KR920002819A - 에칭 또는 코팅장치 및 방법 - Google Patents

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Abstract

내용 없음

Description

에칭 또는 코팅장치 및 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 용기가 플라즈마의 용량 생성용 전극 두 가지 모두를 형성한 본 발명에 따른 구조를 가진 에칭 또는 코팅 각 장치의 개략도,
제2도는 용기의 개략 절단도를 기초로 제2의 발명적 해결수단에 따른 플라즈마의 용량생성용 전극중 한 가지의 디자인을 개략적으로 도시한 도면,
제3도는 플라즈마의 용량 생성용 전극 두가지 모두가 제2도의 유형에 따라 디자인되고, 추가로 제1동 따른 용기가 실제 전극 표면에 의하여 형성된 장치의 용기 개략도.

Claims (19)

  1. 용기가 이를 둘러싼 벽구조로 이루어지고 서로 절연된 부분으로 분리되며, 두 부분 모두 전극표면으로서 작용하는 그들 내부표면으로 시그널을 전기적으로 전달하는 데 적합하며, 따라서 용기의 벽구조의 분리에 의하여 각각 어느 한 전극이 부식되며 그 한가지가 코팅되는 동시 조절이 성취되는 진공용기 및 서로 떨어져 위치하고 용기에서 플라즈마 방전을 용량적으로 생성시키는 데 적합한 한쌍의 전극이 있는 에칭 또는 코팅장치.
  2. 전극들중 적어도 한 가지를 용기내부에 대하여 외부에 위치한 적어도 한개의 전기 전도표면에 의하여 그리고 내부에 이어서 위치한 유전층쪽 적어도 한가지에 의하여 형성시킨 진공용기 및 서로 떨어져 위치하고 플라즈마 방전을 용량적으로 생성시키는 데 적합한 한쌍의 전극이 있는 제1항에 따른 에칭 또는 코팅 장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 유전층을 내부에 자유노출시킨 장치.
  4. 제2항에 있어서, 금속으로 되고 진공으로 인한 로딩을 흡수하는 데 적합한 용기의 벽구조 일부에 의하여 상기 전기전도 표면을 형성시킨 장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 전극중 적어도 한가지에 가깝게 위치한 에칭될 가공부품용 지지체로 이루어지고, 전극중 용기내부 공간에 접한 표면이 다른 전극의 표면보다 작으며 코팅될 가공부품에 대하여 반대인 장치.
  6. 제2항에 있어서, 적어도 한 가지 전극이 이중 층 또는 샌드위치상 구조이며 이로서 적어도 한 가지 금속층이 진공으로 인한 용기 벽구조의 기계적 로딩을 흡수하는 장치.
  7. 제1항에 있어서, 용기 내부벽의 적어도 큰 부분이 유전물질로 이루어진 장치.
  8. 제2항에 있어서, 전극 사이에 위치한 용기 벽구조의 섹션이 용기내부 공간쪽에 위치한 유전층으로 이루어진장치.
  9. 제1항에 있어서, 전극 사이에 위치한 용기 벽구조의 섹션이 유전물질로 이루어진 장치.
  10. 제8항에 있어서, 코일배열이 전극사이에 플라즈마로 커플링하는 유도 에너지를 위한 상기 벽구조의 섹션에 위치한 장치.
  11. 제10항에 있어서, 상기 코일배열이 플라즈마의 용량생성을 위한 전극중 한가지에 갈바니 전기적으로 연결되고 용기 내부쪽에 접한 코일 표면이 이와 같은 전극 표면에 기여하는 장치.
  12. 제10항에 있어서, 상기 코일배열이 진공으로 인한 용기 벽구조의 로딩중 적어도 일부를 흡수하는 장치.
  13. 제9항에 있어서, 코일 배열이 전극사이에 플라즈마에 커플링하는 유도 에너지를 위한 상기 벽구조의 섹션에 위치한 장치.
  14. 제13항에 있어서, 상기 코일배열이 플라즈마의 용량생성을 위한 전극중 한가지에 갈바지 전기적으로 연결되고 용기 내부쪽에 접한 코일 표면이 이와 같은 전극 표면에 기여하는 장치.
  15. 제13항에 있어서, 상기 코일배열이 진공으로 인한 용기 벽구조의 로딩 중 적어도 일부를 흡수하는 장치.
  16. 초기에 전극 사이에 플라즈마를 용량적으로 생성시키는 단계 및 그후 추가로 유도적으로 에너지를 커플링하는 단계로 이루어진 서로 떨어져 위치하고 플라즈마 방전을 용량적으로 생성하는 데 적합한 한 쌍의 전극을가지며, 플라즈마로 커플링하는 유도 에너지를 위한 코일 배열을 위한 상극 에칭 또는 코팅장치의 점화방법.
  17. 처리공정을 중지하기 위하여 서로 덜어져 위치하고 플라즈마를 용량적으로 생성하는 데 적합한 전극을 전기적으로 불화성화하고 따라서 플라즈마를 유도적으로 유지시키며, 처리공정을 재가동하기 위하여 플라즈마 를용량적으로 생성하는 데 적합한 전극을 다시 전기적으로 활성화 시키는 서로 떨어져 위치하고 플라즈마 발전을 용량적으로 생성하는데 적합한 한쌍의 전극을 가지며, 플라즈마로 커플링하는 유도 에너지를 위한 코일배열을 가진 에칭 또는 코팅 장치의 단속적 작동 방법.
  18. 코일 배열이 플라즈마를 용량적으로 생성하는 데 적합한 두개 전극중 한가지에 갈바니 전기적으로 연결되고 따라서 플라즈마에 접한 코일배열의 표면이 플라즈마를 용략적으로 생성하는 데 적합한 전극 표면으로서 작용하는 서로 떨어져 위치하고 플라즈마를 용량적으로 생성하는 데 적합한 한쌍의 전극을 가지며, 플라즈마로 커플링하는 유도 에너지를 위치한 코일배열을 가진 에칭 도는 코팅 장치.
  19. ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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