TW202307923A - 基板處理裝置 - Google Patents

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substrate processing
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vertical direction
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牛田慧
齋藤憲一郎
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日商東邦化成股份有限公司
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Abstract

基板處理裝置A1係包括：杯體1，為了處理基板91，可儲存處理液92；桌台2，可沿著在鉛直方向z上延伸之昇降軸31，在杯體1內昇降；載置座4，被設於桌台2上，載置基板91；以及旋轉構件5，相對於載置座4而言，被安裝為沿著以昇降軸31為中心之圓周方向θ，可繞著旋轉軸51旋轉。旋轉構件5係具有：保持部52，位於比旋轉軸51還要靠近徑向r之內側；以及抵接部53，位於比旋轉軸51還要靠近徑向r之外側。伴隨著桌台2之下降，抵接部53係抵接到杯體1，藉此，旋轉構件5係旋轉以夾持基板91，而保持部52與載置座4之間隔係縮小。藉這種構造，可減少對於將基板91作為對象之處理之無意的影響。

Description

基板處理裝置
本發明係關於一種基板處理裝置。
進行既定處理到由包含Si（矽）之半導體等所組成之基板之基板處理裝置，其有種種提案。在專利文獻1中，開示有先前之基板處理裝置之一例。開示於該文獻之基板處理裝置，其為進行一併去除被形成於基板之光阻層、及被積層於此光阻層上之金屬層之剝離處理之裝置。此基板處理裝置係包括杯體、載置座及旋轉構件。杯體係儲存用於進行剝離處理之處理液者。載置座，其為被配置於杯體內，載置有基板者。載置座係相對於杯體而言，可昇降。旋轉構件係相對於載置座而言，可旋轉地被支撐。於杯體內，設有抵接構件。當於基板被置於載置座後之狀態下，下降時，旋轉構件係抵接於抵接構件。藉此，旋轉構件係旋轉，於載置座與旋轉構件之間，基板係被保持。 [先行技術文獻] [專利文獻]
［專利文獻1］日本專利第2017-147354號公報
[發明所欲解決的問題]
但是，抵接構件，其有不當地擾亂杯體內的處理液之流動之虞。或者，有藉剝離處理而被去除後之光阻層、金屬層等，附著於抵接構件之問題。如此一來，於將基板作為對象之處理中，抵接構件有產生無意的影響之問題。
本發明係鑑於上述情事所研發出者，其將提供一種可減少對於將基板作為對象之處理之無意的影響之基板處理裝置，作為課題。 [用以解決問題的手段]
本發明所提供之基板處理裝置，其包括：杯體，可儲存用於處理基板之處理液；桌台，可沿著在鉛直方向上延伸之昇降軸，於該杯體內昇降；載置座，被設於該桌台上，載置該基板；以及旋轉構件，相對於該載置座而言，被安裝為沿著將該昇降軸作為中心之圓周方向，可繞著旋轉軸旋轉；該旋轉構件係具有：保持部，位於比該旋轉軸還要靠近徑向之內側；以及抵接部，位於比該旋轉軸還要靠近徑向之外側；伴隨著該桌台之下降，該抵接部係抵接到該杯體，藉此，該旋轉構件係旋轉以夾持該基板，而該保持部與該載置座之間隔係縮小。
於本發明之最佳實施形態中，該杯體，其藉繞著該昇降軸旋轉，排出該處理液到徑向外邊。
於本發明之最佳實施形態中，該杯體係具有：上端部；側面部，連接於該上端部；以及底面部，連接於該側面部之下方；該底面部的全部，其沿著鉛直方向觀之，被包含於該上端部之內側。
於本發明之最佳實施形態中，該抵接部係抵接到該上端部。
於本發明之最佳實施形態中，該抵接部係抵接到該側面部。
於本發明之最佳實施形態中，該抵接部係具有：延伸部，自該旋轉軸延伸；以及突起部，結合到被設於該延伸部之調整部；該突起部係抵接到該上端部。
於本發明之最佳實施形態中，該抵接部係具有：延伸部，自該旋轉軸延伸；以及突起部，螺合到被設於該延伸部之調整部；伴隨著該桌台之下降，在該延伸部抵接到該上端部之後，該突起部係抵接到該側面部。
於本發明之最佳實施形態中，在處理該基板時，該處理液的液面，其位於比該基板還要靠近上方。
於本發明之最佳實施形態中，該昇降軸，其於該杯體內，被波紋管構件所覆蓋。 [發明功效]
當依據本發明時，可減少對於將基板作為對象之處理之無意的影響。
本發明之其他特徵及優點，藉參照附圖而在以下進行詳細說明，應該可以更加明瞭。
[用以實施發明的形態]
以下，針對本發明之最佳實施形態，參照圖面以具體說明。
本開示中之「第1」、「第2」、「第3」等用語，其為單純用於識別者，並未意圖賦予順序於這些對象物。
＜第1實施形態＞ 圖1～圖9為表示本發明之第1實施形態之基板處理裝置。本實施形態之基板處理裝置A1係包括杯體1、桌台2、驅動部3、載置座4、旋轉構件5及排液腔6。本發明之基板處理裝置，其將基板91作為對象以執行之處理之種類，並未有任何侷限。在以下，例舉執行一併去除被形成於基板91之光阻層、及被積層於此光阻層上之金屬層之剝離處理之構造為例，做說明。而且，將基板91作為對象之處理，在剝離處理之外，例如可例舉在被儲存於杯體1之處理液92中，在沉入基板91後之狀態下，長時間維持，藉膨潤光阻層以溶解之處理。
圖1為表示基板處理裝置A1之重要部位俯視圖。圖2為沿著圖1的II-II線之重要部位剖面圖。圖3為表示基板處理裝置A1之重要部位放大剖面圖。圖4為表示基板處理裝置A1之動作之重要部位剖面圖。圖5為表示基板處理裝置A1之動作之重要部位放大剖面圖。圖6為表示基板處理裝置A1之動作之重要部位剖面圖。圖7為表示基板處理裝置A1之動作之重要部位放大剖面圖。圖8及圖9為表示基板處理裝置A1之動作之重要部位剖面圖。於這些圖面中，鉛直方向z係桌台2昇降之方向。圓周方向θ，其為將在後述之鉛直方向z上延伸之昇降軸31，作為中心之圓周方向，徑向r係將昇降軸31作為中心之徑向。圖2～圖4為表示在後述之桌台2之昇降中，桌台2位於上端後之狀態。圖6～圖8為表示桌台2位於下端後之狀態。
〔杯體1〕 杯體1係可儲存用於處理基板91之處理液92者。杯體1之形狀及材質，其並未有任何侷限。杯體1係例如由不銹鋼等金屬所組成。本實施形態之杯體1，如圖1及圖2所示，其具有上端部11、側面部12及底面部13。又，在圖示之例中，杯體1還具有外壁部14。而且，所謂可儲存處理液92之杯體1，其並不侷限於在既定期間中，用於儲存一定量之處理液92之用途者，例如其也包含用於在既定工序中，處理液92始終被供給到杯體1，處理液92暫時性地滯留在杯體1後，依序被排出之用途者之概念。
上端部11，其為杯體1之中，位於鉛直方向z之上端之部分。上端部11之具體形狀，其並未有任何侷限，在圖示之例中，其為圓環狀之板狀部位。於圖2及圖3所示之狀態中，上端部11，其位於旋轉構件5的突起部532之鉛直方向z中之下方，沿著鉛直方向z觀之，其與突起部532相重疊。而且，如下所述，突起部532之具體構造係並未有任何侷限。
側面部12，其自上端部11，連接到鉛直方向z之下方。側面部12之鉛直方向z之高度，其為可收容桌台2、驅動部3、載置座4及旋轉構件5之高度。又，側面部12之鉛直方向z之高度，其為可維持處理液92之液面，相對於基板91而言，在既定高度之高度。在圖示之例中，側面部12，其作為自鉛直方向z之上方往下方，徑向r之尺寸變小之圓錐狀之傾斜部。側面部12，其沿著鉛直方向z觀之，為圓環狀。側面部12之傾斜角度並未有任何侷限，例如相對於水平面（包含徑向r及圓周方向θ之面）而言，夾30°～75°左右之角度，在圖示之例中，相對於水平面而言，夾60°左右之角度。
底面部13係連接於側面部12之鉛直方向z之下方。底面部13之形狀，其並未有任何侷限，在圖示之例中，其為圓形。底面部13的全部，其沿著鉛直方向z觀之，被包含於上端部11之內側。在圖示之例中，上端部11係圓環狀，底面部13係圓形，所以，沿著鉛直方向z觀之，上端部11之內徑，其成為大於底面部13之外徑之關係。於底面部13的中央部，設有用於插入後述之昇降軸31之開口。
外壁部14，其連接於上端部11之徑向r之外周端，自上端部11往鉛直方向z之下方延伸。外壁部14，其鉛直方向z之高度低於側面部12，其呈圓筒狀。
〔桌台2〕 桌台2，其可在鉛直方向z上，於杯體1內昇降，支撐載置座4。桌台2之具體構造係並未有任何侷限，在圖示之例中，其具有基座21及圓盤部22。
基座21係被固定於後述之昇降軸31的上端之部位。基座21係由例如不銹鋼等之金屬、塑膠等所組成。圓盤部22，其被固定於基座21，自基座21往徑向r擴大。圓盤部22，其例如沿著鉛直方向z觀之，為圓形之板狀部位。圓盤部22係由例如不銹鋼等金屬所組成。
〔驅動部3〕 驅動部3，其為具有用於昇降桌台2之驅動功能者。又，在本實施形態中，驅動部3係具有用於旋轉杯體1之驅動功能。驅動部3之具體構造係並未有任何侷限，在本實施形態中，其具有昇降軸31、支撐部32、波紋管構件33、昇降驅動機構34及旋轉驅動機構35。
昇降軸31，其上端被固定於桌台2的基座21，其為用於沿著鉛直方向z，昇降桌台2之軸。昇降軸31，其通過杯體1的底面部13的開口，延伸到鉛直方向z之下方。
支撐部32係被安裝於杯體1的底面部13的開口。於支撐部32的內部，插入有昇降軸31。當支撐部32繞著昇降軸31旋轉時，杯體1及桌台2係一同旋轉。又，波紋管構件33係與杯體1及桌台2一同旋轉。又，昇降軸31也可以與杯體1及桌台2一同旋轉。而且，也可以為藉驅動部3的具體構造，杯體1與桌台2可分別旋轉之構造。
波紋管構件33係在鉛直方向z上，可伸縮之蛇腹構造之構件。波紋管構件33之材質係並未有任何侷限，其由不銹鋼等金屬、塑膠等所組成。波紋管構件33，其上端被安裝於桌台2的基座21，下端係被安裝於支撐部32。於基座21與支撐部32之間，波紋管構件33的內部與外部，其以氣密狀態，被分隔。
昇降驅動機構34係昇降昇降軸31之驅動機構。昇降驅動機構34之具體構造係並未有任何侷限，可適宜採用馬達、壓缸等。在圖示之例中，昇降驅動機構34，其被連結於昇降軸31的下端，設有昇降驅動機構34之位置，其並未有任何侷限。
旋轉驅動機構35，其為使杯體1及桌台2繞著昇降軸31旋轉之驅動機構。旋轉驅動機構35的具體構造，其並未有任何侷限，可適宜採用馬達及齒輪等。在圖示之例中，旋轉驅動機構35，其為透過支撐部32以旋轉杯體1及桌台2之構造，但是，旋轉驅動機構35之構造係並未有任何侷限。例如其也可以為直接旋轉杯體1之構造。又，在圖示之例中，旋轉驅動機構35，其被配置於支撐部32之側邊，但是，設有旋轉驅動機構35之位置，其並未有任何侷限。由旋轉驅動機構35所做之杯體1及桌台2之旋轉速度，例如如下所述，其被設定為被儲存於杯體1之處理液92，藉由杯體1之旋轉所致之離心力，可充分排出之程度之旋轉速度。
〔載置座4〕 載置座4，其為被設於桌台2，載置有基板91者。載置座4的具體構造，其並未有任何侷限，在圖示之例中，具有複數之塊體41。複數之塊體41，其被固定於桌台2的圓盤部22上，沿著圓周方向θ，以等節距配置。在圖示之例中，四個之塊體41係以90°之節距配置，但是，其為一例，塊體41之個數、節距之大小等，並未有任何侷限。塊體41之形狀、材質等，其並未有任何侷限。塊體41之材質，最好為適切地支撐基板91，且不與基板91產生不必要之反應、損傷等者，例如由塑膠等所組成。
如圖2及圖3所示，各塊體41係具有載置面411。載置面411係朝向鉛直方向z之上方之平坦面。載置面411之位置或形狀等，其並未有任何侷限。在圖示之例中，載置面411係於鉛直方向z中，位於基座21之上方，於將後述之基板91作為對象之處理中，被設定在成為被載置之基板91，低於被儲存於杯體1之處理液92之液面之位置。又，在圖示之例中，載置面411之大小，其為支撐基板91的外周端附近的部分之大小。
〔旋轉構件5〕 旋轉構件5，其可旋轉地被安裝於載置座4（塊體41）。旋轉構件5之個數，其並未有任何侷限，在圖示之例中，對應於四個之塊體41，設有四個之旋轉構件5。旋轉構件5係具有旋轉軸51、保持部52及抵接部53。
旋轉軸51，其為沿著圓周方向θ之軸，例如由螺栓、轉軸等所組成。而且，當旋轉軸51為沿著圓周方向θ之軸時，其指沿著將昇降軸31作為中心之圓之切線方向之軸，旋轉軸51係並非指彎曲成圓弧狀者。旋轉軸51係被固定於塊體41。
保持部52係位於比旋轉軸51還要靠近徑向r之內側之部位。抵接部53係位於比旋轉軸51還要靠近徑向r之外側之部位。保持部52及抵接部53的具體構造，其並未有任何侷限。在圖示之例中，抵接部53之徑向r之大小，其大於保持部52之徑向r之大小。保持部52及抵接部53，其也可以由一個之一體性構件所組成，或者，由組合複數構件所組成。在圖示之例中，旋轉構件5係具有本體部50、延伸部531及突起部532。
本體部50，其為旋轉軸51所貫穿之部位，沿著鉛直方向z觀之，將徑向r作為長邊方向之略呈矩形之部位。本體部50之材質，其並未有任何侷限，例如由塑膠等所組成。藉本體部50之中，位於比旋轉軸51還要靠近徑向r之內側之部分，構成保持部52。又，圖示之例之保持部52，其具有突出部521。突出部521，其為保持部52之鉛直方向z之上方部分，往徑向r之內側突出之部分。突出部521，其為用於在與載置面411之間，構成既定間隙之部位。
另外，藉本體部50之中，位於比旋轉軸51還要靠近徑向r之外側之部分與延伸部531及突起部532，構成抵接部53。延伸部531，其被安裝於本體部50之鉛直方向z之下端面，全體自本體部50，延伸到徑向r之外側。延伸部531之形狀、材質等，其並未有任何侷限。在圖示之例中，延伸部531，其例如由不銹鋼等金屬所組成，呈具有第1延伸部5311、第2延伸部5312及傾斜部5313之彎曲形狀。
第1延伸部5311，其被安裝於本體部50的下端面，沿著此下端面以延伸到徑向r之外側。如下所述，於桌台2位於下端之圖6及圖7所示之狀態中，第1延伸部5311係沿著徑向r延伸。
第2延伸部5312，其位於比第1延伸部5311還要靠近徑向r之外側，於圖6及圖7所示之狀態中，位於比第1延伸部5311還要靠近鉛直方向z之上方。第2延伸部5312，其在與第1延伸部5311相同之方向上延伸，於圖6及圖7所示之狀態中，沿著徑向r延伸。於第2延伸部5312形成有調整部5314。調整部5314係結合有突起部532之部位。
傾斜部5313，其為位於第1延伸部5311與第2延伸部5312間之部分。於圖6及圖7所示之狀態中，傾斜部5313係傾斜，使得愈往徑向r之外側，則愈位於鉛直方向z之上方。又，在此狀態中，傾斜部5313係被設定，使得相對於側面部12而言，隔開間隙以平行。
突起部532，其結合到被設於第2延伸部5312之調整部5314，相對於延伸部531而言，可在圖3所示之箭頭方向上，移動調整。突起部532及調整部5314的具體構造，其並未有任何侷限。突起部532係適宜採用相對於延伸部531而言，被保持，而且，藉使用者之既定之操作等，可相對於延伸部531而言，調整突起部532之位置，藉此，可調整突起部532自延伸部531突出之量之構造。這種之突起部532與調整部5314相結合之形態，可例舉例如以下所述之螺合。又，也可以為突起部532及調整部5314之一者，夾持另一者之構造，可變更夾持力，藉此，進行突起部532之移動調整。或者，也可以在突起部532與調整部5314之結合，利用磁力。
在圖示之例中，突起部532，其由具有所謂內六角螺絲等之公螺紋之構件所組成。調整部5314，其為具有母螺紋之構造，其由例如在構成延伸部531之金屬板構件，固定六角螺帽所組成。藉此，突起部532與調整部5314，其藉螺合以被彼此結合。而且，具有母螺紋之調整部5314，其也可以藉在構成延伸部531之金屬板構件本身，形成母螺孔而設置。於圖6及圖7所示之狀態中，突起部532之鉛直方向z之下端，其自第2延伸部5312，往鉛直方向z之下方突出。
〔排液腔6〕 排液腔6，其為結束處理後之處理液92，自杯體1被排出者。排液腔6的具體構造，其並未有任何侷限。又，本發明之基板處理裝置，其也可以為未包括用於承接自杯體1被排出之處理液92之如排液腔6之構造物之構造。在本實施形態中，排液腔6，其由藉例如不銹鋼等所組成之金屬板所形成，具有上板部61、下板部62、內板部63及排出通路64。
上板部61，其為位於鉛直方向z之上方之部位，於圖示之例中，例如呈圓環狀。上板部61，其位於比杯體1的上端部11，還要靠近鉛直方向z中之上方。又，上端部11，其沿著鉛直方向z觀之，與上端部11相重疊。桌台2，其沿著鉛直方向z觀之，位於上板部61之內側。
下板部62，其相對於上板部61而言，位於鉛直方向z之下方，例如沿著鉛直方向z觀之，呈圓環狀。下板部62，沿著鉛直方向z觀之，其為大概與上板部61相重疊之形狀及大小。下板部62，其於鉛直方向z中，位於比外壁部14的下端還要靠近下方。
內板部63，其自下板部62之徑向r之內端緣，往鉛直方向z之上方延伸，呈圓筒狀。沿著鉛直方向z觀之，內板部63，其位於杯體1的側面部12與外壁部14之間，與上端部11相重疊。內板部63的下端，其於鉛直方向z中，位於比外壁部14的下端還要靠近下方。內板部63的上端，其於鉛直方向z中，位於比外壁部14的下端還要靠近上方，位於比上板部61還要靠近下方。亦即，自徑向r之外側觀之，其為外壁部14與內板部63局部性地重疊之構造。
排出通路64，其為用於導引自杯體1被排出後之處理液92，到既定處所之流路。在圖示之例中，排出通路64，其自被上板部61、下板部62及內板部63所包圍之圓環狀空間，延伸到徑向r之外側。
接著，說明基板處理裝置A1之動作。
圖2為表示開始將基板91作為對象之處理之狀態。在此狀態下，桌台2，其藉驅動部3的昇降驅動機構34以上昇，位於鉛直方向z的上端。旋轉構件5，其相對於載置座4而言，可旋轉地被支撐，未抵接到例如杯體1等。抵接部53係在徑向r中，大於保持部52之構造，所以，藉順從重力之平衡，成為抵接部53位於鉛直方向z之下方，保持部52位於鉛直方向z之上方之姿勢。在此狀態下，旋轉構件5的保持部52，沿著鉛直方向z觀之，其與載置座4的載置面411未重疊，相對於載置面411而言，位於徑向r之外側。
接著，如圖4所示，載置基板91。基板91之載置，其藉例如未圖示之保持器等，自鉛直方向z之上方，下降基板91。而且，如圖3所示，抵接基板91的外周端附近的部分到載置座4的載置面411，載置基板91。
接著，藉驅動部3的昇降驅動機構34，下降桌台2往鉛直方向z之下方。藉此，與桌台2一同地，載置座4、旋轉構件5及基板91係相對於杯體1而言下降。於圖3及圖4中，彼此離隙之上端部11與旋轉構件5的突起部532，其伴隨著桌台2之下降，如圖5所示，相抵接。而且，此抵接可以為突起部532的下端抵接，也可以為第2延伸部5312之徑向r之外邊端抵接。當自此狀態，桌台2更加下降時，旋轉構件5的旋轉軸51係下降，此外，突起部532係藉上端部11，其下降被阻止。藉此，旋轉構件5係繞著旋轉軸51旋轉（於圖5中，往順時針方向旋轉）。
圖6及圖7為表示桌台2之下降結束，桌台2位於鉛直方向z中之下端後之狀態。在圖5所示之狀態之後，突起部532抵接到杯體1的上端部11之狀態係被維持，同時杯體1、桌台2、載置座4及基板91係下降。伴隨於此，旋轉軸51係依序旋轉，成為圖6及圖7所示之姿勢。在此狀態下，第1延伸部5311及第2延伸部5312係沿著徑向r延伸。傾斜部5313，其相對於側面部12而言，隔開間隙以平行。又，第2延伸部5312，其相對於上端部11而言，隔開間隙以平行。
藉由伴隨著到達圖6及圖7所示之狀態之桌台2之下降之旋轉構件5之旋轉，保持部52的突出部521與載置座4的載置面411之間隔係縮小。於此動作中，在突出部521與載置面411之間，存在有基板91的一部份。因此，當桌台2到達下端時，突出部521與載置面411之間隔，其夾持基板91以縮到最小。此時，突出部521，其可以與基板91相接，也可以自基板91隔開少許間隙以遠離。
接著，注入處理液92到杯體1。在本實施形態中，如圖8所示，例如藉噴嘴82，注入處理液92到杯體1。處理液92之具體種類等，其並未有任何侷限，與施加於基板91之處理一併適宜選擇。
當施加剝離處理於基板91時，處理液92係可例舉例如依序選擇2種液體之例。第1種係對於光阻層，沒有溶解性之非溶解性液體。非溶解性液體係可例舉例如純水。例如處理液92，其使做為非溶解性液體之純水，自噴嘴82注入杯體1。處理液92之注入量，其被設定在被載置於載置座4之基板91，充分浸漬於處理液92之量。在此情形下，處理液92之液面，其位於比基板91還要靠近鉛直方向z之上方，在圖示之例中，其位於比塊體41的全體及旋轉構件5的本體部50的全體還要靠近鉛直方向z之上方。另外，抵接部53的延伸部531，其超過處理液92之液面，以自處理液92往上方突出。
注入作為非溶解性液體之處理液92到杯體1後，其例如使用超音波產生部81，透過處理液92以作用超音波到基板91。超音波產生部81的具體構造，其並未有任何侷限，其為例如喇叭型超音波產生器等。藉來自超音波產生部81之超音波，例如自基板91剝離被積層於光阻層上之金屬層之幾乎全部、及光阻層的一部份。當作用基板91於超音波時，最好如圖中所示之箭頭所示，例如在徑向r上，往復移動超音波產生部81。又，最好在噴嘴82在徑向r上往復移動之同時，於圓周方向θ上，低速旋轉桌台2、載置座4、旋轉構件5及基板91。藉此，可作用來自超音波產生部81之超音波，到基板91的全表面。
當來自超音波產生部81之超音波作用時，必須去除之金屬層的幾乎全部與光阻層的一部份，其成為浮遊或沉澱於處理液92之狀態。接著，自杯體1排出此處理液92。在本實施形態中，處理液92之排出，其利用由使杯體1繞著昇降軸31旋轉所致之離心力以進行之。
如圖9所示，藉驅動部3的旋轉驅動機構35，旋轉支撐部32。藉此，杯體1係旋轉。此時之旋轉速度，其被要求為充分排出杯體1內的處理液92之速度，例如顯著地比自超音波產生部81作用超音波之工序中之旋轉速度還要快。藉由杯體1之旋轉所致之離心力，處理液92，其沿著杯體1的側面部12，往徑向r之外側且鉛直方向z之上方流動。結果，超過上端部11，以依序被排出到杯體1之徑向r之外側。
自杯體1被排出之處理液92，其自上端部11與上板部61之間隙，往下板部62落下。而且，通過排出通路64，流出到既定之廢液處所。此時，自徑向r之外側觀之，杯體1的外壁部14與排液腔6的內板部63係相重疊，藉此，可抑制處理液92飛散到配置有支撐部32、昇降驅動機構34及旋轉驅動機構35等之領域等之情事。而且，在本實施形態中，與杯體1一同地，載置座4、旋轉構件5及基板91係旋轉之構造，但是，本發明並不侷限於此，例如於處理液92之排出中，其也可以為僅杯體1高速旋轉之構造。
當作為處理液92之非溶解性液體之排出結束時，於本例中，作為第2種之處理液92，其注入對於光阻層具有溶解性之溶解性液體到杯體1。作為這種之處理液92，其可例舉例如IPA（異丙醇）。於作為溶解性液體之處理液92之注入中，其最好注入使得噴射處理液92到基板91。藉此，殘存於基板91的表面之光阻層，其被作為溶解性液體之處理液92所溶解。在由處理液92所做之殘存光阻層之溶解結束後，藉與參照圖9說明過之手法同樣之手法，利用杯體1之由旋轉所致之離心力，排出處理液92。
在處理液92之排出結束後，藉昇降驅動機構34，上昇桌台2至上端為止。藉此，返回圖3及圖4所示之狀態。之後，藉未圖示之既定保持器等，自載置座4拿起基板91。藉此，對於基板91之剝離處理係結束。而且，在排出處理液92後，於上昇桌台2之前，為了乾燥殘存在基板91之處理液92等，也可以例如噴射既定氣體到基板91。
接著，說明基板處理裝置A1之作用。
當依據本實施形態時，伴隨著桌台2之下降，旋轉構件5的抵接部53係抵接到杯體1，藉此，旋轉構件5係旋轉，而保持基板91。因此，無須使用於抵接到旋轉構件5之抵接構件，設於杯體1內。藉此，藉抵接構件，可防止不當地擾亂杯體1內的處理液92之流動。或者，可避免藉剝離處理所去除後之光阻層、金屬層等，附著於抵接構件。因此，可減少對於將基板91作為對象之處理之無意的影響。
於基板處理裝置A1中，如圖9所示，藉旋轉杯體1，而自杯體1排出處理液92。與本實施形態不同地，當例如如專利文獻1所示，自杯體1的被設於底面部13之排出口排出處理液92時，浮遊於處理液92之金屬層、光阻層等的小片或粉等，有再附著於基板91的上表面以殘存之虞。當依據本實施形態時，利用由杯體1之旋轉所致之離心力，排出處理液92往徑向r之外側。因此，被包含於處理液92之金屬層、光阻層等的小片或粉等，其成為與處理液92一同往徑向r之外側飛逸之形式。因此，可抑制金屬層、光阻層等的小片、粉等，殘存於基板91之情事。而且，如專利文獻1所示，無須於杯體1設置排出口，或者，接合抵接構件之額外加工，可簡化裝置。
杯體1的側面部12，其作為圓錐狀之傾斜部。因此，於處理液92之排出中，當旋轉杯體1後，處理液92係沿著側面部12往斜上方流動，可超過上端部11以更加滑順地排出。如圖7所示，在排出處理液92時，旋轉構件5的延伸部531的傾斜部5313，其被設定為與側面部12隔著間隙以平行，藉此，處理液92可滑順地流動在側面部12與傾斜部5313之間隙，可適切地排出處理液92。
如圖5～圖7所示，旋轉構件5的抵接部53，其抵接到杯體1的上端部11，藉此，旋轉構件5係旋轉。藉此，可避免於旋轉構件5的抵接部53抵接到上端部11後，當桌台2更加下降時，旋轉構件5與杯體1係強力地相互摩擦，而阻礙旋轉構件5之滑順旋轉，旋轉構件5之旋轉成為不規則之事態。
抵接部53，其具有突起部532，突起部532係與上端部11相抵接。突起部532，其藉螺合在延伸部531以被安裝，相對於延伸部531而言，可相對移動。藉此，例如於圖6及圖7所示之狀態中，可調整突起部532對於延伸部531之位置，使得保持部52的突出部521與載置座4的載置面411之間隔，成為適合保持基板91之大小。當突起部532之位置調整暫時結束時，於其後之基板處理裝置A1之動作中，可使保持部52的突出部521與載置座4的載置面411之間隔，再現性良好地設定為適切之大小。其適於在動作基板處理裝置A1時，抑制上述間隔產生參差。又，即使因為長期間使用，在杯體1的上端部11產生變形等之後，藉突起部532之位置調整，也可適切地保持基板91。
於杯體1內，設置波紋管構件33，藉此，即使在儲存處理液92後之狀態下，也可以防止處理液92附著於昇降軸31等之情事等。
圖10～圖17為表示本發明之其他實施形態。而且，於這些圖面中，對於與上述實施形態相同或類似之元件，賦予與上述實施形態相同之編號。
＜第2實施形態＞ 圖10～圖15為表示本發明之第2實施形態之基板處理裝置。本實施形態之基板處理裝置A2，其主要為旋轉構件5之構造與上述之基板處理裝置A1不同。圖10及圖11為表示與圖2及圖3同樣狀態之基板處理裝置A2。圖14及圖15為表示與圖6及圖7同樣狀態之基板處理裝置A2。圖12及圖13為表示圖10及圖11所示之狀態，與圖14及圖15所示之狀態間之狀態之基板處理裝置A2。
於基板處理裝置A2之旋轉構件5中，延伸部531係被安裝於本體部50的上端面。延伸部531，其具有第1延伸部5311及傾斜部5313，未具有第2延伸部5312。
第1延伸部5311，其沿著本體部50的上端面，往徑向r之外側延伸。第1延伸部5311，其於圖14及圖15所示之狀態中，沿著徑向r延伸。
傾斜部5313，其自第1延伸部5311之徑向r之外邊端，往徑向r之外側延伸。傾斜部5313，其於圖14及圖15所示之狀態中，自第1延伸部5311的外邊端，愈往徑向r之外側，則愈位於鉛直方向z之上方地傾斜。又，在此狀態中，傾斜部5313係被設定為相對於側面部12而言，隔開間隙以平行。
在本實施形態中，於傾斜部5313設有調整部5315，藉螺合突起部532到此調整部5315以結合。調整部5315，其藉固定六角螺帽到構成延伸部531之金屬板構件以組成。而且，調整部5315也可以在構成延伸部531之金屬板構件本身，形成母螺孔以設置。又，與上述之調整部5314同樣地，調整部5315之構造係並未有任何侷限。
調整部5315係被配置於比基板處理裝置A1的旋轉構件5中之調整部5314之徑向r中之位置，還要靠近徑向r之內側。亦即，於基板處理裝置A2之旋轉構件5中，在比突起部532還要靠近徑向r之外側，傾斜部5313係較大地突出。於圖10及圖11所示之狀態中，傾斜部5313，其沿著鉛直方向z觀之，一部份係與上端部11相重疊。另外，突起部532，其沿著鉛直方向z觀之，位於比上端部11還要靠近徑向r之內側，與側面部12相重疊。
於基板處理裝置A2中，也為了進行將基板91作為對象之處理，進行與於基板處理裝置A1中，說明過之動作同樣之動作。當基板91被載置於載置座4時，藉旋轉驅動機構35，桌台2、載置座4、旋轉構件5及基板91係相對於杯體1而言，下降。如此一來，如圖12及圖13所示，傾斜部5313係抵接於上端部11（或者，上端部11與側面部12之邊界部分）。當在此狀態後，桌台2、載置座4及基板91更加下降時，旋轉構件5，其於傾斜部5313抵接到上端部11（或者，上端部11與側面部12之邊界部分）後之狀態下，繞著昇降軸31旋轉。
而且，在下降桌台2、載置座4及基板91，到達圖14及圖15所示之下端位置後之狀態下，突起部532係抵接到側面部12，此外，傾斜部5313係自上端部11遠離。亦即，自圖12及圖13所示之狀態，往圖14及圖15所示之狀態下降時，傾斜部5313與上端部11（或者，上端部11與側面部12之邊界部分）係抵接，而且，迎來突起部532與側面部12相抵接之狀態。而且，立刻在傾斜部5313自上端部11遠離，突起部532與側面部12抵接後之狀態下，桌台2等係下降，迎來圖14及圖15所示之狀態。於圖14及圖15所示之狀態下，突出部521與載置面411之間隔係夾持基板91，以縮到最小。
藉本實施形態，也可以減少對於將基板91作為對象之處理之無意的影響。又，在本實施形態中，如圖13及圖15所示，首先，傾斜部5313係抵接到上端部11（或者，上端部11與側面部12之邊界部分），藉此，旋轉構件5之旋轉係開始。而且，於桌台2下降至下端為止後之狀態下，突起部532係抵接到側面部12，藉此，突出部521與載置面411之間隔之大小係被決定。傾斜部5313係抵接到上端部11，藉此，可避免於伴隨著其後之下降之旋轉構件5之旋轉中，傾斜部5313與杯體1強力地相互摩擦，以阻礙旋轉構件5之滑順之旋轉，或者，旋轉構件5之旋轉成為不規則之事態。又，側面部12係全體為圓錐狀之筒狀部位。這種之側面部12，其剛性較高，較不會產生變形等。因此，藉突起部532之抵接，可更確實設定突出部521與載置面411之間隔為既定之大小。
＜第3實施形態＞ 圖16為表示本發明之第3實施形態之基板處理裝置。於本實施形態之基板處理裝置A3中，伴隨著桌台2之下降，抵接部53，其抵接於側面部12，未抵接到上端部11。
本實施形態之抵接部53係具有延伸部531。延伸部531係例如尖端往上方彎曲之形狀。又，本實施形態之側面部12，其與水平面之夾角係與基板處理裝置A1,A2相比較下較小，例如40°左右。
當桌台2係自上端之位置下降時，延伸部531的尖端部分係抵接到側面部12。而且，當桌台2更加下降而到達下端位置時，如圖所示，本體部50係成為沿著徑向r之狀態，基板91之保持係結束。
藉本實施形態，也可以減少對於將基板91作為對象之處理之無意的影響。又，由本實施形態可以理解到：本發明之旋轉構件5的抵接部53，其只要為藉抵接到杯體1而旋轉之構造即可，其也可以為僅抵接到側面部12，未抵接到上端部11之構造。又，也可以在本實施形態，設置突起部及調整部。
＜第4實施形態＞ 圖17為表示本發明之第4實施形態之基板處理裝置。於本實施形態之基板處理裝置A4中，其於杯體1的側面部12設有平坦領域121。平坦領域121，其為在側面部12的一部份，施加過彎曲加工或抽引加工等之部位，其為具有水平面之部位。平坦領域121，其於桌台2位於下端之狀態下，位於比基板91、旋轉軸51等還要下方之位置，在圖示之例中，其位於比塊體41還要靠近下方。
在本實施形態之旋轉構件5中，抵接部53係具有延伸部531及尖端部533。在圖示之例中，延伸部531係呈自本體部50往斜下方彎曲之形狀。尖端部533，其最好被安裝於延伸部531的尖端，且可旋轉。於桌台2位於上端之狀態下，尖端部533，其沿著鉛直方向z觀之，與平坦領域121相重疊。而且，也可以取代尖端部533，而採用上述之突起部及調整部。
在本實施形態中，當桌台2下降時，尖端部533係抵接到側面部12的平坦領域121。藉此，旋轉構件5係繞著旋轉軸51旋轉。而且，當桌台2位於下端時，藉旋轉構件5的突出部521與載置座4的載置面411，基板91之保持係結束。
藉本實施形態，也可以減少對於將基板91作為對象之處理之無意的影響。又，由本實施形態可以理解到：側面部12之形狀係並未有任何侷限，其只要係藉旋轉構件5的抵接部53抵接，而可以旋轉旋轉構件5之形狀即可。即使為在側面部12形成有平坦領域121之杯體1，其與先前技術中之抵接構件設於杯體內之構造相比較下，可抑制不當地擾亂杯體1內的處理液29之流動之情事，可消除藉剝離處理以被去除後之光阻層、金屬層等，附著於抵接構件之情事。
本發明之基板處理裝置，其並未侷限於上述之實施形態。本發明之基板處理裝置的各部位之具體構造，其可自由做種種設計變更。
1:杯體 2:桌台 4:載置座 5:旋轉構件 6:排液腔 11:上端部 12:側面部 13:底面部 14:外壁部 21:基座 22:圓盤部 31:昇降軸 32:支撐部 33:波紋管構件 34:昇降驅動機構 35:旋轉驅動機構 41:塊體 50:本體部 51:旋轉軸 52:保持部 53:抵接部 61:上板部 62:下板部 63:內板部 64:排出通路 411:載置面 531:延伸部 532:突起部
圖1為表示本發明之第1實施形態基板處理裝置之重要部位俯視圖。 圖2為沿著圖1的II-II線之重要部位剖面圖。 圖3為表示本發明之第1實施形態基板處理裝置之重要部位放大剖面圖。 圖4為表示本發明之第1實施形態基板處理裝置之動作之重要部位剖面圖。 圖5為表示本發明之第1實施形態基板處理裝置之動作之重要部位放大剖面圖。 圖6為表示本發明之第1實施形態基板處理裝置之動作之重要部位剖面圖。 圖7為表示本發明之第1實施形態基板處理裝置之動作之重要部位放大剖面圖。 圖8為表示本發明之第1實施形態基板處理裝置之動作之重要部位剖面圖。 圖9為表示本發明之第1實施形態基板處理裝置之動作之重要部位剖面圖。 圖10為表示本發明之第2實施形態基板處理裝置之重要部位剖面圖。 圖11為表示本發明之第2實施形態基板處理裝置之重要部位放大剖面圖。 圖12為表示本發明之第2實施形態基板處理裝置之動作之重要部位剖面圖。 圖13為表示本發明之第2實施形態基板處理裝置之動作之重要部位放大剖面圖。 圖14為表示本發明之第2實施形態基板處理裝置之動作之重要部位剖面圖。 圖15為表示本發明之第2實施形態基板處理裝置之動作之重要部位放大剖面圖。 圖16為表示本發明之第3實施形態基板處理裝置之動作之重要部位放大剖面圖。 圖17為表示本發明之第4實施形態基板處理裝置之動作之重要部位放大剖面圖。
1:杯體
2:桌台
4:載置座
5:旋轉構件
6:排液腔
11:上端部
12:側面部
13:底面部
14:外壁部
21:基座
22:圓盤部
31:昇降軸
32:支撐部
33:波紋管構件
34:昇降驅動機構
35:旋轉驅動機構
41:塊體
50:本體部
51:旋轉軸
52:保持部
53:抵接部
61:上板部
62:下板部
63:內板部
64:排出通路
411:載置面
531:延伸部
532:突起部
A1:基板處理裝置

Claims (9)

  1. 一種基板處理裝置，其包括： 杯體，為了處理基板，可儲存處理液； 桌台，可沿著在鉛直方向上延伸之昇降軸，在該杯體內昇降； 載置座，被設於該桌台上，載置該基板；以及 旋轉構件，相對於該載置座而言，被安裝為沿著以該昇降軸為中心之圓周方向，可繞著旋轉軸旋轉， 該旋轉構件係具有：保持部，位於比該旋轉軸還要靠近徑向之內側；以及抵接部，位於比該旋轉軸還要靠近徑向之外側， 伴隨著該桌台之下降，該抵接部係抵接到該杯體，藉此，該旋轉構件係旋轉以夾持該基板，而該保持部與該載置座之間隔係縮小。
  2. 如請求項1之基板處理裝置，其中該杯體，其藉繞著該昇降軸旋轉，排出該處理液到徑向外邊。
  3. 如請求項1之基板處理裝置，其中該杯體係具有：上端部；側面部，連接到該上端部；以及底面部，連接於該側面部之下方， 該底面部的全部，其沿著鉛直方向觀之，被包含於該上端部的內側。
  4. 如請求項3之基板處理裝置，其中該抵接部係抵接到該上端部。
  5. 如請求項3之基板處理裝置，其中該抵接部係抵接到該側面部。
  6. 如請求項4之基板處理裝置，其中該抵接部係具有：延伸部，自該旋轉軸延伸；以及突起部，結合到被設於該延伸部之調整部， 該突起部係抵接到該上端部。
  7. 如請求項3之基板處理裝置，其中該抵接部係具有：延伸部，自該旋轉軸延伸；以及突起部，螺合到被設於該延伸部之調整部， 伴隨著該桌台之下降，在該延伸部抵接到該上端部之後，該突起部係抵接到該側面部。
  8. 如請求項1～7中任一項之基板處理裝置，其中在處理該基板時，該處理液的液面係位於比該基板還要上方。
  9. 如請求項1～7中任一項之基板處理裝置，其中該昇降軸，其於該杯體內，被波紋管構件所覆蓋。
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