KR910001608B1 - 연속 소둔로의 이동스트립 지지장치 - Google Patents

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내용 없음.

Description

연속 소둔로의 이동스트립 지지장치

제1도는 종래의 연속 소둔로에 대한 개요도.

제2도는 종래의 부동기 배치에 대한 개요도.

제3도는 제2도의 부동기의 작동을 도시한 단면도.

제4도는 본 발명의 지지장치가 이용된 연속 소둔로의 개요도.

제5도는 제4도의 Ⅴ-Ⅴ선으로 절단한 단면도.

제6도는 제4도의 Ⅵ-Ⅵ선으로 절단한 단면도.

제7도는 부동기의 스트립간의 관계를 도시한 사시도.

제8도는 제7도에 도시한 부동기의 정압 분포를 도시한 그래프.

제9도는 본 발명에 따른 부동기의 일 구현예를 도시한 사시도.

제10도는 제9도의 부동기에 대한 내부 구조도.

제11도는 제9도에 도시한 부동기의 정압 분포를 도시한 그래프.

제12도는 부동기에 더하여 한쌍의 로울을 구성하고 있는 본 발명의 다른 일 구현예를 도시한 측면도.

제13도는 제12도에서 로울이 상승된 위치를 도시한 측면도.

제14도는 배플판을 구비한 부동기가 한쌍의 로울을 구성하는 본 발명의 다른 일 구현예를 도시한 측면도.

제15a도는 각 부동기에 하나의 로울을 구성하는 본 발명의 다른 일 구현예에 대한 측면도.

제15b도는 제15a도와 유사한 것으로서 로울이 하강된 위치를 도시한 측면도.

제16도는 제15a도 및 제15b도에 도시한 부동기와 로울의 평면도.

제17a도는 제15a도 및 제15b도에 도시한 로울과 부동기를 개량한 측면도.

제17b도는 제17a도에 도시한 로울 및 부동기와 유사하며, 이들이 하강한 위치를 도시한 측면도.

제18도는 제17a도와 제17b도에 도시한 부동기와 로울의 평면도.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

1 : 연속 소둔로 2 : 보조 로울

3 : 가열 영역 4 : 균열 영역

5 : 급냉 영역 6 : 과시효 영역

7 : 최종 냉각 영역 8 : 복사관

18 : 수직 배플판 25 : 버너

29 : 가스 냉각기 30 : 가스 순환팬

35 : 부동기 42 : 지지로울

43 : 가스실 46 : 유체 분사구

본 발명은 소둔 또는 피복, 건조, 도금공정 등에서 강스트립과 같은 금속 스트립을 가열 및 냉각하기 위해 이동하는 상기 금속 스트립을 지지하는 장치에 관한 것이다.

본 명세서에서는 주로 냉연 강스트립을 연속 열처리하기 위한 연속 소둔로로써 상기 지지장치를 설명한다. 그러나 이는 일 실시예에 불과하며, 본 장치는 다른 목적으로 이용할 수도 있다.

일반적으로 냉연 강스트립과 같은 금속 스트립은 연속 소둔로에서 연속 열처리하여 소정의 기계적 성질을 부여한다.

제1도는 종래의 연속 소둔로를 개략적으로 도시한 것이다. 금속 스트립(S)은 공급릴(도시 않됐음)에서 공급되어 세척탱크, 루우퍼(looper)(도시 않됐음) 등으로 도입되고, 이어서 스트립(S)은 연속 소둔로에 개입한다. 제1도에 도시된 바와같이, 금속 스트립(S)은 연속 소둔로(1)의 상하부에 위치한 다수의 보조 로울(2)을 거쳐 로내의 상하를 반복적으로 이동한다. 이와같이 상하로 움직이는 동안, 스트립 제품에 요구되는 기계적 성질에 따라 스트립(S)이 가열 및 냉각되어 최종 상온에서의 스트립은 항복강도, 인장강도, 딥드오잉성 등과 같은 소정의 기계적 성질을 가지게 된다. 연속 소둔로는 금속 스트립(S)의 표면 산화를 방지하기 위해 질화 수소(hydoogen nitride)와 같은 환원 가스로 충진되어 있다.

연속 소둔로(1)는 입구로부터 출구에 까지 연속적으로 가열 영역(3), 균열(soaking) 영역(4), 급냉 영역(5), 과시효 영역(6) 및 최종 냉각 영역(7)을 구성한다. 가열 및 균열 영역(3)은 가열 영역을 형성하고, 이는 복사관(8)을 구비하고 있어서, 복사열로서 금속 스트립을 가열한다. 금속 스트립(S)은 가열 영역(3)에서 650∼900℃까지 가열되고, 이어서 균열 영역(4)에서 상기와 같거나 또는 높은 온도까지 몇 십초동안 가열된다. 그리고 급냉 영역(5)에서는 가스제프 및 냉각 로울에 의해 3∼200℃/초의 냉각 속도로 400℃ 정도까지 금속 스트립(S)을 급속 냉각한다. 이어서 과시효 영역(6)에서 400℃ 정도의 온도로 약 2분간 금속 스트립(S)을 유지하여 과시효 처리를 행한다. 마지막으로 최종 냉각 영역(7)에서 상온 근방의 온도까지 스트립(S)이 냉각된다.

종래의 연속 소둔로(1)에서는 과시효 처리가 상기와 같은 시간을 요함에 따라, 대형 소둔로에서 과시효 영역이 100mm 정도로 길어지는 경향이 있음으로 연속 소둔로의 전체 길이가 150m 이상으로 되어 버린다. 따라서 과시효 영역(6)이 짧아진다면, 연속 소둔로의 전체가 단축되어 그 초기 비용을 절감할 수 있다.

과시효 영역(6)을 줄이기 위해서는 금속 스트립(S)의 성분을 변화시켜 보다 높은 온도로 스트립을 가열할 수 있도록 하는 것을 생각할 수 있다. 그러나 금속 스트립(S)이 상기와 같이 높은 온도로 가열되면, 금속 스트립(S)이 비교적 낮은 온도의 보조 로울(2) 또는 표면에 부착된 압연유로부터 탄소로 인하여 그 표면이 평탄하지 못한 보조 로울(2)에 접촉할때, 고온에서의 강도 감소와 스트립 폭방향으로서 불균일 가열로 인하여 금속 스트립(S)이 변형되기 쉽다.

또한 고온의 금속 스트립(S)이 상하로 움직일때, 그 중력에 의한 크립(Creep) 때문에 스트립의 폭이 좁아져서 불량품이 나타난다. 따라서 보조 로울과 접촉시키지 않고 금속 스트립을 수평으로 유지하여 금속 스트립의 가열온도를 높일 수 있도록 할 필요가 있다.

착색 피복(color coating) 등에서, 로울을 이용하지 않고 금속 스트립을 수평으로 공급하기 위한 것으로서 부동기(공기 부동장치)가 알려져 있다. 그러나 이러한 부동기는 금속 스트립을 부동시킬 뿐아니라 그것을 가열 또는 냉각하기도 한다. 이러한 부동기는 가열용 복사관 및 냉각용 가스제프를 이용하는 연속 소둔로에 적합하도록 개조하지 않고서는 사용할 수가 없다.

제3도에 도시된 바와같이, 전술한 부동기는 좁은 슬릿(10)을 포함하고, 이를 통해 서로 엇갈리를 방향으로 금속 스트립(S)에 공기가 주입되어 스트립을 부동시킨다. 제2도에 도시된 바와같이, 스트립의 양쪽에 쌍으로 부동기가 배열되어 그 사이에 금속 스트립을 유지한다.

본 발명의 주목적은 수평으로 움직이는 금속 스트립을 그것과 접촉하는 어떠한 고형부재를 이용하지 않고서도 안정하게 지지할 수 있는 지지장치를 제공하기 위함이다.

상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명에 따른 이동스트립의 지지장치는 이동스트립의 아래에만 부동기가 배치되어 스트립의 밑표면에 유체를 분사함으로써 스트립을 부동시킨다.

본 발명의 다른 목적은 스트립과 부동기의 압력 수납 표면간의 간격으로 압력 유체가 지나치게 누출하는 것을 방지하여 대단히 안정된 힘으로 스트립의 전체를 지지할 수 있는 보다 개선된 금속 스트립의 지지장치를 제공하기 위함이다.

이러한 목적으로 본 발명에서는 스트립의 밑표면 반대쪽의 각 부동기의 압력 수납 표면상에 다수의 배플판을 구성하고, 이 배플판은 스트립의 운동방향으로 뻗어 있으며, 스트립의 폭방향으로 서로 나란히 배열되어 있다. 배플판의 상단부는 중력에 의한 스트립의 변형 곡선을 따라 원형으로 형성하는 것이 바람직하다.

본 발명의 다른 목적은 부동기로써 스트립을 부동상태로 지지할 뿐아니라 각 부동기에서 적어도 하나의 고형부재로써 스트립을 지지하여 동력비용을 줄이고 스트립이 처리장치에 처음 도입될때에 스트립의 선단부가 부동기 및 다른 부품과 충돌하는 것을 방지할 수 있는 금속 스트립의 지지장치를 제공하기 위함이다.

상기 목적을 달성하기 위해 본 발명에서는 스트립의 폭방향으로 뻗어 있고 부동기의 최고 위치보다 낮은 위치 및 높은 위치로 움직일 수 있는 적어도 하나의 지지로울이 각 부동기에 구비되어 있다.

하나의 바람직한 구현 예로서 한쌍의 지지로울이 각 부동기의 전방 및 후방에 각각 위치되어 있고, 이는 스트립의 폭방향으로 뻗어 있다.

다른 하나의 바람직한 구현예로서 각 부동기의 압력 수납 표면에 형성된 리세스(recess)에 상기 지지로울이 구비되어 있다.

본 발명의 보다 명확한 이해를 위해 첨부된 도면을 참조하여 바람직한 몇가지 구현예를 설명하면 다음과 같다.

제4도는 본 발명에 따라 일 구현예의 장치를 설치한 연속 소둔로를 도시한 것으로서, 보조 로울에 의해 움직이며, 복사관에 의해 750∼800℃까지 가열된 금속 스트립(S)이 850∼950까지 더욱 가열되어 750∼800℃까지 냉각됨으로써 금속 스트립이 통상의 냉각 영역으로 공급되는 고온 가열 냉각 영역(A)을 포함하고 있다. 고온 가열 냉각 영역(A)은 제4도의 좌측으로부터 연속하여 가열부(C), 밀폐부(E) 및 냉각부(D)를 구성하며, 여기에서 금속 스트립이 방출되는 우측으로 스트립이 공급된다. 영역 (A)의 좌우측에는 금속 스트립(S)을 안내하기 위한 디플렉터 로울(deflector roll)(21)이 구비되어 있다. 제5도에 도시된 바와같이, 가열부(C)에는 버너(25)에 연결된 다수의 복사관이 금속 스트립(S)의 상하에 배치되어 스트립을 850∼950℃까지 가열한다. 밀폐부(E)에 의해 가열부(C)로부터 열차단된 냉각부(D)에서는, 제6도에 도시된 바와같이, 금속 스트립(S)을 둘러싸고 있는 Ⅴ형 충만실(27)이 다수 구비되어 있다. 이들 충만실(27)은 라인(28)을 통해 가스 냉각기(29) 및 가스 순환팬(30)에 연결되어 있고, 금속 스트립을 향한 다수의 노즐(31)을 구비하여 그로부터 분사되는 냉각 가스에 의해 스트립은 750∼800℃까지 냉각된다. 냉각 가스는 각 충만실(27)의 로벽에 구비된 수집구(collecting opening)(33)에 수집되어 가스 냉각기에서 냉각되고 가스순환팬(30)에 의해 충만실로 다시 공급된다.

제4도에 도시된 바와같이, 제3도에 도시된 것과 유사한 부동기(35)가 가열, 밀폐 및 냉각부(C, E, D)에 구비되어 있다. 다수의 부동기(35)는 몇미터 정도의 간격으로 금속 스트립(S)의 아래에만 설치되어 있다. 부동기로부터 부동 가스가 금속 스트립(S)의 밑표면에 분사됨으로써 분사된 부동 가스의 압력에 의해 금속스트립(S)은 부동상태로 수평 유지된다. 따라서 금속 스트립(S)은 어떠한 고형부재와도 접촉없이 지지되면서 복사관(26)에 의해 가열, 그리고 노즐(31)로부터 분사된 가스에 의해 냉각된다.

이러한 상태로써 이전 공정의 정상 가열 영역에서 고온의 금속 스트립(S)은 그 강성이 크게 떨어지고 상하 로울에 의해 굽힘이 반복되었음으로 금속 스트립(S)은 그 길이 및 폭방향이 실질적으로 편평한 상태이다. 따라서 금속 스트립(S)은 부동기의 부동 가스 압력에 의해 부동상태로 안전하게 유지된다.

더우기 부동기(35)가 좁은 간격으로 배치되어 있음으로 중력에 의한 금속 스트립(S)의 최대 변형은, 예를들어 단위 인장이 0.3∼0.5kg/㎟일때, 10∼50mm 정도로 부동기 간격에 비해 무시할 수 있음으로 금속 스트립(S)의 통과선은 실질적으로 수평이다. 따라서 상하 복사관(26)은 복사선속(radiant flux)의 차이없이, 결국 금속 스트립(S)의 상하 표면의 온도차이없이 금속 스트립에 등간격으로 설치될 수 있다. 더우기 냉각부(D)의 상하 노즐(3)의 구조와 유량이 동일한 한, 상하 노즐(31)이 금속 스트립에 등거리로 배치되도록 하여 금속 스트립의 상하 표면간의 냉각에 차이가 없이 금속 스트립이 안정하게 운동하게 된다. 이와같이, 부동기(35)에 의해 부동상태하에서 움직이는 금속 스트립(S)은 아무런 문제없이 복사관(26)에 의해 가열 및 가스제트에 의해 냉각된다.

상기에서 알수 있는 바와같이, 본 구현예의 부동기는 금속 스트립 아래에만 설치되어 부동기로부터 분사된 공기에 의해 스트립을 부동함으로써 금속 스트립은 어떠한 고형부재와도 접촉하지 않고 안정하게 수평운동하여 복사관으로 가열 및 가스제트에 의해 냉각되어 스트립이 양호하게 소둔된다.

제7도에서 유체 분사구(10)로부터의 압격 유체는 압력 수납 표면과 스트립(S)간의 간격을 통해 스트립(S)의 폭방향으로 흐른다. 상기 간격을 통해 흐르는 유체의 양이 클경우, 요구되는 충분한 정압이 유지될수 없다. 예를들어 스트립의 지지를 위한 압력 분포를 도시한 제8도에서, 측정된 압력은 스트립의 중심에서 조차 단지 이론 압력의 30∼40%임으로 유체 분사구(10)로부터의 압력 유체 흐름을 증가시키기 위해서는 대용량의 압력원이 필요하다. 또한 제6도에서와 같이, 스트립의 가장자리를 지지하기 위한 압력은 스트립의 안정한 지지가 불가능할 정도로 대단히 낮다.

본 발명의 일 구현예를 도시한 제9도 및 제10도에서, 부동기(11)는 유체실을 형성하는 상자형 몸체(12)와 몸체(12)에 일체식으로 고정되며, 스트립(S)의 반대쪽에 압력 수납 표면(14)을 갖춘 상단(15)을 구성한다. 몸체 (12)와 스트립의 상방 및 하방 상에의 상단(15)의 양쪽 모서리 사이에 슬릿형 유체 분사구(16)가 구비되이 유체실에 공급된 압력 유체가 스트립의 중심을 향해 비스듬히 분사시키게 된다. 압력원(도시 안했음)은 라인(17)을 통해 부동기(11)의 몸체(12)에 연결되어 있다. 유체 분사구(16)는 슬릿으로 나타나 있으나, 이는 스트립의 폭방향으로 배열된 다수의 작은 개구로 형성할 수도 있다.

제9도에서와 같이 본 발명에 따라 서로 평행하게 스트립의 이동방향을 따라 뻗어 있으며, 스트립(S)의 폭방향으로 배열된 다수 본 구현예에서는 4개의 수직 배플판(18)이 압력 수납 표면(14)상에 구비되어 있다. 배플판(18)의 상단부는 원형으로 형성되어 배플판과 스트립(S)간의 간격을 최소화 한다. 최외측 배플판간의 거리 L은 스트립(S)의 폭과 거의 같거나 또는 작다. 이들 배플판은 반드시 서로 평행할 필요는 없다.

이러한 배열로써, 라인(17)을 통해 압력원으로부터 부동기(16)에 공급된 압력 유체는 유체 분사구(16)를 통해 압력 수납 표면(14)과 스트립(S) 사이의 간격으로 분사되어 정압을 일으킨다. 압력 수납 표면(14)과 스트립(S)간의 압력 유체는 배플판(18)에 의하여 스트립의 폭방향 밖으로 흐르지 않음으로 스트립이 안정하게 지지된다.

스트립(S)의 폭방향으로의 정압 분포를 도시한 제11도에서와 같이, 스트립의 폭전체에 걸쳐 지지력이 균일하게 분포되어 있고, 측정 압력은 이론 압력의 50∼60%이다.

따라서 본 구현예에 따르면, 스트립과 부동기 사이로 흘러나가는 압력 유체의 양이 감소되어 그 사이의 정압이 상승하게 됨으로써 압력원을 최소화할 수 있고 스트립을 안정하게 지지할 수 있다.

[실시예]

배플판을 갖춘 부동기를 연속 소둔로에 적용하였다. 부동기가 구비된 로의 가열 및 냉각 영역의 총 길이는 5m의 간격으로 60m이다. 모든 부동기의 압력 수납 표면의 총 길이는 로 전체 길이의 약 12%이다. 두께 0.2∼20mm, 폭 600∼1800mm의 금속 스트립을 스트립에 작용하는 단위 인장을 0.3∼0.5kg/㎟로 하고 선속도 40∼400m/분으로 로울 통과시켰다.

두 부동기 사이의 금속 스트립의 최대 변형은 10∼15mm이었다. 이러한 변형은 부동기 간격이 5m임에 대해 무시할 수 있음으로 스트립의 통과선은 부동기의 도움으로 실질적으로 수평이었다.

상기 구현예를 실시함에 있어서, 스트립이 예를들어 소둔로에 처음 도입될때(스트립의 초기 도입은 "스레딩 (threading)"으로 칭함), 부동기로써 스트립을 지지하는 것보다 로울로써 지지하는 것이 경제적 측면에서 유리한 경우도 있다. 더우기 스트립의 선단부가 부동기 및 기타 다른 부품과 충돌하는 것을 방지하기 위해서는 로울로써 스트립을 지지할 필요가 있는 경우도 가끔 나타난다. 따라서 경우에 따라 로울로써 스트립을 지지하는 것이 바람직하다.

제12도와 제13도는 본 발명의 다른 구현예를 도시한 것으로서, 부동기와 함께 지지로울을 구성하여 부동기의 공기 압력을 일으키는데에 필요한 비용을 낮추고 금속 스트립(S)의 선단부가 충돌하여 부동기 및 로의 다른 부품이 손상되는 것을 방지하는 것이다.

제12도는 지지로울이 금속 스트립(S)을 지지하지 않는 상태를 도시한 것이며, 제13도는 금속 스트립(S)을 지지하고 있는 지지로울을 도시한 것이다. 상기 도면에서 알수 있듯이, 부동기(41)는 금속 스트립(S)의 통과방향을 따라 일정 간격으로 배열되어 있고, 각 부동기(41)는 한쌍의 지지로울(42)을 구성하고 있다.

금속 스트립(S)의 직하에 배치된 부동기(41)는 상자형 몸체(44)를 구성하며, 이는 질화수소를 수용하기 위한 가스실(43)을 포함한다. 몸체(44)의 평탄한 상부 표면은 스트립(S)의 하부 표면 반대쪽에 압력 수납표면(45)을 형성한다. 압력 수납 표면(45)은 그 양쪽 단부에 스트립(S)의 폭방항으로 뻗어 있는 슬릿형 유체 분사구(46)을 구비하고 있다. 압력 가스는 파이프 설비(47)를 통해 유체 공급원(도시 않했음)으로부터 가스실(43)에 공급된다. 공급된 가스는 금속 스트립(S)의 밑표면을 향해 서로 수렴하는 방향으로 유체 분사구(46)글 통해 비스듬히 분사되어 압력 수납 표면(45)과 금속 스트립(S)의 밑표면 사이에 가스 압력을 유발시킴으로써 압력 수납 표면(45)위에 스트립을 부동 및 지지한다.

지지로울(42)은 각 부동기(41)의 상류 및 하류측에 배치되어 있고 스트립(S)의 폭 방향으로 뻗어 있다. 지지로울(42)쌍은 승강장치 (도시 않했음)의 도움으로 압력 수납 표면(45)위의 상부 위치(제13도)와 압력 수납 표면 아래의 하부 위치(제12도)를 취할 수 있으며, 스트립의 이동방향과 같은 방향으로 스트립의 이동속도와 같은 원주 속도로 회전한다.

이러한 배열로써, 지지로울(42)이 제12도에 도시된 하부 위치를 취할때, 가스가 유체 분사구(46)을 통해 분사되어 길이방향으로 이동하는 스트립(S)을 압력 수납 표면위로 지지한다. 스트립(S)은 어떠한 고형 부재와도 접촉하지 않고 두 부동기 사이에 카테너리(catenary) 형상으로 유지된다. 반면에 스트립의 선단부가 초기에 로에 공급되거나 또는 기타 다른 경우에는, 제13도에서와 같이 지지로울(42)이 그 상부 위치에서 회전하여 로울과 접촉하여 로울(42)에 의해 스트립(S)이 지지된다.

제14도는 제12도 및 제13도에 도시된 부동기의 개량형을 도시한 것이다. 이 부동기(41)는 스트립(S)의 폭방향 일정 간격으로 서로 평행하게 스트립(S)의 이동방향을 따라 뻗어있는 다수의 배플판(48)(제9도와 제10도 참조)을 그 압력 수납 표면(45)상에 구비하고 있다. 이들 배플판(48)은 압력 수납 표면(45)과 스트립(S)의 밑표면 사이로 분사된 가스가 스트립의 폭방향으로 빠져 나가는 것을 방지함으로써 가스 압력에 의한 부동 효율을 향상시키고, 스트립의 폭방향의 가스 압력을 균일하게 분포시켜 스트립의 안정한 이동을 보장해 준다. 또한 로울(42)로써 스트립을 지지하기 위해, 로울을 배플판(48)의 상단위로 상승시킬 수도 있다.

지지로울을 구비한 상기 구현예에 따라, 지지로울로써 그들과 접촉하여 스트립을 지지하거나, 또는 경우에 따라 어떠한 고형부재와도 접촉없이 부동기로써 스트립을 지지할 수 있다. 따라서 예를들어 이들 구현예가 연속 소둔로에 적용될때, 스트립의 강종에 따라 어느 하나의 지지방법을 선택할 수 있음으로서 생산 단가를 낮추고 안정되고 확실하게 스레딩(threading) 조작을 수행할 수 있다. 또한 이들 구현예를 "가열", "피복", "건조", 및 "도금"라인에 적용하여 전술한 바와 실질적으로 같은 효과를 얻을 수 있다.

제15a도, 제15b도 및 제16도는 본 발명의 다른 구현예를 도시한 것이다. 부동기는 수소와 질소의 혼합가스등을 수용하는 유체실(51)을 형성하는 상자형 몸체(52)와 스트립(S)의 반대쪽에 압력 수납 표면(54)을 구비한 상판(55)을 구성한다. 상판(55)에는 스트립(S)의 폭방향으로 뻗어있는 리세스(56)가 그 중심부에 형성되어 있다. 스트립(S)의 폭 방향으로 뻗어있는 지지로울(57)이 상기 리세스(56)에 구비되어 있음으로써, 지지로울(57)이 리세스에서 상하로 움직일 수 있고, 지지로울이 위쪽으로 움직일때에는 후술된 바와같이 배플판의 상단위로 지지로울이 상승한다. 상판(55)에서 스트립이 이동하는 방향의 양단에는 슬릿형 유체분사구(58)가 구비되어 있어서, 가스실(51)에 공급된 유체를 스트립의 밑표면을 향해 서로 수렴하는 방향으로 경사지게 분사하게 된다. 가스실(51)은 몸체(52)에 연결된 라인(59)을 통해 압력 유체원(도시 않했음)으로 부터 압력 유체를 공급받는다. 유체 분사구(18)는 슬릿형으로 나타나 있으나, 스트립의 폭방향을 따라 일렬로 배열된 다수의 작은 개구로 형성할 수도 있다.

압력 수납 표면(54)상에는 다수의 배플판(60)(본 경우는 리세스(56)에 의해 분리된 4세트)이 구비되어 있고, 배플판(60)은 스트립(S)의 이동방향으로 뻗어 있으며, 스트립(S)의 폭방향으로 서로 나란히 배치되어 있다. 배플판(60)의 상부 표면은 중력에 의한 스트립의 변형곡선을 따라 원형으로 형성되어 있다.

상기와 같은 배열로써, 제15b도에 도시된 바와같이 로울(57)이 배플판의 상단 아래에 있는 위치로 승강장치(도시 않했음)에 의해 로울(57)이 하강한다. 라인(19)을 통해 가스실(51)에 공급된 압력 유체는 유체분사구(18)를 통해 압력 수납 표면(54)과 스트립(S)간의 간격으로 분사되어 어떠한 고형부재와도 접촉하지 않고 유체의 정압에 의해 스트립(S)이 유지되며, 반면에 배플판은 압력 유체가 스트립(S)의 폭방향으로 달아나는 것을 방지한다. 한편, 승강장치에 의해 로울(57)이 배플판(60)의 상단위로 뻗어있게 되는 위치로 로울(57)이 상승하는 동시에 모터등(도시 않했음)에 의해 스트립(S)의 이동 속도와 같은 원주 속도로 로울이 회전한다. 이와같이, 스트립이 스레딩(threading)할때에는 스트립에 접촉하여 로울에 의해 스트립이 지지된다. 스트립(S)이 표면로울(57)에 의해 지지될때, 압력 유체가 분사되거나, 또는 분사되지 않는다. 부동기가 추가로 사용되는지는 여러가지 조건에 따라 결정할 수 있다.

제17a도, 제17b도 및 제18도는 본 발명의 다른 구현예로서, 유사 부품은 제15a도, 제15b도 및 제16도와 같은 도면부호로 표시되어 있다. 본 구현예에서 로울(57)의 양단에는 상자형 몸체(52)의 측벽에 인접하여 작은 간격을 두고 디스크(52)가 구비되어 있다. 이러한 배열로써, 스트립(S)은 유체 분사구(58)로부터 분사된 압력 유체에 의해 부동상태로 지지되고, 디스크(61)는 상판(55)의 리세스에 의해 배플판(60)이 분리되어 있는 압력 수납 표면(54)의 중심부에서 로울(57)을 따라 흐르는 압력 유체의 누출을 방지해 준다.

지금까지 기술한 내용은 본 발명의 이해를 돕기위해 본 발명에 따른 바람직한 몇가지 구현예를 설명한 것으로서, 본 발명이 상기 내용에 한정되지는 않는다. 따라서 본 발명의 요지와 그 범위를 벗어나지 않고서도 여러가지 다른 변형 및 그 개조가 가능하다.

Claims (8)

1. 이동스트립의 밑표면에 유체를 분사하여 스트립을 부동시키기 위해, 스트립의 하부에 부동기를 설치하고, 또한 스트립의 밑표면에 대향하여 다수의 배플판을 압력 수납 표면상에 수직으로 설치하며, 상기 배플판은 스트립의 이동방향으로 뻗어있고 스트립의 폭방향으로 서로 나란히 배열되어 있음을 특징으로 하는 연속 소둔로의 이동스트립 지지장치.
2. 제1항에 있어서, 상기 배플판의 상단부가 중력에 의한 스트립의 변형곡선을 따라 원형으로 형성되어 있음을 특징으로 하는 연속 소둔로의 이동스트립 지지장치.
3. 제1항에 있어서, 스트립의 폭 방향으로 뻗어 있으며, 부동기의 최고 위치보다 높은 상부 위치가 스트립과 접촉하지 않은 하부 위치로 움직일 수 있는 적어도 하나의 지지로울이 각 부동기에 구비되어 있음을 특징으로 하는 연속 소둔로의 이동스트립 지지장치.
4. 제3항에 있어서, 각 부동기의 상류와 하류측에 각각 위치하고 스트립의 폭방향으로 뻗어있는 한쌍의 지지로울이 구비되어 있음을 특징으로 하는 연속 소둔로의 이동스트립 지지장치.
5. 제4항에 있어서, 스트립의 밑표면 반대쪽에 다수의 배플판이 압력 수납 표면상에 수직으로 구비되어 있으며, 상기 배플판은 스트립의 이동방향으로 뻗어있고 스트립의 폭방향으로 서로 나란히 배열되어 있음을 특징으로 하는 연속 소둔로의 이동스트립 지지장치.
6. 제3항에 있어서, 각 부동기의 압력 수납 표면에 형성된 리세스에 지지로울이 구비되어 있음을 특징으로 하는 연속 소둔로의 이동스트립 지지장치.
7. 제6항에 있어서, 스트립의 밑표면 반대쪽에 다수의 배플판이 압력 수납 표면상에 수직으로 구비되어 있으며, 상기 배플판은 스트립의 이동방향으로 뻗어있고 스트립의 폭 방향으로 서로 나란히 배열되어 있음을 특징으로 하는 연속 소둔로의 이동스트립 지지장치.
8. 제6항에 있어서, 상기 지지로울의 양단에 부동기의 측벽과 인접하여 작은 간격을 두고 디스크가 구비되어 있음을 특징으로 하는 연속 소둔로의 이동스트립 지지장치.

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