KR860000312A - 시알산 유도체, 갈락토스 유도체 및 그 제조방법 - Google Patents

시알산 유도체, 갈락토스 유도체 및 그 제조방법 Download PDF

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Abstract

내용 없음

Description

시알산 유도체, 갈락토스 유도체 및 그 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (29)

  1. 다음 일반식의 시알산 유도체 :
    식중, R1은 수소원자 또는 아세틸기를 나타내고, R2및 R3의 하나는 -COOR4(R4는 수소원자, 나트륨 또는 칼륨과 같은 알카리금속, 칼슘과 같은 알카리 토금속 또는 메틸기를 나타낸다)를 나타내고, R2및 R3의 다른 하나는
    {식중, R5는 수소원자, 아세틸기 또는 벤질기를 나타내고, R6는 수소원자 또는 아세틸기를 나타내고, R7은 수소원자, 아세틸기, 벤질기 또는
    를 나타내며, [식중 R8은 수소원자, 아세틸기 또는 벤질기를 나타내고, R9는 수소원자, 벤질기, 알릴기, 모노클로로아세틸기, -C(CCl3)=NH 또는
    을 나타내며, 식중 R10은 수소원자 또는 벤조일기를 나타낸다.)]} 또는 R2와 R3가 공동하여
    을 나타낸다.
    (식중 R1이 수소원자, R2가 COOH 그리고 R3가
    인 경우를 제외하고는 Bn은 벤질기이다.)
  2. 제1항에 있어서, 다음 일반식의 화합물 :
    식중, R1은 수소원자 또는 아세틸기, R2는 수소원자, 아세틸기 또는 벤질기, R3는 수소원자 또는 아세틸기, R4는 수소원자, 알릴기, 벤질기, 아세틸기 또는 모노클로로아세틸기 그리고 R5는 수소원자 알카리금속 또는 메틸기를 나타낸다.
  3. 제1항에 있어서, 다음 일반식의 화합물 :
    식중, R1은 수소원자 또는 아세틸기, R2는 수소원자, 아세틸기 또는 벤질기, R3는 수소원자 또는 아세틸기, R4는 수소원자, 알릴기, 벤질기, 아세틸기 또는 모노클로로아세틸기 그리고 R5는 수소원자, 알카리금속, 또는 메틸기를 나타낸다.
  4. 제1항에 있어서, 다음 일반식의 화합물 :
    식중, R1은 수소원자 또는 아세틸기, R2는 -C(CCl3)=NH 또는
    을 나타내며, (식중 R4는 수소원자 또는 벤조일기) 그리고 R3는 수소원자, 알카리금속 또는 메틸기를 나타낸다.
  5. 제1항에 있어서, 다음 일반식의 화합물 :
    식중, R1은 수소원자 또는 아세틸기, R2는 -C(CCl3)=NH 또는
    (식중, R4는 수소원자 또는 벤조일기)이고, R3는 수소원자, 알카리금속 또는 메틸기이다.
    (R2가
    이면 R1과 R3중 적어도 하나는 수소원자가 아닌 조건임)
  6. 제1항에 있어서, 다음 일반식의 화합물 :
    식중, R1은 수소원자 또는 아세틸기, R2는 수소원자, 아세틸기 또는 벤질기, R3는 수소원자, 아세틸기 또는 벤질기, R4는 수소원자, 벤질기 또는 아세틸기, R5는 수소원자, 알카리금속 또는 메틸기를 나타낸다.
  7. 제1항에 있어서, 다음 일반식의 화합물 :
    식중, R1은 수소원자 또는 아세틸기, R2는 수소원자, 아세틸기 또는 벤질기, R3은 수소원자, 아세틸기 또는 벤질기, R4는 수소원자, 벤질기 또는 아세틸기, R5는 수소원자, 알카리금속 또는 메틸기를 나타낸다.
  8. 다음 일반식으로 나타나는 갈락토스유도체 :
    식중, R1은 벤질기 또는
    이며, R1이 벤질기이면 R과 R2는 수소원자 또는 벤질기이고, R1이 벤질기가 아니면 R와 R2는 수소원자, 아세틸기 또는 벤질기이고, R3와 R4는 수소원자이며, R3는 R 또는 R4와 같이 이소프로필리덴을 합성할 수 있고, 또는 R5는 벤질기 또는 알릴기이며, R6는 수소원자, 아세틸기 또는 벤질기를 나타낸다.
  9. 제8항에 있어서, 다음 일반식의 화합물 :
    식중, R1은 알릴기 또는 벤질기, R2는 수소원자, 벤질기 또는 아세틸기, R3는 수소원자 또는 벤질기, R4는 수소원자, R5는 수소원자, 벤질기 또는 아세틸기를 나타내고, 혹은 R4는 R3또는 R5와 함께 이소프로필리덴을 형성할 수도 있다.
  10. 제8항에 있어서, 다음 일반식의 화합물 :
    식중, R1은 알릴기 또는 벤질기, 그리고 R2는 벤질기 또는 아세틸기를 나타낸다.
  11. 제8항에 있어서, 다음 일반식의 화합물 :
    식중, R1은 알릴기, R2는 벤질기를 나타낸다.
  12. 알릴 D-락토시드를 2,2-디메톡시프로판과 반응시켜 3',4'- 또는 4',6'-O-이소프로필리덴 유도체를 합성하고, 다시 브롬화벤질과 반응시켜 2,3,6,2',6'-또는 2,3,6,2',3'-펜타-O-벤질 유도체를 합성하며, 다시 초산-물 또는 트리훌루오로 초산-물과 같은 유기산-물과 같은 유기산-물과 반응시켜 이소프로필리덴기를 제거하여서 되는 다음 일반식의 화합물 제조방법;
    식중, R1은 알릴기, R2는 벤질기, R3는 수소원자 또는 벤질기, R3가 수소원자일 경우 R4는 벤질기, R3가 벤질기인 경우 R4는 수소원자를 나타낸다.
  13. 알릴 D-3',4'-O-이소프로필리덴-락토시드를 무수초산-피리딘과 반응시켜 2,3,6,2',6'-펜타-O-아세틸 유도체를 합성하고, 다시 트를플루오로 초산-물 또는 초산-물과 같은 유기산-물과 반응시켜 이소프로필리덴기를 제거하여서 되는 다음 일반식의 화합물 제조방법 :
    식중, R1은 알릴기, R2는 아세틸기를 나타낸다.
  14. 벤질 D-3',4'-이소프로필리덴 락토시드를 브롬화 벤질과 반응시켜 2,3,6,2',6'-펜타-O-벤질 유도체를 합성하고, 다시 초산-물 또는 트리플루오로 초산-물과 같은 유기산-물과 반응시켜 이소프로필리덴기를 제거하여서 되는 다음 일반식의 화합물 제조방법.
    식중, R1은 벤질기를 나타낸다.
  15. 벤질 D-갈락토시드를 2,2-디메톡시프로판과 반응시켜 3,4-O-이소프로필리덴 유도체를 합성하고, 다시 브롬화 벤질과 반응시켜 2,6-di-O-벤질을 합성하고, 다시 초산-물 또는 트리플루오로 초산-물과 같은 유기산-물과 반응시켜 이소프로필리덴기를 제거하여서 되는 벤질 D-2,6-di-O-벤질갈락토시드의 제조방법.
  16. 다음 일반식의 화합물을 :
    (식중, R은 아세틸기, MCA는 모노클로로아세틸기를 나타낸다.)
    티오우레아와 알칼리금속 아세테이트와 반응시켜서 되는 다음 일반식의 화합물의 제조방법 :
    (식중, R은 아세틸기를 나타낸다.)
  17. 다음 일반식의 화합물을 :
    (식중, R은 아세틸기)
    수소화나트륨과 같은 수소화 금속의 존재하에서 트리클로로아세토니트릴과 반응시켜서 되는 다음 일반식의 화합물의 제조방법.
    (식중, R은 아세틸기)
  18. 다음 일반식의 화합물을 :
    (식중, R은 아세틸기, R1은 알릴기를 나타낸다.)
    초산나트륨과 PdCl2와 같은 알카리금속 아세테이트와 반응시켜서 되는 다음 일반식의 화합물의 제조방법.
    (식중, R은 아세틸기를 나타낸다.)
  19. 다음 일반식의 화합물을 :
    (식중, R은 아세틸기를 나타낸다.)
    수산화나트륨과 같은 수산화 금속의 존재하게 트리클로로아세토니트릴과 반응시켜서 되는 다음 일반식의 화합물의 제조방법.
    (식중, R은 아세틸기를 나타낸다.)
  20. 다음 일반식의 화합물을 :
    (식중, R은 아세틸기)
    30℃ 내지 80℃에서 5 내지 30분동안 디메틸포름아미드와 같은 용매내에서 히드라지니움아세테이트와 반응시켜서 되는 다음 일반식의 화합물의 제조방법:
    (식중, R은 아세틸기)
  21. 제12항에 있어서의 방법에 의하여 제조된 화합물.
  22. 제13항에 있어서의 방법에 의하여 제조된 화합물.
  23. 제14항에 있어서의 방법에 의하여 제조된 화합물.
  24. 제15항에 있어서의 방법에 의하여 제조된 화합물.
  25. 제16항에 있어서의 방법에 의하여 제조된 화합물.
  26. 제17항에 있어서의 방법에 의하여 제조된 화합물.
  27. 제18항에 있어서의 방법에 의하여 제조된 화합물.
  28. 제19항에 있어서의 방법에 의하여 제조된 화합물.
  29. 제20항에 있어서의 방법에 의하여 제조된 화합물.
    ※ 참고사항 : 최초출원내용에 의하여 공개하는 것임.
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