KR890006724A - 저밀도 실리콘 발포체 - Google Patents
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (48)
- (a) 일반식(1)의 비닐-함유 폴리실옥산 (여기에서, 이 중합체는 비닐 함량이 0.0002 내지 3중량%이다) 100중량부, (b) 일반식(2)의 하이드라이드 폴리실옥산(여기에서, 하이드라이드 폴리실옥산은 수소함량이 0.3 내지 1.6중량%이다) 1 내지 50중량부, (c) 성분(b)의 규소-결합된 수소원자에 대한 하이드록실 라디칼의 몰비가 약 0.02/1 내지 약 5/1이 되도록 하는 양의, 물, 유기 알콜, 하이드록실화 실옥산, 및 이의 혼합물중에서 선택된 하이드록실 공급원, (d) 백금 촉매 약 1 내지 약 250ppm, 및 (e) 표면상에 충분한 질소를 함유하여 발포체 밀도록 저하시키는 표면-처리된 충전제 충분량을 함유함을 특징으로 하는 발포성 조성물.상기식에서, R 및 R'은 치환되거나 비치환된 탄소수 1 내지 20의 탄화수소라디칼중에서 선택되고; R2는 각각, 수소, 탄소수 1 내지 8의 알킬 라디칼, 탄소수 1 내지 8의 아릴 라디칼, 탄소수 3 내지 8의 할로알킬 라디칼, 및 동시에 사이클릭 중합체를 형성하는 하나의 -O-중에서 선택되며; R3은 탄소수 1 내지 8의 알킬 라디칼, 탄소수 1 내지 8의 아릴 라디칼, 및 탄소수 3 내지 8의 플루오로 알킬 라디칼중에서 선택도고; X는 중합체의 점도가 25℃에서 100 내지 1,000,000센티포이즈가 되도록 변화하며; Y 및 Z는 중합체의 점도가 25℃에서 1 내지 500센티포이즈가 되도록 변화한다.
- 제1항에 있어서, 비닐-함유 폴리실옥산이 약0.001 내지 약 1중량%의 비닐을 함유하는 조성물.
- 제1항에 있어서, X가, 중합체의 점도가 25℃에서 2500 내지 500,000센티포이즈가 되도록 변화하는 조성물.
- 제1항에 있어서, R 및 R1이 탄소수 1 내지 8의 알킬 라디칼, 아릴 라디칼, 비닐 라디칼, 및 탄소수 3 내지 8의 할로겐화 탄화수소 라디칼중에서 선택되는 조성물.
- 제1항에 있어서, R이 비닐이고, R1이 메틸, 페닐, 및 3,3,3-트리플루오로프로필중에서 선택되는 조성물.
- 제1항에 있어서, 5 내지 30중량부의 성분(b)을 함유하는 조성물.
- 제1항에 있어서, 하이드라이드 폴리실옥산의 점도가 25℃에서 약 5 내지 500센티포이즈인 조성물.
- 제1항에 있어서, 하이드록실 공급원이 물, 및 물과 유기알콜 또는 하이드록실화 실옥산과의 혼하물중에서 선택되는 조성물.
- 제1항에 있어서, 하이드록실 공급원이 하이드록실화 실옥산, 및 하이드록실화 실옥산과 물 또는 유기 알콜과의 혼합물중에서 선택되는 조성물.
- 제1항에 있어서, 하이드록실화 실옥산이 분자당 평균 1 내지 2.5개의 규소-결합된 하이드록실 라디칼을 갖는 조성물.
- 제1항에 있어서, 유기 알콜이 치환되거나 비치환된 탄소수 1 내지 12의 알콜인 조성물.
- 제1항에 있어서, 유기 알콜이 에탄올, 프로판올, 부탄올, 라우릴 알콜, 옥틸 알콜, 및 에틸렌 글리콜중에서 선택되는 조성물.
- 제1항에 있어서, 하이드라이드 라디칼에 대한 하이드록실 라디칼의 비가 0.02/1 내지 1/1인 조성물.
- 제1항에 있어서, 처리된 충진제가 1 내지 2000ppm의 가시(visible)질소를 함유하는 조성물.
- 제1항에 있어서, 처리된 충진제가 25 내지 250ppm의 가시 질소를 함유하는 조성물.
- 제1항에 있어서, 처리된 충진제의 가시 질소 함량이 실리콘 중합체 함량을 기준으로 하여 약0.1 내지 약7.0ppm(중량기준)의 범위인 조성물.
- 제1항에 있어서, 처리된 충진제의 가시 질소 함량이 실리콘 중합체 함량을 기준으로 하여 약0.2 내지 약5.0ppm(중량기준)의 범위인 조성물.
- 제1항에 있어서, 처리된 충진제의 가시 질소 함량이 백금 금속에 대해 중량비 약0.003/1 내지 0.180/1의 범위인 조성물.
- 제10항에 있어서, 처리된 충진제의 가시 질소 함량이 백금 금속에 대해 중량비 0.006 내지 0.12의 범위인 조성물.
- 제1항에 있어서, 충진제가 하기 일반식의 아민으로 처리된 조성물.상기식에서, R4는 수소, 하이드록실, 치환되거나 비치환된 탄소수 1 내지 18의 알킬, 치환되거나 비치환된 탄소수 1 내지 18의 아릴, 및 치환되거나 비치환된 실릴 중에서 선택된다.
- 제20항에 있어서, 충진제가 아민으로 열처리된 조성물.
- 제21항에 있어서, 열처리가 100 내지 200℃에서 24시간 이하동안 수행되는 조성물.
- 제20항에 있어서, 최대로 하나의 R4가 하이드록시이고, 적어도 하나의 R5가 치환된 탄소수 1 내지 18의 알킬, 치환되거나 비치환된 탄소수 1 내지 18의 아릴, 및 치환되거나 비치환된 실릴중에서 선택되는 조성물.
- 제20항에 있어서, 치환되거나 비치환된 실릴에 치환되거나 비치환된 실릴 탄화수소인 조성물.
- 제20항에 있어서, 아민 화합물이 디에틸 하이드록실아민, 이소프로필아민, 헥사메틸디실라잔, 및 트리에탄올아민중에서 선택되는 조성물.
- (a) 일반식(1)의 비닐-함유 폴리실옥산 (여기에서, 이 중합체는 비닐 함량이 0.0002 내지 3중량%이다) 100중량부, (b) 일반식(2)의 하이드라이드 폴리실옥산(여기에서, 하이드라이드 폴리실옥산은 수소함량이 0.3 내지 1.6중량%이다) 1 내지 50중량부, (c) 성분(b)의 규소-결합된 수소원자에 대한 하이드록실 라디칼의 몰비가 약 0.02/1 내지 약 5/1이 되도록 하는 양의, 물, 유기 알콜, 하이드록실화 실옥산, 및 이의 혼합물중에서 선택된 하이드록실 공급원, (d) 백금 촉매 약 1 내지 약 250ppm, 및 (e) 가시 질소 함량이 실리콘 중합체를 기준으로 하여 약 0.1 내지 7.0ppm(중량기준)의 범위가 되도록 하는 양의, 표면상에 가시 질소를 함유하는 처리된 충진제를 함유함을 특징으로 하는 발포성 조성물.상기식에서, R 및 R1은 치환되거나 비치환된 탄소수 1 내지 20의 탄화수소 라디칼중에서 선택되고; R2는 각각, 수소, 탄소수 1 내지 8의 알킬 라디칼, 탄소수 1 내지 8의 아릴 라디칼, 탄소수 3 내지 8의 할로알킬 라디칼, 및 동시에 사이클릭 중합체를 형성하는 하나의 -O-중에서 선택되며; R3은 탄소수 1 내지 8의 알킬 라디칼, 탄소수 1 내지 8의 아릴 라디칼, 및 탄소수 3 내지 8의 플루오로 알킬 라디칼중에서 선택되고; X는 중합체의 점도가 25℃에서 100 내지 1,000,000센티포이즈가 되도록 변화하며; Y 및 Z는 중합체의 점도가 25℃에서 1 내지 500센티포이즈가 되도록 변화한다.
- 제1항에 있어서, 가시 질소 함량이 약 0.2 내지 약 5.0(중량기준)의 범위인 조성물.
- 제26항에 있어서, 처리된 충진제가 1 내지 2000ppm의 가시 질소를 함유하는 조성물.
- 제26항에 있어서, 처리된 충진제가 25 내지 250ppm의 가시 질소를 함유하는 조성물.
- 제26항에 있어서, 충진제가 하기 일반식의 아민으로 처리된 조성물.상기식에서, R4는 수소, 하이드록실, 치환되거나 비치환된 탄소수 1 내지 18의 알킬, 치환되거나 비치환된 탄소수 1 내지 18의 아릴, 및 치환되거나 비치환된 실릴 중에서 선택된다.
- 제30항에 있어서, 충진제가 아민으로 열처리된 조성물.
- 제31항에 있어서, 열처리가 100 내지 200℃에서 24시간 이하 동안 수행되는 조성물.
- 제30항에 있어서, 최대로 하나의 R4가 하이드록시이고, 적어도 하나의 R4가 최환된 탄소수 1 내지 18의 알킬, 치환되거나 비치환된 탄소수 1 내지 18의 아릴, 및 치환되거나 비치환된 실릴중에서 선택되는 조성물.
- 제30항에 있어서, 치환되거나 비치환된 실릴이 치환되거나 비치환된 실릴 탄화수소인 조성물.
- 제30항에 있어서, 아민 화합물이 디에틸 하이드록실아민, 이소프로필아민, 헥사메틸디실라잔, 및 트리에탄올아민중에서 선택되는 성물.
- (a) 일반식(1)의 비닐-함유 폴리실옥산 (여기에서, 이 중합체는 비닐 함량이 0.0002 내지 3중량%이다) 100중량부, (b) 일반식(2)의 하이드라이드 폴리실옥산(여기에서, 하이드라이드 폴리실옥산은 수소함량이 0.3 내지 1.6중량%이다) 1 내지 50중량부, (c) 성분(b)의 규소-결합된 수소원자에 대한 하이드록실 라디칼의 몰비가 약 0.02/1 내지 약 5/1이 되도록 하는 양의, 물, 유기 알콜, 하이드록실화 실옥산, 및 이의 혼합물중에서 선택된 하이드록실 공급원, (d) 백금 촉매 약 1 내지 약 250ppm, 및 (e) 가시 질소 함량이 백금 금속에 대하여 중량비 약 0.003/1 내지 약 0.180/1의 범위가 되도록 하는 양의, 표면상에 가시 질소를 함유하는 처리된 충진제를 함유함을 특징으로 하는 발포성 조성물.상기식에서, R 및 R1은 치환되거나 비치환된 탄소수 1 내지 20의 탄화수소 라디칼중에서 선택되고; R2는 각각, 수소, 탄소수 1 내지 8의 알킬 라디칼, 탄소수 1 내지 8의 아릴 라디칼, 탄소수 3 내지 8의 할로알킬 라디칼, 및 동시에 사이클릭 중합체를 형성하는 하나의 -O-중에서 선택되며; R3은 탄소수 1 내지 8의 알킬 라디칼, 탄소수 1 내지 8의 아릴 라디칼, 및 탄소수 3 내지 8의 플루오로 알킬 라디칼중에서 선택도고; X는 중합체의 점도가 25℃에서 100 내지 1,000,000센티포이즈가 되도록 변화하며; Y 및 Z는 중합체의 점도가 25℃에서 1 내지 500센티포이즈가 되도록 변화한다.
- 제29항에 있어서, 가시 질소 함량이 백금 금속에 대해 중량이 약 0.006/1 내지 약 0.12/1의 범위인 발포성 조성물.
- 제36항에 있어서, 처리된 충진제가 1 내지 2000ppm의 가시 질소를 함유하는 조성물.
- 제36항에 있어서, 처리된 충진제가 25 내지 250ppm의 가시 질소를 함유하는 조성물.
- 제36항에 있어서, 충진제가 하기 일반식의 아민으로 처리된 조성물.상기식에서, R4는 수소, 하이드록실, 치환되거나 비치환된 탄소수 1 내지 18의 알킬, 치환되거나 비치환된 탄소수 1 내지 18의 아릴, 및 치환되거나 비치환된 실릴 중에서 선택된다.
- 제40항에 있어서, 충진제가 아민으로 열처리된 조성물.
- 제41항에 있어서, 열처리가 100 내지 200℃에서 24시간 이하동안 수행되는 조성물.
- 제40항에 있어서, 최대로 하나의 R4가 하이드록시이고, 적어도 하나의 R4가 탄소수 1 내지 18의 치환된 알킬, 탄소수 1 내지 18의 치환되거나 비치환된 아릴 및 치환되거나 비치환된 실릴중에서 선택되는 조성물.
- 제40항에 있어서, 치환되거나 비치환된 실릴이 치환되거나 비치환된 실릴 탄화수소인 조성물.
- 제40항에 있어서, 아민 화합물이 디에틸 하이드록실아민, 이소프로필아민, 헥사메틸디실라잔, 및 트리에탄올아민중에서 선택되는 성물.
- 필수적으로, (a) 일반식(1)의 비닐-함유 폴리실옥산 (여기에서, 이 중합체는 비닐 함량이 0.0002 내지 3중량%이다) 100중량부, (b) 일반식(2)의 하이드라이드 폴리실옥산(여기에서, 하이드라이드 폴리실옥산은 수소함량이 0.3 내지 1.6중량%이다) 1 내지 50중량부, (c) 성분(b)의 규소-결합된 수소원자에 대한 하이드록실 라디칼의 몰비가 약 0.02/1 내지 약 5/1이 되도록 하는 양의, 물, 유기 알콜, 하이드록실화 실옥산, 및 이의 혼합물중에서 선택된 하이드록실 공급원, (d) 백금 촉매 약 1 내지 약 250ppm, 및 (e) 표면상에 충분한 질소를 함유하여 발포체 밀도를 저하시키는 표면-처리된 충진제 충분량으로 이루어진 발포성 조성물.상기식에서, R 및 R1은 치환되거나 비치환된 탄소수 1 내지 20의 탄화수소 라디칼중에서 선택되고; R2는 각각, 수소, 탄소수 1 내지 8의 알킬 라디칼, 탄소수 1 내지 8의 아릴 라디칼, 탄소수 3 내지 8의 할로알킬 라디칼, 및 동시에 사이클릭 중합체를 형성하는 하나의 -O-중에서 선택되며; R3은 탄소수 1 내지 8의 알킬 라디칼, 탄소수 1 내지 8의 아릴 라디칼, 및 탄소수 3 내지 8의 플루오로 알킬 라디칼중에서 선택되고; X는 중합체의 점도가 25℃에서 100 내지 1,000,000센티포이즈가 되도록 변화하며; Y 및 Z는 중합체의 점도가 25℃에서 1 내지 500센티포이즈가 되도록 변화한다.
- 필수적으로, (a) 일반식(1)의 비닐-함유 폴리실옥산 (여기에서, 이 중합체는 비닐 함량이 0.0002 내지 3중량%이다) 100중량부, (b) 일반식(2)의 하이드라이드 폴리실옥산(여기에서, 하이드라이드 폴리실옥산은 수소함량이 0.3 내지 1.6중량%이다) 1 내지 50중량부, (c) 성분(b)의 규소-결합된 수소원자에 대한 하이드록실 라디칼의 몰비가 약 0.02/1 내지 약 5/1이 되도록 하는 양의, 물, 유기 알콜, 하이드록실화 실옥산, 및 이의 혼합물중에서 선택된 하이드록실 공급원, (d) 백금 촉매 약 1 내지 약 250ppm, 및 (e) 가시 질소 함량이 실리콘 중합체를 기준으로 하여 약0.1 내지 7.0ppm(중량기준)의 범위가 되도록 하는 양의, 표면상에 가시 질소를 함유하는 처리된 충진제로 이루어진 발포성 조성물.상기식에서, R 및 R1은 치환되거나 비치환된 탄소수 1 내지 20의 탄화수소 라디칼중에서 선택되고; R2는 각각, 수소, 탄소수 1 내지 8의 알킬 라디칼, 탄소수 1 내지 8의 아릴 라디칼, 탄소수 3 내지 8의 할로알킬 라디칼, 및 동시에 사이클릭 중합체를 형성하는 하나의 -O-중에서 선택되며; R3은 탄소수 1 내지 8의 알킬 라디칼, 탄소수 1 내지 8의 아릴 라디칼, 및 탄소수 3 내지 8의 플루오로 알킬 라디칼중에서 선택되고; X는 중합체의 점도가 25℃에서 100 내지 1,000,000센티포이즈가 되도록 변화하며; Y 및 Z는 중합체의 점도가 25℃에서 내지 센티포이즈가 되도록 변화한다.
- 필수적으로, (a) 일반식(1)의 비닐-함유 폴리실옥산 (여기에서, 이 중합체는 비닐 함량이 0.0002 내지 3중량%이다) 100중량부, (b) 일반식(2)의 하이드라이드 폴리실옥산(여기에서, 하이드라이드 폴리실옥산은 수소함량이 0.3 내지 1.6중량%이다) 1 내지 50중량부, (c) 성분(b)의 규소-결합된 수소원자에 대한 하이드록실 라디칼의 몰비가 약 0.02/1 내지 약 5/1이 되도록 하는 양의, 물, 유기 알콜, 하이드록실화 실옥산, 및 이의 혼합물중에서 선택된 하이드록실 공급원, (d) 백금 촉매 약 1 내지 약 250ppm, 및 (e) 가시 질소 함량이 백금 금속에 대하여 중량비 약 0.003/1 내지 약 0.180/1의 범위가 되도록 하는 양의, 표면상에 가시 질소를 함유하는 처리된 충진제를 함유하는 처리된 충진제로 이루어진 발포성 조성물.상기식에서, R 및 R1은 치환되거나 비치환된 탄소수 1 내지 20의 탄화수소 라디칼중에서 선택되고; R2는 각각, 수소, 탄소수 1 내지 8의 알킬 라디칼, 탄소수 1 내지 8의 아릴 라디칼, 탄소수 3 내지 8의 할로알킬 라디칼, 및 동시에 사이클릭 중합체를 형성하는 하나의 -O-중에서 선택되며; R3은 탄소수 1 내지 8의 알킬 라디칼, 탄소수 1 내지 8의 아릴 라디칼, 및 탄소수 3 내지 8의 플루오로 알킬 라디칼중에서 선택되고; X는 중합체의 점도가 25℃에서 100 내지 1,000,000센티포이즈가 되도록 변화하며; Y 및 Z는 중합체의 점도가 25℃에서 1 내지 500센티포이즈가 되도록 변화한다.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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