KR880006195A - 불포화 포스폰산 및 이의 유도체 - Google Patents

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KR880006195A
KR880006195A KR870013064A KR870013064A KR880006195A KR 880006195 A KR880006195 A KR 880006195A KR 870013064 A KR870013064 A KR 870013064A KR 870013064 A KR870013064 A KR 870013064A KR 880006195 A KR880006195 A KR 880006195A
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허치슨 알랜제이.
알 쇼우 케네드
에이 슈나이더 죠세프
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아놀드 자일러, 에른스트 알테르
시바-가이기 에이지
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Abstract

내용 없음

Description

불포화 포스폰산 및 이의 유도체
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (34)

  1. 하기 일반식(I)의 화합물 또는 이의 염.
    상기식에서,
    포스폰산 잔기의 산성 하이드록시 그룹중 하나 또는 둘다는 에테르화될 수 있으며, m은 1또는 0을 나타내고, R1은 카복사, 에스테르화 카복시 또는 아미드화 카복시이며, 5-또는 5-원 헤테로 사이클릭 환은탄소 및/또는 질소상에서 추가로 치환될 수 있거나, 탄소-탄소 이중 결합이 존재할 수 있거나, 또는 인접한 탄소원자 상에서 6-원 카보사이클릭 환과 융합될 수 있으며,
    A는 저급 알케닐렌을 나타낸다.
  2. 제1항에 있어서, 헤테로 사이클릭 환시스템이 치환체 R1과 함께 , 임의로 치환된 2-카복시피롤리디닐, 2-카복시-2,5-디하이드로피로릴, 2-카복시-1,2,3,6-테트라하이드로피리디닐, 2-카복시-1,2,5,6-테트라하이드로 피리디닐, 2-카복시피페리디닐, 2-카복시테트라하이드로 퀴놀리닐, 2-카복시퍼하이드로퀴놀리닐, 2-카복시-2,3-디하이드로인돌릴 또는 2-카복시퍼하이드로 인돌릴(여기에서 카복시는 에스테르화 되거나 아미드화될 수 있다)을 나타내는 일반식(I)의 화합물 또는 이의 염.
  3. 제1항에 있어서, 하기 일반식(Ⅱ)의 화합물, 또는 피페리디닐 환의 C-3과 C-4 또는 C-4와 C-5사이에 이중결합이 존재하느 일반식(Ⅱ)의 화합물, 또는 이들의 염.
    상기식에서,
    포스포노 함유 쇄는 피페리디닐 또는 테트라하이드로 피리디닐한의 3-, 4-, 또는 5-위치에 결합되며, R 및 R´는 독립적으로 수소, 저급알킬, 벤질, 페닐 상에서 할로겐, 저급 알킬 또는 저급 알콕시에 의해 치환된 벤질, 저급 알카노일옥시메틸, 옥시 메틸상에서 저급 알틸에 의해 치환된 저급 알카노일옥시메틸, 또는 사이클로 알킬을 나타내고, R1은 카복시 또는 약제학적으로 허용되는 에스테르화 또는 아미드화 카복시를 나타내며, R2는 수소, 저급알킬, 아릴-저급알킬, 또는 아실을 나타내고, R3는 수소, 저급알킬, 또는 아릴-저급알킬을 나타내며, A는 저급 알케닐렌을 나타낸다.
  4. 제3항에서, R 및 R´이 독립적으로 수소, 저급알킬, 벤질, 저급알카노일옥시메틸, 옥시메틸상에서 저급알킬에 의해 치환된 저급알카노일옥시메틸, 사이클로 헥실 또는 사이클로펜틸을 나타내며, R1이 카복시, 카바모일, 또느 본 명세서에서 정의한 바와 같은 약제학적으로 허용되는 에스테르와 카복시를 나타내고, R2및 R3가 수소 도는 저급 알킬을 나타내며, A가 탄소수 2내지 4의 알케닐렌을 나타내는 일반식(Ⅱ)의 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염.
  5. 제3항에 있어서, R 및 R´가 독립적으로 수소, 저급 알카노일옥시메틸, 또는 옥시메틸상에서 저급 알킬에 의해 치환된 저급 알카노일옥시메틸을 나타내며, R1이 카복시, 카바모일, 저급 알콕시카보닐, 저급알카노일 옥시메톡시카보닐, 디-저급 알킬아미노 직쇄 C2-4-알콕시카보닐 또는 피리딜 메톡시카보닐을 나타내고, R2및 R3가 수소를 나타내며, A가 4위치에 결합되고 포스포노 그룹에 인접한 이중결합을 함유하는 탄소수 3또는 4의 알케닐렌을 나타내는 일반식(Ⅱ)의 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염.
  6. 제3항에 있어서, 하기 일반식(Ⅲ)의 화합물, 또는 염-형성 작용그룹을 갖는 언급한 화합물의 약제학적으로 허용되는 염.
    상기식에서,
    A는 1,3-프로페닐렌, 바람직하게는 포스포노그룹에 인접한 이중결합을 함유하는 1,3-프로페닐렌을 나타내며,
    R1은 카복시 또는 본 명세서에서 정의한 바와 같은 약제학적으로 허용되는 에스테르화 카복시를 나타낸다.
  7. 제6항에 있어서, 4-[1-(3-포스포노프로프-2-엔일)]피페리딘-2-카복실산인 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염.
  8. 제6항에 있어서, 4-[1-(3-포스포노프로프-1-엔일)]피페리딘-2-카복실산인 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염.
  9. 제1항에 있어서, 하기 일반식(Ⅳ)의 화합물 또는 이의 퍼하이드로 유도체, 또는 이들의 염.
    상기식에서,
    R및 R´는 독립적으로 수소, 저급알킬, 벤질, 페닐 상에서 할로겐, 저급알킬 또는 저급알콕시에 의해 치환된 벤질, 저급 알카노일옥시메틸, 옥시 메틸상에서 저급알킬에 의해 치환된 저급 알카노일 옥시메틸, 또는 사이클로 알킬을 나타내며, R1은 카복시 또는 약제학적으로 허용되는 에스테르화 또는 아미드화 카복시를 나타내고, R2는 수소, 저급알킬, 아릴-저급알킬, 또는 아실을 나타내며, R4는 수소, 저급알킬, 저급알콕시, 할로겐 또는 트로플루오로 메틸을 나타내고, A는 저급 알케닐렌을 나타낸다.
  10. 제9항에 있어서, 일반식(Ⅴ)의 화합물 또는 이의 퍼하이드로 퀴놀린 유도체, 또는 염-형성 작용그룹을 갖는 언급한 화합물의 약제학적으로 허용되는 염.
    상기식에서,
    A는 포스포노그룹에 인접한 이중결합을 갖는 1,3-프로페닐렌을 나타내며, R1은 카복시 또는 본 명세서에서 정의한 바와 같은 약제학적으로 허용되는 에스테르화 카복시를 나타낸다.
  11. 제1항에 있어서, 하기 일반식(Ⅳ)의 화합물, 또는 피롤리디닐 환의 C-3과 C-4사이에 이중 결합을 갖는 일반식(Ⅳ)의 화합물, 또는 이들의 염.
    상기식에서,
    R 및 R´는 독립적으로 수소, 저급알킬, 벤질, 페닐 상에서 할로겐, 저급알킬 또는 저급알콕시에 의해 치환된 벤질, 저급 알카노일 옥시메틸, 옥시 메틸상에서 저급 알킬에 의해 치환된 저급 알카노일 옥시메틸, 또는 사이클로 알킬을 나타내며, R1은 카복시 또는 약제학적으로 허용되는 에스테르화 또는 아미드화 카복시를 나타내며, R2는 수소, 저급알킬 또는 아실을 나타내고 R3는 수소, 저급알킬 또는 아릴-저급 알킬을 나타내며, A는 저급 알케닐렌을 나타낸다.
  12. 제11항에 있어서, 포스포노 함유 그룹이 3-위치에 결합되며, R 및 R´가 수소를 나타내며, R´이 카복시, 저급 알콕시카보닐, 저급 알카노일옥시메톡시카보닐, 디저급알킬아미노 직쇄 C2-4-알콕시카보닐 또는 피리딜메톡시카보닐을 나타내고, R2및 R3가 수소를 나타내며, A가 포스포노 그룹에 인접한 이중결합을 갖는 1,3-프로페닐렌을 나타내는 일반식(Ⅵ)의 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염.
  13. 제11항에 있어서, 트랜스 3-[1-(4-포스포노부트-3-엔일)]-피롤리딘-2-카복실산인 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염.
  14. 제11항에 있어서, 트랜스 3-[1-(4-포스포노부트-2-엔일)]-피롤리딘-2-카복실산인 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염.
  15. 제1항 내지 제14항중 어느 하나에서 청구한 화합물로 이루어진 약제학적 조성물.
  16. 제1항 내지 제14항중 어느 하나에서 청구한 화합물을 약제학적으로 적합한 담체 하나 또는 그 이상과의 혼합물 또는 배합물의 형태로 함유하는 약제학적 조성물.
  17. 인체 및 동물을 치료하는 치료방법에서 사용하기 위한 제1항 내지 제14항중의 어느 하나에서 청구한 화합물.
  18. N-메틸-D-아스파르테이트(NMDA)감수성인 흥분성 아미노산 수용체의 길항제인 제1항 내지 제14항 중의 어느 하나에서 청구한 화합물.
  19. 약제학적 조성물을 제조하기 위한, 제1항 내지 제14항중의 어느 하나에서 청구한 화합물의 용도.
  20. N-메틸-D-아스파르테이트(NMDA) 감수성인 흥분성 아미노산 수용체의 길항제로서 적용하기 위한 약제학적 조성물을 제조하는 데 있어서의 제1항 내지 제14항 중의 어느 하나에서 청구한 화합물의 용도.
  21. 제1항 내지 제14항중의 어느 하나에서 청구한 화합물을 약제학적 담체로 후처리함을 특징으로 하여, 약제학적 조성물을 제조하는 방법.
  22. 제6항에 있어서, 시스 4-[1-(3-포스포노프로프-2-엔일)]-피페리딘-2-카복실산, 트랜스 4-[1-(3-포스포노프로프-2-엔일)]-피페리딘-2-카복실산, 시스 4[1-(3-포스포노프로프-1-엔일)]-피레리딘-2-카복실산 및 트랜스 4-[1-(3-프로포노프로프-1-엔일)]-피페리딘-2-카복실산으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 회합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염.
  23. 제11항에 있어서 시스 3-[1-(4-포스포노부트-3-엔일)]-피롤리딘-2-카복실산인 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염.
  24. 제22항 또는 제23항에서 청구한 화합물로 이루어진 약제학적 조성물.
  25. 제22항 또는 제23항에서 청구한 화합물을 약제학적으로 적합한 담체 또는 그 이상과의 혼합물 또는 배합물의 형태로 함유하는 약제학적 조성물.
  26. 인체 및 동물을 치료하는 치료방법에서 사용하기 위한, 제22항 또는 제23항에서 청구한 화합물.
  27. N-메틸-D-아스파르테이트(NMDA)감수성인 흥분성 아미노산 수용체의 길항제로서의 제22항 또는 제 23항에서 청구한 화합물.
  28. 약제학적 조성물을 제조하기 위한 제22항 또는 제23항에서 청구한 화합물의 용도.
  29. N-메틸-D-아스파르테이트(NMDA)감수성인 흥분성 아미노산 수용체의 길항제로서 적용하기 위한 약제학적 조성물을 제조하는 데 있어서의 제22항 또는 제23항에 청구한 화합물의 용도.
  30. 제22항 또는 제23항에서 청구한 화합물을 약제학적 담체로 후처리함을 특징으로 하여, 약제학적 조성물을 제조하는 방법.
  31. 일반식(Ⅷ)의 알데하이드 또는 케톤(단, R1및 아미노 그룹은 보호된 형태로 존재한다)을 염기성 조건 하에서 메틸렌디포스폰산의 테트라 에스테르 유도체와 축합시키고, 필요한 경우 생성된 생성물을 탈보호시켜 그룹 A 내의 이중결합이 포스포노 그룹에 인접해 있는 일반식(I)의 화합물을 수득하거나;
    일반식(Ⅷ)의 화합물을, 포스폰사잔기를 도입 시킬 수 있는 일반식(Ⅸ) 또는 (Ⅹ)의 화합물과 축합시키고, 필요한 경우 생성된 포스폰산 유도체를 포스폰산 또는 이의 다른 에스테르 유도체로 전환시키거나, 또는 다른 부분에서 본 발명의 화합물과 동일한 화합물에서 헤테로 사이클릭 환의 2위치에 존재하는 R1이외의 치환체를 R1로 전환시킨 다음, 언급한 방법을 수행하되, 필요한 경우 이들 방법에서 방해하는 반응성 그룹(들)을 일시적으로 보호한 다음, 생성된 본 발명의 화합물을 유리시키고, 필요한 경우 생성된 본 발명의 화합물을 본 발명의 다른 화합물로 전화 시키고/시키거나, 필요한 경우 생성된 유리 화합물을 염으로 전환시키거나 생성된 염을 유리 화합물 또는 다른 염으로 전화시키고/시키거나, 수득된 이성체 또는 라세미체의 혼합물을 단일 이성체 또는 라세미체로 분리하고/하거나 필요한 경우 수득된 라세미체를 광학적 대장체로 분할시킴을 특징으로 하여, 제1항에서 청구한 일반식(I)의 화합물 또는 이의 염을 제조하는 방법.
    상기식에서,
    일반식(I)의 포스폰산 잔기의 산성 하이드록시그룹중 하나 또는 둘다는 에테르화돌 수있으며, m은 1 또는 0을 나타내고, R1은 카복시, 에스테르화 카복시 또는 아미드화 카복시이며, 5-또는 6-원헤테로 사이클릭 환은 탄소 및/또는 질소상에서 추가로 치환될 수 있거나, 탄소-탄소 이중결합이 존재할 수 있거나, 또는 인접한 탄소 원자 상에서 6-원 카보 사이클릭 환과 융합될 수 있으며, A는 저급알케닐렌을 나타내며, A´는 알케닐렌 그룹 A보다 탄소수 1이 적은 옥소치환된 저급 알킬을 나타내고, X는 반응성 에스테르화 하이드록시를 나타내며, R˝는 저급알킬을 나타내고,R˝´는 할로겐 또는 저급알콕시를 나타낸다.
  32. 제31항에 따라 수득될 수 있는 화합물.
  33. 제31항에 있어서, R 및 R´가 저급알킬, 벤질, 페닐상에서 할로겐, 저급알킬 또는 저급알콕시에 의해 치환된 벤질, 저급알카노일옥시케닐, 옥시케닐상에서 저급알킬에 의해 치환된 저급알카노일옥시메틸, 또는 사이클로알킬을 나타내며, R1이 약제학적으로 허용되는 에스테르화 또는 아미드화 카복시를 나타내고, R2가 아실을 아타내는 일반식(Ⅱ), (Ⅳ) 또는 (Ⅵ)의 화합물을 무기산 또는 수성 알칼리로 처리하여, 각각 R 및 R´가 수소이며, R1이 카복시이고, R2가 수소인 일반식(Ⅱ), (Ⅳ) 또는 (Ⅵ)의 화합물로 전환시킴을 특징으로 하는 방법.
  34. 제33항에 있어서, R 및 R´가 저급알킬을 나타내며, R1및 R2가 저급알콕시카보닐을 나타내는 일반식(Ⅱ), (Ⅳ) 또는 (Ⅵ)의 화합물을 무기산 또는 수성 알칼리로 처리하여, 각각, R 및 R´가 수소이며, R1이 카복시이고 R2가 수소인 일반식(Ⅱ), (Ⅳ) 또는 (Ⅵ)의 화합물로 전환시킴을 특징으로 하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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