KR910002713A - 준안정성 실란 가수분해물 및 이의 제조방법 - Google Patents

준안정성 실란 가수분해물 및 이의 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR910002713A
KR910002713A KR1019900011468A KR900011468A KR910002713A KR 910002713 A KR910002713 A KR 910002713A KR 1019900011468 A KR1019900011468 A KR 1019900011468A KR 900011468 A KR900011468 A KR 900011468A KR 910002713 A KR910002713 A KR 910002713A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
coating
hydrogen
hydrolyzate
solvent
sulfur
Prior art date
Application number
KR1019900011468A
Other languages
English (en)
Other versions
KR950012099B1 (ko
Inventor
다렌 웨이스 케이트
레오나드 프라이에 시실
Original Assignee
노만 에드워드 루이스
다우 코닝 코포레이션
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 노만 에드워드 루이스, 다우 코닝 코포레이션 filed Critical 노만 에드워드 루이스
Publication of KR910002713A publication Critical patent/KR910002713A/ko
Priority to KR1019950026251A priority Critical patent/KR950012100B1/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR950012099B1 publication Critical patent/KR950012099B1/ko

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/045Polysiloxanes containing less than 25 silicon atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/06Preparatory processes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/06Preparatory processes
    • C08G77/08Preparatory processes characterised by the catalysts used
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/14Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
    • C08G77/16Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups to hydroxyl groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D183/00Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D183/04Polysiloxanes

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Ceramic Products (AREA)

Abstract

내용 없음

Description

준안정성 실란 가수분해물 및 이의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (10)

  1. a)황-비함유 극성 유기용매에 트리클로로실란, 유효량의 물 또는 염산 및 화학양론적 양 이상의 금속 산화물을 가하여 반응 혼합물을 형성시키고; b)이 반응 혼합물을 반응시켜 가용성 실란 가수분해물 및 금속 염화물을 형성시킨후; c)실란 가수분해물로부터 금속 염화물을 제거하는 단계를 포함함을 특징으로 하여, 일반식(Ⅰ)의 실란 가수분해물을 제조하는 방법.
    상기식에서, R은 수소 또는 메틸 그룹이고, n은 8이상의 정수이며, x는 0 내지 2의 수이다.
  2. 제1항에 있어서, 금속 산화물을 CuO, ZnO, MgO, CaO, Cu2O 및 이의 혼합물중에서 선택하는 방법.
  3. 제1항에 있어서, 황-비함유 유기 극성 용매를 케톤, 에스테르, 에테르 및 이의 혼합물 중에서 선택하는 방법.
  4. 제1항에 있어서, 용매를 함유하는 용액중에 가수분해물의 농도가 약 1 내지 약 25중량%인 방법.
  5. 제1항에 있어서, 가수분해물이 수소 및 메틸 그룹 둘다를 함유하는 공중합체이고 메틸그룹에 대한 수소 그룹의 몰비가 1과 동일하거나 1이상인 방법.
  6. 제1항의 방법에의해 제조된 제품.
  7. 일반식(Ⅰ)의 조성물을 함유하는 황-비함유 극성 유기 용매를 포함하며, 조성물중의 실란올 함량이 약 1내지 10중량%임을 특징으로 하는 안정한 실란 가수분해물 용액.
    상기식에서, R은 수소 또는 메틸 그룹이고, n은 약 8 이상의 정수이며, x는 0 내지 2의 수이다.
  8. 제7항에 있어서, R이 수소인 가수분해물 용액.
  9. a)일반식(Ⅰ)의 조성물을 함유하는 황-비함유 극성 유기 용매를 포함하며, 조성물 중의 실란올 함량이 약 1 내지 10중량%인 용액으로 기질을 피복한후; b)용매를 증발시켜 기질위에 불용성 실세스퀴옥산 피복물을 침착시키는 단계를 포함함을 특징으로 하여 기질위에 실세스퀴옥산 수지의 보호용 피복물을 형성시키는 방법.
    상기식에서, R은 수소 또는 메틸 그룹이고, n은 약8 이상의 정수이며, x는 0 내지 2의 수이다.
  10. a)일반식(Ⅰ)의 조성물을 함유하는 황-비함유 극성 유기 용매를 포함하며, 용매중의 실란올 함량이 약 1내지 10중량%인 용액을 기질위에 피복하고; b)용매를 증발시켜 기질위에 불용성 실세스퀴옥산 피복물을 침착시킨후; c)피복물을 약 100℃ 내지 약 1000℃의 온도에서 산화대기에 적용시켜 실세스퀴옥산 피복물을 이산화실리콘-함유 세라믹으로 전환시키는 단계를 포함함을 특징으로 하영 세라믹 또는 세라믹-형 피복물을 형성시키는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019900011468A 1989-07-28 1990-07-27 준안정성 실란 가수분해물 및 이의 제조방법 KR950012099B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019950026251A KR950012100B1 (ko) 1989-07-28 1995-08-24 실란 가수분해물 용액을 사용하여 실세스퀴옥산 수지의 보호용 피막을 형성시키는 방법

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US07/386,450 US4999397A (en) 1989-07-28 1989-07-28 Metastable silane hydrolyzates and process for their preparation
US386,450 1989-07-28
US386450 1989-07-28

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019950026251A Division KR950012100B1 (ko) 1989-07-28 1995-08-24 실란 가수분해물 용액을 사용하여 실세스퀴옥산 수지의 보호용 피막을 형성시키는 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR910002713A true KR910002713A (ko) 1991-02-26
KR950012099B1 KR950012099B1 (ko) 1995-10-14

Family

ID=23525629

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019900011468A KR950012099B1 (ko) 1989-07-28 1990-07-27 준안정성 실란 가수분해물 및 이의 제조방법

Country Status (7)

Country Link
US (1) US4999397A (ko)
EP (1) EP0410564B1 (ko)
JP (1) JPH0794556B2 (ko)
KR (1) KR950012099B1 (ko)
CA (1) CA2018609A1 (ko)
DE (1) DE69023566T2 (ko)
ES (1) ES2081932T3 (ko)

Families Citing this family (119)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5063267A (en) * 1990-11-28 1991-11-05 Dow Corning Corporation Hydrogen silsesquioxane resin fractions and their use as coating materials
US5238787A (en) * 1991-04-22 1993-08-24 Dow Corning Corporation Photodelineable coatings from hydrogen silsesquioxane resin
GB9115818D0 (en) * 1991-07-23 1991-09-04 Impact International Inc Oligoorganosilasesquioxanes
JP3161780B2 (ja) * 1991-09-30 2001-04-25 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 α,ω−ジヒドロキシフルオロアルキルメチルポリシロキサンの製造方法
JPH0588413A (ja) * 1991-09-30 1993-04-09 Toray Dow Corning Silicone Co Ltd キヤリアコーテイング用シリコーン樹脂組成物およびキヤリアの製造方法
US5436029A (en) * 1992-07-13 1995-07-25 Dow Corning Corporation Curing silicon hydride containing materials by exposure to nitrous oxide
CA2104340A1 (en) * 1992-08-31 1994-03-01 Grish Chandra Hermetic protection for integrated circuits
DE4230149A1 (de) * 1992-09-09 1994-03-17 Heraeus Noblelight Gmbh Verfahren zur Herstellung von oxydischen Schutzschichten
US5310583A (en) * 1992-11-02 1994-05-10 Dow Corning Corporation Vapor phase deposition of hydrogen silsesquioxane resin in the presence of nitrous oxide
US5387480A (en) * 1993-03-08 1995-02-07 Dow Corning Corporation High dielectric constant coatings
TW492989B (en) * 1993-03-19 2002-07-01 Dow Corning Stabilization of hydrogen silsesquioxane resin solutions
TW257785B (ko) * 1993-05-17 1995-09-21 Dow Corning
US5354631A (en) * 1993-06-08 1994-10-11 Valence Technology, Inc. Enhanced lithium surface
US5441765A (en) * 1993-09-22 1995-08-15 Dow Corning Corporation Method of forming Si-O containing coatings
KR100361043B1 (ko) 1993-12-27 2003-04-10 가와사키 마이크로 엘렉트로닉스 가부시키가이샤 반도체장치의절연막및절연막형성용도포액및절연막의제조방법
JP3703116B2 (ja) * 1995-07-05 2005-10-05 信越化学工業株式会社 オルガノポリシロキサン樹脂の製造方法
CA2202653A1 (en) * 1995-08-15 1997-02-27 Akihito Saitoh Curable polymethyl silsesouioxane composition
US6770726B1 (en) 1995-09-12 2004-08-03 Gelest, Inc. β-substituted organosilsesquioxane polymers
JPH11512474A (ja) * 1995-09-12 1999-10-26 ゲレスト インコーポレーテツド ベータ−置換オルガノシルセスキオキサンおよびその使用法
US5985229A (en) * 1995-09-21 1999-11-16 Toagosei Co., Ltd. Solid silica derivative and process for producing the same
US5693701A (en) 1995-10-26 1997-12-02 Dow Corning Corporation Tamper-proof electronic coatings
US5753374A (en) 1995-11-27 1998-05-19 Dow Corning Corporation Protective electronic coating
US5609925A (en) 1995-12-04 1997-03-11 Dow Corning Corporation Curing hydrogen silsesquioxane resin with an electron beam
US5780163A (en) * 1996-06-05 1998-07-14 Dow Corning Corporation Multilayer coating for microelectronic devices
US5693565A (en) * 1996-07-15 1997-12-02 Dow Corning Corporation Semiconductor chips suitable for known good die testing
US5807611A (en) * 1996-10-04 1998-09-15 Dow Corning Corporation Electronic coatings
US5711987A (en) * 1996-10-04 1998-01-27 Dow Corning Corporation Electronic coatings
US5776235A (en) * 1996-10-04 1998-07-07 Dow Corning Corporation Thick opaque ceramic coatings
US6020410A (en) * 1996-10-29 2000-02-01 Alliedsignal Inc. Stable solution of a silsesquioxane or siloxane resin and a silicone solvent
US20100273011A1 (en) * 1996-12-20 2010-10-28 Bianxiao Zhong Silicone Composition, Silicone Adhesive, Coated and Laminated Substrates
WO2009111196A1 (en) * 2008-03-04 2009-09-11 Dow Corning Corporation Silicone composition, silicone adhesive, coated and laminated substrates
US5707681A (en) * 1997-02-07 1998-01-13 Dow Corning Corporation Method of producing coatings on electronic substrates
EP1826231A3 (en) * 1997-04-21 2007-09-12 AlliedSignal Inc. Organohydridosiloxane Resins With High Organic Content
US6015457A (en) * 1997-04-21 2000-01-18 Alliedsignal Inc. Stable inorganic polymers
US6143855A (en) * 1997-04-21 2000-11-07 Alliedsignal Inc. Organohydridosiloxane resins with high organic content
US6218497B1 (en) 1997-04-21 2001-04-17 Alliedsignal Inc. Organohydridosiloxane resins with low organic content
US6743856B1 (en) 1997-04-21 2004-06-01 Honeywell International Inc. Synthesis of siloxane resins
TW392288B (en) 1997-06-06 2000-06-01 Dow Corning Thermally stable dielectric coatings
US5866197A (en) * 1997-06-06 1999-02-02 Dow Corning Corporation Method for producing thick crack-free coating from hydrogen silsequioxane resin
US6018002A (en) * 1998-02-06 2000-01-25 Dow Corning Corporation Photoluminescent material from hydrogen silsesquioxane resin
US6218020B1 (en) 1999-01-07 2001-04-17 Alliedsignal Inc. Dielectric films from organohydridosiloxane resins with high organic content
US6177199B1 (en) 1999-01-07 2001-01-23 Alliedsignal Inc. Dielectric films from organohydridosiloxane resins with low organic content
GB9812425D0 (en) 1998-06-10 1998-08-05 Dow Corning Electroless metal disposition on silyl hyride functional resin
US5906859A (en) * 1998-07-10 1999-05-25 Dow Corning Corporation Method for producing low dielectric coatings from hydrogen silsequioxane resin
KR100804873B1 (ko) * 1999-06-10 2008-02-20 얼라이드시그날 인코퍼레이티드 포토리소그래피용 sog 반사방지 코팅
US6287477B1 (en) 1999-10-18 2001-09-11 Honeywell International Inc. Solvents for processing silsesquioxane and siloxane resins
US6440550B1 (en) * 1999-10-18 2002-08-27 Honeywell International Inc. Deposition of fluorosilsesquioxane films
US6472076B1 (en) 1999-10-18 2002-10-29 Honeywell International Inc. Deposition of organosilsesquioxane films
US6572974B1 (en) 1999-12-06 2003-06-03 The Regents Of The University Of Michigan Modification of infrared reflectivity using silicon dioxide thin films derived from silsesquioxane resins
US6558755B2 (en) 2000-03-20 2003-05-06 Dow Corning Corporation Plasma curing process for porous silica thin film
US7011868B2 (en) * 2000-03-20 2006-03-14 Axcelis Technologies, Inc. Fluorine-free plasma curing process for porous low-k materials
US6759098B2 (en) 2000-03-20 2004-07-06 Axcelis Technologies, Inc. Plasma curing of MSQ-based porous low-k film materials
US6913796B2 (en) * 2000-03-20 2005-07-05 Axcelis Technologies, Inc. Plasma curing process for porous low-k materials
US6576300B1 (en) 2000-03-20 2003-06-10 Dow Corning Corporation High modulus, low dielectric constant coatings
US6368400B1 (en) * 2000-07-17 2002-04-09 Honeywell International Absorbing compounds for spin-on-glass anti-reflective coatings for photolithography
US6399210B1 (en) 2000-11-27 2002-06-04 Dow Corning Corporation Alkoxyhydridosiloxane resins
GB2372996A (en) * 2001-03-10 2002-09-11 Dow Corning Preparation of silicone resins
US6632748B2 (en) 2001-03-27 2003-10-14 Samsung Electronics Co., Ltd. Composition for preparing substances having nano-pores
US6756085B2 (en) * 2001-09-14 2004-06-29 Axcelis Technologies, Inc. Ultraviolet curing processes for advanced low-k materials
KR100532915B1 (ko) * 2002-10-29 2005-12-02 삼성전자주식회사 단당류계 또는 올리고당류계 포로젠을 포함하는 다공성층간 절연막을 형성하기 위한 조성물
KR100488347B1 (ko) * 2002-10-31 2005-05-10 삼성전자주식회사 실록산계 수지 및 이를 이용한 반도체 층간 절연막의형성방법
KR100533538B1 (ko) 2002-12-03 2005-12-05 삼성전자주식회사 새로운 기공형성물질을 포함하는 다공성 층간 절연막을형성하기 위한 조성물
US20070027225A1 (en) * 2002-12-03 2007-02-01 Lyu Yi Y Composition for preparing porous dielectric thin films
US20050260420A1 (en) * 2003-04-01 2005-11-24 Collins Martha J Low dielectric materials and methods for making same
KR100506695B1 (ko) * 2003-06-02 2005-08-08 삼성전자주식회사 실록산계 수지 및 이를 이용한 반도체 층간 절연막
JP4465233B2 (ja) 2003-06-30 2010-05-19 三星電子株式会社 多官能性環状シロキサン化合物、この化合物から製造されたシロキサン系重合体及びこの重合体を用いた絶縁膜の製造方法
KR100507967B1 (ko) * 2003-07-01 2005-08-10 삼성전자주식회사 실록산계 수지 및 이를 이용한 반도체 층간 절연막
EP1660561B1 (en) * 2003-07-03 2014-02-12 Dow Corning Corporation Photosensitive silsesquioxane resin
KR100504291B1 (ko) * 2003-07-14 2005-07-27 삼성전자주식회사 게르마늄을 포함하는 실록산계 수지 및 이를 이용한반도체 층간 절연막 형성 방법
KR20050024721A (ko) * 2003-09-01 2005-03-11 삼성전자주식회사 신규 실록산계 수지 및 이를 이용한 반도체 층간 절연막
KR100979355B1 (ko) * 2003-10-09 2010-08-31 삼성전자주식회사 다반응성 환형 실리케이트 화합물, 상기 화합물로부터제조된 실록산계 중합체 및 상기 중합체를 이용한 절연막제조방법
KR20050040275A (ko) * 2003-10-28 2005-05-03 삼성전자주식회사 절연막 형성용 조성물 및 이를 이용한 절연막 또는 절연막패턴의 형성방법
US8053159B2 (en) 2003-11-18 2011-11-08 Honeywell International Inc. Antireflective coatings for via fill and photolithography applications and methods of preparation thereof
JP5010098B2 (ja) * 2003-11-24 2012-08-29 三星電子株式会社 分子多面体型シルセスキオキサンを用いた半導体層間絶縁膜の形成方法
KR101007807B1 (ko) * 2003-12-13 2011-01-14 삼성전자주식회사 다반응성 선형 실록산 화합물, 상기 화합물로부터 제조된실록산 중합체 및 상기 중합체를 이용한 절연막 제조방법
KR101157230B1 (ko) * 2004-08-17 2012-06-15 삼성코닝정밀소재 주식회사 나노 기공을 포함하는 물질을 형성하기 위한 조성물
KR20060020830A (ko) * 2004-09-01 2006-03-07 삼성코닝 주식회사 계면활성제를 템플릿으로 이용한 저유전성 메조포러스박막의 제조방법
WO2006033775A1 (en) 2004-09-17 2006-03-30 Dow Corning Corporation Siloxane composition, agglomerate, and method of preparing agglomerate
KR101083228B1 (ko) * 2004-10-07 2011-11-11 삼성코닝정밀소재 주식회사 칼릭스 아렌 유도체를 포함하는 나노 기공을 갖는 물질을형성하기 위한 조성물
US8088547B2 (en) * 2004-11-02 2012-01-03 Dow Corning Corporation Resist composition
KR20060039628A (ko) * 2004-11-03 2006-05-09 삼성코닝 주식회사 용매확산이 억제된 저유전 다공성 박막
KR20060057778A (ko) * 2004-11-24 2006-05-29 삼성코닝 주식회사 저유전성 메조포러스 박막의 제조방법
KR101067596B1 (ko) * 2004-12-01 2011-09-27 삼성코닝정밀소재 주식회사 저유전 다공성 박막의 제조방법
KR20060068348A (ko) * 2004-12-16 2006-06-21 삼성코닝 주식회사 실록산계 중합체 및 상기 중합체를 이용한 절연막 제조방법
KR101202955B1 (ko) * 2004-12-31 2012-11-19 삼성코닝정밀소재 주식회사 다공성 나노 입자를 포함하는 저유전 박막 형성용 조성물및 이를 이용한 저유전 박막의 제조방법
KR101119141B1 (ko) * 2005-01-20 2012-03-19 삼성코닝정밀소재 주식회사 폴리머 나노 입자를 포함하는 저유전 박막 형성용 조성물및 이를 이용한 저유전 박막의 제조방법
KR20060090483A (ko) * 2005-02-07 2006-08-11 삼성코닝 주식회사 풀러렌을 포함하는 저유전 박막 형성용 조성물, 이를이용한 저유전 박막 및 저유전 박막의 제조방법
KR101139157B1 (ko) * 2005-02-07 2012-04-26 삼성전자주식회사 단일종의 입체이성질체 만으로 된 실록산 단량체 또는이의 실록산 중합체를 포함하는 저유전 박막 형성용조성물 및 이들을 이용한 저유전 박막의 제조방법
JP2008547194A (ja) * 2005-06-15 2008-12-25 ダウ・コーニング・コーポレイション 水素シルセスキオキサンを硬化させていき、ナノスケールのトレンチ中において密にさせる方法
US8356407B2 (en) * 2005-09-29 2013-01-22 Dow Corning Corporation Method of releasing high temperature films and/or devices from metallic substrates
JP4783117B2 (ja) * 2005-10-21 2011-09-28 東レ・ダウコーニング株式会社 シリカ系ガラス薄層付き無機質基板、その製造方法、コーテイング剤および半導体装置
GB0524189D0 (en) * 2005-11-28 2006-01-04 Welding Inst Process for the production of organosilsesquioxanes
EP2021283B1 (en) * 2006-05-04 2015-07-08 Agency for Science, Technology and Research Mechanically reversible gel
US8148043B2 (en) * 2006-06-28 2012-04-03 Dow Corning Corporation Silsesquioxane resin systems with base additives bearing electron-attracting functionalities
KR101216060B1 (ko) * 2006-06-28 2012-12-28 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 전자 유인성 관능 그룹을 갖는 염기 첨가제를 함유한 실세스퀴옥산 수지 시스템
WO2008018981A2 (en) 2006-08-04 2008-02-14 Dow Corning Corporation Silicone resin and silicone composition
WO2008079179A1 (en) * 2006-12-20 2008-07-03 Dow Corning Corporation Glass substrates coated or laminated with cured silicone resin compositions
KR101361593B1 (ko) * 2006-12-20 2014-02-21 다우 코닝 코포레이션 경화된 실리콘 수지 조성물의 다층으로 피복되거나 적층된 유리 기판
JP5149512B2 (ja) * 2007-02-02 2013-02-20 東レ・ダウコーニング株式会社 液状硬化性組成物、コーテイング方法、無機質基板および半導体装置
US8642246B2 (en) * 2007-02-26 2014-02-04 Honeywell International Inc. Compositions, coatings and films for tri-layer patterning applications and methods of preparation thereof
US7905994B2 (en) * 2007-10-03 2011-03-15 Moses Lake Industries, Inc. Substrate holder and electroplating system
JP5313478B2 (ja) * 2007-10-05 2013-10-09 東レ・ダウコーニング株式会社 セラミック状酸化ケイ素系被膜の形成方法、セラミック状酸化ケイ素系被膜を有する無機質基材の製造方法、セラミック状酸化ケイ素系被膜形成剤および半導体装置
US20090188553A1 (en) * 2008-01-25 2009-07-30 Emat Technology, Llc Methods of fabricating solar-cell structures and resulting solar-cell structures
CN101959939B (zh) * 2008-03-04 2013-02-06 陶氏康宁公司 硼硅氧烷组合物,硼硅氧烷粘合剂,涂布和层压的基底
KR20110013509A (ko) * 2008-05-27 2011-02-09 다우 코닝 코포레이션 접착 테이프 및 접합 유리
TW201004795A (en) * 2008-07-31 2010-02-01 Dow Corning Laminated glass
US9195010B2 (en) 2009-02-05 2015-11-24 Japan Aviation Electronics Industry, Limited Optical connector apparatus
US8262894B2 (en) 2009-04-30 2012-09-11 Moses Lake Industries, Inc. High speed copper plating bath
US8557877B2 (en) 2009-06-10 2013-10-15 Honeywell International Inc. Anti-reflective coatings for optically transparent substrates
KR101224514B1 (ko) 2010-07-05 2013-01-22 한국과학기술연구원 환형 실세스퀴옥산을 이용한 실록산계 저유전막 및 이의 제조방법
KR101248530B1 (ko) 2010-09-17 2013-04-03 한국과학기술연구원 가지형 실세스퀴옥산 폴리머 중합용 모노머 조성물, 이로부터 합성된 가지형 실세스퀴옥산 폴리머 및 이의 합성방법
WO2012064534A1 (en) 2010-11-09 2012-05-18 Dow Corning Corporation Hydrosilylation cured silicone resins plasticized by organophosphorous compounds
US8864898B2 (en) 2011-05-31 2014-10-21 Honeywell International Inc. Coating formulations for optical elements
US8927652B2 (en) * 2012-12-07 2015-01-06 Ppg Industries Ohio, Inc. Coating compositions for food and beverage containers
TWI676817B (zh) 2014-04-09 2019-11-11 美商道康寧公司 光學元件及形成光學元件之方法
KR102301276B1 (ko) 2014-04-09 2021-09-14 다우 실리콘즈 코포레이션 소수성 용품
JP6803842B2 (ja) 2015-04-13 2020-12-23 ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッドHoneywell International Inc. オプトエレクトロニクス用途のためのポリシロキサン製剤及びコーティング
US10597495B2 (en) 2016-02-19 2020-03-24 Dow Silicones Corporation Aged polymeric silsesquioxanes
FI129480B (en) * 2018-08-10 2022-03-15 Pibond Oy Silanol-containing organic-inorganic hybrid coatings for high-resolution patterning

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA864634A (en) * 1971-02-23 Pruvost Pierre Process for preparing organosiloxanes
US2571884A (en) * 1950-07-19 1951-10-16 Dow Corning Method of preparing chlorosiloxanes
US2629725A (en) * 1950-07-19 1953-02-24 Dow Corning Method of preparing organosiloxanes
US2901460A (en) * 1956-02-07 1959-08-25 Gen Electric Halosilane hydrolysis with tetrahydrofuran and water
US2850852A (en) * 1957-05-31 1958-09-09 Fred C Hofberger Air cooled pulley for abrasive belt grinders
DE1164097B (de) * 1961-03-15 1964-02-27 Wacker Chemie Gmbh Verfahren zur Chlorwasserstoffbindung bei der Chlorsilanhydrolyse
US3431229A (en) * 1967-07-12 1969-03-04 Owens Illinois Inc Methods for preparing organopolysiloxanes using diaryloxytitanium oxide catalysts
DE1795376A1 (de) * 1967-09-29 1971-12-30 Gen Electric Silanolgruppen enthaltende Organopolysiloxanharze sowie Verfahren zu deren Herstellung
US3615272A (en) * 1968-11-04 1971-10-26 Dow Corning Condensed soluble hydrogensilsesquioxane resin
US3876677A (en) * 1974-06-06 1975-04-08 Gen Electric Cyclotri-siloxanes containing silicon-bonded fluoroalkoxyalkyl groups
JPS5813632A (ja) * 1981-07-17 1983-01-26 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 耐熱性薄膜形成能を有するラダ−状低級アルキルポリシルセスキオキサン
EP0046695B1 (en) * 1980-08-26 1986-01-08 Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. Ladder-like lower alkylpolysilsesquioxanes and process for their preparation
US4395563A (en) * 1981-10-29 1983-07-26 General Electric Company Hydrolysis of alkoxysilanes
JPS6086017A (ja) * 1983-10-17 1985-05-15 Fujitsu Ltd ポリハイドロジエンシルセスキオキサンの製法
JPS61250032A (ja) * 1985-04-30 1986-11-07 Hitachi Chem Co Ltd シラノ−ルオリゴマ−液の製造法
US4578494A (en) * 1985-06-14 1986-03-25 Dow Corning Corporation Preparation of polysiloxanes from halosilanes
US4756977A (en) * 1986-12-03 1988-07-12 Dow Corning Corporation Multilayer ceramics from hydrogen silsesquioxane
US4753855A (en) * 1986-12-04 1988-06-28 Dow Corning Corporation Multilayer ceramic coatings from metal oxides for protection of electronic devices

Also Published As

Publication number Publication date
DE69023566T2 (de) 1996-05-30
EP0410564A2 (en) 1991-01-30
US4999397A (en) 1991-03-12
JPH0794556B2 (ja) 1995-10-11
CA2018609A1 (en) 1991-01-28
ES2081932T3 (es) 1996-03-16
DE69023566D1 (de) 1995-12-21
JPH0366730A (ja) 1991-03-22
KR950012099B1 (ko) 1995-10-14
EP0410564A3 (en) 1992-03-18
EP0410564B1 (en) 1995-11-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR910002713A (ko) 준안정성 실란 가수분해물 및 이의 제조방법
DE3581796D1 (de) Bei verduennen mit wasser durchsichtige gemische ergebende, polysiloxan enthaltende zusammensetzungen.
DE60216424D1 (de) Fluor-Silan-Oligomerzusammensetzung
EP0846716A3 (de) Fluoralkylfunktionelle Organopolysiloxane enthaltende Zusammensetzungen auf Wasser/Alkohol-Basis, Verfahren zu deren Herstellung sowie deren Verwendung
KR830005286A (ko) 실라잔 폴리머의 제조방법
KR920012193A (ko) 자체-경화성 세라믹화가능한 폴리실옥산
ES2154009T3 (es) Composiciones basadas en agua con funciones fluoroalquilo y contenido en organopolisiloxanos, procedimiento para su fabricacion, asi como su uso.
ES8707272A1 (es) Un metodo para preparar una composicion de resina de uretano no gelificada
KR920021630A (ko) 하이드로겐 실세스퀴옥산 수지의 증기상 증착
EP1090967A3 (en) Composition for film formation, method of film formation, and insulating film
AU553311B2 (en) Siloxanes for room temperature curable organopolysiloxane compositions
KR920021624A (ko) 실리콘수지를 기재로한 코팅조성물의 제조방법 및 그 코팅조성물의 사용
KR920014821A (ko) 실라알칸의 제조방법
KR880006252A (ko) 사이클릭 실라잔 및 할로겐화 디실란으로부터 유도된 예비세라믹 중합체 및 그의 제조방법
AU562779B2 (en) Rtv-silicone composition
KR960021513A (ko) 불용성 피복물을 기판 위에 형성시키는 방법
JPS641769A (en) Composition for coating
KR840007019A (ko) 알콕시-말단 폴리실록산의 제조방법
KR900015363A (ko) 초전도체를 보호피복하는 방법
JPS5648211A (en) Emulsion composition for anti-foaming
CA1230476A (en) Composition for forming a transparent conductive film
JPS5735526A (en) Preparation of organopolysiloxane
JPS6416868A (en) Production of molecular composite material of zirconium-containing organosiloxane composition
GB948490A (en) Nitro and nitrito derivatives of organosilicon compounds
JPS5677230A (en) Production of organosilicon compound containing silaklylene bond and alkenyloxy group

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
G160 Decision to publish patent application
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20091009

Year of fee payment: 15

EXPY Expiration of term