JP2017147354A - 基板チャック装置 - Google Patents
基板チャック装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017147354A JP2017147354A JP2016028557A JP2016028557A JP2017147354A JP 2017147354 A JP2017147354 A JP 2017147354A JP 2016028557 A JP2016028557 A JP 2016028557A JP 2016028557 A JP2016028557 A JP 2016028557A JP 2017147354 A JP2017147354 A JP 2017147354A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- stage
- liquid container
- rotating member
- inner portion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Weting (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
Description
21 アーム
22,22’ 載置台
23 回動部材
23a 回動部材の外側部分
23b 回動部材の内側部分
31 凹部
32 回転軸
Claims (3)
- 液体容器内に貯蔵した液体に基板を浸漬させて所定の処理を行うようになされた基板処理装置に用いられる基板チャック装置であって、
上記液体容器内を上下に移動可能になされたステージと、
上記ステージ上に設けられ、上記基板を載置する載置台と、
上記載置台に対して回動可能に取り付けられた回動部材と、
上記液体容器の底面または底面近くの側面に立設された当接部材とを備え、
上記回動部材の回動支点より外側部分は、上記ステージが下方に移動して上記液体容器の底面に近づいたときに上記当接部材と接触し、上記当接部材に押されて上方へ回動する一方、上記ステージが上方に移動して上記液体容器の底面から離間したときに上記当接部材から離れて下方へ回動するようになされ、
上記回動部材の上記外側部分が上方へ回動したときに、上記回動部材の回動支点より内側部分が下方へ回動し、当該内側部分の先端がチャック位置へ移動する一方、上記回動部材の上記外側部分が下方へ回動したときに、上記回動部材の上記内側部分が上方へ回動し、当該内側部分の先端がアンチャック位置へ移動するようになされていることを特徴とする基板チャック装置。 - 上記回動部材の上記外側部分の重量が、上記回動部材の上記内側部分の重量よりも重くなるように構成されていることを特徴とする請求項1に記載の基板チャック装置。
- 上記載置台は、上記ステージ上の複数箇所に設けられ、
上記回動部材は、上記複数箇所の載置台に対してそれぞれ回動可能に取り付けられ、
上記当接部材は、上記液体容器の底面の複数箇所に立設されたピンにより構成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の基板チャック装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016028557A JP6383742B2 (ja) | 2016-02-18 | 2016-02-18 | 基板チャック装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016028557A JP6383742B2 (ja) | 2016-02-18 | 2016-02-18 | 基板チャック装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017147354A true JP2017147354A (ja) | 2017-08-24 |
JP6383742B2 JP6383742B2 (ja) | 2018-08-29 |
Family
ID=59683299
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016028557A Active JP6383742B2 (ja) | 2016-02-18 | 2016-02-18 | 基板チャック装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6383742B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023002801A1 (ja) | 2021-07-21 | 2023-01-26 | 東邦化成株式会社 | 基板処理装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06291030A (ja) * | 1993-03-31 | 1994-10-18 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 回転式基板処理装置用の基板回転保持装置 |
JPH11111822A (ja) * | 1997-10-06 | 1999-04-23 | Toshiba Corp | ウェーハチャック装置 |
JP5345507B2 (ja) * | 2009-11-10 | 2013-11-20 | 株式会社ソフ.エンジニアリング | リフトオフ装置およびリフトオフ処理方法 |
JP2015188010A (ja) * | 2014-03-26 | 2015-10-29 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置 |
-
2016
- 2016-02-18 JP JP2016028557A patent/JP6383742B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06291030A (ja) * | 1993-03-31 | 1994-10-18 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 回転式基板処理装置用の基板回転保持装置 |
JPH11111822A (ja) * | 1997-10-06 | 1999-04-23 | Toshiba Corp | ウェーハチャック装置 |
JP5345507B2 (ja) * | 2009-11-10 | 2013-11-20 | 株式会社ソフ.エンジニアリング | リフトオフ装置およびリフトオフ処理方法 |
JP2015188010A (ja) * | 2014-03-26 | 2015-10-29 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023002801A1 (ja) | 2021-07-21 | 2023-01-26 | 東邦化成株式会社 | 基板処理装置 |
KR20240035813A (ko) | 2021-07-21 | 2024-03-18 | 다이킨 파인테크 가부시키가이샤 | 기판처리장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6383742B2 (ja) | 2018-08-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6314779B2 (ja) | 液処理方法、記憶媒体及び液処理装置 | |
WO2005119748A1 (ja) | 基板洗浄方法およびコンピュータ読取可能な記憶媒体 | |
JP6102807B2 (ja) | 基板洗浄装置、基板洗浄方法及び記憶媒体 | |
WO2005104200A1 (ja) | 基板洗浄方法、基板洗浄装置、コンピュータプログラムおよびプログラム記憶媒体 | |
KR20040028385A (ko) | 웨이퍼 건조 장치 | |
JP6945314B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP2011071477A (ja) | 液処理装置および液処理方法 | |
TWI762550B (zh) | 基板清洗方法、基板清洗系統及記錄媒體 | |
JP2020167438A (ja) | 基板洗浄装置、基板処理装置、基板洗浄方法および基板処理方法 | |
TW200836841A (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
JP6383742B2 (ja) | 基板チャック装置 | |
TW201810524A (zh) | 雙層式的膠帶框架的清洗組件 | |
JPH10242110A (ja) | 回転処理方法および回転処理装置 | |
KR20110133432A (ko) | 피처리체의 처리 방법 | |
TWI649831B (zh) | Substrate processing device, substrate processing method, and memory medium | |
CN109564858A (zh) | 牺牲膜形成方法、基板处理方法以及基板处理装置 | |
JP2014225585A (ja) | スピナーおよび基板搬送機器を用いて半導体基板をスピナーに受け渡す方法 | |
WO2008065809A1 (fr) | Appareil de traitement et jig de traitement de surface | |
KR20210094464A (ko) | 기판 세정 장치 및 기판 세정 방법 | |
JP3754334B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP2005142309A (ja) | 基板の洗浄方法、洗浄装置および洗浄システム | |
JPH07183266A (ja) | 回転式基板処理装置 | |
JP6405259B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
KR100784789B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 방법 | |
JP6442361B2 (ja) | 基板処理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180615 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20180615 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20180627 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180717 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180806 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6383742 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |