JP3737786B2 - エッチングあるいはコーティング装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、真空容器と容器内でACプラズマ放電を容量的に発生させる互いに離れた1対の電極とを有する純粋に物理的なプロセスとプラズマ支援の化学的プロセスPECVDのためのエッチングあるいはコーティング装置、プラズマ放電の点火を行う方法、及び同装置を間欠的に駆動する方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
上記種類及び類似の種類のスパッタリング装置は次の文献から公知である。DE−OS1790178、DE−OS2022957、3706698、EP−A−0271341、US−A−4572759、4278528、4632719、4657619、4132613、4557819、4466872、4552639、4581118、4166018、GB−A−1587566、1569117、1358411、1111910、1258301、2157715。この場合に一般には、例えばEP−A0271341から明らかなように、容量的にプラズマを発生させる2つの電極を容器壁を通る絶縁された通過部を通して駆動するか、あるいは単に一方の電極のみを駆動し、その場合には容器壁全体を第2の電極として使用し、例えば特に「アノード」としてアースに接続する。
【0003】
いわゆるACあるいは特にHFスプレイ技術の物理に関しては、次の文献に記載されている。H.R.KoenigとL.I.MaisselのIBM J.Res.Develop.14、1970年3月、第168頁以降、Balzers社のFachbericht BB800015DD(8404)、K.HoeflerとK.Wellerdieck、及びK.Wellerdieckの学位論文「スプレイ技術の高周波放電における電位の分布」1988、カールスルーエ大学。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
これまで知られている方法、すなわち両方の電極を駆動するか、あるいは容器壁の一方のみを電気的に絶縁して通過部を介して駆動するという方法は、次のような欠点を有する。容器壁を貫通して、絶縁されかつ気密を維持するように構成された少なくとも1つの通過部を設ける必要がある事、さらに容器壁と反対側の少なくとも1つの電極がプロセス室のかなりの部分を占めてしまい、そのために容器が大型になってしまうことである。
【0005】
一方の電極に容器壁を通して真空を維持しかつ絶縁状態で給電を行い、この壁を全体として第2の電極として例えばアース電位に接続して使用する場合には、容器内部側の電極面の面積比の構成が著しく限定されててしまう。その場合には一般に、容器壁全体によって形成される電極の面積を通過部を有する電極の面積よりも著しく大きくする。
【0006】
エッチングすべき工作物は面積の小さい方の電極に配置しなければならず(Koenigの面/電圧の規則)、従ってこの場合には通過部を有する電極の方へ配置しなければならず、通常AC電位に接続されるのはこの電極であって、容器ハウジングないし容器壁ではないので、この場合にはエッチングすべき工作物が電位に接続される。その場合には電位は必ずしもAC電位だけではない。というのはこの小さい方の電極は放電によってDC電位(自己バイアス電位)も発生するからである。電位に接続される工作物(通過部を有する小さい方の電極上で基準電位に接続される)は、どんな形式の自動処理にとっても著しく煩雑なものになってしまう。
【0007】
従って、要約すると、容器内部に、容器壁から局地的に分離され、かつそれから電気的に絶縁して駆動される電極が占める空間を容器の設計の際に考慮しなければならず、さらに容器壁を通して気密の通過部を形成することが必要であり、さらにこの種の電極によって大/小の電極面(Koenig)基準電位/DC浮遊電位に関して柔軟性が限定されてしまう。
本発明の課題は、できるだけ構造がコンパクトで、上述の欠点を除去した上述の種類の装置を提供することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】
そのために、本発明は基本的には以下の様な技術構成を採用するものである。即ち、真空容器(1、20)と、真空容器内で容量的にプラズマ放電を発生させる互いに離れた1対の電極(5、9;17、19;17a、19a、17b、19b)とを備えたエッチングあるいはコーティング装置において、容器を包囲する壁(3)が互いに絶縁された(7)2つの部分(5、9)に分割され、両者が電極面(FA 、FB )として用いられる内側の面に電気的に信号を伝達するのに用いられ、どちらの電極(5、9)がエッチングされるか、ないしはどちらの電極がコーティングされるか、が容器の壁(3)の分割と共に制御されるエッチングあるいはコーティング装置である。
【0009】
【作用】
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、図面を用いて本発明を詳細に説明する。
図1には、真空容器1が概略図示されている。真空容器の壁3は容器内部空間Iを包囲しており、かつ壁3には当然のことながら真空ポンプ(不図示)と、アルゴンなどの作業ガスの入口及び/あるいは反応ガスの出口などが接続されている。この壁3には金属からなる第1の部分5と第2の金属部分9が設けられており、部分9は中間絶縁体7を介して第1の部分から分離されている。金属部分5と9は、容量的にプラズマを発生させる2つの電極のそれぞれ一方を形成する。
【0014】
例えば上方の部分5は減結合コンデンサCを介して高周波発電機(一般にAC発電機と称する)に接続され、図示の例で電極として作用する第2の部分9は基準電圧φo(例えばアース電位)に接続される。部分5の内壁は電極面FA を形成し、部分9の内壁は第2の電極面FB を形成し、容器1のプロセス室ないし内部空間Iに向いている。
【0015】
図から明らかなように、このような容器1の実施例は、2つの面FA 、FB の割合をどのように選択するかについて最大の柔軟性を有する。工作物をエッチングするために、工作物は符号12で点線で示すように、電極部分9すなわち小さい方の電極面FB を形成する部分9上に載置され、工作物をコーティングする場合には符号13で示すように、大きい方の電極面FA を形成する電極部分5上に載置される。その場合には好ましくは大きい方の電極、従ってここでは部分5も基準電位φoで駆動される。
【0016】
図2には本発明による第2の装置ないし容器装置が示されている。
本図では一部のみ示す容器1の例えば金属の壁部分15には、容量的にプラズマを発生する第1の電極(不図示)が設けられる。この電極は図1の理念によれば容器の壁の一部とすることもできるが、従来のように容器壁を通して絶縁状態で気密で案内されることにより駆動される電極とすることもできる。図2には本発明により形成された電極が示されている。電極の基本構造には導電性の金属層17が容器の内部空間Iに関して外側に設けられ、かつ内部空間に対して誘電性の材料からなる層19によって覆われている。
【0017】
容器内部空間I内を支配する真空によってもたらされる容器壁3の圧力を吸収するために、導電性の層17は比較的厚い寸法で形成されており、それによりこの層によって圧力を吸収することができる。誘電性の層19は任意の薄さで形成することができる。真空容器1に設けられた、基本的に外側にある導電性の層17と誘電層19から形成される電極は、後述するようにDC減結合コンデンサを形成する。
【0018】
プラズマを維持するるプロセス室内には、自由な電荷担体が存在する。従って、誘電層19の内側に接しているプロセス室は、層17に対して逆容量プレートを形成する。導電性の層17と、誘電層19とそれに接するプロセス室の配置は、図2に示すように、プロセスインピーダンス(バー)ZP と、誘電層19及び導電性の層17を有し前記プロセスインピーダンスに直列に接続された電極容量によって簡単に示すことができる。
【0019】
図2に示すように、容器内で容量的にプラズマを発生するこの電極は基準電位φoに接続され、あるいはまたAC発電機、特にDC減結合コンデンサCと接続される。図1に示す実施例の場合に設けられ、従って電極部分5が自己バイアス電位をとることができるDC減結合コンデンサCは、層17とプロセス室I間の上述の容量によって形成することができる。
【0020】
誘電層19は好ましくは、工作物の処理プロセスと互換性を有する材料から形成され、それは特にこの層材料の搬出がプロセスの結果に悪い影響を与えないためである。従ってSiO2 表面を有する工作物を処理する場合には、層19は好ましくはSiO2 から形成される。
【0021】
図2を用いて示す電極は、容器3の任意の大きさの領域にわたって設けることができ、それによって大きい電極面と小さい電極面との比をどのように設定するかに関してここでも大きな柔軟性が得られる。
【0022】
図3には本発明の容器1が例示されており、容量的にプラズマを発生する2つの電極は図1と2に示すのと同様に構成される。従って図から明らかなように、容器内部全体を最大の純度の要請を満たすためにプロセス互換性を有する誘電工作物から形成することもできる。図4には容器20が概略図示されており、その部分22と28は公知のように基準電位φo、例えばアース電位と接続される。この部分22は容量的にプラズマを発生する電極の1つとして作用する。その第2の電極24は、公知のように容器20の金属壁28を通る絶縁体26を介して駆動される。容器壁の中間部分30には容器を巻回してコイル33が設けられている。コイルはAC発電機と接続され、それによってコイル電流を供給される。コイル33によって容器内部Iないしプロセス室の電極24と22/28間にもたらされる誘導磁場の作用によってプラズマ密度が増大し、イオンエネルギが減少するので、容量的にだけ発生されるプラズマと比較して、工作物をより均一にかつ「やさしく」コーティングないしエッチングすることができる。
【0023】
図4から明らかなように、本発明によればコイル30の内面は容器内部Iに対して露出している。コイル電流を供給するAC発電機は気密を維持するように封入されたコイル33と直列に接続され、次に一方の電極として作用する容器部分22と接続され、この部分22には基準電位φoが印加される。従ってコイル33はDCで基準電位φoに接続され、それによって内側が露出されたコイル面は容器部分22の電極面の一部となる。それによって、コイル33を設けているけれども、電極面FA 、FB の比が一定である場合にコイル33を設けない場合とほぼ同じように容器をコンパクトに形成することができる。
【0024】
コイル33を基準電位に接続された部分22ないし基準電位に接続された電極と導電接続しないで駆動する場合には、図4に点線で示すように、コイル33は例えば分離変圧器Trを介してAC発電機35と接続され、電極24と導電接続されない。それによってコイル33は自己バイアス電位をとることができると共に、発電機11によって駆動され、変圧結合されて発電機35によって駆動される。
【0025】
その場合にはコイル33は容量的にプラズマを発生するための電極24の面積に貢献する。図5においては、図4に示す誘導的にプラズマを発生するために設けられたコイルの面を充分に利用する技術が、図2に示す容量的にプラズマを発生する少なくとも一方の電極と共に使用されている。図示の例においては、容量的にプラズマを発生する電極の一方は容器1の金属部分39によって形成される。この部分は、例えば基準電位φoに接続される。容量的にプラズマを発生する第2の電極は図2に示す実施例と同様に、容器内部I側に誘電層19bを有する導電性の層17b(金属部分)によって形成される。この金属層17bは、図2による電極の回路構成の実施例に示すように、他のDC減結合なしにAC発電機11と接続されている。
【0026】
コイル装置41は容器の領域43に設けられ、容器内部I側は誘電層の他の実施例と同様の誘電材料で覆われている。図示の実施例においては、コイル装置41の容器内部I側の面は部分17bによって形成される層の延長面として作用させるので、コイル41は分離変圧器Trを介してAC発電機35と接続され、さらに部分17と導電接続されている。
【0027】
その場合に領域43においては好ましくはコイル41の本体は真空に基づく機械的な圧力を吸収し、容器内部に向いてできるだけ大きな有効面を形成するために、図示のようにフラットな巻き線として形成されている。
図2に示す電極の本発明実施例に戻って、内部側に金属の層を設けた方が好ましい場合には、この装置に容器内部に向いた金属の第3の層を設けることができるのは言うまでもないことである。その場合に図から明らかなように、符号45を付して点線で示すこの種の金属層あるいは適当な金属体はそれぞれそれぞれ所望の材料に従って容易に交換することができ、それぞれのプロセスに適合させることができる。
【0028】
真空容器、容量的にプラズマを発生する1対の電極及びさらに誘導的にプラズマを発生するコイル装置を有する装置(基本的には図4に示されているが、図4を用いて示すコイル面の特殊な利用とは無関係)は、本発明によれば、まずプラズマを容量的に形成し、次に誘導的に強化することによって点火される。すなわち、例えば図4に示す実施例の場合には、点火するためにまずAC11発電機が駆動され、その後コイル電流を供給するAC発電機が駆動される。
【0029】
容器内部で実施するエッチングあるいはコーティングプロセスを間欠的に駆動し、従って間欠的に停止させるためには、容量的なプラズマ発生すなわち図4の例で見ればAC発電機11が停止され、コイル電流を供給する発電機35は電気的に能動化されたままになる。プロセスを再開するためには、誘導性の成分が能動化されたままになっている場合には、単に発電機11をオンにすることによって容量的なプロセスが実施される。
【0030】
すでに説明したように、本発明の容器において、エッチングの場合には処理すべき工作物は容器内部側に向いた小さい面を有する電極の領域に配置され、その場合にはさらにこの小さい電極の領域にエッチングすべき工作物を保持する保持装置が設けられる。この種の保持装置は図1において符号12aで概略的に図示されている。
同様に、コーティングすべき工作物については図1に符号13aで概略的に示すよう大きい面を有する方の電極に工作物保持装置が設けられる。
【0031】
この場合にも公知のように、プラズマ密度を部分的に所望に高め、ないしはプラズマ分布を制御するために、放電室内で磁場を作用させることができることはもちろんである。この種の磁場は好ましくは室の外部に配置された永久磁石及び/あるいは電磁磁石によって発生され、静的に配置され、あるいは移動される。
【0032】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、容器ハウジングないしその壁が2つの電極を形成することによって、一方の電極を自由状態で設けるために必要な容器内部空間を省くことができ、絶縁された電気的な通過部も同様であって、そのために電極面積の比を所定の大きさに設定する上述の壁面の分配が可能であり、それによって容器の大きさが著しく変化することはなく、従って出来るだけ 造がコンパクトで、上述した従来の欠点を除去したエッチングあるいはコーティング装置が得られるのである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のエッチングあるいはコーティング装置の概略を示すものであって、容器が容量的にプラズマを発生する2つの電極を形成している。
【図2】容器の一部を概略的に示すものであって、本発明の第2の方法によってプラズマを容量的に発生させる電極の一方の実施例が示されている。
【図3】装置の容器の概略を示すものであって、容量的にプラズマを発生させる2つの電極は図2の実施例に従って形成されており、さらに図1に示す実施例による容器はほぼ電極面によって形成されている。
【図4】容量的にプラズマを発生させる電極を有する公知の装置の容器に基づいて、プラズマ内に誘導的にエネルギを結合するコイル装置の実施例が示されており、本発明によれば、コイルの面が容量的にプラズマを発生させる一方の電極の面の一部として利用されている。
【図5】請求項2に従って形成された容量的にプラズマを発生する電極の1つと、コイル装置とを有する本発明装置の容器が示されており、コイル装置の面は図2に示す電極の一部を形成している。
【符号の説明】
1…真空容器
3…壁
5、9…電極
FA 、FB …電極面
Claims (6)
- 排気される中空の内部空間であって、実質的に平坦な上面と該上面に実質的に平行な平坦底面とによって画定されかつ前記底面と上面は側面によって結合される内部空間を有する真空容器を備えたエッチングまたはコーティング装置において、
その電極面が前記底面の一部である、導電性材料の第1の電極と、
第1および第2の表面を有し、前記第1の表面は前記上面および側面を形成する、誘電材料と、
前記誘電材料の前記第2の表面の前記上面および前記上面に連続する前記側面の一部上に、前記第1の電極とは間隔を置いて形成された導電材料の第2の電極と、
前記第1および第2の電極と離れ、前記内部空間の側面の一部において前記誘電材料の前記第1の表面上に露出しない位置で前記側面を取り囲むコイル表面を有するコイル装置、を設け、
前記第1および第2の電極はプラズマ生成Rf電源に接続されている、エッチングまたはコーティング装置。 - 請求項1に記載の装置において、前記第1の電極の電極面に隣接して、エッチングすべき少なくとも1個の工作物のための工作物支持体を備える、エッチング装置。
- 請求項1または2に記載の装置において、前記コイル装置はAC電源に接続されている、エッチングまたはコーティング装置。
- 請求項1に記載の装置において、前記第1の電極は、基準電位(Φ 0 )に接続された前記プラズマ生成Rf電源の出力に接続されている、エッチングまたはコーティング装置。
- 請求項1に記載の装置において、さらに、排気口と同様に前記内部空間へのガス流入口を備える、エッチングまたはコーティング装置。
- 前記プラズマ生成Rf電源は、DC減結合コンデンサを介して前記第1の電極に接続されている、エッチングまたはコーティング装置。
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