KR900019133A - 박막 형성 장치 - Google Patents

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Abstract

내용 없음

Description

박막 형성장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 의한 박막 형성 장치의 제1 실시예를 나타내는 개략도, 제3도는 제1도에 나타낸 제1실시예의 수정을 나타내는 개략도, 제4도는 본발명에 의한 박막 형성 장치의 제2 실시예를 나타내는 개략도.

Claims (12)

  1. 반응응기와, 상기 반응응기내에 대향하여 배치되는 제1전극 및 제2전극과, 상기 제1전극은 상기 제2전극에 개방되는 빈공간을 포함하며, 상기 제1전극의 빈공간을 통해 상기 반응응기내로 원료가스를 도입하기 위한 도입수단과, 원료가스를 분리시키기 위해 상기 제1전극과 상기 제2전극간에서 방전 플라즈마 구역을 발생시키도록 그들간에 무선주파수 전압을 걸어주기 위한 무선주파수 전원을 포함하는 회로수단과, 상기 회로수단은 상기 제1전극이 방전 전극으로서 작용하도록 배열되며, 상기 제2전극은 접지되도록 배열되며, 그리고 상기 회로수단은 상기 제1전극의 전위를 음쪽으로 바이어스 시키기 위한 바이어싱 수단을 더 포함하며, 그에의해 고밀도 플라즈마가 상기 빈공간내에 생성되는 것이 특징인 기판상의 박막 형성용 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 바이어싱 수단은 상기 회로 수단내에 결합되는 저지 커패시터를 포함하며, 상기 제1전극은 상기 제1전극의 방전 영역에 대향되는 상기 전극의 영역보다 더작은 방전 영역을 갖고 있는 것이 특징인 기판상의 박막 형성용 장치.
  3. 제1항에서, 상기 바이어싱 수단은 상기 회로 수단에 결합되는 직류 전압원을 포함하는 것이 특징인 기판상의 박막 형성용 장치.
  4. 제1항에서, 상기 제1전극의 빈공간은 그의 재료가 제거되는 식으로 그내에 형성되며, 상기 도입수단은 원료가스를 방출시키기 위해 상기 빈공간의 바닥에 형성되는 적어도 하나의 개방 구멍을 포함하는 것이 특징인 기판상의 박막 형성용 장치.
  5. 제1항에서, 상기 제1전극의 빈공간은 상기 제1전극에 슬리브 요소를 부착시켜 형성되며, 상기 도입 수단은 원료가스를 방출시키기 위해 상기 제1전극내에 형성되는 개방구멍을 포함하는 것이 특징인 기판상의 박막 형성용 장치.
  6. 제1항에서, 상기 제1전극의 빈공간은 상기 제1전극에 부착되는 도전 메쉬 요소에 의해 한정되며, 상기 도입수단은 상기 메쉬 요소를 둘러싸며 또한 원료가스를 방출하기 위해 그내에 형성되는 적어도 하나의 개방구멍을 갖고 있는 파이프 요소를 포함하는 것이 특징인 기판상의 박막 형성용 장치.
  7. 제1항에서, 상기 제1전극은 원료가스 충만실로서 내실이 형성되는 공동구성을 갖고 있으며, 상기 제1전극의 빈공간은 상기 공동구성의 벽내에 움푹들어간 홈으로서 형성되며, 상기 도입 수단은 원료가스를 방출시키기 위해 상기 홈의 바닥내에 형성되는 적어도 하나의 개방구성을 포함하는 것이 특징인 기판상의 박막 형성용 장치.
  8. 제1항에서, 상기 제1전극은 적어도 2전극 요소들을 포함하며, 각 요소는 부채꼴형 공동구성을 갖고 있으며, 상기 제2전극은 드럼형 요소로서 형성되어 회전되도록 채택되며, 부채꼴형 전극 요소는 구칙적인 간격들로 상기 드럼형 요소 둘레에 동심상에 배치되며, 각각의 부채꼴형 전극 요소들은 공동 구성의 내벽내에서 움푹들어간 홈으로서 형성되는 적어도 하나의 빈공간을 갖고 있으며, 그리고 상기 도입수단은 원료가스를 방출시키기 위해 상기 홈의 바닥내에 형성되는 적어도 하나의 개방구멍을 포함하는 것이 특징인 기판상의 박막 형성용 장치.
  9. 제1항에서, 상기 제1전극은 환형 공동구성을 갖고 있으며, 상기 제2전극은 드럼형 요소로서 형성되어 회전되도록 채택되며, 상기 제2전극은 상기 제1전극의 환형 공동구성내에 동심상에 배치되며, 상기 제1전극의 빈공간은 공동구성의 내벽내에 움푹 파인 적어도 하나의 홈으로서 형성되며, 상기 도입수단은 원료가스를 방출시키기 위해 상기 홈의 바닥내에 형성되는 적어도 하나의 개방구멍을 포함하는 것이 특징인 기판상의 박막 형성용 장치.
  10. 제1항에서, 상기 제1전극은 하나 이상의 방전 전극 요소들을 포함하며, 상기 방전전극 요소들 각각은 재료를 제거하여 형성되는 빈공간을 갖고 있으며, 상기 도입수단은 원료가스를 방출시키기 위해 각각의 방출 전극요소의 빈공간의 바닥내에 형성되는 적어도 하나의 개방구멍을 포함하는 것이 특징인 기판상의 박막 형성용 장치.
  11. 제1항에서, 상기 제2전극으로 개방되어 있는 상기 제1전극의 빈공간의 출구공이 상기 제1전극의 일부로서 형성되는 대향된 돌출부에 의해 제한되며, 그에의해 상기 빈공간에서 생성되는 고밀도 플라즈마내에 내포된 전자들은 그내에 구속되는 것이 특징인 기판상의 박막 형성용 장치.
  12. 제1항에서, 상기 제1전극은 빈공간의 출구공을 둘러싸도록 배치되어 상기 제2전극으로 개방되어 있는 적어도 하나의 자석 요소를 포함하며, 그에의해 상기 빈공간내에서 생성되는 고밀도 플라즈마내에 포함되는 전자들은 그내에 구속될 뿐만 아니라 자석요소의 출현으로 인해 스핀운동 할수 있는 것이 특징인 기판상의 박막 형성용 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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