JP2003157999A - エッチングあるいはコーティング装置 - Google Patents

エッチングあるいはコーティング装置

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JP2003157999A JP2002199121A JP2002199121A JP2003157999A JP 2003157999 A JP2003157999 A JP 2003157999A JP 2002199121 A JP2002199121 A JP 2002199121A JP 2002199121 A JP2002199121 A JP 2002199121A JP 2003157999 A JP2003157999 A JP 2003157999A
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    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 できるだけ構造が簡単で、従来の欠点を除去
したエッチングあるいはコーティング装置およびその方
法を得ることを目的とする。 【解決手段】 容量的にプラズマを発生させる互いに離
れた1対の電極とプラズマ内に誘導性のエネルギを結合
するコイル装置とを備えた三極管エッチングあるいはコ
ーティング装置を点火するために、まず電極間でプラズ
マが容量的に発生され、その後さらに誘導エネルギが結
合される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、真空容器と容器内
でACプラズマ放電を容量的に発生させる互いに離れた
1対の電極とを有する純粋に物理的なプロセスとプラズ
マ支援の化学的プロセスPECVDのためのエッチング
あるいはコーティング装置、プラズマ放電の点火を行う
方法、及び同装置を間欠的に駆動する方法に関するもの
である。
【0002】
【従来の技術】上記種類及び類似の種類のスパッタリン
グ装置は次の文献から公知である。DE−OS1790
178、DE−OS2022957、3706698、
EP−A−0271341、US−A−457275
9、4278528、4632719、465761
9、4132613、4557819、446687
2、4552639、4581118、416601
8、GB−A−1587566、1569117、13
58411、1111910、1258301、215
7715。この場合に一般には、例えばEP−A027
1341から明らかなように、容量的にプラズマを発生
させる2つの電極を容器壁を通る絶縁された通過部を通
して駆動するか、あるいは単に一方の電極のみを駆動
し、その場合には容器壁全体を第2の電極として使用
し、例えば特に「アノード」としてアースに接続する。
【0003】いわゆるACあるいは特にHFスプレイ技
術の物理に関しては、次の文献に記載されている。H.
R.KoenigとL.I.MaisselのIBM
J.Res.Develop.14、1970年3月、
第168頁以降、Balzers社のFachberi
cht BB800015DD(8404)、K.Ho
eflerとK.Wellerdieck、及びK.W
ellerdieckの学位論文「スプレイ技術の高周
波放電における電位の分布」1988、カールスルーエ
大学。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】これまで知られている
方法、すなわち両方の電極を駆動するか、あるいは容器
壁の一方のみを電気的に絶縁して通過部を介して駆動す
るという方法は、次のような欠点を有する。容器壁を貫
通して、絶縁されかつ気密を維持するように構成された
少なくとも1つの通過部を設ける必要がある事、さらに
容器壁と反対側の少なくとも1つの電極がプロセス室の
かなりの部分を占めてしまい、そのために容器が大型に
なってしまうことである。
【0005】一方の電極に容器壁を通して真空を維持し
かつ絶縁状態で給電を行い、この壁を全体として第2の
電極として例えばアース電位に接続して使用する場合に
は、容器内部側の電極面の面積比の構成が著しく限定さ
れててしまう。その場合には一般に、容器壁全体によっ
て形成される電極の面積を通過部を有する電極の面積よ
りも著しく大きくする。
【0006】エッチングすべき工作物は面積の小さい方
の電極に配置しなければならず(Koenigの面/電
圧の規則)、従ってこの場合には通過部を有する電極の
方へ配置しなければならず、通常AC電位に接続される
のはこの電極であって、容器ハウジングないし容器壁で
はないので、この場合にはエッチングすべき工作物が電
位に接続される。その場合には電位は必ずしもAC電位
だけではない。というのはこの小さい方の電極は放電に
よってDC電位(自己バイアス電位)も発生するからで
ある。電位に接続される工作物(通過部を有する小さい
方の電極上で基準電位に接続される)は、どんな形式の
自動処理にとっても著しく煩雑なものになってしまう。
【0007】従って、要約すると、容器内部に、容器壁
から局地的に分離され、かつそれから電気的に絶縁して
駆動される電極が占める空間を容器の設計の際に考慮し
なければならず、さらに容器壁を通して気密の通過部を
形成することが必要であり、さらにこの種の電極によっ
て大/小の電極面(Koenig)基準電位/DC浮遊
電位に関して柔軟性が限定されてしまう。本発明の課題
は、できるだけ構造がコンパクトで、上述の欠点を除去
した上述の種類の装置を提供することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】そのために、本発明は基
本的には以下の様な技術構成を採用するものである。即
ち、真空容器(1、20)と、真空容器内で容量的にプ
ラズマ放電を発生させる互いに離れた1対の電極(5、
9;17、19;17a、19a、17b、19b)と
を備えたエッチングあるいはコーティング装置におい
て、容器を包囲する壁(3)が互いに絶縁された(7)
2つの部分(5、9)に分割され、両者が電極面(FA
、FB )として用いられる内側の面に電気的に信号を
伝達するのに用いられ、どちらの電極(5、9)がエッ
チングされるか、ないしはどちらの電極がコーティング
されるか、が容器の壁(3)の分割と共に制御されるエ
ッチングあるいはコーティング装置である。
【0009】
【作用】
【0010】本発明の第1の態様によれば、真空容器内
でプラズマ放電を点火する方法が記載されており、その
方法は次のような特徴を有する。すなわち、まずプラズ
マを容量的に点火し、その後誘導的に強化する。この種
の点火方法は、もちろん上述の本発明装置の点火に適し
ており、点火補助手段を必要としない。
【0011】さらに、第2の態様によれば、真空容器内
でプラズマ放電を間欠的に駆動する方法が提案されてお
り、同方法においては、プロセスを停止させるために容
量的な電極を電気的に非能動化するだけで、プロセス室
内で誘導的に発生されたプラズマを維持し、その後容量
的な電極を再度能動化することによってプロセスが再開
される。
【0012】それによれば、本発明による点火、ないし
は間欠的駆動を好ましくは組み合わせて使用することに
よって、別に点火装置を設けずに、装置に点火し、かつ
間欠的に駆動することができる。第3の態様には、誘導
的にプラズマを発生するために設けられているコイル装
置を容量的にプラズマを発生するために設けられた電極
とを本発明により導電接続することが記載されており、
それによれば、容器の大きさをよりよく利用することが
でき、ないしは縮小することができる。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、図面を用いて本発明を詳細
に説明する。図1には、真空容器1が概略図示されてい
る。真空容器の壁3は容器内部空間Iを包囲しており、
かつ壁3には当然のことながら真空ポンプ(不図示)
と、アルゴンなどの作業ガスの入口及び/あるいは反応
ガスの出口などが接続されている。この壁3には金属か
らなる第1の部分5と第2の金属部分9が設けられてお
り、部分9は中間絶縁体7を介して第1の部分から分離
されている。金属部分5と9は、容量的にプラズマを発
生させる2つの電極のそれぞれ一方を形成する。
【0014】例えば上方の部分5は減結合コンデンサC
を介して高周波発電機(一般にAC発電機と称する)に
接続され、図示の例で電極として作用する第2の部分9
は基準電圧φo(例えばアース電位)に接続される。部
分5の内壁は電極面FA を形成し、部分9の内壁は第2
の電極面FB を形成し、容器1のプロセス室ないし内部
空間Iに向いている。
【0015】図から明らかなように、このような容器1
の実施例は、2つの面FA 、FB の割合をどのように選
択するかについて最大の柔軟性を有する。工作物をエッ
チングするために、工作物は符号12で点線で示すよう
に、電極部分9すなわち小さい方の電極面FB を形成す
る部分9上に載置され、工作物をコーティングする場合
には符号13で示すように、大きい方の電極面FA を形
成する電極部分5上に載置される。その場合には好まし
くは大きい方の電極、従ってここでは部分5も基準電位
φoで駆動される。
【0016】図2には本発明による第2の装置ないし容
器装置が示されている。本図では一部のみ示す容器1の
例えば金属の壁部分15には、容量的にプラズマを発生
する第1の電極(不図示)が設けられる。この電極は図
1の理念によれば容器の壁の一部とすることもできる
が、従来のように容器壁を通して絶縁状態で気密で案内
されることにより駆動される電極とすることもできる。
図2には本発明により形成された電極が示されている。
電極の基本構造には導電性の金属層17が容器の内部空
間Iに関して外側に設けられ、かつ内部空間に対して誘
電性の材料からなる層19によって覆われている。
【0017】容器内部空間I内を支配する真空によって
もたらされる容器壁3の圧力を吸収するために、導電性
の層17は比較的厚い寸法で形成されており、それによ
りこの層によって圧力を吸収することができる。誘電性
の層19は任意の薄さで形成することができる。真空容
器1に設けられた、基本的に外側にある導電性の層17
と誘電層19から形成される電極は、後述するようにD
C減結合コンデンサを形成する。
【0018】プラズマを維持するるプロセス室内には、
自由な電荷担体が存在する。従って、誘電層19の内側
に接しているプロセス室は、層17に対して逆容量プレ
ートを形成する。導電性の層17と、誘電層19とそれ
に接するプロセス室の配置は、図2に示すように、プロ
セスインピーダンス(バー)ZP と、誘電層19及び導
電性の層17を有し前記プロセスインピーダンスに直列
に接続された電極容量によって簡単に示すことができ
る。
【0019】図2に示すように、容器内で容量的にプラ
ズマを発生するこの電極は基準電位φoに接続され、あ
るいはまたAC発電機、特にDC減結合コンデンサCと
接続される。図1に示す実施例の場合に設けられ、従っ
て電極部分5が自己バイアス電位をとることができるD
C減結合コンデンサCは、層17とプロセス室I間の上
述の容量によって形成することができる。
【0020】誘電層19は好ましくは、工作物の処理プ
ロセスと互換性を有する材料から形成され、それは特に
この層材料の搬出がプロセスの結果に悪い影響を与えな
いためである。従ってSiO2 表面を有する工作物を
処理する場合には、層19は好ましくはSiO2 から
形成される。
【0021】図2を用いて示す電極は、容器3の任意の
大きさの領域にわたって設けることができ、それによっ
て大きい電極面と小さい電極面との比をどのように設定
するかに関してここでも大きな柔軟性が得られる。
【0022】図3には本発明の容器1が例示されてお
り、容量的にプラズマを発生する2つの電極は図1と2
に示すのと同様に構成される。従って図から明らかなよ
うに、容器内部全体を最大の純度の要請を満たすために
プロセス互換性を有する誘電工作物から形成することも
できる。図4には容器20が概略図示されており、その
部分22と28は公知のように基準電位φo、例えばア
ース電位と接続される。この部分22は容量的にプラズ
マを発生する電極の1つとして作用する。その第2の電
極24は、公知のように容器20の金属壁28を通る絶
縁体26を介して駆動される。容器壁の中間部分30に
は容器を巻回してコイル33が設けられている。コイル
はAC発電機と接続され、それによってコイル電流を供
給される。コイル33によって容器内部Iないしプロセ
ス室の電極24と22/28間にもたらされる誘導磁場
の作用によってプラズマ密度が増大し、イオンエネルギ
が減少するので、容量的にだけ発生されるプラズマと比
較して、工作物をより均一にかつ「やさしく」コーティ
ングないしエッチングすることができる。
【0023】図4から明らかなように、本発明によれば
コイル30の内面は容器内部Iに対して露出している。
コイル電流を供給するAC発電機は気密を維持するよう
に封入されたコイル33と直列に接続され、次に一方の
電極として作用する容器部分22と接続され、この部分
22には基準電位φoが印加される。従ってコイル33
はDCで基準電位φoに接続され、それによって内側が
露出されたコイル面は容器部分22の電極面の一部とな
る。それによって、コイル33を設けているけれども、
電極面FA 、FB の比が一定である場合にコイル33を
設けない場合とほぼ同じように容器をコンパクトに形成
することができる。
【0024】コイル33を基準電位に接続された部分2
2ないし基準電位に接続された電極と導電接続しないで
駆動する場合には、図4に点線で示すように、コイル3
3は例えば分離変圧器Trを介してAC発電機35と接
続され、電極24と導電接続されない。それによってコ
イル33は自己バイアス電位をとることができると共
に、発電機11によって駆動され、変圧結合されて発電
機35によって駆動される。
【0025】その場合にはコイル33は容量的にプラズ
マを発生するための電極24の面積に貢献する。図5に
おいては、図4に示す誘導的にプラズマを発生するため
に設けられたコイルの面を充分に利用する技術が、図2
に示す容量的にプラズマを発生する少なくとも一方の電
極と共に使用されている。図示の例においては、容量的
にプラズマを発生する電極の一方は容器1の金属部分3
9によって形成される。この部分は、例えば基準電位φ
oに接続される。容量的にプラズマを発生する第2の電
極は図2に示す実施例と同様に、容器内部I側に誘電層
19bを有する導電性の層17b(金属部分)によって
形成される。この金属層17bは、図2による電極の回
路構成の実施例に示すように、他のDC減結合なしにA
C発電機11と接続されている。
【0026】コイル装置41は容器の領域43に設けら
れ、容器内部I側は誘電層の他の実施例と同様の誘電材
料で覆われている。図示の実施例においては、コイル装
置41の容器内部I側の面は部分17bによって形成さ
れる層の延長面として作用させるので、コイル41は分
離変圧器Trを介してAC発電機35と接続され、さら
に部分17と導電接続されている。
【0027】その場合に領域43においては好ましくは
コイル41の本体は真空に基づく機械的な圧力を吸収
し、容器内部に向いてできるだけ大きな有効面を形成す
るために、図示のようにフラットな巻き線として形成さ
れている。図2に示す電極の本発明実施例に戻って、内
部側に金属の層を設けた方が好ましい場合には、この装
置に容器内部に向いた金属の第3の層を設けることがで
きるのは言うまでもないことである。その場合に図から
明らかなように、符号45を付して点線で示すこの種の
金属層あるいは適当な金属体はそれぞれそれぞれ所望の
材料に従って容易に交換することができ、それぞれのプ
ロセスに適合させることができる。
【0028】真空容器、容量的にプラズマを発生する1
対の電極及びさらに誘導的にプラズマを発生するコイル
装置を有する装置(基本的には図4に示されているが、
図4を用いて示すコイル面の特殊な利用とは無関係)
は、本発明によれば、まずプラズマを容量的に形成し、
次に誘導的に強化することによって点火される。すなわ
ち、例えば図4に示す実施例の場合には、点火するため
にまずAC11発電機が駆動され、その後コイル電流を
供給するAC発電機が駆動される。
【0029】容器内部で実施するエッチングあるいはコ
ーティングプロセスを間欠的に駆動し、従って間欠的に
停止させるためには、容量的なプラズマ発生すなわち図
4の例で見ればAC発電機11が停止され、コイル電流
を供給する発電機35は電気的に能動化されたままにな
る。プロセスを再開するためには、誘導性の成分が能動
化されたままになっている場合には、単に発電機11を
オンにすることによって容量的なプロセスが実施され
る。
【0030】すでに説明したように、本発明の容器にお
いて、エッチングの場合には処理すべき工作物は容器内
部側に向いた小さい面を有する電極の領域に配置され、
その場合にはさらにこの小さい電極の領域にエッチング
すべき工作物を保持する保持装置が設けられる。この種
の保持装置は図1において符号12aで概略的に図示さ
れている。同様に、コーティングすべき工作物について
は図1に符号13aで概略的に示すよう大きい面を有す
る方の電極に工作物保持装置が設けられる。
【0031】この場合にも公知のように、プラズマ密度
を部分的に所望に高め、ないしはプラズマ分布を制御す
るために、放電室内で磁場を作用させることができるこ
とはもちろんである。この種の磁場は好ましくは室の外
部に配置された永久磁石及び/あるいは電磁磁石によっ
て発生され、静的に配置され、あるいは移動される。
【0032】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、容器ハウジングないしその壁が2つの電極を
形成することによって、一方の電極を自由状態で設ける
ために必要な容器内部空間を省くことができ、絶縁され
た電気的な通過部も同様であって、そのために電極面積
の比を所定の大きさに設定する上述の壁面の分配が可能
であり、それによって容器の大きさが著しく変化するこ
とはなく、従って出来るだけ 造がコンパクトで、上述
した従来の欠点を除去したエッチングあるいはコーティ
ング装置が得られるのである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のエッチングあるいはコーティング装置
の概略を示すものであって、容器が容量的にプラズマを
発生する2つの電極を形成している。
【図2】容器の一部を概略的に示すものであって、本発
明の第2の方法によってプラズマを容量的に発生させる
電極の一方の実施例が示されている。
【図3】装置の容器の概略を示すものであって、容量的
にプラズマを発生させる2つの電極は図2の実施例に従
って形成されており、さらに図1に示す実施例による容
器はほぼ電極面によって形成されている。
【図4】容量的にプラズマを発生させる電極を有する公
知の装置の容器に基づいて、プラズマ内に誘導的にエネ
ルギを結合するコイル装置の実施例が示されており、本
発明によれば、コイルの面が容量的にプラズマを発生さ
せる一方の電極の面の一部として利用されている。
【図5】請求項2に従って形成された容量的にプラズマ
を発生する電極の1つと、コイル装置とを有する本発明
装置の容器が示されており、コイル装置の面は図2に示
す電極の一部を形成している。
【符号の説明】
1…真空容器 3…壁 5、9…電極 FA 、FB …電極面
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 21/3065 H01L 21/302 101B Fターム(参考) 4G075 AA24 AA30 BC04 BC06 CA47 CA65 EB42 EC21 4K029 CA05 EA06 4K030 FA03 FA04 KA30 5F004 BA04 BA20 BD04 CA03 CA07 5F045 AA08 DP02 EB02 EC01 EH06 EH11 EH13 EH19

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 容量的にプラズマを発生させる互いに離
    れた1対の電極とプラズマ内に誘導性のエネルギを結合
    するコイル装置とを備えた三極管エッチングあるいはコ
    ーティング装置を点火する方法において、まず電極間で
    プラズマが容量的に発生され、その後さらに誘導エネル
    ギが結合されることを特徴とする三極管エッチングある
    いはコーティング装置を点火する方法。
  2. 【請求項2】 容量的にプラズマを発生させる互いに離
    れた1対の電極と、プラズマ内に誘導的にエネルギを結
    合するコイル装置とを有するエッチングあるいはコーテ
    ィング装置を間欠的に駆動する方法において、処理プロ
    セスを停止させるために、容量的にプラズマを発生する
    互いに離れた電極が電気的に非能動化され、その際にプ
    ラズマは誘導的に維持され、かつプロセスを再開するた
    めに容量的にプラズマを発生させる電極が電気的に再び
    能動化されることを特徴とするエッチングあるいはコー
    ティング装置を間欠的に駆動する方法。
  3. 【請求項3】 容量的にプラズマを発生させる互いに離
    れた1対の電極とプラズマ内に誘導的にエネルギを結合
    するコイル装置とを有するエッチングあるいはコーティ
    ング装置において、コイル装置が容量的にプラズマを発
    生させる2つの電極の一方と導電接続され、それによっ
    てコイル装置のプラズマ側の面が、容量的にプラズマを
    発生させる前記電極の面として作用することを特徴とす
    るエッチングあるいはコーティング装置。
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