KR850003991A - 양성 포토레지스트 - Google Patents

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Abstract

내용 없음

Description

양성 포토레지스트
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (30)

  1. (메트) 아크릴산(meth acrylic acid)의 에스테르로부터 형성되고, 다음 구조식을 갖는 최소 5중량%의 그루타리미드는,
    여기서 R1,R2및 R3는 각각 수소 혹은 치환된 혹은 치환되지 않은 알킬, 아릴, 아릴키(aralky) 혹은 1-20개의 탄소원자를 갖는 알카릴(alkaryl) 탄화수소이며, R3치환기의 최소 20중량%는 비수성 스핀닝용제(spinning solvent)내의 용해된 수소이며 포토레지스트는 수용액으로 현상가능한 것이다. 미리형성된 가교 결합되지 않은 포리그루타리미드 중합체를 포함하는 것을 특징으로하는 양성포토레지스트.
  2. 나아가 상기 비수성 스핀닝 용제내에 용해된 양성으로 작용하는 감광제(photosensitizer)를 포함하는 것을 특징으로 하는 청구범위 1의 양성 포토레지스트.
  3. 약 5-30중량%의 가교결합되지 않은 포리그루타리미드와 약 95-70중량%의 비수성, 스핀닝용제를 포함하는 것을 특징으로하는 청구범위 1의 양성 포토레지스트.
  4. 약 10-20중량%의 가교결합되지 않은 포리그루타리미드와 약 90-80중량%의 비수성, 스핀닝 용매를 포함하는 것을 특징으로하는 청구범위 3의 양성 포토레지스트.
  5. 상기 감광제의 농도는 상기 이미형성된, 가교 결합되지 않은 포리그루타리미드의 중량을 기준으로 약 5-30중량%인 것을 특징으로 하는 청구범위 2의 양성 포토레지스트.
  6. 상기 감광제는 디아조옥사이드 및 비스(0-니트로벤질)-1,7헵탄 디오에이트(bis(O-nitrodenzyl)-1,7heptane dioate)를 구성하는 그룹에서 선택된 것을 특징으로 하는 청구범위 2의 양성 포토레지스트.
  7. 포리그루타리미드는 질소에 대한 탄소의 원자비가 최소 8이며, 최소 140℃의 유리질 전이온도를 갖는 것을 특징으로 하는 청구범위 1의 양성 포토레지스트.
  8. 상기 이미형성된 포리그루타리미드는 포리메칠 메타크리테이트 중합체를 암모니아로써 이미드화함으로써 형성된 것을 특징으로하는 청구범위 1의 양성 포토레지스트.
  9. 상기 이미형성된 포리그루타리미드는 포리메칠 메타크리레이트중 중합체를 최소 20중량% 암모니아 및 최소하나의 알킬라민을 포함하는 혼합된 반응물 시스템으로 이미드화 함으로써 형성됨을 특징으로하는 청구범위 8의 포토레지스트.
  10. 비수성 스핀닝용매가, 아미드, 극성의 반양자성(aprotic)용제; 하이드록시릭, 극성의, 프로톤용제; 극성의, 반양자성, 케톤용제 : 작은 사슬의, 극성의 카복실산 : 및 극성의, 염기성, 에테르 : 로 구성된 그룹에서 선택된 비스핀닝용제(non-spinning solvent)중 하나 혹은 그이상 또는 이들의 혼합물과 결합된, 아세틸아세톤 : 1-메톡시-2-프로판올 : 사이크로헥산 : 크로로벤젠 : 에칠렌그리콜 모노에칠에테르 아세테이트 크시렌 및 부칠아세테이트의 혼합물 : 크시렌, 토루엔 : 부틸아세테이트 : 1,2-디메톡시에탄 및 에치렌그리콜 모노메칠에테르로 이루어지는 그룹으로부터 선택된 포리그루타리미드에 대한 비 용매(non-solvent)를 포함하는 것을 특징으로 하는 청구범위 1의 양성 포토레지스트.
  11. 감광제(photosensitizer)의 근방, 중앙 혹은 심층자외선을 흡수하는 것을 특징으로 하는 청구범위 2의 포토레지스트.
  12. 약 1마이크로메터의 두께를 가진 접착력 있는, 균일한, 수성염기 현상 가능한 필름을 포함하는 청구범위 1 혹은 2의 표면(surface).
  13. 약 0.5마이크로메터-3.0마이크로메터의 두께를 가지는 것을 특징으로 하는 청구범위 12의 표면필름.
  14. 평면화층(planarizing layer)으로써 청구범위 1의 포토레지스트 및 상기 평면화층상에 영상화 될 수 있는 최소하나의 다른 층을 포함하는 것을 특징으로하는 다층 포토레지스트(a multilayer photo layer).
  15. 상기 평면화층상에 침적된 평면화층 및 부근층은 계면 부유물(interfacial acum)을 형성하지 않는 것을 특징으로 하는 청구범위 14의 다층 포토레지스트.
  16. 약 140℃-240℃의 온도에 열저항성이 있는 것을 특징으로 하는 청구범위 1의 포토레지스트.
  17. 반응성 이온 부식(reactive ion etching)에 저항적인 것을 특징으로하는 청구범위 1의 포토레지스트.
  18. 청구범위 1의 포토레지스트로부터 상기 표면상에 양성으로 작용하는 필름을 침적하는 공정, 현상액 내에서 상기 포리그루타리미드의 용해률을 증가시키는 에너지원에 상기필름의 일부분을 노출하는 공정 및 영상을 만들기 위하여 상기 현상액으로써 상기 필름의 노출부분을 현상시키는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 표면에 영상을 만들기 위한 공정.
  19. 상기 필름은 청구범위 2의 상기 포토레지스트로부터 침적된 것을 특징으로하는 청구범위 18의 공정.
  20. 상기 에너지원은 자외선, e-빔, 이온빔 및 X-선으로 구성된 그룹에서 선택된는 것을 특징으로 하는 청구범위 18의 공정.
  21. 나아가 상기필름을 상기 에너지원에 노출하기전에 연조사(soft baking)을 하는 것을 특징으로하는 청구범위 18의 공정.
  22. 2차표면을 형성하는 상기표면상에 접착성 있는 평면화필름을 침적시키는 공정 및, 이 평면화필름은 (메트)아크릴산의 에스테르로부터 형성되며, R1R2및 R3는 각각 수소 혹은 치환된 혹은 치환되지 않은 1-20개의 탄소원자를 가지는 알킬, 아랄키(aralky) 혹은 알카릴(alkaryl) 탄화수소를 나타내며, R3치환기의 최소 20중량%가 비수성 스핀닝 용제내에 용해된 수소인 다음 구조를 가지는 최소 5중량% 그루타리미드, 단위를 가지는 이미 형성된 가교결합되지 않은 포리그루타리미드 중합체를 포함한다.
    상기 2차 표면상에 영상화 될 수 있는 2차필름을 침적하는 공정 및 상기 2차필름의 일부분을 방사선원에 노출하는 공정 및 평면화필름상에 마스크를 만들기 위해 상기 2차필름의 노출된 부분을 현상하는 공정 및 상기마스크 및 평면화필름을 통하여 상기 2차 필름으로부터 상기 표면상에 영상을 전사시키는 공정으로 구성되는것을 특징으로 하는 표면상에 영상을 형성하기 위한 공정.
  23. 상기 2차필름은 양성으로 작용하는 포토레지스트를 포함하는 것을(특징으로 하는 청구범위 22의 공정).
  24. 상기 2차필름상에 형성된 영상이 반응이온부식을 사용하여 평면화 필름을 통하여 상기 표면상에 전사되는 것을 특징으로 하는청구범위 22의 공정.
  25. 상기 필름은 음성적으로 작용하는 포토레지스트인 것을 특징으로 하는 청구범위 22의 공정.
  26. 상기 평면화필름은 심층자외선에 노출되며 상기 2차필름상에 형성된 영상을 상기 표면상에 전사키기 위해 수성염기현상액을 사용하여 현상되는 것을 특징으로 하는 청구범위 23의공정.
  27. 상기 평면화 필름은 나아가 심층자외선에 감응하는 감광제를 포함하는 것을 특징으로하는 청구범위 26의 공정.
  28. 나아가 상기 평면화필름상에 최소하나의, 상기 평면화필름 및 상기 2차필름에 대한 중간체, 층을 첨가하며, 상기 중간층은 상기 2차필름상에 영상을 만드는데 사용된 상기 현상수단에 저항적이며, 상기중간층은 상기 평면화층을 통하여 상기 표면상에 상기 2차영상을 전사하기 위한 마스크를 형상하기 위하여 프라스마 혹은 습부식(wet etching)을 사용하여 2차 영상을 만들기 위하여 상기 2차 필름상에 형성된 상기 마스크를 통하여 현상되는 것을 특징으로 하는 청구범위 22의 공정.
  29. 상기 중간층상의 2차영상은 상기 중간층상에 형성된 상기 마스크를 통하여 상기 평면화층을 건부식(dryetching)하므로써 상기 표면상에 전사되는 것을 특징으로 하는 청구범위 22의 공정.
  30. 아미드, 극성의, 반양자성용매 : 수산성, 극성의 프로톤용매 : 극성의, 반양자성, 케톤용매 : 작은 사슬의, 극성카복실산 : 및 극성의 염기성 에테르로 구성되는 그룹으로부터 선택된 하나 혹은 그 이상의 비스피닝용제(non-spinning solients)혹은 이들의 혼합물과 결합하여, 아세틸아세톤 : 1-메톡시-2-프로판올 : 사이크로헥산 : 크로로벤젠 : 에칠렌 그리콜 모노에틸에테르아세테이트, 크시렌 및 부틸 아세테이트의 혼합물 : 크시렌 : 톨루엔 : 부틸아세테이트 : 1,2-디메톡시에탄 및 에칠렌그리콜모노-메틸에테르로 구성되는 그룹에서 선택된 포리그루타리미드에 대한 비용매를 포함하는 것을 특징으로 하는 청구범위 2의 포토레지스트의 스핀닝 용매.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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