14 Unaxis Trading Ag Verfahren zur Herstellung einer Farbfilterschichtsystem-Struktur auf einer Unterlage.
US6215592B1 (en) * 1998-03-19 2001-04-10 Ciena Corporation Fabry-perot optical filter and method of making the same
JP2000040679A (ja) 1998-07-24 2000-02-08 Hitachi Ltd 半導体集積回路装置の製造方法
US6292298B1 (en) * 1998-12-30 2001-09-18 At&T Corp. Method and apparatus for realizing an optical multiplexer/demultiplexer
US6197254B1 (en) * 1999-01-11 2001-03-06 International Food Protection Self-contained assaying apparatus
US6252220B1 (en) 1999-04-26 2001-06-26 Xerox Corporation Sensor cover glass with infrared filter
DE10018444B4 (de) * 1999-05-04 2006-01-26 Soft Imaging System Gmbh Halbleitersystem zur Registrierung von Spektren, Farbsignalen, Farbbildern und dergleichen
US6323987B1 (en) * 1999-05-14 2001-11-27 Agere Systems Optoelectronics Guardian Corp. Controlled multi-wavelength etalon
US6500521B2 (en) 1999-05-14 2002-12-31 Agere Systems Inc. Stepped etalon
US6246480B1 (en) 1999-09-01 2001-06-12 Lucent Technologies Inc. Stepped etalon
JP3065081B1 (ja) * 1999-09-08 2000-07-12 セイコーエプソン株式会社 投写型表示装置
WO2001046731A2 (en) * 1999-10-20 2001-06-28 Zolo Technologies, Inc. Reconfigurable add/drop multiplexer for fiber optic networks
EP1098374B1 (en) * 1999-11-05 2004-09-08 Interuniversitair Micro-Elektronica Centrum Vzw Optical filter and Resonant Cavity LED comprising the said optical filter
EP1098375A1 (en) * 1999-11-05 2001-05-09 Interuniversitair Micro-Elektronica Centrum Vzw Optical filter and Resonant Cavity LED comprising the said optical filter
US6462876B1 (en) 1999-11-16 2002-10-08 Agere Systems Guardian Corp. Multi-wavelength etalon
US6563101B1 (en) 2000-01-19 2003-05-13 Barclay J. Tullis Non-rectilinear sensor arrays for tracking an image
JP3931545B2 (ja) * 2000-03-22 2007-06-20 住友電気工業株式会社 発光モジュール
JP2001317938A (ja) * 2000-05-01 2001-11-16 Asahi Optical Co Ltd 光波距離計を有する測量機
US6768590B2 (en) * 2000-05-19 2004-07-27 Shipley Company, L.L.C. Method of fabricating optical filters
US7062348B1 (en) * 2000-07-13 2006-06-13 The Extreme Ultaviolet Lithography Llc Dynamic mask for producing uniform or graded-thickness thin films
JP3530466B2 (ja) * 2000-07-17 2004-05-24 Ｎｅｃエレクトロニクス株式会社 固体撮像装置
US6316284B1 (en) 2000-09-07 2001-11-13 Xerox Corporation Infrared correction in color scanners
US6768565B1 (en) 2000-09-07 2004-07-27 Xerox Corporation Infrared correction in color scanners
US6549548B2 (en) * 2000-10-25 2003-04-15 Axsun Technologies, Inc. Interferometric filter wavelength meter and controller
US6339603B1 (en) 2000-10-25 2002-01-15 Axsun Technologies, Inc. Tunable laser with polarization anisotropic amplifier for fabry-perot filter reflection isolation
US6678093B1 (en) * 2001-03-15 2004-01-13 Cierra Photonics, Inc. Optically coupled etalons and methods of making and using same
US6791758B1 (en) * 2001-03-15 2004-09-14 Cierra Photonics Inc. Optical etalons and methods of making and using them
US6785002B2 (en) * 2001-03-16 2004-08-31 Optical Coating Laboratory, Inc. Variable filter-based optical spectrometer
JP2002277326A (ja) * 2001-03-19 2002-09-25 Nireco Corp 分光測光装置
DE10127225A1 (de) * 2001-05-22 2002-11-28 Zeiss Carl Ultraviolettlicht-Abschwächungsfilter
US7150710B2 (en) 2001-06-26 2006-12-19 Photomed Technologies, Inc. Therapeutic methods using electromagnetic radiation
US20040158300A1 (en) * 2001-06-26 2004-08-12 Allan Gardiner Multiple wavelength illuminator having multiple clocked sources
DE60103482T2 (de) 2001-08-17 2005-06-02 Agilent Technologies, Inc. (n.d.Ges.d.Staates Delaware), Palo Alto Lichtinterferenz
DE10146010A1 (de) * 2001-09-19 2003-04-03 Cube Optics Ag Verfahren und Vorrichtung zur Verteilung und Zusammenführung elektromagnetischer Wellen
US7106516B2 (en) 2002-02-04 2006-09-12 Applied Films Gmbh & Co. Kg Material with spectrally selective reflection
KR20040110071A (ko) * 2002-04-23 2004-12-29 히로무 마에다 소형 패키지 분광센서유닛
EP1382982B1 (en) * 2002-07-05 2004-10-06 Agilent Technologies, Inc. Heating compensated optical device
US20040150826A1 (en) * 2003-01-30 2004-08-05 Rajaiah Seela Raj Color measuring device
EP1480302B1 (en) * 2003-05-23 2007-07-11 Rohm and Haas Electronic Materials, L.L.C. External cavity semiconductor laser comprising an etalon and method for fabrication thereof
GB2402752B (en) * 2003-06-12 2006-07-26 Agilent Technologies Inc Optical component and compact wavelength locking arrangement including such a component
US7030991B1 (en) 2003-08-01 2006-04-18 Ball Aerospace & Technologies Corp. Field condensing imaging system for remote sensing of atmospheric trace gases
US7050215B1 (en) 2003-08-01 2006-05-23 Ball Aerospace & Technologies Corp. Method and apparatus for providing a gas correlation filter for remote sensing of atmospheric trace gases
EP1756637A4 (en) * 2004-05-07 2010-06-30 Coronado Instr Inc ADJUSTABLE SOLAR FILTER SET
US7202955B2 (en) * 2004-06-30 2007-04-10 Digital Optics Corporation Spectrally diverse spectrometer and associated methods
US20090073451A1 (en) * 2004-06-30 2009-03-19 Tekolste Robert D Spectrally diverse, spatially sensitive apparatus and associated methods
US7310153B2 (en) * 2004-08-23 2007-12-18 Palo Alto Research Center, Incorporated Using position-sensitive detectors for wavelength determination
US7291824B2 (en) * 2005-12-22 2007-11-06 Palo Alto Research Center Incorporated Photosensing throughout energy range and in subranges
US7522786B2 (en) * 2005-12-22 2009-04-21 Palo Alto Research Center Incorporated Transmitting light with photon energy information
US7420680B2 (en) * 2004-11-16 2008-09-02 Datacolor Holding Ag Method for designing a colorimeter having integral CIE color-matching filters
US7593105B2 (en) * 2004-11-17 2009-09-22 Datacolor Holding Ag Tristimulus colorimeter having integral dye filters
US7274011B2 (en) * 2004-12-27 2007-09-25 Teledyne Licensing, Llc Spectral imager and fabrication method
JP2006215212A (ja) * 2005-02-02 2006-08-17 Omron Corp 光合分波器とその製造方法
US7580130B2 (en) * 2005-03-23 2009-08-25 Datacolor Holding Ag Method for designing a colorimeter having integral illuminant-weighted CIE color-matching filters
US7474402B2 (en) * 2005-03-23 2009-01-06 Datacolor Holding Ag Reflectance sensor for integral illuminant-weighted CIE color matching filters
US8574823B2 (en) 2005-10-05 2013-11-05 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Multi-level layer
US8437582B2 (en) 2005-12-22 2013-05-07 Palo Alto Research Center Incorporated Transmitting light with lateral variation
US7420677B2 (en) * 2005-12-22 2008-09-02 Palo Alto Research Center Incorporated Sensing photon energies of optical signals
US7315667B2 (en) * 2005-12-22 2008-01-01 Palo Alto Research Center Incorporated Propagating light to be sensed
US7433552B2 (en) * 2005-12-22 2008-10-07 Palo Alto Research Center Incorporated Obtaining analyte information
US7358476B2 (en) * 2005-12-22 2008-04-15 Palo Alto Research Center Incorporated Sensing photons from objects in channels
US7547904B2 (en) * 2005-12-22 2009-06-16 Palo Alto Research Center Incorporated Sensing photon energies emanating from channels or moving objects
US7386199B2 (en) * 2005-12-22 2008-06-10 Palo Alto Research Center Incorporated Providing light to channels or portions
US20070211257A1 (en) * 2006-03-09 2007-09-13 Kearl Daniel A Fabry-Perot Interferometer Composite and Method
US20070236757A1 (en) * 2006-04-10 2007-10-11 Duncan Stewart Rich color image processing method and apparatus
FI119830B (fi) 2006-05-24 2009-03-31 Valtion Teknillinen Spektrometri ja inferferometrinen menetelmä
JP2007316486A (ja) * 2006-05-29 2007-12-06 Olympus Corp 可変分光素子、分光装置および内視鏡システム
US20080048729A1 (en) * 2006-07-25 2008-02-28 International Business Machines Corporation Comparator Circuit and Method for Operating a Comparator Circuit
JP2009544965A (ja) * 2006-07-28 2009-12-17 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 一体形画像認識・スペクトル検出装置並びに画像認識及び光のスペクトル検出によって光設定値を自動的に制御する装置及び方法
DE102006039071B4 (de) * 2006-08-09 2012-04-19 Universität Kassel Optisches Filter und Verfahren zu seiner Herstellung
WO2008017490A2 (de) * 2006-08-09 2008-02-14 Opsolution Nanophotonics Gmbh Optisches filter und verfahren zur herstellung desselben, sowie vorrichtung zur untersuchung elektromagnetischer strahlung
US7718948B2 (en) * 2006-12-04 2010-05-18 Palo Alto Research Center Incorporated Monitoring light pulses
DE502006005469D1 (de) * 2006-12-18 2010-01-07 X Rite Europe Gmbh Spektraler fotoelektrischer Messwandler mit optischem Ablenkelement
DE502006008891D1 (de) * 2006-12-21 2011-03-24 X Rite Europe Gmbh Abtastvorrichtung mit elektronischer Abstandsregelung und ohne Abstandsmessfühler
DE502006007126D1 (de) * 2006-12-21 2010-07-15 X Rite Europe Gmbh Farbmesskopf und damit ausgestattete Abtastvorrichtung
US9164037B2 (en) 2007-01-26 2015-10-20 Palo Alto Research Center Incorporated Method and system for evaluation of signals received from spatially modulated excitation and emission to accurately determine particle positions and distances
US8821799B2 (en) 2007-01-26 2014-09-02 Palo Alto Research Center Incorporated Method and system implementing spatially modulated excitation or emission for particle characterization with enhanced sensitivity
US7633629B2 (en) * 2007-02-05 2009-12-15 Palo Alto Research Center Incorporated Tuning optical cavities
US7545513B2 (en) * 2007-02-05 2009-06-09 Palo Alto Research Center Incorporated Encoding optical cavity output light
US7817276B2 (en) * 2007-02-05 2010-10-19 Palo Alto Research Center Incorporated Distinguishing objects
US7471399B2 (en) * 2007-02-05 2008-12-30 Palo Alto Research Center Incorporated Photosensing optical cavity output light
US7502123B2 (en) * 2007-02-05 2009-03-10 Palo Alto Research Center Incorporated Obtaining information from optical cavity output light
US7554673B2 (en) * 2007-02-05 2009-06-30 Palo Alto Research Center Incorporated Obtaining information about analytes using optical cavity output light
US7936463B2 (en) * 2007-02-05 2011-05-03 Palo Alto Research Center Incorporated Containing analyte in optical cavity structures
US7852490B2 (en) * 2007-02-05 2010-12-14 Palo Alto Research Center Incorporated Implanting optical cavity structures
US7817281B2 (en) * 2007-02-05 2010-10-19 Palo Alto Research Center Incorporated Tuning optical cavities
JP2010520615A (ja) * 2007-03-01 2010-06-10 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 光検出器装置
US8081368B2 (en) 2007-03-29 2011-12-20 Bose Corporation Selective absorbing
US7576860B2 (en) * 2007-05-11 2009-08-18 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Light filter having a wedge-shaped profile
US7710645B2 (en) 2007-06-29 2010-05-04 Bose Corporation Selective reflecting for laser projector
JP5184251B2 (ja) * 2007-08-07 2013-04-17 富士フイルム株式会社 分光素子、分光装置および分光方法
US8320983B2 (en) 2007-12-17 2012-11-27 Palo Alto Research Center Incorporated Controlling transfer of objects affecting optical characteristics
US8373860B2 (en) 2008-02-01 2013-02-12 Palo Alto Research Center Incorporated Transmitting/reflecting emanating light with time variation
US8629981B2 (en) 2008-02-01 2014-01-14 Palo Alto Research Center Incorporated Analyzers with time variation based on color-coded spatial modulation
US8330955B2 (en) * 2008-02-12 2012-12-11 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Color detector
JP2011511946A (ja) * 2008-02-13 2011-04-14 ヒューレット−パッカード デベロップメント カンパニー エル．ピー． 面積が拡大縮小された光検出器を有する色検出器
US7916301B2 (en) * 2008-07-10 2011-03-29 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Filter design for colorimetric measurement
JP2010181181A (ja) * 2009-02-03 2010-08-19 Canon Inc スケール、それを有する変位検出装置、及びそれを有する撮像装置
US20100208266A1 (en) * 2009-02-17 2010-08-19 Colman Shannon Tristimulus colorimeter having integral dye filters
US20100237895A1 (en) * 2009-03-19 2010-09-23 Kyo Young Chung System and method for characterizing solar cell conversion performance and detecting defects in a solar cell
DE102009026618A1 (de) * 2009-05-29 2010-12-02 Hilti Aktiengesellschaft Lasergerät zur elektrooptischen Distanzmessung
CA2782235A1 (en) 2009-11-30 2011-06-03 Imec Integrated circuit for spectral imaging system
FR2956205B1 (fr) * 2010-02-11 2013-03-01 Commissariat Energie Atomique Interferometre imageur micro-usine
JP5663900B2 (ja) 2010-03-05 2015-02-04 セイコーエプソン株式会社 分光センサー装置及び電子機器
MX343473B (es) 2010-05-28 2016-11-07 Solarcity Corp Sistema y método de reposicionamiento de heliostatos.
DE102010030108B4 (de) * 2010-06-15 2014-12-04 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Farbbildsensor
JP5531832B2 (ja) * 2010-07-06 2014-06-25 セイコーエプソン株式会社 光フィルター、光フィルターモジュール、分光測定器および光機器
JP5668345B2 (ja) * 2010-07-13 2015-02-12 セイコーエプソン株式会社 光フィルター、光フィルターモジュール、分光測定器および光機器
US20140247442A1 (en) * 2010-07-27 2014-09-04 Microptix Technologies, Llc Spectroradiometer device and applications of same
JP5609542B2 (ja) * 2010-10-28 2014-10-22 セイコーエプソン株式会社 光測定装置
US8442790B2 (en) 2010-12-03 2013-05-14 Qbotix, Inc. Robotic heliostat calibration system and method
EP2656156B1 (en) 2010-12-22 2017-09-06 Philips Lighting Holding B.V. Vehicle positioning and guidance system
JP5590562B2 (ja) * 2011-01-04 2014-09-17 独立行政法人産業技術総合研究所 エタロンフィルタを用いた周波数校正システム、周波数校正方法
DE102011012297B4 (de) 2011-02-24 2022-12-22 OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung Beleuchtungsvorrichtung
US8476574B1 (en) * 2011-03-31 2013-07-02 Mutoh Industries Ltd. Method of deconvolution of spectral data
US9029800B2 (en) 2011-08-09 2015-05-12 Palo Alto Research Center Incorporated Compact analyzer with spatial modulation and multiple intensity modulated excitation sources
US8723140B2 (en) 2011-08-09 2014-05-13 Palo Alto Research Center Incorporated Particle analyzer with spatial modulation and long lifetime bioprobes
JP5878723B2 (ja) 2011-10-04 2016-03-08 浜松ホトニクス株式会社 分光センサ
US20130163005A1 (en) * 2011-12-27 2013-06-27 Capella Microsystems, Corp. Optical Sensing Device
US9281424B2 (en) 2012-01-24 2016-03-08 AMI Research & Development, LLC Wideband light energy waveguide and detector
US20150107671A1 (en) * 2012-01-24 2015-04-23 AMI Research & Development, LLC Monolithic broadband energy collector with dichroic filters and mirrors embedded in waveguide
WO2014018140A2 (en) * 2012-04-23 2014-01-30 Wayne State University Static interferometer with step-style reflective element
JP5988690B2 (ja) * 2012-05-18 2016-09-07 浜松ホトニクス株式会社 分光センサ
JP5875936B2 (ja) 2012-05-18 2016-03-02 浜松ホトニクス株式会社 分光センサ
US9112087B2 (en) * 2012-09-16 2015-08-18 Shalom Wretsberger Waveguide-based energy converters, and energy conversion cells using same
US20140126042A1 (en) * 2012-11-08 2014-05-08 Lockheed Martin Corporation System and method to efficiently filter radiation above a predefined wavelength
GB2516078A (en) * 2013-07-10 2015-01-14 Trinean Nv Shaped filter for spectrometer detector arrays
US9557480B2 (en) 2013-11-06 2017-01-31 R.A. Miller Industries, Inc. Graphene coupled MIM rectifier especially for use in monolithic broadband infrared energy collector
US10774418B2 (en) * 2013-12-23 2020-09-15 Halliburton Energy Services, Inc. Systems and methods to improve optical spectrum fidelity in integrated computational elements
CN109520618B (zh) * 2014-01-31 2021-02-26 唯亚威通讯技术有限公司 光学滤波器和分光计
DE102014014983A1 (de) 2014-10-07 2016-04-07 Technische Universität Dresden Optisches Filterelement für spektroskopische Einrichtungen zur Umwandlung von spektralen Informationen in Ortsinformationen
US10048127B2 (en) * 2015-08-05 2018-08-14 Viavi Solutions Inc. Optical filter and spectrometer
KR101869157B1 (ko) * 2015-09-23 2018-06-19 김훈래 색상 조절 및 전파 투과 가능한 차량용 센서 커버 적층체
TWI794145B (zh) 2015-10-28 2023-03-01 美商加州太平洋生物科學公司 包含整合性帶通濾波器之光學裝置陣列
EP3182079B1 (en) * 2015-12-14 2023-08-23 ams AG Optical sensing device and method for manufacturing an optical sensing device
US9923007B2 (en) 2015-12-29 2018-03-20 Viavi Solutions Inc. Metal mirror based multispectral filter array
US9960199B2 (en) 2015-12-29 2018-05-01 Viavi Solutions Inc. Dielectric mirror based multispectral filter array
US10451548B2 (en) * 2016-01-15 2019-10-22 The Mitre Corporation Active hyperspectral imaging system
EP3229278B1 (en) * 2016-04-07 2023-08-09 ams AG Sensor device and method for manufacturing a sensor device
DE102016108474A1 (de) 2016-05-09 2017-11-09 Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. Festkörper, Laserverstärkungssystem und Festkörperlaser
EP3324161B1 (de) 2016-11-18 2020-06-17 Espros Photonics AG Spektrometer und verfahren zur justierung eines filterarrays
JP2020521972A (ja) * 2017-05-26 2020-07-27 カリフォルニア インスティチュート オブ テクノロジー 制御可能なスペクトル帯域幅及び解像度を有するスペクトルフィルタ
DE102017126140A1 (de) * 2017-11-08 2019-05-09 Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. Optisches System
EP3633334B1 (en) 2018-10-04 2022-12-28 IMEC vzw Spectral sensor for multispectral imaging
US11698303B2 (en) * 2018-12-28 2023-07-11 Spectral Engines Oy Method and system for analysing a chemical composition of a target using a Fabry-Perot interferometer
US11287322B2 (en) * 2019-02-06 2022-03-29 California Institute Of Technology Compact hyperspectral mid-infrared spectrometer
EP3936837A4 (en) * 2019-03-06 2022-04-27 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. LIGHT DETECTION DEVICE AND SYSTEM, AND NETWORK OF FILTERS
US11604095B1 (en) * 2019-07-15 2023-03-14 Hrl Laboratories, Llc Thin-film filter based hyperspectral imager spanning an octave of long wavelength infrared regime
WO2021092579A1 (en) 2019-11-08 2021-05-14 California Institute Of Technology Infrared spectrometer having dielectric-polymer-based spectral filter
JP7122636B2 (ja) * 2020-05-20 2022-08-22 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 フィルタアレイおよび光検出システム
CN112461366B (zh) * 2020-12-16 2021-12-21 四川长虹电器股份有限公司 一种基于随机滤波器阵列的近红外光谱仪实现方法
WO2022147919A1 (zh) * 2021-01-06 2022-07-14 苏州联讯仪器有限公司 宽波段光谱仪
WO2023131464A1 (en) * 2022-01-04 2023-07-13 ams Sensors Germany GmbH Photodetector device and multi-color sensor

Family Cites Families (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH301014A (de) * 1944-11-14 1954-08-31 Jenaer Glaswerk Schott & Gen Interferenzlichtfilter mit einer oder mehreren Durchlässigkeitsspitzen.
US2749792A (en) * 1951-11-05 1956-06-12 Technicolor Motion Picture Light dividing system
US2960015A (en) * 1956-09-24 1960-11-15 Hughes Aircraft Co Method and means for making circular variable density filters
US3410626A (en) * 1964-04-28 1968-11-12 Baird Atomic Inc Interference filter
US3442572A (en) * 1964-08-25 1969-05-06 Optical Coating Laboratory Inc Circular variable filter
US3387531A (en) * 1964-11-05 1968-06-11 Zeiss Jena Veb Carl Devices for supporting, adjusting and displacing at least one of two optical plates located according to the fabry-perot principle
US3498693A (en) * 1967-01-24 1970-03-03 Zenith Radio Corp Radiation translating devices
CA851958A (en) * 1968-01-31 1970-09-22 J. Van Der Hoeven Cornelis Reflector device
US3635562A (en) * 1968-11-12 1972-01-18 Comp Generale Electricite Optical interferometer for detection of small displacements
US3659918A (en) * 1970-03-24 1972-05-02 Philips Corp Color separating prism system
DD90876B1 (de) * 1971-06-11 1988-08-17 Gundula Ruediger Verfahren zur herstellung von interferenzschicht-spektralteilern
US3929398A (en) * 1971-08-18 1975-12-30 Harry E Bates High speed optical wavelength detection system
CH564785A5 (ko) * 1972-12-08 1975-07-31 Balzers Patent Beteilig Ag
US3973849A (en) * 1975-06-16 1976-08-10 International Business Machines Corporation Self-calibratable spectrum analyzer
US4253765A (en) * 1978-02-22 1981-03-03 Hitachi, Ltd. Multi-wavelength spectrophotometer
US4320971A (en) * 1978-08-28 1982-03-23 Nippon Kogaku K.K. Spectrophotometer
US4572669A (en) * 1979-01-22 1986-02-25 Rockwell International Corporation Method and apparatus for a Fabry-Perot multiple beam fringe sensor
US4264211A (en) * 1979-04-23 1981-04-28 Li-Cor, Inc. Light sensor
US4318616A (en) * 1980-03-07 1982-03-09 The Perkin-Elmer Corporation Manual wavelength adjustment for a microprocessor based spectrophotometer
JPS57184937A (en) * 1981-05-08 1982-11-13 Omron Tateisi Electronics Co Color discriminating element
JPS58195127A (ja) * 1982-05-10 1983-11-14 Japan Spectroscopic Co マルチチヤネル検知器及びマルチチヤネル分光測定装置
HU186069B (en) * 1982-06-09 1985-05-28 Koezponti Elelmiszeripari Spectrophotometer operating on discrete wave-lengths
DD226742A3 (de) * 1983-04-04 1985-08-28 Zeiss Jena Veb Carl Interferenzfilter mit einem durchlassband
US4740082A (en) * 1983-08-30 1988-04-26 The Perkin-Elmer Corporation Spectrophotometer
JPS60192229A (ja) * 1984-03-14 1985-09-30 Hitachi Ltd 多波長同時測光光度計
ES2012346B3 (es) * 1985-10-16 1990-03-16 British Telecomm Interferometro de fabry perot.
US4797000A (en) * 1986-01-02 1989-01-10 Artel Comparative colorimeter
US4718764A (en) * 1986-01-27 1988-01-12 Hughes Aircraft Company Frequency agile spectrometer
US4709144A (en) * 1986-04-02 1987-11-24 Hewlett-Packard Company Color imager utilizing novel trichromatic beamsplitter and photosensor
US4822998A (en) * 1986-05-15 1989-04-18 Minolta Camera Kabushiki Kaisha Spectral sensor with interference filter
US4738527A (en) * 1986-06-19 1988-04-19 United Technologies Corporation Apparatus and method for determining position with light
CA1293879C (en) * 1986-06-20 1992-01-07 Laurel Jean Pace Color filter arrays
US4731881A (en) * 1986-06-30 1988-03-15 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Narrow spectral bandwidth, UV solar blind detector
US4743114A (en) * 1986-07-11 1988-05-10 The Perkin-Elmer Corporation Fabry-Perot scanning and nutating imaging coherent radiometer
US4746793A (en) * 1986-09-10 1988-05-24 Hewlett-Packard Company Mask for spectrophotometer photodiode array having a bridge portion that substantially covers each photodiode
JPS63106530A (ja) * 1986-10-22 1988-05-11 Hitachi Ltd 半導体光検出器
US4795256A (en) * 1987-03-09 1989-01-03 Photon Technology International, Inc. Dual-wavelength spectrophotometry system
US4776696A (en) * 1987-03-20 1988-10-11 Michael C. Hettrick Optical system for high resolution spectrometer/monochromator
US4957371A (en) * 1987-12-11 1990-09-18 Santa Barbara Research Center Wedge-filter spectrometer
JP3059107B2 (ja) * 1996-08-26 2000-07-04 クツワ工業株式会社 ペンシルホルダー

Also Published As

Publication number Publication date
US5144498A (en) 1992-09-01
EP0442738A2 (en) 1991-08-21
EP0442738A3 (en) 1992-01-15
JPH04213403A (ja) 1992-08-04

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