JPH0145068Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0145068Y2 JPH0145068Y2 JP14366585U JP14366585U JPH0145068Y2 JP H0145068 Y2 JPH0145068 Y2 JP H0145068Y2 JP 14366585 U JP14366585 U JP 14366585U JP 14366585 U JP14366585 U JP 14366585U JP H0145068 Y2 JPH0145068 Y2 JP H0145068Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- ionization chamber
- ion
- screen electrode
- accelerating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
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- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 11
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 claims description 9
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Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本考案は電子分光装置等の表面分析装置におい
て、試料表面をエツチングするためのイオン銃の
改良に関する。
て、試料表面をエツチングするためのイオン銃の
改良に関する。
[従来の技術]
表面分析装置、例えば電子分光装置において
は、物質表面から内部への元素組成の変化や化学
結合状態の変化を知るために、装置内にイオン銃
を装着し、イオンエツチングとスペクトルの測定
を交互に繰り返しながら分析を行つている。
は、物質表面から内部への元素組成の変化や化学
結合状態の変化を知るために、装置内にイオン銃
を装着し、イオンエツチングとスペクトルの測定
を交互に繰り返しながら分析を行つている。
かかるイオンエツチング用のイオン銃として
は、一般には熱電子をイオン化室内でアルゴンガ
スに衝突させて正イオンを発生させ、1個の引出
し穴から取りだして加速し、静電レンズで収束さ
せて試料に照射するようになしている。しかしな
がら、このようなイオン銃ではイオンビーム径は
高々1mm程度であり、X線光電子分光法(XPS
あるいはESCA)に必要な比較的広い分析領域を
均一にエツチングするためにはイオンビームを走
査しなければならず、エツチングスピードが著し
く遅くなるという欠点を有している。
は、一般には熱電子をイオン化室内でアルゴンガ
スに衝突させて正イオンを発生させ、1個の引出
し穴から取りだして加速し、静電レンズで収束さ
せて試料に照射するようになしている。しかしな
がら、このようなイオン銃ではイオンビーム径は
高々1mm程度であり、X線光電子分光法(XPS
あるいはESCA)に必要な比較的広い分析領域を
均一にエツチングするためにはイオンビームを走
査しなければならず、エツチングスピードが著し
く遅くなるという欠点を有している。
近時、かかる不都合を解決するために、従来の
ビーム径に対して10倍あるいはそれ以上のビーム
径を取りだして、広い分析領域を一度にエツチン
グすることのできるイオン銃が提案されている。
第3図はかかるイオン銃の概略構成図を示すもの
で、1は底部が開放されたイオン化室であり、内
部にはパイプ2を通してアルゴンガスが導入され
る。3はイオン化室1内部に置かれたフイラメン
トで、加熱電源4に接続されている。5は前記イ
オン化室1内に置かれた筒状の陽極で、アノード
電源6によりフイラメント3に対して正の電圧が
印加されている。7はイオン化室1の外周に置か
れたマグネツトで、フイラメント3から放出され
た電子を陽極3内で螺旋運動させて電子の軌道を
長くすることによりイオン化を効率良くさせるた
めのものである。8はイオン化室1の底部に置か
れたスクリーン電極で、アース電位に保たれてお
り、また、このスクリーン電極には例えば200個
程度のイオン引出穴が形成してある。9はこのス
クリーン電極8の下部に環状のスペーサー10を
介して電気的に絶縁された状態で、かつ任意な間
隔を保つて置かれた加速電極で、この加速電極に
もスクリーン電極8と同様に200個程度のイオン
引出穴が形成されている。11は前記イオン化室
1内で生成されたイオンを加速するための加速電
源で、前記フイラメント3とスクリーン電極8と
の間に負の高電圧を印加している。12は前記ス
クリーン電極8と加速電極9との間に正の電圧を
印加するためのサプレツサー電源である。
ビーム径に対して10倍あるいはそれ以上のビーム
径を取りだして、広い分析領域を一度にエツチン
グすることのできるイオン銃が提案されている。
第3図はかかるイオン銃の概略構成図を示すもの
で、1は底部が開放されたイオン化室であり、内
部にはパイプ2を通してアルゴンガスが導入され
る。3はイオン化室1内部に置かれたフイラメン
トで、加熱電源4に接続されている。5は前記イ
オン化室1内に置かれた筒状の陽極で、アノード
電源6によりフイラメント3に対して正の電圧が
印加されている。7はイオン化室1の外周に置か
れたマグネツトで、フイラメント3から放出され
た電子を陽極3内で螺旋運動させて電子の軌道を
長くすることによりイオン化を効率良くさせるた
めのものである。8はイオン化室1の底部に置か
れたスクリーン電極で、アース電位に保たれてお
り、また、このスクリーン電極には例えば200個
程度のイオン引出穴が形成してある。9はこのス
クリーン電極8の下部に環状のスペーサー10を
介して電気的に絶縁された状態で、かつ任意な間
隔を保つて置かれた加速電極で、この加速電極に
もスクリーン電極8と同様に200個程度のイオン
引出穴が形成されている。11は前記イオン化室
1内で生成されたイオンを加速するための加速電
源で、前記フイラメント3とスクリーン電極8と
の間に負の高電圧を印加している。12は前記ス
クリーン電極8と加速電極9との間に正の電圧を
印加するためのサプレツサー電源である。
このような装置ではスクリーン電極8と加速電
極9との間にサプレツサー電源11によりイオン
を減速させるようになしているため、イオン化室
1内のイオン密度は空間電荷制限領域にまで高め
られ、このようにして密度の高められたイオンを
各電極8,9のイオン引出穴を介して太いビーム
Iとして取出し、一度に分析領域を均一にエツチ
ングができるようにしたものである。
極9との間にサプレツサー電源11によりイオン
を減速させるようになしているため、イオン化室
1内のイオン密度は空間電荷制限領域にまで高め
られ、このようにして密度の高められたイオンを
各電極8,9のイオン引出穴を介して太いビーム
Iとして取出し、一度に分析領域を均一にエツチ
ングができるようにしたものである。
[考案が解決しようとする問題点]
一般に、分析試料をエツチングするとき、理想
的には加速電圧を一定にした状態で、イオンの量
を変えてエツチングスピードを変えることが望ま
しい。ところが上述したタイプのイオン銃では、
空間電荷制限領域効果を利用しているため、加速
電圧を変えないとイオンビーム電流は変わらな
い。
的には加速電圧を一定にした状態で、イオンの量
を変えてエツチングスピードを変えることが望ま
しい。ところが上述したタイプのイオン銃では、
空間電荷制限領域効果を利用しているため、加速
電圧を変えないとイオンビーム電流は変わらな
い。
本考案はこの様な点に鑑みて、加速電極を変え
ることなくイオンビーム電流を変えることを提供
するものである。
ることなくイオンビーム電流を変えることを提供
するものである。
[問題点を解決するための手段]
上記目的を達成するために、本考案はガスが導
入されるイオン化室と、該イオン化室内のガスに
衝突させる電子を発生する電子発生手段と、前記
イオン化室で生成されたイオンを引出すための複
数のイオン引出穴を有する加速電極と、該加速電
極とイオン化室との間に配置された複数のイオン
引出穴を有するスクリーン電極とからなるイオン
銃において、前記スクリーン電極と加速電極とを
相対的にスライドさせることによりイオンを引出
す開口率を変化させることを特徴とする。
入されるイオン化室と、該イオン化室内のガスに
衝突させる電子を発生する電子発生手段と、前記
イオン化室で生成されたイオンを引出すための複
数のイオン引出穴を有する加速電極と、該加速電
極とイオン化室との間に配置された複数のイオン
引出穴を有するスクリーン電極とからなるイオン
銃において、前記スクリーン電極と加速電極とを
相対的にスライドさせることによりイオンを引出
す開口率を変化させることを特徴とする。
[実施例]
第1図は本考案の一実施例を示す要部拡大断面
図であり、第3図は同一符号のものは同一構成要
素を示す。
図であり、第3図は同一符号のものは同一構成要
素を示す。
即ち、本実施例ではスペーサー10を加速電極
9側に固定すると共に、スクリーン電極8をこの
スペーサー10上に移動可能に配置し、さらに、
スペーサー10に設けた突出部10aに螺合され
た押しネジ13の先端をスクリーン電極8の側面
に係合させることにより加速電極9に対してスク
リーン電極8を移動させることを特徴とするもの
である。尚、10bは突出部10aと対向するよ
うにスペーサ10に設けられた突出部で、この突
出部10bとスクリーン電極8との間には押しネ
ジ13とスクリーン電極8との接触を常に維持す
るためのスプリング14が設けられている。ま
た、スペーサー10には図示しないがスクリーン
電極8の移動をガイドするための案内体が設けて
ある。
9側に固定すると共に、スクリーン電極8をこの
スペーサー10上に移動可能に配置し、さらに、
スペーサー10に設けた突出部10aに螺合され
た押しネジ13の先端をスクリーン電極8の側面
に係合させることにより加速電極9に対してスク
リーン電極8を移動させることを特徴とするもの
である。尚、10bは突出部10aと対向するよ
うにスペーサ10に設けられた突出部で、この突
出部10bとスクリーン電極8との間には押しネ
ジ13とスクリーン電極8との接触を常に維持す
るためのスプリング14が設けられている。ま
た、スペーサー10には図示しないがスクリーン
電極8の移動をガイドするための案内体が設けて
ある。
しかして、押しネジ13によりスクリーン電極
8を移動させると、第2図にその状態を示すよう
にスクリーン電極8及び加速電極9に夫々形成さ
れたイオン引出穴8aと9aとの相対位置がズレ
るため、2枚の電極で構成されるイオン引出穴の
見掛上の孔径、つまり開口率が変化する。その結
果、取出されるイオンビームの量(イオンビーム
電流)が変わるため、エツチングスピードを任意
に変えることができる。
8を移動させると、第2図にその状態を示すよう
にスクリーン電極8及び加速電極9に夫々形成さ
れたイオン引出穴8aと9aとの相対位置がズレ
るため、2枚の電極で構成されるイオン引出穴の
見掛上の孔径、つまり開口率が変化する。その結
果、取出されるイオンビームの量(イオンビーム
電流)が変わるため、エツチングスピードを任意
に変えることができる。
尚、前述の説明では加速電極に対してスクリー
ン電極を移動させるようになしたが、逆にスクリ
ーン電極に対して加速電極を移動させても良い。
ン電極を移動させるようになしたが、逆にスクリ
ーン電極に対して加速電極を移動させても良い。
[考案の効果]
以上のように、スクリーン電極と加速電極とを
相対的に移動させてイオン引出穴の開口率を変化
させるようになせば、加速電圧を変化させること
なくイオンビーム電流を変えることができるた
め、加速電圧を一定にして異なつた速度でエツチ
ングを行うことができる。従つて、深さ方向の分
析を行いたい位置ではエツチングをゆつくり行
い、必要のない場所ではエツチングを高速で行う
ことができるので、効率的な分析が可能となる。
相対的に移動させてイオン引出穴の開口率を変化
させるようになせば、加速電圧を変化させること
なくイオンビーム電流を変えることができるた
め、加速電圧を一定にして異なつた速度でエツチ
ングを行うことができる。従つて、深さ方向の分
析を行いたい位置ではエツチングをゆつくり行
い、必要のない場所ではエツチングを高速で行う
ことができるので、効率的な分析が可能となる。
第1図は本考案の一実施例を示す要部拡大断面
図、第2図は本考案の動作を説明するための図、
第3図は従来例を説明するための図である。 1:イオン化室、2:パイプ、3:フイラメン
ト、4:加熱電源、5:陽極、6:アノード電
源、7:マグネツト、8:スクリーン電極、9:
加速電極、10:スペーサー、11:加速電源、
12:サプレツサー電源、13:押しネジ、1
4:スプリング。
図、第2図は本考案の動作を説明するための図、
第3図は従来例を説明するための図である。 1:イオン化室、2:パイプ、3:フイラメン
ト、4:加熱電源、5:陽極、6:アノード電
源、7:マグネツト、8:スクリーン電極、9:
加速電極、10:スペーサー、11:加速電源、
12:サプレツサー電源、13:押しネジ、1
4:スプリング。
Claims (1)
- ガスが導入されるイオン化室と、該イオン化室
内のガスに衝突させる電子を発生する電子発生手
段と、前記イオン化室で生成されたイオンを引出
すための複数のイオン引出穴を有する加速電極
と、該加速電極とイオン化室との間に配置された
複数のイオン引出穴を有するスクリーン電極とか
らなるイオン銃において、前記スクリーン電極と
加速電極とを相対的にスライドさせることにより
イオンを引出す開口率を変化させることを特徴と
するイオン銃。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14366585U JPH0145068Y2 (ja) | 1985-09-20 | 1985-09-20 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14366585U JPH0145068Y2 (ja) | 1985-09-20 | 1985-09-20 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6251648U JPS6251648U (ja) | 1987-03-31 |
JPH0145068Y2 true JPH0145068Y2 (ja) | 1989-12-26 |
Family
ID=31053558
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14366585U Expired JPH0145068Y2 (ja) | 1985-09-20 | 1985-09-20 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0145068Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2858776B2 (ja) * | 1989-03-08 | 1999-02-17 | 日本原子力研究所 | ビーム照射装置 |
-
1985
- 1985-09-20 JP JP14366585U patent/JPH0145068Y2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6251648U (ja) | 1987-03-31 |
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