JPS63190299A - プラズマ装置 - Google Patents
プラズマ装置Info
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- JPS63190299A JPS63190299A JP62021303A JP2130387A JPS63190299A JP S63190299 A JPS63190299 A JP S63190299A JP 62021303 A JP62021303 A JP 62021303A JP 2130387 A JP2130387 A JP 2130387A JP S63190299 A JPS63190299 A JP S63190299A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の目的］
（産業上の利用分野）
本発明は、半導体製造装置等に利用されるプラズマ装置
に関する。
に関する。
（従来の技術）
一般にプラズマ装置には、対向電極間にガスを導入させ
て発生させるもの、マイクロ波放電により発生させるも
のがある。しかし、ざらに人容最のイオンまたは電子の
出力を得るのにプラズマ発生至を設け、このプラズマ発
生至から電子を選択的に引き出す溝道のプラズマ装置か
ある。この電子の引き出し部の（Ｍ 造は、プラズマを
発生するだめの初期放電用の一方の電極をメツシュ状の
電極で構成し、このメツシュ状電極に近付けて電子引き
出し用のメツシュ電極を設けたもので、すなわち帯電し
た粒子を通過させるための多数の透孔を有し、これらの
帯電した粒子を加速するための電圧などが印加されるプ
ラズマ装置用電極を用いたものがある。
て発生させるもの、マイクロ波放電により発生させるも
のがある。しかし、ざらに人容最のイオンまたは電子の
出力を得るのにプラズマ発生至を設け、このプラズマ発
生至から電子を選択的に引き出す溝道のプラズマ装置か
ある。この電子の引き出し部の（Ｍ 造は、プラズマを
発生するだめの初期放電用の一方の電極をメツシュ状の
電極で構成し、このメツシュ状電極に近付けて電子引き
出し用のメツシュ電極を設けたもので、すなわち帯電し
た粒子を通過させるための多数の透孔を有し、これらの
帯電した粒子を加速するための電圧などが印加されるプ
ラズマ装置用電極を用いたものがある。
（発明が解決しようとする問題点）
上述の従来のプラズマ装置用電極では、プラズマ装置の
密閉容器内に複数対の電極が配置され使用される場合が
多く、このような電極対の間隔を平行を保持し高精度に
組み込む必要があり、プラズマ装置の狭い密閉容器内で
このような位置合ぜをすることが非常に困難であった。
密閉容器内に複数対の電極が配置され使用される場合が
多く、このような電極対の間隔を平行を保持し高精度に
組み込む必要があり、プラズマ装置の狭い密閉容器内で
このような位置合ぜをすることが非常に困難であった。
本発明は、かかる従来の事情に対処して成されたもので
、電極間の間隔を平行を保持して高精度に位置合せをし
て組み込み、容易に高精度に構成することのできるプラ
ズマ装置を提供しようとするものでおる。
、電極間の間隔を平行を保持して高精度に位置合せをし
て組み込み、容易に高精度に構成することのできるプラ
ズマ装置を提供しようとするものでおる。
［発明の構成］
すなわち本発明のプラズマ装置は、少なくとも一方がプ
ラズマを発生させる電極板の対をスペサーを介して固定
した後組み込むことを特徴とする。
ラズマを発生させる電極板の対をスペサーを介して固定
した後組み込むことを特徴とする。
（作 用）
本発明のプラズマ装置では、少なくとも一つはプラズマ
発生用電極の電極対をスペーサを介して固定機構により
所定間隙に対向させて一体的に固定し位置合せ後に密閉
容器内に組込むので、従来に比べて簡単に位置合せを行
うことができ高精度に構成できる。
発生用電極の電極対をスペーサを介して固定機構により
所定間隙に対向させて一体的に固定し位置合せ後に密閉
容器内に組込むので、従来に比べて簡単に位置合せを行
うことができ高精度に構成できる。
（実施例）
以下本発明の一実施例を図面を参照して説明する。
第１図に示すプラズマ装置用電極対は、例えば第２図に
示すような電子ビームプラズマ生成装置を備えたイオン
注入装置に用いられる。
示すような電子ビームプラズマ生成装置を備えたイオン
注入装置に用いられる。
このプラズマ装置用電極１は、２枚の円板状の電極２．
３と、これらの電極２．３との間に介挿されるリング状
のスペーサ４と、電極２．３の周辺部に配置された複数
の固定用透孔２ａ、３ａに挿入され、これらの電極２．
３を固定するための複数の固定用ピン５とから構成され
ている。
３と、これらの電極２．３との間に介挿されるリング状
のスペーサ４と、電極２．３の周辺部に配置された複数
の固定用透孔２ａ、３ａに挿入され、これらの電極２．
３を固定するための複数の固定用ピン５とから構成され
ている。
電極２．３は、例えばモリブデンやタングステン等の高
融点金属等から、直径数ｃｍ、厚さ０．２ｍｍ〜０．５
ｍｍ程度の円板状に形成され、ぞの周辺部を除≦領域に
、直径０．５ｎｒ＋ｎ程度の帯電した粒子を通過させる
だめの通過用透孔２ｂ、３ｂが多数配置されている。
融点金属等から、直径数ｃｍ、厚さ０．２ｍｍ〜０．５
ｍｍ程度の円板状に形成され、ぞの周辺部を除≦領域に
、直径０．５ｎｒ＋ｎ程度の帯電した粒子を通過させる
だめの通過用透孔２ｂ、３ｂが多数配置されている。
また、スペーサ４と固定用ピン５は、例えばアルミナ系
セラミックス等の絶縁性部材から構成され、スペーサ４
の厚さは電極２．３間の所定間隙例えば０．３ｍｍ 〜
１．５ｍｍに設定されている。
セラミックス等の絶縁性部材から構成され、スペーサ４
の厚さは電極２．３間の所定間隙例えば０．３ｍｍ 〜
１．５ｍｍに設定されている。
なおスペーサ４、固定用ピン５は、第３図に示すように
、固定用透孔２ａ、３ａよりやや大径に構成され電極２
．３間に介挿されるスペー＋）−４ａと、固定用透孔２
ａ、３ａに挿入されるネジ５ａと、固定用透孔２ａ、３
ａとネジ５ａとの一間に介挿される絶縁部材５ｂと等か
ら構成してもよい。
、固定用透孔２ａ、３ａよりやや大径に構成され電極２
．３間に介挿されるスペー＋）−４ａと、固定用透孔２
ａ、３ａに挿入されるネジ５ａと、固定用透孔２ａ、３
ａとネジ５ａとの一間に介挿される絶縁部材５ｂと等か
ら構成してもよい。
上記構成のプラズマ装置用電極１は、電極２と電極３と
が、スペーサ４を介して固定用ピン５により固定され、
通過用透孔２ｂ、３ｂの位置決めが行われた後、第２図
に示すようなイオン注入装置の密閉容器１０内へ配置さ
れる。従って、従来に比べて簡単に電極２．３間の位置
合せを行うことができる。なお、プラズマ装置用電極１
の密閉容器１０内での固定は、例えば第４図に示すよう
に、密閉容器１０内壁にフランジ部１０ａ、１０ｂ等を
設けておき、これらのフランジ部１０ａ、１０ｂ間に挟
持することによって行なうことができる。
が、スペーサ４を介して固定用ピン５により固定され、
通過用透孔２ｂ、３ｂの位置決めが行われた後、第２図
に示すようなイオン注入装置の密閉容器１０内へ配置さ
れる。従って、従来に比べて簡単に電極２．３間の位置
合せを行うことができる。なお、プラズマ装置用電極１
の密閉容器１０内での固定は、例えば第４図に示すよう
に、密閉容器１０内壁にフランジ部１０ａ、１０ｂ等を
設けておき、これらのフランジ部１０ａ、１０ｂ間に挟
持することによって行なうことができる。
このようなプラズマ装置用電極１は、イオン注入装置用
イオン源の密閉容器１０内で、例えば電極２が円筒状の
カソード１１との間に放電電源を印加されるアノードと
して用いられ、他方の電極３が、カソード１１とアノー
ド２との間で生成されたプラズマ内から電子ビームを引
出し、加速する電子ビーム加速用電極として用いられる
。
イオン源の密閉容器１０内で、例えば電極２が円筒状の
カソード１１との間に放電電源を印加されるアノードと
して用いられ、他方の電極３が、カソード１１とアノー
ド２との間で生成されたプラズマ内から電子ビームを引
出し、加速する電子ビーム加速用電極として用いられる
。
すなわち、例えばタンタル等からなる円筒状のカソード
１１の貫通孔１１ａを通して、密閉容器１０内に放電用
ガス、例えばアルゴンガス等が導入される。カソード１
１とアノード２との間には、放電電源１２から例えば５
００Ｖ程度の放電電圧が印加され、グロー放電を起こし
、プラズマが生成される。
１１の貫通孔１１ａを通して、密閉容器１０内に放電用
ガス、例えばアルゴンガス等が導入される。カソード１
１とアノード２との間には、放電電源１２から例えば５
００Ｖ程度の放電電圧が印加され、グロー放電を起こし
、プラズマが生成される。
カソード１１とアノード２との間には、微小コンダクタ
ンスの隘路１３例えば導電板にスリット状または円形状
の透孔が設けられている。
ンスの隘路１３例えば導電板にスリット状または円形状
の透孔が設けられている。
この隘路１３は、カソード１１側の密閉容器１０内のガ
ス圧を０．３ Ｔｏｒｒ 〜１．００ Ｔｏｒｒ例えば
、０．８ ｒｏｒｒ程度とし、アノード２側の密閉容器
１０内のガス圧を０．０１ Ｔｏｒｒ〜０．０４ Ｔｏ
ｒｒ程度とする大きざで防り中間電極の役割も兼ねてい
る。
ス圧を０．３ Ｔｏｒｒ 〜１．００ Ｔｏｒｒ例えば
、０．８ ｒｏｒｒ程度とし、アノード２側の密閉容器
１０内のガス圧を０．０１ Ｔｏｒｒ〜０．０４ Ｔｏ
ｒｒ程度とする大きざで防り中間電極の役割も兼ねてい
る。
また、隘路１３の内面のうち、アノード２側の大部分が
絶縁物１４例えばアルミナ系セラミックスで覆われてお
り、カソード１１とアノード２との放電が容易に成され
るようにされている。この放電によりプラズマが発生す
る。
絶縁物１４例えばアルミナ系セラミックスで覆われてお
り、カソード１１とアノード２との放電が容易に成され
るようにされている。この放電によりプラズマが発生す
る。
アノード２に対して０．５〜１．５ｎ＋ｎ＋の間隙で設
けられた電子ビーム加速用電極３は、電源１５により例
えば３００ｖ程度の加速電圧が印加され、放電により生
じたプラズマの中から電子を引出し、例えば５０ｃＶ〜
３００ｅＶに加速してイオンチャンバ１６内に大剣させ
る。
けられた電子ビーム加速用電極３は、電源１５により例
えば３００ｖ程度の加速電圧が印加され、放電により生
じたプラズマの中から電子を引出し、例えば５０ｃＶ〜
３００ｅＶに加速してイオンチャンバ１６内に大剣させ
る。
なお、アノード２と電子ビーム加速用電極３との間は、
例えば０．０３ Ｔｏｒｒ程度のガス圧とされる。
例えば０．０３ Ｔｏｒｒ程度のガス圧とされる。
イオンチャンバ１６内は、イオン注入のためのガス例え
ばヒ素（Ａｓ）ガスがガス圧０．０１ 丁ｏｒｒ〜０．
０２ 丁ｏｒｒとなるように供給され、このイオンチャ
ンバ１６内に導入された電子ビームは、ヒ素ガス分子に
衝突し、濃いプラズマを発生する。これは電離断面積の
大きな電子ビームを用いてガス圧の少ない領域でプラズ
マを発生するためである。
ばヒ素（Ａｓ）ガスがガス圧０．０１ 丁ｏｒｒ〜０．
０２ 丁ｏｒｒとなるように供給され、このイオンチャ
ンバ１６内に導入された電子ビームは、ヒ素ガス分子に
衝突し、濃いプラズマを発生する。これは電離断面積の
大きな電子ビームを用いてガス圧の少ない領域でプラズ
マを発生するためである。
イオンチャンバ１６の電子ビーム加速用電極３に対向す
る側には、方形状のスリット１７および楕円形状のスリ
ット１８が設けられている。
る側には、方形状のスリット１７および楕円形状のスリ
ット１８が設けられている。
これらのスリット１７．１８の構成は、周知のイオン注
入装置のイオン源に用いられているイオン導出部の電極
構成で、スリット１７は縦長の１．５ＷｍＸ１５．５
ｍｍの長方形状の透孔であり、スリット１８は短径０．
５ｍｍ、直径２０ｍ１ＴＡの楕円形状である。
入装置のイオン源に用いられているイオン導出部の電極
構成で、スリット１７は縦長の１．５ＷｍＸ１５．５
ｍｍの長方形状の透孔であり、スリット１８は短径０．
５ｍｍ、直径２０ｍ１ＴＡの楕円形状である。
これらのスリット１７により、イオンチャンバ１６内か
ら引出されたイオンビームは、イオン注入装置の質量分
析用の磁場中（図示せず）へ出射される。
ら引出されたイオンビームは、イオン注入装置の質量分
析用の磁場中（図示せず）へ出射される。
なお、上記構成のイオン注入装置においては、カソード
１１とアノード２との間の放電電流を低く抑制して、カ
ソード１１の寿命を長くし、かつ多量の電子ビームを引
出すことが好ましい。このような場合、アノード２およ
び電子ビーム加速用電極３の肉厚を薄くすることが有効
である。例えば、初期放電電流が１Ａ、電子加速電圧が
３００Ｖ、通過用透孔２ｂ、３ｂの径が０．５ｍ鞘の場
合、肉厚０．５ｍｍの電極板を用いた場合４００ｍへの
電子ビーム電流が得られ、肉厚０．３＋ｎｉの電極板を
用いた場合は、６００ｍへの電子ビーム電流を得ること
ができる。
１１とアノード２との間の放電電流を低く抑制して、カ
ソード１１の寿命を長くし、かつ多量の電子ビームを引
出すことが好ましい。このような場合、アノード２およ
び電子ビーム加速用電極３の肉厚を薄くすることが有効
である。例えば、初期放電電流が１Ａ、電子加速電圧が
３００Ｖ、通過用透孔２ｂ、３ｂの径が０．５ｍ鞘の場
合、肉厚０．５ｍｍの電極板を用いた場合４００ｍへの
電子ビーム電流が得られ、肉厚０．３＋ｎｉの電極板を
用いた場合は、６００ｍへの電子ビーム電流を得ること
ができる。
［発明の効果］
上述のように本発明によれば少なくとも一方がプラズマ
を発生するための電極との対をなす電極を予め定められ
た間隔に平行設定して、位置合ぜをして組み込むので従
来に比べて容易に高精度に構成することができる。
を発生するための電極との対をなす電極を予め定められ
た間隔に平行設定して、位置合ぜをして組み込むので従
来に比べて容易に高精度に構成することができる。
第１図は本発明の一実施例を説明するためのプラズマ装
置用電極の対を示す斜視図、第２図は第１図に示す電極
対をイオン注入装置に適用した構成図、第３図は第１図
に示す電極対の変型例を示す斜視図、第４図は第２図の
要部を示す縦断面図である。 １・・・・・・プラズマ装置用電極、２．３・・・・・
・電極、２ａ、３ａ・・・・・・固定用透孔、２ｂ、３
ｂ・・・・・・通過用透孔、４・・・・・・スペーサ、
５・・・・・・固定用ピン。
置用電極の対を示す斜視図、第２図は第１図に示す電極
対をイオン注入装置に適用した構成図、第３図は第１図
に示す電極対の変型例を示す斜視図、第４図は第２図の
要部を示す縦断面図である。 １・・・・・・プラズマ装置用電極、２．３・・・・・
・電極、２ａ、３ａ・・・・・・固定用透孔、２ｂ、３
ｂ・・・・・・通過用透孔、４・・・・・・スペーサ、
５・・・・・・固定用ピン。
Claims (1)
- （１）少なくとも一方がプラズマを発生させる電極の対
をスペサーを介して固定した後組み込むことを特徴とす
るプラズマ装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62021303A JP2587629B2 (ja) | 1987-01-31 | 1987-01-31 | 電子ビ−ム式プラズマ装置 |
| KR1019870004962A KR900003310B1 (ko) | 1986-05-27 | 1987-05-19 | 이온 발생 장치 |
| US07/054,496 US4749912A (en) | 1986-05-27 | 1987-05-27 | Ion-producing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62021303A JP2587629B2 (ja) | 1987-01-31 | 1987-01-31 | 電子ビ−ム式プラズマ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63190299A true JPS63190299A (ja) | 1988-08-05 |
| JP2587629B2 JP2587629B2 (ja) | 1997-03-05 |
Family
ID=12051379
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62021303A Expired - Lifetime JP2587629B2 (ja) | 1986-05-27 | 1987-01-31 | 電子ビ−ム式プラズマ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2587629B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5413663A (en) * | 1992-06-11 | 1995-05-09 | Tokyo Electron Limited | Plasma processing apparatus |
| JP2010040417A (ja) * | 2008-08-07 | 2010-02-18 | Toyota Motor Corp | 電子ビーム発生装置 |
| CN101959361A (zh) * | 2009-07-16 | 2011-01-26 | 松下电工株式会社 | 等离子体处理装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6134832A (ja) * | 1984-07-26 | 1986-02-19 | Hitachi Ltd | 大口径イオン源 |
| JPS61225737A (ja) * | 1985-03-29 | 1986-10-07 | Hitachi Ltd | イオン源電極 |
-
1987
- 1987-01-31 JP JP62021303A patent/JP2587629B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6134832A (ja) * | 1984-07-26 | 1986-02-19 | Hitachi Ltd | 大口径イオン源 |
| JPS61225737A (ja) * | 1985-03-29 | 1986-10-07 | Hitachi Ltd | イオン源電極 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5413663A (en) * | 1992-06-11 | 1995-05-09 | Tokyo Electron Limited | Plasma processing apparatus |
| JP2010040417A (ja) * | 2008-08-07 | 2010-02-18 | Toyota Motor Corp | 電子ビーム発生装置 |
| CN101959361A (zh) * | 2009-07-16 | 2011-01-26 | 松下电工株式会社 | 等离子体处理装置 |
| JP2011023244A (ja) * | 2009-07-16 | 2011-02-03 | Panasonic Electric Works Co Ltd | プラズマ処理装置 |
| TWI424793B (zh) * | 2009-07-16 | 2014-01-21 | Panasonic Ind Devices Sunx Co | 電漿處理裝置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2587629B2 (ja) | 1997-03-05 |
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| JP2917627B2 (ja) | イオン注入装置 |
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