KR20240035813A - 기판처리장치 - Google Patents

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KR20240035813A
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stage
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KR1020247003295A
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사토시 우시다
켄이치로 사이토
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다이킨 파인테크 가부시키가이샤
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Abstract

기판처리장치(A1)는, 기판(91)을 처리하기 위하여 처리액(92)을 모으는 것이 가능한 컵(1)과, 컵(1) 내를 연직방향으로 뻗는 승강축(31)을 따라서 승강 가능하게 된 스테이지(2)와, 스테이지(2) 상에 설치되어, 기판(91)을 재치하는 재치대(4)와, 재치대(4)에 대하여, 승강축(31)을 중심으로 하는 둘레방향(θ)을 따른 회동축(51) 둘레에 회동 가능하게 부착된 회동부재(5)를 포함한다. 회동부재(5)는, 회동축(51)보다도 직경방향(r)의 내측에 위치하는 유지부(52)와, 회동축(51)보다도 직경방향(r)의 외측에 위치하는 접촉부(53)를 구비한다. 스테이지(2)의 하강에 따라서, 접촉부(53)가 컵(1)에 접촉하는 것에 의해 회동부재(5)가 회동해서, 기판(91)을 사이에 끼워서 유지부(52)와 재치대(4)의 간격이 축소된다. 이러한 구성에 의해, 기판(91)을 대상으로 하는 처리에의 의도하지 않는 영향을 저감시킬 수 있다.

Description

기판처리장치
본 발명은 기판처리장치에 관한 것이다.
Si(실리콘)를 비롯한 반도체 등으로 이루어진 기판에 소정의 처리를 행하는 기판처리장치가 여러 가지 제안되어 있다. 특허문헌 1에는, 종래의 기판처리장치의 일례가 개시되어 있다. 상기 문헌에 개시된 기판처리장치는, 기판에 형성된 레지스트층과, 이 레지스트층 상에 적층된 금속층을 일괄해서 제거하는 리프트 오프 처리를 행하는 장치이다. 이 기판처리장치는 컵, 재치대(載置臺) 및 회동부재를 구비한다. 컵은 리프트 오프 처리를 행하기 위한 처리액을 모으는 것이다. 재치대는 컵 내에 배치되어 있고, 기판이 재치(載置)되는 것이다. 재치대는 컵에 대하여 승강 가능하게 되어 있다. 회동부재는 재치대에 대하여 회동 가능하게 지지되어 있다. 컵 내에는, 접촉부재가 설치되어 있다. 재치대에 기판이 놓인 상태로 하강하면, 회동부재가 접촉부재에 접촉한다. 이것에 의해, 회동부재가 회동하여, 재치대와 회동부재 사이에 기판이 유지된다.
JP 2017-147354 A
그러나, 접촉부재는, 컵 내의 처리액의 유동을 부당하게 교란시켜버릴 우려가 있다. 또는, 리프트 오프 처리에 의해서 제거된 레지스트층이나 금속층이, 접촉부재에 부착되어버리는 것이 염려된다. 이와 같이, 기판을 대상으로 하는 처리에 있어서, 접촉부재가 의도하지 않은 영향을 끼친다는 문제가 있었다.
본 발명은, 전술한 사정하에 생각해 낸 것으로, 기판을 대상으로 하는 처리에의 의도하지 않는 영향을 저감하는 것이 가능한 기판처리장치를 제공하는 것을 그 과제로 한다.
본 발명에 의해서 제공되는 기판처리장치는, 기판을 처리하기 위하여 처리액을 모으는 것이 가능한 컵과, 상기 컵 내를 연직방향으로 뻗는 승강축을 따라서 승강 가능하게 된 스테이지와, 상기 스테이지 상에 설치되어, 상기 기판을 재치하는 재치대와, 상기 재치대에 대하여, 상기 승강축을 중심으로 하는 둘레방향(周方向)을 따른 회동축 둘레에 회동 가능하게 부착된 회동부재를 포함하되, 상기 회동부재는, 상기 회동축보다도 직경방향의 내측에 위치하는 유지부와, 상기 회동축보다도 직경방향의 외측에 위치하는 접촉부를 구비하고, 상기 스테이지의 하강에 따라서, 상기 접촉부가 상기 컵에 접촉하는 것에 의해 상기 회동부재가 회동해서, 상기 기판을 사이에 끼워서 상기 유지부와 상기 재치대의 간격이 축소된다.
본 발명의 바람직한 실시형태에 있어서는, 상기 컵은, 상기 승강축 둘레를 회전하는 것에 의해, 상기 처리액을 직경방향 외측에 배출한다.
본 발명의 바람직한 실시형태에 있어서는, 상기 컵은, 상단부와, 상기 상단부에 연결되는 측면부와, 상기 측면부의 아래쪽에 연결되는 밑면부를 구비하고, 상기 밑면부의 전부가, 연직방향을 따라서 볼 때, 상기 상단부의 내측에 포함된다.
본 발명의 바람직한 실시형태에 있어서는, 상기 접촉부는 상기 상단부에 접촉한다.
본 발명의 바람직한 실시형태에 있어서는, 상기 접촉부는 상기 측면부에 접촉한다.
본 발명의 바람직한 실시형태에 있어서는, 상기 접촉부는, 상기 회동축으로부터 연장되는 연장부와, 상기 연장부에 설치된 조정부에 결합한 돌기부를 구비하고, 상기 돌기부는 상기 상단부에 접촉한다.
본 발명의 바람직한 실시형태에 있어서는, 상기 접촉부는, 상기 회동축으로부터 연장되는 연장부와, 상기 연장부에 설치된 조정부에 나사결합된 돌기부를 구비하고, 상기 스테이지의 하강에 따라서, 상기 연장부가 상기 상단부에 접촉한 후에, 상기 돌기부가 상기 측면부에 접촉한다.
본 발명의 바람직한 실시형태에 있어서는, 상기 기판의 처리 시에는, 상기 처리액의 액면은 상기 기판보다도 위쪽에 위치한다.
본 발명의 바람직한 실시형태에 있어서는, 상기 승강축은, 상기 컵 내에 있어서 벨로즈(bellows) 부재에 의해 덮여 있다.
본 발명에 따르면, 기판을 대상으로 하는 처리에의 의도하지 않는 영향을 저감시킬 수 있다.
본 발명의 그 밖의 특징 및 이점은, 첨부 도면을 참조해서 이하에 행하는 상세한 설명에 의해, 보다 명확해질 것이다.
도 1은 본 발명의 제1 실시형태에 따른 기판처리장치를 나타내는 요부 평면도이다.
도 2는 도 1의 II-II선을 따르는 요부 단면도이다.
도 3은 본 발명의 제1 실시형태에 따른 기판처리장치를 나타내는 요부 확대 단면도이다.
도 4는 본 발명의 제1 실시형태에 따른 기판처리장치의 동작을 나타내는 요부 단면도이다.
도 5는 본 발명의 제1 실시형태에 따른 기판처리장치의 동작을 나타내는 요부 확대 단면도이다.
도 6은 본 발명의 제1 실시형태에 따른 기판처리장치의 동작을 나타내는 요부 단면도이다.
도 7은 본 발명의 제1 실시형태에 따른 기판처리장치의 동작을 나타내는 요부 확대 단면도이다.
도 8은 본 발명의 제1 실시형태에 따른 기판처리장치의 동작을 나타내는 요부 단면도이다.
도 9는 본 발명의 제1 실시형태에 따른 기판처리장치의 동작을 나타내는 요부 단면도이다.
도 10은 본 발명의 제2 실시형태에 따른 기판처리장치를 나타내는 요부 단면도이다.
도 11은 본 발명의 제2 실시형태에 따른 기판처리장치를 나타내는 요부 확대 단면도이다.
도 12는 본 발명의 제2 실시형태에 따른 기판처리장치의 동작을 나타내는 요부 단면도이다.
도 13은 본 발명의 제2 실시형태에 따른 기판처리장치의 동작을 나타내는 요부 확대 단면도이다.
도 14는 본 발명의 제2 실시형태에 따른 기판처리장치의 동작을 나타내는 요부 단면도이다.
도 15는 본 발명의 제2 실시형태에 따른 기판처리장치의 동작을 나타내는 요부 확대 단면도이다.
도 16은 본 발명의 제3 실시형태에 따른 기판처리장치의 동작을 나타내는 요부 확대 단면도이다.
도 17은 본 발명의 제4 실시형태에 따른 기판처리장치의 동작을 나타내는 요부 확대 단면도이다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시형태에 대해서, 도면을 참조해서 구체적으로 설명한다.
본 개시에 있어서의 "제1", "제2", "제3" 등의 용어는, 단지 식별을 위하여 이용한 것이며, 이들의 대상물에 순열을 부여하는 것을 의도하고 있지 않다.
<제1 실시형태>
도 1 내지 도 9는 본 발명의 제1 실시형태에 따른 기판처리장치를 나타내고 있다. 본 실시형태의 기판처리장치(A1)는, 컵(1), 스테이지(2), 구동부(3), 재치대(4), 회동부재(5) 및 배액 챔버(6)를 포함하고 있다. 본 발명에 따른 기판처리장치가 기판(91)을 대상으로 해서 실행하는 처리의 종류는, 하등 한정되지 않는다. 이후에 있어서는, 기판(91)에 형성된 레지스트층과, 이 레지스트층 상에 적층된 금속층을 일괄해서 제거하는 리프트 오프 처리를 실행하는 구성을 예로 설명한다. 또, 기판(91)을 대상으로 하는 처리로서는, 리프트 오프 처리 이외에, 예를 들면, 컵(1)에 모인 처리액(92) 중에, 기판(91)을 가라앉힌 상태로 장시간 유지하여, 레지스트층을 팽윤시키는 것에 의해서 용해시키는 처리를 들 수 있다.
도 1은 기판처리장치(A1)를 나타내는 요부 평면도이다. 도 2는 도 1의 II-II선을 따르는 요부 단면도이다. 도 3은 기판처리장치(A1)를 나타내는 요부 확대 단면도이다. 도 4는 기판처리장치(A1)의 동작을 나타내는 요부 단면도이다. 도 5는 기판처리장치(A1)의 동작을 나타내는 요부 확대 단면도이다. 도 6은 기판처리장치(A1)의 동작을 나타내는 요부 단면도이다. 도 7은 기판처리장치(A1)의 동작을 나타내는 요부 확대 단면도이다. 도 8 및 도 9는 기판처리장치(A1)의 동작을 나타내는 요부 단면도이다. 이들 도면에 있어서, 연직방향(z)은 스테이지(2)가 승강하는 방향이다. 둘레방향(θ)은 후술하는 연직방향(z)으로 뻗는 승강축(31)을 중심으로 하는 둘레방향이며, 직경방향(r)은 승강축(31)을 중심으로 하는 직경방향이다. 도 2 내지 도 4는, 후술하는 스테이지(2)의 승강에 있어서, 스테이지(2)가 상단부에 위치한 상태를 나타내고 있다. 도 6 내지 도 8은 스테이지(2)가 하단부에 위치한 상태를 나타내고 있다.
[컵(1)]
컵(1)은 기판(91)을 처리하기 위해서 처리액(92)을 모으는 것이 가능한 것이다. 컵(1)의 형상 및 재질은 하등 한정되지 않는다. 컵(1)은, 예를 들면, 스테인리스 등의 금속으로 이루어진다. 본 실시형태의 컵(1)은, 도 1 및 도 2에 나타낸 바와 같이, 상단부(11), 측면부(12) 및 밑면부(13)를 구비한다. 또한, 도시된 예에 있어서는, 컵(1)은 더욱 외벽부(14)를 구비한다. 또, 처리액(92)을 모으는 것이 가능한 컵(1)은, 소정 기간에 있어서 일정량의 처리액(92)을 모으는 용도에 이용되는 것에 한정되지 않고, 예를 들면, 소정 공정에 있어서 처리액(92)이 컵(1)에 상시 공급되어, 처리액(92)이 컵(1)에 일시적으로 체류한 후에 순차 배출된다고 하는 용도에 이용되는 것도 포함하는 개념이다.
상단부(11)는 컵(1) 중 연직방향(z)의 상단부에 위치하는 부분이다. 상단부(11)의 구체적인 형상은 하등 한정되지 않고, 도시된 예에 있어서는, 원환 형상의 판상 부위이다. 도 2 및 도 3에 나타낸 상태에 있어서, 상단부(11)는, 회동부재(5)의 돌기부(532)의 연직방향(z)에 있어서의 아래쪽에 위치하고 있어, 연직방향(z)을 따라서 볼 때, 돌기부(532)와 중첩되어 있다. 또, 후술하는 바와 같이, 돌기부(532)의 구체적인 구성은 하등 한정되지 않는다.
측면부(12)는 상단부(11)로부터 연직방향(z)의 아래쪽에 연결되어 있다. 측면부(12)의 연직방향(z)의 높이는 스테이지(2), 구동부(3), 재치대(4) 및 회동부재(5)를 수용 가능한 높이로 된다. 또한, 측면부(12)의 연직방향(z)의 높이는, 처리액(92)의 액면을, 기판(91)에 대하여 소정의 높이로 유지 가능한 높이로 된다. 도시된 예에 있어서는, 측면부(12)는 연직방향(z)의 위쪽에서 아래쪽을 향해서 직경방향(r)의 치수가 작아지는 테이퍼 형상의 경사부로 되어 있다. 측면부(12)는, 연직방향(z)을 따라서 볼 때, 원환 형상이다. 측면부(12)의 경사각도는 하등 한정되지 않고, 예를 들면, 수평면(직경방향(r) 및 둘레방향(θ)이 포함되는 면)에 대하여 30° 내지 75°정도의 각도를 이루고, 도시된 예에 있어서는, 수평면에 대하여 60°정도의 각도를 이룬다.
밑면부(13)는 측면부(12)의 연직방향(z)의 아래쪽에 연결되어 있다. 밑면부(13)의 형상은, 하등 한정되지 않고, 도시된 예에 있어서는, 원 형상이다. 밑면부(13)의 전부가, 연직방향(z)을 따라서 볼 때, 상단부(11)의 내측에 포함된다. 도시된 예에 있어서는, 상단부(11)가 원환 형상이고, 밑면부(13)이 원형이기 때문에, 연직방향(z)을 따라서 볼 때, 상단부(11)의 내경이, 밑면부(13)의 외경보다도 큰 관계로 되어 있다. 밑면부(13)의 중앙부에는, 후술하는 승강축(31)을 삽입 통과시키기 위한 개구가 형성되어 있다.
외벽부(14)는, 상단부(11)의 직경방향(r)의 외주단부에 연결되어 있고, 상단부(11)로부터 연직방향(z)의 아래쪽으로 뻗고 있다. 외벽부(14)는, 연직방향(z)의 높이가 측면부(12)보다도 낮은, 원통형상이다.
[스테이지(2)]
스테이지(2)는, 컵(1) 내를 연직방향(z)으로 승강 가능하게 되어 있고, 재치대(4)를 지지하고 있다. 스테이지(2)의 구체적인 구성은 하등 한정되지 않고, 도시된 예에 있어서는, 베이스(21) 및 원반부(22)를 구비한다.
베이스(21)는 후술하는 승강축(31)의 상단부에 고정된 부위이다. 베이스(21)는, 예를 들면 스테인리스 등의 금속이나 수지 등으로 이루어진다. 원반부(22)는, 베이스(21)에 고정되어 있고, 베이스(21)로부터 직경방향(r)으로 확장되고 있다. 원반부(22)는, 예를 들면 연직방향(z)을 따라서 볼 때, 원형의 판상 부위이다. 원반부(22)는, 예를 들면 스테인리스 등의 금속으로 이루어진다.
[구동부(3)]
구동부(3)는 스테이지(2)를 승강시키기 위한 구동 기능을 가지는 것이다. 또한, 본 실시형태에 있어서는, 구동부(3)는 컵(1)을 회전시키기 위한 구동 기능을 구비한다. 구동부(3)의 구체적 구성은 하등 한정되지 않고, 본 실시형태에 있어서는, 승강축(31), 지지부(32), 벨로즈 부재(33), 승강구동기구(34) 및 회동구동기구(35)를 구비한다.
승강축(31)은, 그 상단부가 스테이지(2)의 베이스(21)에 고정되어 있고, 스테이지(2)를 연직방향(z)을 따라서 승강시키기 위한 축이다. 승강축(31)은, 컵(1)의 밑면부(13)의 개구를 통해서, 연직방향(z)의 아래쪽으로 연장되고 있다.
지지부(32)는 컵(1)의 밑면부(13)의 개구에 부차되어 있다. 지지부(32)의 내부에는 승강축(31)이 삽입 통과되어 있다. 지지부(32)가 승강축(31) 둘레에 회전시켜지면, 컵(1) 및 스테이지(2)가 함께 회전한다. 또한, 컵(1) 및 스테이지(2)와 함께, 벨로즈 부재(33)가 회전한다. 또, 승강축(31)이 컵(1) 및 스테이지(2)와 함께 회전해도 된다. 또한, 구동부(3)의 구체적 구성에 의해, 컵(1)과 스테이지(2)가 따로따로 회전 가능한 구성이어도 된다.
벨로즈 부재(33)는 연직방향(z)으로 신축 가능한 주름상자 구조의 부재이다. 벨로즈 부재(33)의 재질은 하등 한정되지 않고, 스테인리스 등의 금속이나 수지 등으로 이루어진다. 벨로즈 부재(33)는, 상단부가 스테이지(2)의 베이스(21)에 부착되어 있고, 하단부가 지지부(32)에 부착되어 있다. 베이스(21)와 지지부(32) 사이에서, 벨로즈 부재(33)의 내부와 외부는 기밀상태로 구획되어 있다.
승강구동기구(34)는 승강축(31)을 상승시키는 구동기구이다. 승강구동기구(34)의 구체적인 구성은 하등 한정되지 않고, 모터, 실린더 등을 적당히 채용 가능하다. 도시된 예에 있어서는, 승강구동기구(34)는 승강축(31)의 하단부에 연결되어 있지만, 승강구동기구(34)가 설치되어는 위치는 하등 한정되지 않는다.
회동구동기구(35)는 컵(1) 및 스테이지(2)를 승강축(31) 둘레에 회전시키는 구동기구이다. 회동구동기구(35)의 구체적인 구성은 하등 한정되지 않고, 모터 및 기어 등을 적당히 채용 가능하다. 도시된 예에 있어서는, 회동구동기구(35)는, 지지부(32)를 개재해서 컵(1) 및 스테이지(2)를 회전시키는 구성이지만, 회동구동기구(35)의 구성은 하등 한정되지 않는다. 예를 들면, 컵(1)을 직접 회전시키는 구성이어도 된다. 또한, 도시된 예에 있어서는, 회동구동기구(35)는 지지부(32)의 측방에 배치되어 있지만, 회동구동기구(35)가 설치되는 위치는 하등 한정되지 않는다. 회동구동기구(35)에 의한 컵(1) 및 스테이지(2)의 회전속도는, 예를 들면, 후술하는 바와 같이, 컵(1)에 모인 처리액(92)이 컵(1)의 회전에 의한 원심력에 의해서 충분히 배출되는 것이 가능한 정도의 회전속도로 설정된다.
[재치대(4)]
재치대(4)는 스테이지(2)에 설치되어 있고, 기판(91)이 재치되는 것이다. 재치대(4)의 구체적 구성은 하등 한정되지 않고, 도시된 예에 있어서는, 복수의 블록(41)을 구비한다. 복수의 블록(41)은, 스테이지(2)의 원반부(22) 상에 고정되어 있고, 둘레방향(θ)을 따라서 등피치로 배치되어 있다. 도시된 예에 있어서는, 4개의 블록(41)이 90°의 피치로 배치되어 있지만, 이것은 일례이며, 블록(41)의 개수나 피치의 크기는 하등 한정되지 않는다. 블록(41)의 형상이나 재질은 하등 한정되지 않는다. 블록(41)의 재질로서는, 기판(91)을 적절하게 지지하면서, 기판(91)과의 불필요한 반응이나 손상을 일으키지 않는 것이 바람직하며, 예를 들면 수지 등으로 이루어진다.
도 2 및 도 3에 나타낸 바와 같이, 각 블록(41)은 재치면(411)을 구비한다. 재치면(411)은 연직방향(z)의 위쪽을 향하는 평탄한 면이다. 재치면(411)의 위치나 형상은 하등 한정되지 않는다. 도시된 예에 있어서는, 재치면(411)은, 연직방향(z)에 있어서 베이스(21)의 위쪽에 위치하고 있고, 후술하는 기판(91)을 대상으로 하는 처리에 있어서, 재치된 기판(91)이 컵(1)에 모인 처리액(92)의 액면보다도 낮은 위치가 되도록 설정되어 있다. 또한, 도시된 예에 있어서는, 재치면(411)의 크기는 기판(91)의 외주 단부 부근의 부분을 지지하는 크기로 되어 있다.
[회동부재(5)]
회동부재(5)는 재치대(4)(블록(41))에 대하여 회동 가능하게 부착되어 있다. 회동부재(5)의 개수는 하등 한정되지 않고, 도시된 예에 있어서는, 4개의 블록(41)에 대응하고, 4개의 회동부재(5)가 설치되어 있다. 회동부재(5)는 회동축(51), 유지부(52) 및 접촉부(53)을 구비한다.
회동축(51)은, 둘레방향(θ)을 따른 축이며, 예를 들면, 볼트나 샤프트 등에 의해서 구성되어 있다. 또, 회동축(51)이 둘레방향(θ)을 따른 축이란, 승강축(31)을 중심으로 하는 원의 접선방향을 따른 축인 것을 가리키고, 회동축(51)이 원호 형상으로 만곡된 것을 가리키는 것은 아니다. 회동축(51)은 블록(41)에 고정되어 있다.
유지부(52)는 회동축(51)보다도 직경방향(r)의 내측에 위치하는 부위이다. 접촉부(53)는 회동축(51)보다도 직경방향(r)의 외측에 위치하는 부위이다. 유지부(52) 및 접촉부(53)의 구체적인 구성은 하등 한정되지 않는다. 도시된 예에 있어서는 접촉부(53)의 직경방향(r)의 크기는 유지부(52)의 직경방향(r)의 크기보다도 크다. 유지부(52) 및 접촉부(53)는 1개의 일체적인 부재에 의해서 구성되어 있어도 되고, 복수의 부재가 조합되는 것에 의해서 구성되어 있어도 된다. 도시된 예에 있어서는, 회동부재(5)는 본체부(50), 연장부(531) 및 돌기부(532)를 구비한다.
본체부(50)는, 회동축(51)이 관통하는 부위이며, 연직방향(z)을 따라서 볼 때, 직경방향(r)을 길이방향으로 하는 대략 직사각형상의 부위이다. 본체부(50)의 재질은 하등 한정되지 않고, 예를 들면 수지 등으로 이루어진다. 본체부(50) 중 회동축(51)보다도 직경방향(r)의 내측에 위치하는 부분에 의해서, 유지부(52)가 구성되어 있다. 또한, 도시된 예의 유지부(52)는 돌출부(521)를 구비한다. 돌출부(521)는 유지부(52)의 연직방향(z) 위쪽부분이 직경방향(r)의 내측을 향해서 돌출된 부분이다. 돌출부(521)는 재치면(411)과의 사이에 소정의 간극을 구성하기 위한 부위이다.
한편, 본체부(50) 중 회동축(51)보다도 직경방향(r)의 외측에 위치하는 부분과 연장부(531) 및 돌기부(532)에 의해서, 접촉부(53)가 구성되어 있다. 연장부(531)는, 본체부(50)의 연직방향(z)의 하단면에 부착되어 있고, 전체로서 본체부(50)로부터 직경방향(r)의 외측으로 연장되어 있다. 연장부(531)의 형상이나 재질 등은 하등 한정되지 않는다. 도시된 예에 있어서는, 연장부(531)는, 예를 들면 스테인리스 등의 금속으로 이루어지고, 제1 연장부(5311), 제2 연장부(5312) 및 경사부(5313)를 구비하는 굴곡 형상이다.
제1 연장부(5311)는, 본체부(50)의 하단면에 부착되어 있고, 이 하단면을 따라서 직경방향(r)의 외측으로 연장되어 있다. 후술하는 바와 같이, 스테이지(2)가 하단부에 위치하는 도 6 및 도 7에 나타낸 상태에 있어서는, 제1 연장부(5311)는 직경방향(r)을 따라서 연장되어 있다.
제2 연장부(5312)는, 제1 연장부(5311)보다도 직경방향(r)의 외측에 위치하고 있고, 도 6 및 도 7에 나타낸 상태에 있어서, 제1 연장부(5311)보다도 연직방향(z)의 위쪽에 위치하고 있다. 제2 연장부(5312)는, 제1 연장부(5311)와 같은 방향으로 연장되어 있고, 도 6 및 도 7에 나타낸 상태에 있어서는, 직경방향(r)을 따라서 연장되어 있다. 제2 연장부(5312)에는 조정부(5314)가 형성되어 있다. 조정부(5314)는 돌기부(532)가 결합되는 부위이다.
경사부(5313)는 제1 연장부(5311)와 제2 연장부(5312) 사이에 위치하는 부분이다. 도 6 및 도 7에 나타낸 상태에 있어서, 경사부(5313)는, 직경방향(r)의 외측을 향할수록 연직방향(z)의 위쪽에 위치하도록 경사져 있다. 또한, 이 상태에 있어서, 경사부(5313)는 측면부(12)에 대하여 간극을 두고 평행하게 되도록 설정되어 있다.
돌기부(532)는, 제2 연장부(5312)에 설치된 조정부(5314)에 결합하고 있고, 연장부(531)에 대하여, 도 3에 나타낸 화살표 방향으로 이동 조정이 가능하게 되어 있다. 돌기부(532) 및 조정부(5314)의 구체적인 구성은 하등 한정되지 않는다. 돌기부(532)가 연장부(531)에 대하여 유지되고, 또한 사용자의 소정의 조작 등에 의해 연장부(531)에 대하여 돌기부(532)의 위치조정이 가능한 것에 의해, 연장부(531)로부터 돌기부(532)가 돌출하는 양을 조정 가능한 구성이 적당히 채용된다. 이러한 돌기부(532)와 조정부(5314)가 결합하는 형태로서는, 예를 들면, 이하에 기술되는 나사결합을 들 수 있다. 또, 돌기부(532) 및 조정부(5314) 중 한쪽이 다른 쪽을 끼워 유지하는 구성으로서, 협지력을 변경 가능한 것에 의해 돌기부(532)의 이동 조정이 행해져도 된다. 또는, 돌기부(532)와 조정부(5314)의 결합에, 자력을 이용해도 된다.
도시된 예에 있어서는, 돌기부(532)는, 소위 육각 홀붙이 고정 나사 등의 수컷 나사를 구비하는 부재에 의해서 구성되어 있다. 조정부(5314)는, 암컷 나사를 구비하는 구성이며, 예를 들면 연장부(531)를 구성하는 금속판 부재에, 육각 너트를 고정함으로써 구성되어 있다. 이것에 의해, 돌기부(532)와 조정부(5314)는, 나사결합에 의해서 서로 결합되어 있다. 또, 암나사를 갖는 조정부(5314)로서는, 연장부(531)를 구성하는 금속판 부재 자체에, 암나사 구멍을 형성함으로써 설치해도 된다. 도 6 및 도 7에 나타낸 상태에 있어서, 돌기부(532)의 연직방향(z)의 하단부는 제2 연장부(5312)로부터 연직방향(z)의 아래쪽으로 돌출하고 있다.
[배액 챔버(6)]
배액 챔버(6)는 처리를 마친 처리액(92)이 컵(1)으로부터 배출되는 것이다. 배액 챔버(6)의 구체적 구성은 하등 한정되지 않는다. 또한, 본 발명에 따른 기판처리장치는, 컵(1)으로부터 배출되는 처리액(92)을 받아내기 위한, 배액 챔버(6)와 같은 구조물을 구비하지 않는 구성이어도 된다. 본 실시형태에 있어서는, 배액 챔버(6)는, 예를 들면, 스테인리스 등으로 이루어지는 금속판에 의해서 형성되어 있고, 상판부(61), 하판부(62), 내판부(63) 및 배출로(64)를 구비한다.
상판부(61)는, 연직방향(z)의 위쪽에 위치하는 부위이며, 도시된 예에 있어서는 예를 들면 원환 형상이다. 상판부(61)는 컵(1)의 상단부(11)보다도 연직방향(z)에 있어서 위쪽에 위치하고 있다. 또한, 상단부(11)는, 연직방향(z)을 따라서 볼 때, 상단부(11)와 중첩되어 있다. 스테이지(2)는, 연직방향(z)을 따라서 볼 때, 상판부(61)의 내측에 위치하고 있다.
하판부(62)는, 상판부(61)에 대하여 연직방향(z)의 아래쪽에 위치하고 있고, 예를 들면, 연직방향(z)을 따라서 볼 때, 원환 형상이다. 하판부(62)는, 연직방향(z)을 따라서 볼 때, 대강 상판부(61)와 중첩되는 형상 및 크기로 되어 있다. 하판부(62)는, 연직방향(z)에 있어서, 외벽부(14)의 하단부보다도 아래쪽에 위치하고 있다.
내판부(63)는, 하판부(62)의 직경방향(r)의 내주 가장자리로부터 연직방향(z)의 위쪽으로 뻗고 있고, 원통형상이다. 연직방향(z)을 따라서 볼 때, 내판부(63)는, 컵(1)의 측면부(12)와 외벽부(14) 사이에 위치하고 있어, 상단부(11)와 중첩되어 있다. 내판부(63)의 하단부는, 연직방향(z)에 있어서, 외벽부(14)의 하단부보다도 아래쪽에 위치하고 있다. 내판부(63)의 상단부는, 연직방향(z)에 있어서, 외벽부(14)의 하단부보다도 위쪽에 위치하고 있고, 상판부(61)보다도 아래쪽에 위치하고 있다. 즉, 직경방향(r)의 외측에서 볼 때, 외벽부(14)와 내판부(63)가 부분적으로 중첩되는 구성이다.
배출로(64)는, 컵(1)으로부터 배출된 처리액(92)을, 소정의 장소로 유도하기 위한 유로이다. 도시된 예에 있어서는, 배출로(64)는, 상판부(61), 하판부(62) 및 내판부(63)에 의해 둘러싸인 원환 형상의 공간에서 직경방향(r)의 외측으로 뻗고 있다.
다음에, 기판처리장치(A1)의 동작에 대해서 설명한다.
도 2는 기판(91)을 대상으로 하는 처리를 개시하는 상태를 나타내고 있다. 이 상태에서는, 스테이지(2)가 구동부(3)의 승강구동기구(34)에 의해서 상승되어 있고, 연직방향(z)의 상단부에 위치하고 있다. 회동부재(5)는, 재치대(4)에 대하여 회동 가능하게 지지되어 있고, 예를 들면 컵(1) 등에 접촉하고 있지 않다. 접촉부(53)가 유지부(52)보다도 직경방향(r)에 있어서 큰 구성이므로, 중력을 따르는 밸런스에 의해, 접촉부(53)가 연직방향(z)의 아래쪽에 위치하고, 유지부(52)가 연직방향(z)의 위쪽에 위치하는 자세로 되어 있다. 이 상태에서는, 회동부재(5)의 유지부(52)는, 연직방향(z)을 따라서 볼 때, 재치대(4)의 재치면(411)과는 중첩되어 있지 않고, 재치면(411)에 대하여 직경방향(r)의 외측에 위치하고 있다.
다음에, 도 4에 나타낸 바와 같이, 기판(91)을 재치한다. 기판(91)의 재치는, 예를 들면 도시하지 않은 홀더 등에 의해서, 기판(91)을 연직방향(z)의 위쪽에서 하강시킨다. 그리고, 도 3에 나타낸 바와 같이, 재치대(4)의 재치면(411)에 기판(91)의 외주 단부 부근의 부분을 접촉시켜, 기판(91)을 재치한다.
다음에, 구동부(3)의 승강구동기구(34)에 의해서, 스테이지(2)를 연직방향(z)의 아래쪽으로 하강시킨다. 이것에 의해, 스테이지(2)와 함께 재치대(4), 회동부재(5) 및 기판(91)이 컵(1)에 대하여 하강한다. 도 3 및 도 4에 있어서, 서로 이간하고 있던 상단부(11)와 회동부재(5)의 돌기부(532)가, 스테이지(2)의 하강에 따라서, 도 5에 나타낸 바와 같이 접촉한다. 또, 이 접촉은, 돌기부(532)의 하단부가 접촉해도 되고, 제2 연장부(5312)의 직경방향(r)의 외방 단부가 접촉해도 된다. 이 상태로부터 더욱 스테이지(2)가 하강하면, 회동부재(5)의 회동축(51)이 하강하는 한편, 돌기부(532)는 상단부(11)에 의해서 하강이 저지된다. 이것에 의해, 회동축(51) 둘레에, 회동부재(5)가 회전한다(도 5에 있어서는, 시계 방향으로 회전한다).
도 6 및 도 7은, 스테이지(2)의 하강이 완료하고, 스테이지(2)가 연직방향(z)에 있어서의 하단부에 위치한 상태를 나타내고 있다. 도 5에 나타낸 상태 이후에는, 돌기부(532)가 컵(1)의 상단부(11)에 접촉한 상태가 유지되면서, 컵(1), 스테이지(2), 재치대(4) 및 기판(91)이 하강한다. 이것에 따라서, 회동축(51)은, 순차 회동하고, 도 6 및 도 7에 나타낸 자세로 되어 있다. 이 상태에서는, 제1 연장부(5311) 및 제2 연장부(5312)가 직경방향(r)을 따라서 연장되어 있다. 경사부(5313)는, 측면부(12)에 대하여 간극을 두고 평행하게 되어 있다. 또한, 제2 연장부(5312)는 상단부(11)에 대하여 간극을 두고 평행하게 되어 있다.
도 6 및 도 7에 나타낸 상태에 이르는 스테이지(2)의 하강에 따른 회동부재(5)의 회동에 의해, 유지부(52)의 돌출부(521)와 재치대(4)의 재치면(411)의 간격이 축소된다. 이 동작에 있어서, 돌출부(521)와 재치면(411) 사이에는, 기판(91)의 일부가 존재하고 있다. 따라서, 스테이지(2)가 하단부에 도달하면, 돌출부(521)와 재치면(411)의 간격이 기판(91)을 끼워서 가장 축소된다. 이때, 돌출부(521)는, 기판(91)에 접해도 되고, 기판(91)으로부터 약간의 간극을 두고 떨어져 있어도 된다.
다음에, 컵(1)에 처리액(92)을 붓는다. 본 실시형태에 있어서는, 도 8에 나타낸 바와 같이, 예를 들면, 노즐(82)에 의해, 처리액(92)을 컵(1)에 붓는다. 처리액(92)의 구체적인 종류 등은 하등 한정되지 않고, 기판(91)에 시행하는 처리와 아울러서 적당히 선택된다.
기판(91)에 대해서 리프트 오프 처리를 실시할 경우, 처리액(92)으로서는, 예를 들면 2종류의 액체를 순차 선택하는 예를 들 수 있다. 1종류째는, 레지스트층에 대하여 용해성이 없는 불용해성 액체이다. 불용해성 액체로서는, 예를 들면, 순수를 들 수 있다. 예를 들면, 처리액(92)으로서, 불용해성 액체인 순수를, 노즐(82)로부터 컵(1)에 붓는다. 처리액(92)의 주입량은, 재치대(4)에 재치된 기판(91)이, 처리액(92)에 충분히 침지되는 양으로 설정된다. 이 경우, 처리액(92)의 액면은, 기판(91)보다도 연직방향(z)의 위쪽에 위치하고, 도시된 예에 있어서는, 블록(41)의 전체 및 회동부재(5)의 본체부(50)의 전체보다도 연직방향(z)의 위쪽에 위치하고 있다. 한편, 접촉부(53)의 연장부(531)는, 처리액(92)의 액면을 초과해서, 처리액(92)으로부터 위쪽으로 돌출하고 있다.
불용해성 액체인 처리액(92)을 컵(1)에 부은 후에는, 예를 들면, 초음파발생부(81)를 이용해서, 처리액(92)을 개재해서 기판(91)에 초음파를 작용시킨다. 초음파발생부(81)의 구체적인 구성은 하등 한정되지 않고, 예를 들면, 호른(horn)형 초음파발생기 등이다. 초음파발생부(81)로부터의 초음파에 의해, 예를 들면, 레지스트층 상에 적층된 금속층의 대부분과, 레지스트층의 일부를 기판(91)으로부터 박리시킨다. 초음파를 기판(91)에 작용시킬 때에는, 초음파발생부(81)를, 도면 중에 나타낸 화살표와 같이, 예를 들면 직경방향(r)으로 왕복이동시키는 것이 바람직하다. 또한, 노즐(82)의 직경방향(r)의 왕복이동에 맞춰서, 스테이지(2), 재치대(4), 회동부재(5) 및 기판(91)을, 둘레방향(θ)으로 저속으로 회전시키는 것이 바람직하다. 이것에 의해, 기판(91)의 전면에 초음파발생부(81)로부터의 초음파를 작용시킬 수 있다.
초음파발생부(81)로부터 초음파가 작용되면, 제거해야 할 금속층의 대부분과 레지스트층의 일부가, 처리액(92)에 부유 또는 침전된 상태가 된다. 계속해서, 이 처리액(92)을 컵(1)으로부터 배출한다. 본 실시형태에 있어서는, 처리액(92)의 배출은 컵(1)을 승강축(31) 둘레로 회전시키는 것에 의한 원심력을 이용해서 행한다.
도 9에 나타낸 바와 같이, 구동부(3)의 회동구동기구(35)에 의해서, 지지부(32)를 회전시킨다. 이것에 의해, 컵(1)이 회전한다. 이때의 회전속도는, 컵(1) 내의 처리액(92)을 충분히 배출시키는 속도인 것이 요구되고, 예를 들면 초음파발생부(81)로부터 초음파를 작용시킨 공정에 있어서의 회전속도보다도 현저하게 빠르다. 컵(1)의 회전에 의한 원심력에 의해, 처리액(92)은, 컵(1)의 측면부(12)를 따라서 직경방향(r)의 외측으로서 연직방향(z)의 위쪽을 향해서 유동한다. 이 결과, 상단부(11)를 초과해서, 컵(1)의 직경방향(r)의 외측으로 순차 배출된다.
컵(1)으로부터 배출된 처리액(92)은, 상단부(11)와 상판부(61)의 간극으로부터 하판부(62)에 낙하한다. 그리고, 배출로(64)를 통해서, 소정의 폐액개소에 유출된다. 이때, 직경방향(r)의 외측에서 볼 때, 컵(1)의 외벽부(14)와 배액 챔버(6)의 내판부(63)가 중첩되어 있는 것에 의해, 처리액(92)이 지지부(32), 승강구동기구(34) 및 회동구동기구(35) 등이 배치된 영역에 비산하는 것 등을 억제할 수 있다. 또, 본 실시형태에 있어서는, 컵(1)과 함께, 재치대(4), 회동부재(5) 및 기판(91)이 회전하는 구성으로 되어 있지만, 본 발명은 이것으로 한정되지 않고, 예를 들면, 처리액(92)의 배출에 있어서는, 컵(1)만이 고속으로 회전하는 구성이어도 된다.
처리액(92)으로서의 불용해성 액체의 배출이 완료되면, 본 예에 있어서는, 2종류째의 처리액(92)으로서, 레지스트층에 대하여 용해성을 지니는 용해성 액체를 컵(1)에 붓는다. 이러한 처리액(92)으로서는, 예를 들면 IPA(아이소프로필 알코올)를 들 수 있다. 용해성 액체인 처리액(92)의 주입에 있어서는, 처리액(92)을 기판(91)에 내뿜는 바와 같이 주입하는 것이 바람직하다. 이것에 의해, 기판(91)의 표면에 잔존한 레지스트층이, 용해성 액체인 처리액(92)에 의해 용해된다. 처리액(92)에 의한 잔존한 레지스트층의 용해가 완료된 후에는, 도 9를 참조해서 설명한 수법과 마찬가지의 수법에 의해, 컵(1)의 회전에 의한 원심력을 이용해서, 처리액(92)을 배출한다.
처리액(92)의 배출이 완료된 후에는, 승강구동기구(34)에 의해서 스테이지(2)를 상단부까지 상승시킨다. 이것에 의해, 도 3 및 도 4에 나타낸 상태로 복귀된다. 이 후에는, 도시하지 않은 소정의 홀더 등에 의해서 기판(91)을 재치대(4)로부터 들어올린다. 이것에 의해, 기판(91)에 대한 리프트 오프 처리가 완료된다. 또, 처리액(92)의 배출 후, 스테이지(2)를 상승시키기 전에, 기판(91)에 잔존한 처리액(92)을 건조 등 시키기 위하여, 예를 들어, 기판(91)에 소정의 기체를 내뿜어도 된다.
다음에, 기판처리장치(A1)의 작용에 대해서 설명한다.
본 실시형태에 따르면, 스테이지(2)의 하강에 따라서, 회동부재(5)의 접촉부(53)가 컵(1)에 접촉하는 것에 의해 회동부재(5)가 회동하여, 기판(91)을 유지한다. 이 때문에, 회동부재(5)에 접촉시키기 위한 접촉부재를 컵(1) 내에 설치할 필요가 없다. 이것에 의해, 접촉부재에 의해, 컵(1) 내의 처리액(92)의 유동을 부당하게 어지럽혀버리는 것을 방지하는 것이 가능하다. 혹은, 리프트 오프 처리에 의해 제거된 레지스트층이나 금속층이 접촉부재에 부착되어버리는 것을 회피 가능하다. 따라서, 기판(91)을 대상으로 하는 처리에의 의도하지 않는 영향을 저감시킬 수 있다.
기판처리장치(A1)에 있어서는, 도 9에 나타낸 바와 같이, 컵(1)을 회전시키는 것에 의해, 처리액(92)을 컵(1)으로부터 배출한다. 본 실시형태와는 달리, 예를 들면, 특허문헌 1과 같이 컵(1)의 밑면부(13)에 설치된 배출구로부터 처리액(92)을 배출할 경우, 처리액(92)에 부유한 금속층이나 레지스트층의 작은 조각 또는 가루 등이, 기판(91)의 표면에 재부착해서 잔존해버리는 우려가 있다. 본 실시형태에 따르면, 컵(1)의 회전에 의한 원심력을 이용하고, 처리액(92)을 직경방향(r)의 외측을 향해서 배출한다. 이 때문에, 처리액(92)에 포함되는 금속층이나 레지스트층의 작은 조각 또는 가루 등이, 처리액(92)과 함께 직경방향(r)의 외측으로 비산되는 상태가 된다. 따라서, 금속층이나 레지스트층의 작은 조각이나 가루 등이 기판(91)에 잔존하는 것을 억제할 수 있다. 또한, 특허문헌 1과 같이, 컵(1)에 배출구를 형성하거나 접촉부재를 접합하거나 한 여분의 가공을 할 필요가 없고, 장치를 간소화할 수 있다.
컵(1)의 측면부(12)는 테이퍼 형상의 경사부로 되어 있다. 이 때문에, 처리액(92)의 배출에 있어서 컵(1)을 회전시켰을 때에, 처리액(92)이 측면부(12)를 따라서, 비스듬하게 상향으로 유동하여, 상단부(11)를 넘어 보다 원활하게 배출될 수 있다. 도 7에 나타낸 바와 같이, 처리액(92)의 배출 시에, 회동부재(5)의 연장부(531)의 경사부(5313)가, 측면부(12)와 간극을 두어 평행하게 설정되어 있는 것에 의해, 측면부(12)와 경사부(5313)의 간극을 처리액(92)이 원활하게 유동하는 것이 가능해서, 처리액(92)을 적절하게 배출할 수 있다.
도 5 내지 도 7에 나타낸 바와 같이, 회동부재(5)의 접촉부(53)는, 컵(1)의 상단부(11)에 접촉하고, 이것에 의해, 회동부재(5)가 회동한다. 이것에 의해, 회동부재(5)의 접촉부(53)가 상단부(11)에 접촉한 후에, 더욱 스테이지(2)가 하강할 때에, 회동부재(5)와 컵(1)이 강하게 맞스쳐서 회동부재(5)의 원활한 회동이 저해되거나, 회동부재(5)의 회동이 불규칙하게 되어버리거나 하는 바와 같은 사태를 회피할 수 있다.
접촉부(53)는 돌기부(532)를 구비하고 있고, 돌기부(532)가 상단부(11)와 접촉한다. 돌기부(532)는, 연장부(531)에 대하여 나사결합에 의해 부착되어 있어서, 연장부(531)에 대하여 상대 이동 가능하다. 이것에 의해, 예를 들면, 도 6 및 도 7에 나타낸 상태에 있어서, 유지부(52)의 돌출부(521)와 재치대(4)의 재치면(411)의 간격이 기판(91)의 유지에 적합한 크기가 되도록, 연장부(531)에 대한 돌기부(532)의 위치를 조정할 수 있다. 돌기부(532)의 위치조정이 일단 완료되면, 그 이후의 기판처리장치(A1)의 동작에 있어서는, 유지부(52)의 돌출부(521)와 재치대(4)의 재치면(411)의 간격을 적절한 크기로 재현성 양호하게 설정할 수 있다. 이것은, 기판처리장치(A1)를 동작시킬 때마다 전술한 간격이 벗어나버리는 것을 억제하는 데 적합하다. 또한, 장기간의 사용에 의해, 컵(1)의 상단부(11)에 변형 등이 생겼을 경우이어도, 돌기부(532)의 위치조정에 의해, 기판(91)의 유지를 적절하게 행할 수 있다.
컵(1) 내에, 벨로즈 부재(33)를 설치하는 것에 의해, 처리액(92)을 모은 상태이어도, 승강축(31) 등에 처리액(92)이 부착되어버리는 것 등을 방지할 수 있다.
도 10 내지 도 17은 본 발명의 다른 실시형태를 나타내고 있다. 또, 이들 도면에 있어서, 상기 실시형태와 동일 또는 유사한 요소에는, 상기 실시형태와 동일한 부호를 붙이고 있다.
<제2 실시형태>
도 10 내지 도 15는 본 발명의 제2 실시형태에 따른 기판처리장치를 나타내고 있다. 본 실시형태의 기판처리장치(A2)는, 주로, 회동부재(5)의 구성이 전술한 기판처리장치(A1)와 다르게 되어 있다. 도 10 및 도 11은, 도 2 및 도 3과 마찬가지 상태의 기판처리장치(A2)를 나타내고 있다. 도 14 및 도 15는, 도 6 및 도 7과 마찬가지 상태의 기판처리장치(A2)를 나타내고 있다. 도 12 및 도 13은, 도 10 및 도 11에 나타낸 상태와 도 14 및 도 15에 나타낸 상태 사이의 상태의 기판처리장치(A2)를 나타내고 있다.
기판처리장치(A2)의 회동부재(5)에서는, 연장부(531)가 본체부(50)의 상단면에 부착되어 있다. 연장부(531)는 제1 연장부(5311) 및 경사부(5313)를 구비하고 있고, 제2 연장부(5312)를 구비하고 있지 않다.
제1 연장부(5311)는 본체부(50)의 상단면을 따라서 직경방향(r)의 외측으로 연장되어 있다. 제1 연장부(5311)는, 도 14 및 도 15에 나타낸 상태에 있어서, 직경방향(r)을 따라서 연장되어 있다.
경사부(5313)는 제1 연장부(5311)의 직경방향(r)의 외측 단부로부터 직경방향(r)의 외측으로 연장되어 있다. 경사부(5313)는, 도 14 및 도 15에 나타낸 상태에 있어서, 제1 연장부(5311)의 외측 단부로부터 직경방향(r)의 외측을 향할수록 연직방향(z)의 위쪽에 위치하도록 경사져 있다. 또한, 이 상태에 있어서, 경사부(5313)는 측면부(12)에 대하여 간극을 두고 평행하게 되도록 설정되어 있다.
본 실시형태에 있어서는, 경사부(5313)에 조정부(5315)가 형성되어 있고, 이 조정부(5315)에 돌기부(532)가 나사결합에 의해 결합하고 있다. 조정부(5315)는, 연장부(531)를 구성하는 금속판 부재에, 육각 너트를 고정함으로써 구성되어 있다. 또, 조정부(5315)는, 연장부(531)를 구성하는 금속판 부재 자체에, 암나사 구멍을 형성함으로써 형성해도 된다. 또한, 전술한 조정부(5314)와 마찬가지로, 조정부(5315)의 구성은 하등 한정되지 않는다.
기판처리장치(A1)의 회동부재(5)에 있어서의 조정부(5314)의 직경방향(r)에 있어서의 위치보다도, 조정부(5315)는 직경방향(r)의 내측에 배치되어 있다. 즉, 기판처리장치(A2)의 회동부재(5)에 있어서는, 돌기부(532)보다도 직경방향(r)의 외측에 경사부(5313)가 보다 크게 돌출하고 있다. 도 10 및 도 11에 나타낸 상태에 있어서, 경사부(5313)는, 연직방향(z)을 따라서 볼 때, 일부가 상단부(11)와 중첩되어 있다. 한편, 돌기부(532)는, 연직방향(z)을 따라서 볼 때, 상단부(11)보다도 직경방향(r)의 내측에 위치하고 있고, 측면부(12)와 중첩되어 있다.
기판처리장치(A2)에 있어서도, 기판(91)을 대상으로 하는 처리를 행하기 위하여, 기판처리장치(A1)에 있어서 설명한 동작과 마찬가지 동작을 행한다. 기판(91)이 재치대(4)에 재치되면, 회동구동기구(35)에 의해서 스테이지(2), 재치대(4), 회동부재(5) 및 기판(91)이, 컵(1)에 대하여 하강한다. 그러면, 도 12 및 도 13에 나타낸 바와 같이, 경사부(5313)가 상단부(11)(또는, 상단부(11)와 측면부(12)의 경계부분)에 접촉한다. 이 상태보다도 더욱, 스테이지(2), 재치대(4) 및 기판(91)이 하강하면, 회동부재(5)는, 경사부(5313)가 상단부(11)(또는, 상단부(11)와 측면부(12)의 경계부분)에 접촉한 상태에서, 승강축(31) 둘레를 회동한다.
또한, 스테이지(2), 재치대(4) 및 기판(91)을 하강시켜, 도 14 및 도 15에 나타낸 하단 위치에 도달한 상태에서는, 돌기부(532)가 측면부(12)에 접촉하고, 그 한편으로 경사부(5313)가 상단부(11)로부터 떨어져 있다. 즉, 도 12 및 도 13에 나타낸 상태로부터, 도 14 및 도 15에 나타낸 상태를 향해서 하강하는 사이에, 경사부(5313)와 상단부(11)(또는, 상단부(11)와 측면부(12)의 경계부분)가 접촉하고, 그리고 돌기부(532)와 측면부(12)가 접촉하는 상태에 이른다. 그리고, 즉시, 경사부(5313)가 상단부(11)로부터 떨어지고, 돌기부(532)와 측면부(12)가 접촉한 상태에서, 스테이지(2) 등이 하강하고, 도 14 및 도 15에 나타낸 상태에 이른다. 도 14 및 도 15에 나타낸 상태에서는, 돌출부(521)와 재치면(411)의 간격이 기판(91)을 사이에 끼워서 가장 축소되어 있다.
본 실시형태에 의해서도, 기판(91)을 대상으로 하는 처리에의 의도하지 않는 영향을 저감시킬 수 있다. 또한, 본 실시형태에 있어서는, 도 13 및 도 15에 나타낸 바와 같이, 우선, 경사부(5313)가 상단부(11)(또는, 상단부(11)와 측면부(12)와의 경계부분)에 접촉하는 것에 의해, 회동부재(5)의 회동이 시작한다. 그리고, 스테이지(2)가 하단부에까지 하강한 상태에서는, 돌기부(532)가 측면부(12)에 접촉하는 것에 의해, 돌출부(521)와 재치면(411)의 간격의 크기가 결정된다. 경사부(5313)가 상단부(11)에 접촉하는 것에 의해, 그 후의 하강에 따르는 회동부재(5)의 회동에 있어서, 경사부(5313)와 컵(1)이 강하게 맞스쳐서 회동부재(5)의 원활한 회동이 저해되거나, 회동부재(5)의 회동이 불규칙하게 되어버리거나 하는 바와 같은 사태를 회피할 수 있다. 또한, 측면부(12)는, 전체가 테이퍼 형상의 통 형태의 부위이다. 이러한 측면부(12)는, 강성이 높고, 변형 등이 생기기 어렵다. 이 때문에, 돌기부(532)의 접촉에 의해서, 돌출부(521)와 재치면(411)의 간격을 보다 확실하게 소정의 크기로 설정할 수 있다.
<제3 실시형태>
도 16은 본 발명의 제3 실시형태에 따른 기판처리장치를 나타내고 있다. 본 실시형태의 기판처리장치(A3)에 있어서는, 스테이지(2)의 하강에 따라서, 접촉부(53)가, 측면부(12)에 접촉하고, 상단부(11)에는 접촉하지 않는다.
본 실시형태의 접촉부(53)는 연장부(531)를 구비한다. 연장부(531)는, 예를 들면, 선단부가 위쪽으로 만곡된 형상이다. 또한, 본 실시형태의 측면부(12)는, 수평면과 이루는 각도가 기판처리장치(A1, A2)와 비교해서 작으며, 예를 들면, 40°정도이다.
스테이지(2)가 상단위치로부터 하강하면, 연장부(531)의 선단부분이 측면부(12)에 접촉한다. 그리고, 더욱 스테이지(2)가 하강하여 하단위치에 도달하면, 도시된 바와 같이, 본체부(50)가 직경방향(r)을 따른 상태로 되어, 기판(91)의 유지가 완료된다.
본 실시형태에 의해서도, 기판(91)을 대상으로 하는 처리에의 의도하지 않는 영향을 저감시킬 수 있다. 또한, 본 실시형태로부터 이해되는 바와 같이, 본 발명의 회동부재(5)의 접촉부(53)는, 컵(1)에 접촉하는 것에 의해 회동하는 구성이면 되고, 측면부(12)에만 접촉하고, 상단부(11)에는 접촉하지 않는 구성이어도 된다. 또한, 본 실시형태에 돌기부 및 조정부를 형성해도 된다.
<제4 실시형태>
도 17은 본 발명의 제4 실시형태에 따른 기판처리장치를 나타내고 있다. 본 실시형태의 기판처리장치(A4)에서는, 컵(1)의 측면부(12)에 평탄영역(121)이 형성되어 있다. 평탄영역(121)은, 측면부(12)의 일부에 절곡 가공이나 드로잉 가공 등을 실시한 부위이며, 수평면을 갖는 부위이다. 평탄영역(121)은, 스테이지(2)가 하단부에 위치하는 상태에 있어서, 기판(91)이나 회동축(51)보다도 아래쪽에 위치하고 있고, 도시된 예에 있어서는, 블록(41)보다도 아래쪽에 위치하고 있다.
본 실시형태의 회동부재(5)에서는, 접촉부(53)가, 연장부(531) 및 선단부(533)를 구비한다. 도시된 예에 있어서는, 연장부(531)는, 본체부(50)로부터 비스듬히 아래쪽으로 굴곡된 형상으로 되어 있다. 선단부(533)는, 연장부(531)의 선단에 부착되어 있고, 회동 가능한 것이 바람직하다. 스테이지(2)가 상단부에 위치하는 상태에 있어서, 선단부(533)는, 연직방향(z)을 따라서 볼 때, 평탄영역(121)과 중첩되어 있다. 또, 선단부(533) 대신에, 전술한 돌기부 및 조정부를 채용해도 된다.
본 실시형태에 있어서는, 스테이지(2)가 하강하면, 선단부(533)가, 측면부(12)의 평탄영역(121)에 접촉한다. 이것에 의해, 회동축(51) 둘레를 회동부재(5)가 회동한다. 그리고, 스테이지(2)가 하단부에 위치하면, 회동부재(5)의 돌출부(521)와 재치대(4)의 재치면(411)에 의해, 기판(91)의 유지가 완료된다.
본 실시형태에 의해서도, 기판(91)을 대상으로 한 처리에의 의도하지 않은 영향을 저감시킬 수 있다. 또, 본 실시형태로부터 이해되는 바와 같이, 측면부(12)의 형상은 하등 한정되지 않고, 회동부재(5)의 접촉부(53)가 접촉하는 것에 의해, 회동부재(5)를 회동시킬 수 있는 형상이면 된다. 측면부(12)에 평탄영역(121)이 형성된 컵(1)이어도, 종래 기술에 있어서의 접촉부재가 컵 내에 설치된 구성과 비교하여, 컵(1) 내의 처리액(29)의 유동을 부당하게 교란시켜버리는 것을 억제 가능하고, 리프트 오프 처리에 의해 제거된 레지스트층이나 금속층이, 접촉부재에 부착되어버리는 것을 해소할 수 있다.
본 발명에 따른 기판처리장치는, 전술한 실시형태로 한정되는 것은 아니다. 본 발명에 따른 기판처리장치의 각 부의 구체적인 구성은, 다양하게 설계 변경 가능하다.

Claims (9)

  1. 기판처리장치로서,
    기판을 처리하기 위하여 처리액을 모으는 것이 가능한 컵;
    상기 컵 내를 연직방향으로 뻗는 승강축을 따라서 승강 가능하게 된 스테이지;
    상기 스테이지 상에 설치되어, 상기 기판을 재치하는 재치대; 및
    상기 재치대에 대하여, 상기 승강축을 중심으로 하는 둘레방향을 따른 회동축 둘레에 회동 가능하게 부착된 회동부재
    를 포함하되,
    상기 회동부재는, 상기 회동축보다도 직경방향의 내측에 위치하는 유지부와, 상기 회동축보다도 직경방향의 외측에 위치하는 접촉부를 구비하고,
    상기 스테이지의 하강에 따라서, 상기 접촉부가 상기 컵에 접촉하는 것에 의해 상기 회동부재가 회동해서, 상기 기판을 사이에 끼워서 상기 유지부와 상기 재치대의 간격이 축소되는, 기판처리장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 컵은, 상기 승강축 둘레를 회전하는 것에 의해, 상기 처리액을 직경방향 외측에 배출하는, 기판처리장치.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 컵은 상단부와, 상기 상단부에 연결되는 측면부와, 상기 측면부의 아래쪽에 연결되는 밑면부를 구비하고,
    상기 밑면부의 전부가, 연직방향을 따라서 볼 때, 상기 상단부의 내측에 포함되는, 기판처리장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 접촉부는 상기 상단부에 접촉하는, 기판처리장치.
  5. 제3항에 있어서,
    상기 접촉부는 상기 측면부에 접촉하는, 기판처리장치.
  6. 제4항에 있어서,
    상기 접촉부는 상기 회동축으로부터 연장되는 연장부와, 상기 연장부에 설치된 조정부에 결합한 돌기부를 구비하고,
    상기 돌기부는 상기 상단부에 접촉하는, 기판처리장치.
  7. 제3항에 있어서,
    상기 접촉부는, 상기 회동축으로부터 연장되는 연장부와, 상기 연장부에 설치된 조정부에 나사결합된 돌기부를 구비하고,
    상기 스테이지의 하강에 따라서, 상기 연장부가 상기 상단부에 접촉한 후에, 상기 돌기부가 상기 측면부에 접촉하는, 기판처리장치.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기판의 처리 시에는, 상기 처리액의 액면은 상기 기판보다도 위쪽에 위치하는, 기판처리장치.
  9. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 승강축은 상기 컵 내에 있어서 벨로즈(bellows) 부재에 의해서 덮여 있는, 기판처리장치.
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