KR900005232A - 음화 상 생성방법. - Google Patents

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KR900005232A
KR900005232A KR1019890014051A KR890014051A KR900005232A KR 900005232 A KR900005232 A KR 900005232A KR 1019890014051 A KR1019890014051 A KR 1019890014051A KR 890014051 A KR890014051 A KR 890014051A KR 900005232 A KR900005232 A KR 900005232A
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시이 메머토우 도늘드
제인 생여
더럼 데이너
에이 스퍽 마아크
에이 어시퍼 더글라스
먹팰런드 마이클
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존 에이 페니
획스트 세라니이즈 코오포레이션
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    • G03C5/00—Photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/039—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists

Abstract

내용 없음

Description

음화 상 생성방법.
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (35)

  1. a. i. 1. 옥심 설포네이트 에스테르 ; 와, 2. 하기 식의 화합물.
    (여기서, R1=1,2 벤조퀴논 -2-디아지드-4-설포닐 ; 1,2 나프로퀴논-2-디아지드-4-설포닐 ; 또는 1,2 안트로퀴논-2-디아지드-4-설포닐
    R6=H, 알킬, 아릴, 아랄킬 또는 R1
    R7=알킬, 아릴 또는 아랄킬)로 구성된 군으로 부터 선택된, 충분한 온도로 계속적으로 가열될 때, 차단된 소수성 중합체를 탈차단시킬 수 있어서 수성 알카리 용액에 중합체를 용해 시키는 강산을 방사선 에너지에 노출시킬 때 충분한 양으로 생성할 수 있는 감광성 화합물 ; 및, ⅱ. 기질상에 조성물이 균일한 층을 형성하기에 충분한 양의 차단된 소수성 중합체를 함유하는 실질적으로 건조한 감광성 조성물의 층을 기질상에 제공하고 ; b. 상기 층을, 중합체를 탈차단시키지 않고 산을 생성하기에 충분한 방사선 에너지에 상형성방식으로 노출시키고 ; C. 사후-노출 소성 단계없이, 노출된 층을 기체성 염기로 처리하여 단계(b)에서 생성된 산을 산-염기 반응을 거쳐 염으로 중화시키고 ; d. 과량의 염기를 제거하고 ; e. 층을 전체적으로 넘치게 노출시켜서 단계(b)에서 노출되지 않은 지역에서 산을 생성하고 ; f. 단계(e)의 노출된 층을 단계(b)에서 노출되지 않은 지역에서 중합체를 탈차단시키기에 충분한 시간동안 충분한 온도에서 소성처리하고 ; g. 층을 수성 알카리 현상액으로 현상시켜서 단계(b)에서 노출된 부분을 제외하고 층을 제거하는 것으로 구성된 음화상의 생성 방법.
  2. 제1항에 있어서, 중합체가 이미드 관능기가 산-불안정성기에 의해 차단된 이미드-함유 중합체인 방법.
  3. 제2항에 있어서, 중합체가 폴리(N-3차-부틸 옥시카로보닐 말레이미드-코-스티렌)인 방법.
  4. 제2항에 있어서, 중합체가 폴리(N-3차-부틸 옥시카로보닐 말레이미드-코-4-3차-부틸스티렌)인 방법.
  5. 제2항에 있어서, 중합체가 폴리(N-3차-부틸옥시카로보닐 말레이미드-코-데실 비닐 에테르)인 방법.
  6. 제2항에 있어서, 중합체가 폴리(디메틸-N-3차-부틸옥시카로보닐 글루타르이미드)인 방법.
  7. 제2항에 있어서, 중합체가 폴리(N-3차-부틸옥시카로보닐 말레이미드)인 방법.
  8. 제2항에 있어서, 차단기가 3차-부틸옥시 카르보닐인 방법.
  9. 제2항에 있어서, 차단기가 2벤질옥시카르보닐인 방법.
  10. 제1GKD에 있어서, 중합체가 히드록시 관능기가산-불안정성기에 의해 차단된 페놀-함유 중합체인 방법.
  11. 제10항에 있어서, 중합체가 폴리(3차-부틸옥시카로보닐옥시-알파-알킬 스티렌)인 방법.
  12. 제10항에 있어서, 중합체가 폴리(3차-부틸옥시카로보닐옥시 스티렌)인 방법.
  13. 제10항에 있어서, 차단기가 3차-부틸옥시 카르보닐인 방법.
  14. 제10항에 있어서, 차단기가 벤질옥시카르보닐인 방법.
  15. 제1항에 있어서, 중합체가, 산 관능기가 산-불안정성기로 차단된 카르복시산 함유 중합체인 방법.
  16. 제15항에 있어서, 중합체가 폴리(3차-부틸 메타크릴레이트)인 방법.
  17. 제15항에 있어서, 중합체가 폴리(3차-부틸 p-비닐벤조에이트)인 방법.
  18. 제2항에 있어서, 산 불안정성기가 옥시카르보닐기인 방법.
  19. 제1항에 있어서, 상기 중합체가 메틸올기 또는 치환된 메틸올기에 의해 차단되고 아세탈 또는 케탈성분을 형성하도록 더욱 차단된 이미드기를 함유하는 방법.
  20. 제19항에 있어서, 상기 중합체가 차단된 말레이미드의 단일중합체인 방법.
  21. 제19항에 있어서, (a)의 상기 중합체가 각각 차단된 이미드에 대해 공단량체 5단위 이하를 함유하는 공중합체인 방법.
  22. 제19항에 있어서, 상기 공중합체가 각각 차단된 이미드기에 대한 공단량체가 약 1단위 이하를 함유하는 방법.
  23. 제19항에 있어서, 중합체가 하기 구조를 갖는 방법.
    상기식들에서 ; R0는 H 또는 메틸, R0 1은 아릴, O-알킬 또는 O-아릴, R1및 R2는 H 또는 C1-C4알킬 R3는
    (여기서 : R4,R5는 H 또는 C1-C4알킬, R6는 C1-C10알킬, R7은 C1-C4알킬 또는 H 이다)이다.
  24. 제23항에 있어서, R0 1가 아릴 또는 치환된 아릴인 방법.
  25. 제24항에 있어서, R0 1가 페닐인 방법.
  26. 제23항에 있어서, R1가 -O-(C1-C10알킬) 또는 -O- 아릴인 방법.
  27. 제26항에 있어서, R0 1가 -O-(n-데실)인 방법.
  28. 제23항에 있어서, R0 1가 페닐이고, R3가 -C(CH3)2OCH3인 방법.
  29. 제23항에 있어서, R0 1가 페닐이고 R3가 -C(CH3)(H)OCH3인 방법.
  30. 제23항에 있어서, R0 1가 페닐이고 R3가인 방법.
  31. 제23항에 있어서, R0 1가 페닐이고 R3가인 방법.
  32. 제1항에 있어서, 옥심 설포네이트 에스테르 성분이 하기 식(I) 및 (Ⅱ)로 구성된 군으로부터 선택된 하나 또는 그 이상의 화합물들을 포함하는 방법.
    상기식에서, n은 1 또는 2, R1은 -COO 알킬, -COO 아릴 또는 -CN, R2는 알킬 또는 아릴이거나 치환되지 않은 페닐 또는 C1-C6알킬, -OH, -CN, C1-C4알콕시, 아릴옥시, -COO아릴, -알킬 또는 NO2로 치환된 페닐, 또는 R2와 R1은 이들이 결합된 원자와 함께 C5-C10카르보시클릭 또는 헤테로시클릭 고리를 형성하고 ; X와 Y는 독립적으로 직접적 결합, -CH2- 또는 치환되거나 치환되지 않은 C2-C5알킬렌으로 구성된 군으로 부터 선택되고, R3는 n=1일때, C1-C18-알킬 또는 치환되지 않았거나 -OH, -CN, 할로겐, C1-C12-알킬, C1-C4- 알콕시 또는 NO2에 의해 치환된 페닐 ; 또는 치환되거나 치환되지 않은 나프틸이거나, R3또는 R3와 R1은 그들이 결합된 원자들과 함께 C5-C12헤테로시클릭 고리를 형성하고, R3는 n=2일때, (CH2)m기 (여기서, m은 2-8이다) 또는 치환되거나 치환되지 않은 페닐렌 또는 나프틸렌이고 ; R4는 아릴렌, 치환된 아릴렌, 메틸렌, C2-C6직쇄, 분자쇄 또는 고리형 알킬렌 ; R5는 시아노, 또는 -COO 알킬 또는 -COO 아릴기 ; R6는 n=1 일때, 수소원자, C1-C8알킬 또는 페닐, -OH, CN, C1-C4알콕시, 아틸옥시, -COO 알킬, -COO 아릴, NO2또는 할로겐에 의해 치환된 페닐이거나 ; R5와 R6는 그들이 결합된 원자들과 함께 C6-C12카보시클릭 또는 헤테로시클릭 고리를 형성하고 ; R7은 -OH, -CN, 알콕시, 할로겐 또는 C1-C5알킬로 치환되거나 치환되지 않은 페닐, 치환되거나 치환되지 않은 C1-C18직쇄 또는 분지쇄 알칼 ; 또는 치환되거나 치환되지 않은 C6-C12아릴이거나, R7과 R6또는 R5와 R7이 이들이 결합된 원자들과 함께 C6-C12헤테로시클릭고리를 형성한다.
  33. 제1항에 있어서, 상기 조성물이 프로필렌 글리콜 모노알킬 에테르 및 프로필렌 글리콜 모노알킬 에테르 아세테이트로 구성된 군으로부터 선택된 하나 또는 그 이상의 성분들로 구성된 잔류 용해 성분을 포함하는 방법.
  34. 제1항에 있어서, 상기 조성물이 착색제, 염료, 주름 방지제, 평활제, 가소제, 접착성 증진제, 가속화제, 용매 및 계면활성제로 구성된 군으로부터 선택된 하나 또는 그 이상의 성분들을 포함하는 방법.
  35. 제1항에 있어서, 상기 기질이 규소, 알루미늄, 중합체 수지, 이산화규소, 도핑된 이산화규소, 질화규소, 탄탈, 구리, 폴리실리콘, 세라믹 및 알루미늄/구리 혼합물로 구성된 군으로부터 선택되는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019890014051A 1988-09-29 1989-09-28 음화 상 생성방법. KR900005232A (ko)

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