KR910008806A - 포토 에칭 방법 - Google Patents
포토 에칭 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR910008806A KR910008806A KR1019890015055A KR890015055A KR910008806A KR 910008806 A KR910008806 A KR 910008806A KR 1019890015055 A KR1019890015055 A KR 1019890015055A KR 890015055 A KR890015055 A KR 890015055A KR 910008806 A KR910008806 A KR 910008806A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- baking
- aligner
- photoresist
- depositing
- photoetching
- Prior art date
Links
Landscapes
- Thin Film Transistor (AREA)
Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 따른 포토에칭 방법의 흐름도.
Claims (3)
- 세척한 유리기판에 크롬을 증착하는 포토레지스트 코팅 공정후 얼라이너내에 장착된 자외선들에 노출시키는 소프트 베이킹 고정과, 상기 소프트 베이킹 공정후 얼라이닝을 한다음 포토에칭하는 공정과, 상기 포토에칭 공정후 열처리를 하는 하드베이킹 공정과, 상기 하드 베이킹 공정후 에칭한다음 포토레지스트를 제거하는 공정과, 상기 포토레지스트 제거공정후 세척한 다음 적외선등에 베이킹을 하는 공정과, 상기 적외선들에 베이킹하는 공정 후 PE-CVD법에 의해 아몰퍼스 실리콘층을 증착한다음 ITO층을 증착하는 공정과, 상기 ITO층 증착공정후 안정화 시키는 공정을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 포토에칭 방법.
- 제1항에 있어서 매스트가 장착되지 않은 얼라이너에 회전도포기에서 포토레지스트 코팅이 끝난 시편을 올려놓고 매스트 얼라인시의 조도보다 낮으며 매스크 얼라인 시간과 동일한 시간으로 얼라이너에 장착된 자외선 등에 노출하여 소프트 베이킹을 하는 것을 특징으로 하는 포토에칭 방법.
- 제1항에 있어서, 얼라이너에 내에서 소프트베이킹 공정과 매스크 얼라이닝 공정을 함께 수행하는 것을 특징으로 하는 포토에칭 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019890015055A KR910008806A (ko) | 1989-10-19 | 1989-10-19 | 포토 에칭 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019890015055A KR910008806A (ko) | 1989-10-19 | 1989-10-19 | 포토 에칭 방법 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR910008806A true KR910008806A (ko) | 1991-05-31 |
Family
ID=67660882
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019890015055A KR910008806A (ko) | 1989-10-19 | 1989-10-19 | 포토 에칭 방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR910008806A (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9240107B2 (en) | 2012-11-15 | 2016-01-19 | Nautilus Hyosung Inc. | Apparatus for receiving and dispensing bill and method for receiving and dispensing bill |
-
1989
- 1989-10-19 KR KR1019890015055A patent/KR910008806A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9240107B2 (en) | 2012-11-15 | 2016-01-19 | Nautilus Hyosung Inc. | Apparatus for receiving and dispensing bill and method for receiving and dispensing bill |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR970018238A (ko) | 메탈층 형성 방법 | |
KR910008806A (ko) | 포토 에칭 방법 | |
KR950001940A (ko) | 반도체 소자의 패턴형성용 마스크 제조방법 | |
FR2637428A1 (fr) | Electrode interdigitee pour dispositif a ondes de surface et procede pour sa production | |
KR970018104A (ko) | Lcd의 글라스에 ito 패턴을 형성시키는 방법 | |
KR890005918A (ko) | 비정질 실리콘 태양전지 제조방법 | |
JPS5655950A (en) | Photographic etching method | |
KR910006775A (ko) | 사진식각 공정방법 | |
KR910005402A (ko) | 포토리지스트와 기판과의 부착성 향상방법 | |
KR910001460A (ko) | 포토레지스트의 측벽 프로파일 개선 방법 | |
JPS5558534A (en) | Manufacture of semiconductor device | |
KR910001461A (ko) | 반도체 장치의 사진 공정 | |
KR970077296A (ko) | 알루미늄 박막의 식각 방법 | |
KR950024261A (ko) | 림(Rim)형 위상반전마시크 및 그 제조방법 | |
KR950014983A (ko) | 사진식각방법 | |
KR910001900A (ko) | 반도체 장치의 폴리머층의 프로파일 조절방법 | |
KR970028803A (ko) | 위상반전마스크와 그의 제조방법 | |
KR900005559A (ko) | 박막트랜지스터의 게이트 금속층에 의한 소오스, 드레인 패턴자체 정렬방법 | |
KR890011047A (ko) | 차광성 박막의 에칭방법 | |
KR960005809A (ko) | 반도체 소자의 패턴 형성방법 | |
KR920020591A (ko) | 반도체 장치의 위상시프트 마스크 제조방법 | |
KR950021045A (ko) | 반도체 소자의 미세 패턴 형성방법 | |
KR950006981A (ko) | 포토레지스트패턴 형성방법 | |
KR960029831A (ko) | 액정표시 패널의 제작방법 | |
KR950021761A (ko) | 박막트랜지스터 제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E601 | Decision to refuse application |