KR840007019A - 알콕시-말단 폴리실록산의 제조방법 - Google Patents
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (55)
- 25℃의 점도가 각각 100내지 1,000,000 센티포이즈인 실란을 말단 디오 가노폴리실록산 및 비닐말단디오 가노폴리실록산 (여기서, 오가노는 1가의 탄화수소이다)으로 부터 선택된 실란을 또는 비닐실록산을 플라티늄 촉매의 존재하에 하기 일반식의 폴리알콕시 가교 결합제와 무수적으로 반응시킴으 특징으로 하는, RTV 실리콘 고무 조성물 제조에사용될 수 있는 알콕시말단 폴리실록산의 제조 방법 ;
-
- 상기식에서 R1은 1가의 C1-8탄화수소 라디칼이고, R2는 1가의 C1-13탄화수소 라디칼이며, b는 0,1 또는 2이다.
- 제1항에 있어서, 반응 혼합물에 100%이상 과량의 폴리알콕시 가교결합체가 존제하는 방법.
- 제2항에 있어서, 언급된 실란을 말단디오가노포릴실록산이 하기 일반식인 방법.
-
- 상기식에서, R은 독립적으로 1가의 C1-13탄화수소라디칼로부터 선택되며, n은 약 50내지 2,500이 정수이다.
- 제3항에 있어서, 반응을 50내지 150℃에서 수행하는 방법.
- 제4항에 있어서, 반응을 30분 내지 2시간동안 수행하는 방법.
- 제5항에 있어서, 반응을 대기압에서 수행하는 방법.
- 제6항에 있어서, 반응을 불활성 유기용매에서 수행하는방법.
- 제7항에 있어서, 반응이 완결된 후에 용매를 증발 제거시키는 방법.
- 제8항에 있어서, 용매를 제거시킨후에 오가노폴리실록산 100 중량부터 1내지 700중량부의 처리된 충진제를 무수적으로 조성물에 가하는 방법.
- 제9항에 있어서, 언급된 충진제가 실라잔 처리된 훈증 실리카인 방법.
- 기본 알콕시함유 폴리실록산(이것은 10항의 공정에 의해 제조하여 무수적으로 조성물에 가한다)및 축합 촉매를 포함하는 추가의 성분으로 이루어진 일성분 RTV 조성물.
- 제8항에 있어서, 가용화 플라티늄 착화물 촉메로서 1내지 5ppm의 플라티늄이 존재하는 방법.
- 제12항에 있어서, 언급된 가용화 플라티늄 촉매가 플라티늄과 테트라비닐 디메틸디실록산의 착화물인 방법.
- 알콕시말단 디오 가노폴리실록산(제8항에 공정에 의해 제조) 및 1내지 700부의 충진제(발응전에 조성물에 가한다)로 이루어진 일성분 RTV 실리콘조성물.
- 제14항에 있어서. 언급된 충진제가 시클로포리실록산 처리된 훈증 실리카인 RTV 실리콘조성물.
- 제14항에 있어서, 언급된 충진제가 스테아르산 처리된 탄산칼슘인 RTV 실리콘 조성물.
- 제14항에 있어서, 통상 추가적인 성분을 반응전에 반응 혼합물 중의 일성분 RTV 조성물에 가한 조성물.
- 제17항에 있어서, 용매를 증발 제거시킨후에 주석 축합촉매를 첨가한 초성물.
- 알콕시말단 디오가노폴리실록산(제8항의 공정에 의해 제조) 및 비결합 히드록시그룹 제거용 스카벤저 (반응 직후에 조성물에 가한다)로 이루어진 일성분 RTV 실리콘 고무 조성물.
- 제19항에 있어서, 언급된 히드록시 작용기 제거용 스카벤저가 (a) 3내지 100몰 퍼센트의 하기 일반식(a-1)을 갖는 유리트 중에서 선택된 화학적 결합구조 유니트, 0내지 97몰퍼센트의, 하기 일반식 (a-2)를 갖는 화학적 결합구조 유니트 및 이의 혼합물로 이루어진 실리콘-질소 중합체, 및 (b)하기 일반식(b)를 갖는 실리콘-질소 중합체 중에서 선택된 실리콘-질소 화합물인 조성물 :
-
- 상기식에서 R'는 수소, 1가의 탄화수소 라디칼 또는 플로오로알킬 라디칼이고, R"는 수소, 1가의 탄화수소 라디칼 또는 플루오로 알킬라디칼이고, C는 0내지 3의 정수이고, Y는 R" 및 R'2N으로부터 선택되며. 언급딘 실리콘-질소 중합체 중의 실리콘 원자는 SiOSi 연쇄 또는 SiNR'Si 연쇄에 의해 서로 연결되어 있고, 산소와 결합하여 실록시 유니트를 질소와 결합하여 실라지 유니트를 형성하는 실리콘 원자의 원자가 이외의 자유 원자가는 R" 라디칼 또는 (R")2N 라디칼과 연결되어 있으며, 실리콘-질소 중합체 중의 실리콘 원자에 대한 R" 라디칼 및 (R")2N 라디칼 합의 비는 1.5내지 3의 값을 가진다.
- 제20항에 있어서, 오가노 폴리실록산 100 중량부당 0.5 내지 10 중량부의 실리콘 스카벤저가 함유된 조성물.
- 제19항에 있어서, 언급된 히드록 시작용기 제거용 스카벤처가, 1개 이상 또는 모든 유니트들이 하기 일반식(22-1)을 갖고, 나머지 유니트들이 존재하는 경우 하기 일반식(22-2)을 갖는 환상 실일 질소 스카벤저 및 하기 일반식(22-3)의 비환상 실일 질소스카벤 저중에서 선택된 조성물 :
-
- 상기식에서, R10은 알킬, 알킬에테르, 알킬에스테르, 알킬케톤, 알틸시아노 및 아릴 중에서 선택된 C2-8지방족 유기 라디칼이고, R"은 1가의 C1- 8치환 또는 비치환 탄화수소 라디칼이며, Q는 수소, 1가의 C1-8치환 또는 비치환 탄화수소 라디칼 및 하기 일반식의 하디칼로 부터 선택되며,
-
- (여기서, R10및 R"는 전술된 바와 동일하고, f는 0내지 3이고, d는 1내지 25의 정수이며, R22는 수소 또는 1가의 C1-8탄화수소 라디칼이고, R23은독립적으로 C1-8탄화수소 및 하이드로카본옥시라디칼로 부터 선택된다).
- α는 0내지 2이며, h는 0또는 1이며, S는 1내지 25의 정수이고, A는 수소, 1가의 C1-8치환 또는비차환 탄화수소 라디칼 및 하기 일반식의 라디칼 중에서 선택되며 ;
-
- (여기에서, R101및 R"은 전술된 바와 동일하고, g는 0내지 3이다) R12는 R10과 동일하며, R13은 R"와 동일하고, R14는 R"와 동일하고, 언급된 스카벤저는 분자에 1개 이상의 하이들카본옥시 그룹을 함유한다.
- 제19항에 있어서, 언급된 히드록시 작용기 제거용실란 스카벤저가 하기일반식인 조성물 ;
-
- 상기식에서, R'는 알킬, 알킬에테르, 알킬에스테르,알킬케톤 및 알킬시아노 라디칼로 부터 선택된 C1-8지방족 유기라디칼이거나, C7-13아르알킬 라디칼 이고, R2는 1가ㅡ이 C1-13치환 또는 비치환 탄화수소 라디칼이며, X는 실라지, 시클릭아미도, 아미노, 카바마토, 엔옥시, 이미다토, 이소시아나토, 옥시마토, 티오이소시아나토, 및 우레이도 라디칼로 선택된 가수분해성 이탈 그룹이고, C는 0내지 3의 2정수이며, f는 1내지 4의 정수이고, C＋f는 1내지 4이다.
- 제19항에 있어서, 언급된 히드록시 작용기제거용 실라느카벤저가 하기 일반식을 가지며 언급된 실란이 히드록시 작용기 제거용 실란 스카벤저임과 동시에 폴리알콕시실란 가교 결합체인 조성물 ;
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- 상기식에서 R'는 알킬, 알킬에테르, 알킬에스테르, 알킬케톤 및 알킬시아노라디칼로 부터 선택된 C1-8지방족 유기라디칼이거나, C7-13아르알킬라디칼이며, R2는 1가ㅡ의 C1-13치환 또는 비치환 탄화수소 라디칼이고, X는 시클릭아미도, 아미도, 아미노, 실라지, 카바마토, 엔옥시, 이미다토, 이소시아나토, 옥시마토, 티오이조시아나토 및 우레이토 라디칼로 부터 선택된 가수분해성 이탈 그룹이고, a는 1 또는 2의 정수이며, b는 0또는 1이며, b＋a는 1내지 2이다.
- 제19항에 있어서, 하기 일반식의 가교 결합체의 추가량이 첨가된 조성물.
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- 상기식에서 R1및 R2는 전술된 바와 동일하고, S는 0.1 또는 2이다.
- 제25항에 있어서, 알콕시말단 오가노폴리록산 100부당 1내지 700부의 충진체가 첨가된 조성물.
- 제26항에 있어서, 언급된 충진제가 시클로폴리실록산 처리된 훈증 실리카인 조성물.
- 제27항에 있어서, 언급된 훈증 실리카를 실라잔으로도 처리한 조성물.
- 제26항에 있어서, 언급된 충진제가 스테아르산 처리된 탄산칼슘인 조성물.
- 제29항에 있어서, 축합 주석 촉내가 더 첨가된 조성물.
- 제30항에 있어서, 일성분 RTV 실리콘 무조 성물에서 통상 상용되는 성분이 추가로 첨가된 조성물.
- 제8항에 있어서, 공정중에 발생되는 수소 개스를 반응중에 연속적으로 증발제거시키는 방법.
- 제1항에 있어서, 언급된 비닐 말단 디오가노폴리실록산이 하기 일반식인 방법.
-
- 상기식에서, Vi는 비닐이고, R은 독립적으로 1가의 C1-13탄화수소 라디칼로 부터 선태되며, t는 50 내지 약 2,500의 정수이다.
- ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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