KR20230137305A

KR20230137305A - 화장료

Info

Publication number: KR20230137305A
Application number: KR1020237023359A
Authority: KR
Inventors: 안나 오키시마; 미카 요시무라; 다카시 오카; 히로코 시미즈
Original assignee: 가부시키가이샤 시세이도
Priority date: 2021-02-10
Filing date: 2022-01-28
Publication date: 2023-10-04
Also published as: US20240065962A1; CN116782867A; TW202245732A; EP4292582A1; WO2022172790A1; JPWO2022172790A1

Abstract

염을 이용하여 히알루론산의 카르복실기를 중화시켜 컴팩트화한 히알루론산을 이용한 경우에도, 충분한 보습성을 확보할 수 있는 화장료를 제공한다. 본 개시의 화장료는, 무기염 및 유기산염으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종의 염, 및 히알루론산을 포함하는 제1제, 및, 킬레이트제를 포함하는, 상기 히알루론산을 팽윤시키기 위한 제2제를 포함한다.

Description

화장료

본 개시는 화장료에 관한 것이다.

예컨대 피부를 보습하기 위해, 보습 기능을 갖는 히알루론산이 화장료 등의 분야에서 이용되고 있다.

특허문헌 1에는, 폴리락트산, 폴리글리콜산 및 락트산·글리콜산 공중합체의 어느 것으로 형성된 나노 입자의 내부 또는 표면의 적어도 한쪽에 히알루론산을 담지한 히알루론산 담지 나노 입자를 포함하는 화장료가 개시되어 있다.

특허문헌 2에는, (A) 히알루론산과, (B) 양(兩)이온성 화합물을 포함하고, 입경이 100 nm 이하인 복합 나노 입자를 포함하는, 피부 외용제가 개시되어 있다.

미공개의 특허문헌 3에는, 수성 매체, 및 수성 매체 중에 분산되어 있는 히알루론산 입자를 함유하고, 또한, 히알루론산 입자의 평균 입자 직경이 200 nm 이하인 화장료가 개시되어 있다.

특허문헌 1 : 일본특허공개 제2010-150151호 공보 특허문헌 2 : 국제공개 제2018/182003호 특허문헌 3 : PCT/JP2020/031318

히알루론산은, 카르복실기의 존재에 의해 마이너스의 전하를 갖고 있다. 이 마이너스 전하에 기초하는 정전 반발 때문에, 히알루론산은 일반적으로 실모양으로 퍼져 있다.

특허문헌 1 및 2에 기재된 바와 같은 컴팩트화한 히알루론산은, 실모양으로 퍼져 있는 히알루론산에 비교하여, 예컨대, 피부의 고랑 또는 모공 등에 정체하기 쉽다. 그러나, 특허문헌 1에 기재된 입자 중의 히알루론산의 함유 비율은 약 3 질량% 정도로 낮고, 또한, 특허문헌 2에 기재된 입자 중의 히알루론산의 함유 비율도 50 질량% 이하에 그치기 때문에, 충분한 보습성을 확보할 수 없는 경우가 있었다.

본 출원인의 연구자는, 특허문헌 3에 기재된 바와 같이, 염화나트륨 등의 전해질에 의한 정전 차폐 효과를 이용하여, 히알루론산의 카르복실기에 기초하는 마이너스 전하를 겉보기상 중화시키고, 유인 작용을 나타내는 히알루론산 중의 수산기 등에 기초하는 수소 결합을 우위로 함으로써, 히알루론산이 퍼지는 것을 억제하여, 히알루론산을 컴팩트화할 수 있는 것을 발견했다.

그러나, 특허문헌 3에 기재되는 기술을 이용하여 히알루론산을 컴팩트화한 경우, 염화나트륨 등의 전해질에 의해 히알루론산의 카르복실기가 중화되는 결과, 물을 떠안는 양(수화량)이 저하되기 때문에, 히알루론산 자체가 갖는 충분한 보습성을 확보할 수 없는 경우가 있었다.

따라서, 본 개시의 주제는, 염을 이용하여 히알루론산의 카르복실기를 중화시켜 컴팩트화한 히알루론산을 이용한 경우에도, 충분한 보습성을 확보할 수 있는 화장료를 제공하는 것이다.

〈양태 1〉

무기염 및 유기산염으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종의 염, 및 히알루론산을 포함하는 제1제, 및,

킬레이트제를 포함하는, 상기 히알루론산을 팽윤시키기 위한 제2제를 포함하는, 화장료.

〈양태 2〉

상기 제1제 중의 히알루론산의 체적이, 상기 제1제에 대하여 상기 제2제를 적용하면 증대하는, 양태 1에 기재된 화장료.

〈양태 3〉

상기 히알루론산이, 상기 제1제의 전량에 대하여 0.005 질량% 이상 포함되어 있는, 양태 1 또는 2에 기재된 화장료.

〈양태 4〉

상기 염을 구성하는 양이온이 금속 이온인, 양태 1∼3의 어느 하나에 기재된 화장료.

〈양태 5〉

상기 킬레이트제가, 에틸렌디아민사아세트산, 에틸렌디아민사아세트산이나트륨, 에틸렌디아민사아세트산삼나트륨, 니트릴로삼아세트산, 니트릴로삼아세트산나트륨, 니트릴로삼아세트산암모늄, 히드록시에틸에틸렌디아민삼아세트산, 히드록시에틸에틸렌디아민삼아세트산나트륨, 펜테틱산, 펜테틱산오나트륨, 트리에틸렌테트라민육아세트산, 트리에틸렌테트라민육아세트산나트륨, 이미디숙신산, 이미디숙신산사나트륨, 에틸렌디아민이숙신산, 에틸렌디아민이숙신산삼나트륨, 히드록시에틸이미노이아세트산, 히드록시에틸이미노이아세트산이나트륨, 이미노이숙신산, 이미노이숙신산사나트륨, 트리에틸렌테트라민육아세트산, 트리에틸렌테트라민육아세트산나트륨, 메틸글리신이아세트산, 메틸글리신이아세트산삼나트륨, 히드록시이미노디숙신산, 히드록시이미노디숙신산사나트륨, L-아스파라긴산이아세트산 L-아스파라긴산이아세트산사나트륨, 글루타민산디아세트산, 글루타민산디아세트산사나트륨, 프로판디아민사아세트산, 에틸렌디아민사아세트산이암모늄, 1,3-디아미노-2-히드록시프로판-사아세트산, 1,3-디아미노-2-히드록시프로판-사아세트산, N,N-비스(2-히드록시에틸)글리신, 글리콜에테르디아민사아세트산, 이카르복시메틸글루타민산, 이카르복시메틸글루타민산사나트륨, 디에틸렌트리아민오아세트산, 헥사메타인산, 헥사메타인산나트륨, 니트릴로트리스(메틸렌포스폰산), 니트릴로트리스(메틸렌포스폰산)칼륨, 2-포스포노부탄-1,2,4-트리카르복실산, 에틸렌디아민테트라메틸렌포스폰산, 에틸렌디아민테트라메틸렌포스폰산오나트륨, 피틴산 및 시트르산으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종인, 양태 1∼4의 어느 하나에 기재된 화장료.

〈양태 6〉

상기 히알루론산의 중량 평균 분자량이 10,000,000 이하인, 양태 1∼5의 어느 하나에 기재된 화장료.

〈양태 7〉

양태 1∼6의 어느 하나에 기재된 화장료를 사용하는 미용 방법으로서,

상기 제1제를 체표 또는 체모에 적용한 후에, 상기 제1제의 적용면에 대하여 상기 제2제를 적용하는, 미용 방법.

본 개시에 의하면, 염을 이용하여 히알루론산의 카르복실기를 중화시켜 컴팩트화한 히알루론산을 이용한 경우에도, 충분한 보습성을 확보할 수 있는 화장료를 제공할 수 있다.

도 1은 염(MgCl₂) 100 mol에 대한 킬레이트제(HMP)의 물질량(mol)과, 컴팩트화한 히알루론산의 팽창성에 관한 그래프이다.
도 2는 염(NaCl) 100 mol에 대한 킬레이트제(HMP)의 물질량(mol)과, 컴팩트화한 히알루론산의 팽창성에 관한 그래프이다.
도 3은 각종 시험 샘플의 피부에 대한 도포 전후의 각질 수분량의 변화에 관한 그래프이다.
도 4는 각종 시험 샘플의 피부에 대한 도포 전후의 피부결의 수의 변화에 관한 그래프이다.
도 5는 염화나트륨을 이용하여 조제한 히알루론산 입자의 Z 평균 입자 직경과 이온 강도에 관한 그래프이다.
도 6은 염화나트륨을 이용하여 조제한 각 히알루론산 농도의 조성물에서의 히알루론산 입자의 Z 평균 입자 직경과 이온 강도에 관한 그래프이다.
도 7은 염화나트륨을 이용하여 조제한 히알루론산 농도 0.4 질량% 및 0.5 질량%의 조성물에서의 히알루론산 입자의 Z 평균 입자 직경과 이온 강도에 관한 그래프이다.
도 8은 히알루론산 입자의 Z 평균 입자 직경과 보습 성능에 관한 그래프이다.
도 9는 시트르산 완충액을 이용하여 조제한 히알루론산 입자의 Z 평균 입자 직경과 이온 강도에 관한 그래프이다.
도 10은 요소의 첨가에 따르는 히알루론산 입자의 Z 평균 입자 직경에 관한 그래프이다.

이하, 본 개시의 실시형태에 대해 상세히 설명한다. 본 개시는, 이하의 실시형태에 한정되는 것은 아니며, 발명의 본 취지의 범위 내에서 여러가지로 변형하여 실시할 수 있다.

본 개시의 화장료는, 무기염 및 유기산염으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종의 염, 및 히알루론산을 포함하는 제1제와, 킬레이트제를 포함하는, 히알루론산을 팽윤시키기 위한 제2제를 포함하고 있다.

원리에 의해 한정되는 것은 아니지만, 본 개시의 화장료가, 염을 이용하여 히알루론산의 카르복실기를 중화시켜 컴팩트화한 히알루론산을 이용한 경우에도, 충분한 보습성을 확보할 수 있는 작용 원리는 이하와 같다고 생각한다. 여기서, 본 개시에서 「컴팩트화」란, 염을 넣지 않은 상태에서의, 히알루론산의 1 분자 또는 히알루론산 분자가 복수 서로 얽힌 상태의 구조물에 비하여 수축되어 있는 것을 의도한다. 전형적으로는, 히알루론산과 동시에 염이 포함되어 있으면, 히알루론산의 1 분자 또는 히알루론산 분자가 복수 서로 얽힌 상태의 구조물은 수축되어 있다고 할 수 있다.

히알루론산은, 일반적으로, 카르복실기의 존재에 의해 마이너스의 전하를 갖고 있다. 이 마이너스 전하에 기초하는 정전 반발 때문에, 예컨대, 히알루론산의 분자는 실모양으로 퍼지기 쉬워, 컴팩트화하기 어려운 경향이 있었다. 이 때문에, 히알루론산 분자의 구조를 수축시켜 컴팩트화하기 위해서는, 특허문헌 1 및 2와 같이, 히알루론산 분자를 담지할 수 있는 나노미터 오더의 지지 재료가 필요했다. 그 결과, 컴팩트화한 구조물 중의 히알루론산의 함유 비율에는 제한이 가해졌다.

한편, 특허문헌 3의 기술에 의하면, 염화나트륨 등의 전해질에 의한 정전 차폐 효과를 이용하여, 히알루론산의 마이너스 전하를 겉보기상 중화시켜 수소 결합을 우위로 함으로써, 히알루론산 분자가 퍼지는 것을 억제하여, 히알루론산 분자 단독이라 하더라도 컴팩트화할 수 있다. 특허문헌 3의 기술에 의해 조제한 컴팩트화한 히알루론산의 구조물은, 전술한 바와 같은 지지 재료를 이용하지 않고 조제할 수 있기 때문에, 이러한 구조물 중의 히알루론산의 함유 비율을, 이론상 100 질량%로 할 수 있다.

그러나, 이와 같이 하여 조제한 컴팩트화한 히알루론산의 구조물을 포함하는 화장료를 피부 또는 체모에 적용한 경우, 히알루론산의 카르복실기는, 염화나트륨 등의 전해질(예컨대 나트륨 이온 등의 금속 이온)로 계속 중화되고 있기 때문에, 카르복실기가 갖는 물을 떠안는 성능(수화능)을 충분히 발휘시킬 수 없다고 생각된다.

한편, 본 개시의 화장료는, 킬레이트제를 포함하는 제2제를 구비하고 있다. 이러한 제2제는, 카르복실기의 마이너스 전하를 중화시키는 성분(예컨대 나트륨 이온 등의 금속 이온)을 포착할 수 있기 때문에, 염을 이용하여 컴팩트화한 히알루론산을 피부 또는 체모에 적용한 후에, 킬레이트제를 포함하는 제2제를 적용하면, 카르복실기를 중화시켰던 나트륨 이온 등의 양이온을 포착할 수 있다고 생각된다. 그 결과, 히알루론산 중의 카르복실기는, 물을 떠안는 성능(수화능)을 충분히 발현할 수 있게 되므로, 피부 또는 체모에 대하여 양호한 보습성을 제공할 수 있다고 생각된다.

여기서, 킬레이트제를 포함하는 제2제가, 카르복실기를 중화시켰던 나트륨 이온 등의 양이온을 포착하는 것은, 예컨대, 도 1 및 2로부터 간접적으로 확인할 수 있다. 염을 이용하여 컴팩트화한 히알루론산을 포함하는 용액 중에 킬레이트제를 배합하면, 컴팩트화한 히알루론산이 팽윤하였다. 이것은 즉, 킬레이트제의 배합에 의해, 나트륨 이온 등의 양이온이 포착되어 정전 차폐 효과가 감소한 결과, 이와 같은 팽윤 현상이 생겼다고 생각된다.

또, 킬레이트제 자신도 금속 이온을 갖고 있기 때문에, 킬레이트제의 양이 많아지면, 히알루론산은 다시 컴팩트화할 수 있다. 킬레이트제의 종류 등에 따라서, 킬레이트제의 최적량은 다르지만, 염으로 컴팩트화한 히알루론산을 팽윤시킬 수 있도록, 킬레이트제를 제2제 중에 배합하면, 본 개시의 화장료는, 어느 킬레이트제라 하더라도 양호한 보습성을 제공할 수 있다.

또한, 염으로 컴팩트화한 히알루론산은, 도 10에 도시된 바와 같이, 요소에 의해서도 팽윤화시킬 수 있다. 그러나, 요소에 의한 팽윤화는, 정전 차폐 효과를 감소시켜 얻어지는 것이 아니라, 컴팩트화에 기인하는 수소 결합을 절단함으로써 얻어지는 것이다.

《화장료》

본 개시의 화장료는 제1제 및 제2제를 포함한다.

〈제1제〉

본 개시의 제1제는, 무기염 및 유기산염으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종의 염, 및 히알루론산을 포함하고 있다.

(염)

본 개시의 제1제에 배합할 수 있는 염으로는, 히알루론산의 마이너스 전하를 겉보기상 중화할 수 있는 염이라면 특별히 제한은 없다. 이러한 염으로서, 무기염 및 유기산염에서 선택되는 적어도 1종의 염을 들 수 있다. 화장료로서의 사용을 고려한 경우, 무기염 및 유기산염 중에서도, 피부 또는 체모에 대하여 악영향을 미치기 어려운 염인 것이 바람직하다. 여기서, 「무기염」이란, 무기 성분만으로 구성되는 염을 의미하며, 무기산과 무기염기로부터 생기는 이온으로 구성되는 염으로 환언할 수도 있다. 또한, 「유기산염」이란, 유기산과 금속 이온이 결합하여 생긴 염을 의미한다. 또, 염은, 제1제 중에서는, 일반적으로, 염 유래의 이온의 형태로 존재하고 있다. 따라서, 본 개시에 있어서, 예컨대 「염을 포함하는 제1제」란, 이러한 이온의 형태로 염이 포함되어 있는 것을 의도한다. 또한, 이온성 계면 활성제는, 본 개시의 「염」에는 포함되지 않는다.

무기염으로는, 예컨대, 질산나트륨, 황산나트륨, 염화나트륨, 질산칼륨, 황산칼륨, 염화칼륨, 질산칼슘, 황산칼슘, 염화칼슘, 질산마그네슘, 황산마그네슘, 염화마그네슘, 질산알루미늄, 황산알루미늄 및 염화알루미늄을 들 수 있다. 이들 염은 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.

유기산염으로는, 예컨대, 시트르산염, 아세트산염, 락트산염, 타르타르산염, 숙신산염, 말산염, 글리콜산염, 살리실산염 및 피롤리돈카르복실산염을 들 수 있다. 구체적으로는, 시트르산, 아세트산, 락트산, 타르타르산, 숙신산, 말산, 글리콜산, 살리실산, 피롤리돈카르복실산 등의 유기산과, 나트륨 이온, 칼륨 이온, 칼슘 이온, 마그네슘 이온, 알루미늄 이온 등의 금속 이온이 결합한 염을 들 수 있다. 이들 염은 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.

후술하는 제2제에 포함되는 킬레이트제에 의한 양이온의 포착성의 관점에서, 염을 구성하는 양이온은, 금속 이온인 것이 바람직하고, 2가 이상의 금속 이온인 것이 보다 바람직하다.

제1제 중의 염의 배합량은, 히알루론산의 컴팩트화의 정도에 따라서 적절하게 선정하면 되며 특별히 제한은 없다. 이러한 배합량은, 예컨대, 제1제의 전량에 대하여, 0.10 질량% 이상, 0.20 질량% 이상, 0.30 질량% 이상, 0.40 질량% 이상, 또는 0.50 질량% 이상으로 할 수 있고, 또한, 5.0 질량% 이하, 4.0 질량% 이하, 3.0 질량% 이하, 2.0 질량% 이하, 1.9 질량% 이하, 1.8 질량% 이하, 1.7 질량% 이하, 1.6 질량% 이하, 또는 1.5 질량% 이하로 할 수 있다.

제1제 중의 염의 배합량은, 염의 이온 강도로서 정의할 수도 있다. 염의 이온 강도로는, 예컨대, 0.01 이상, 0.03 이상 또는 0.05 이상으로 할 수 있고, 또한, 5.0 이하, 4.0 이하, 3.0 이하, 2.0 이하 또는 1.0 이하로 할 수 있다.

여기서, 예컨대, 완충액에 염을 첨가하여 제1제를 조제하는 경우에는, 염의 배합량 또는 이온 강도는, 완충액 자체에 포함되어 있는 염 성분과, 완충액에 별도 첨가한 염 성분을 포함하는 모든 염 성분에 기초하여 산출한다.

(히알루론산)

본 개시의 제1제에 배합할 수 있는 히알루론산으로는 특별히 제한은 없다. 일반적으로는, 히알루론산은, N-아세틸-D-글루코사민 잔기와, D-글루쿠론산 잔기가 교대로 결합한 직쇄형 고분자를 의미하며, 이러한 히알루론산은, 예컨대, 계관 혹은 다른 동물 조직으로부터의 단리 추출, 또는 스트렙트코커스속 등의 미생물을 이용한 발효법에 의해 얻을 수 있다.

히알루론산은, 그 유도체이어도 좋고, 예컨대, 히알루론산의 유도체로서, 히알루론산나트륨염, 히알루론산칼륨염, 히알루론산마그네슘염, 히알루론산칼슘염, 히알루론산알루미늄염 등의 히알루론산금속염, 히알루론산의 히드록실기, 카르복실기 등을 에테르화, 에스테르화, 아미드화, 아세틸화, 아세탈화, 케탈화시켜 얻어지는 히알루론산 유도체 등을 사용할 수 있다. 여기서, 본 개시에서의 「히알루론산」에는, 히알루론산 및 그 유도체의 개념이 포함될 수 있다.

히알루론산의 중량 평균 분자량으로는 특별히 제한은 없고, 예컨대, 10,000,000 이하로 할 수 있다. 히알루론산의 수분의 유지 성능, 및 히알루론산의 컴팩트화의 관점에서, 히알루론산의 중량 평균 분자량으로는, 예컨대, 500 이상, 1,000 이상, 5,000 이상, 10,000 이상, 50,000 이상, 100,000 이상, 300,000 이상, 500,000 이상, 800,000 이상, 또는 1,000,000 이상으로 할 수 있고, 또한, 10,000,000 이하, 8,000,000 이하, 5,000,000 이하, 3,000,000 이하, 2,000,000 이하, 또는 1,500,000 이하로 할 수 있다. 여기서, 중량 평균 분자량이란, 겔퍼미에이션 크로마토그래프 측정에서의, 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량을 의도한다.

몇가지 실시양태에 있어서, 본 개시의 히알루론산은, 평균 입자 직경이 200 nm 이하인 입자의 형태를 나타낼 수 있다. 이러한 형태의 히알루론산은, 피부 또는 체모내에 침입하기 쉬워지고, 예컨대, 피부의 각질층 또는 모공 등을 통하여 피부의 내부에 비침습적으로 침입하기 쉬워진다. 일반적으로, 중량 평균 분자량 500 미만의 비교적 저분자량의 히알루론산은, 미립자화하지 않더라도, 피부 또는 체모에 침입하기 쉽다고 생각된다. 그러나, 이러한 저분자량의 히알루론산은, 피부 또는 체모의 내부에 머무르기 어렵고, 수분의 유지 성능이 고분자량의 히알루론산에 비교하여 떨어지기 때문에, 피부 또는 체모의 내부에서의 보습 효과를 장기간에 걸쳐 지속시키는 것이 어려운 경우가 있다. 한편, 본 개시의 히알루론산 입자는, 중량 평균 분자량이 500 이상인 히알루론산을 이용하여 조제할 수 있고, 또한, 이러한 히알루론산을 고도로 입자 중에 함유시킬 수 있다. 그 결과, 얻어지는 히알루론산 입자는, 피부 또는 체모의 내부에 머무르기 쉽고, 피부 또는 체모의 내부에서의 보습 효과를 장기간에 걸쳐 지속시킬 수 있다.

히알루론산은, 히알루론산 및 그 유도체를, 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 또한, 사용하는 히알루론산 및 그 유도체의 분자량은, 동일해도 좋고 또는 상이해도 좋다.

히알루론산은 시판품을 이용해도 좋다. 시판하는 히알루론산으로는, 예컨대, 히알루론산 HA-LQ(큐피 주식회사 제조), 히알루론산 FCH(기꼬망 바이오 케미파 주식회사 제조), 및 바이오 히알루론산나트륨 HA12N(주식회사 시세이도 제조)를 들 수 있다.

본 개시의 제1제에 포함되는 히알루론산은, 염에 기초하는 정전 차폐 효과와 수소 결합의 작용에 의해 수축되어, 히알루론산의 분자가 단독으로 또는 복수가 서로 얽혀 응집한 것 같은 형태(이 형태를 「히알루론산 응집 수축물」이라고 칭하는 경우가 있다.)를 나타낸다고 생각된다. 이러한 형태의 히알루론산은, 특허문헌 1 및 2에 기재된 바와 같은 지지 재료를 이용하지 않고 조제할 수 있기 때문에, 히알루론산 응집 수축물 중의 히알루론산의 함유 비율을, 이론상 100 질량%로 할 수 있다. 즉, 본 개시의 히알루론산 응집 수축물은, 폴리머 성분으로서, 히알루론산 분자 단독으로 구성할 수 있다.

다만, 본 개시의 히알루론산 응집 수축물은, 보습 성능 등에 문제를 발생시키지 않는 범위에서, 히알루론산 이외의 다른 폴리머 성분이 포함되어 있어도 좋다. 다른 폴리머 성분의 함유 비율로는, 히알루론산 응집 수축물에 함유되는 전체 폴리머량에 대하여, 예컨대, 20 질량% 이하, 10 질량% 이하, 5 질량% 이하, 3 질량% 이하, 또는 1 질량% 이하로 할 수 있다. 즉, 본 개시에 있어서 「히알루론산 응집 수축물」이란, 이와 같이 히알루론산 성분을 고도로 포함하는 것을 의도할 수 있고, 특허문헌 1 및 2에 기재된 바와 같은, 히알루론산 성분의 비율이 50 질량% 이하인 입자는 포함되지 않는다. 여기서, 히알루론산 응집 수축물 중의 히알루론산의 함유 비율에 대해서는, 예컨대, ELISA법을 이용하여 측정할 수 있다.

몇가지 실시양태에 있어서, 히알루론산 응집 수축물은, 예컨대, 염의 첨가량 등을 조정함으로써, 동적 광산란법으로 측정 가능한 실뭉치 모양의 입자 형태(이 형태를 또한 「히알루론산 입자」라고 칭하는 경우가 있다.)로 할 수 있다. 히알루론산 입자의 피부 또는 체모에 대한 침입은, 개인차가 있고, 각질층의 상태, 털의 상태, 모공의 수 혹은 크기 등에 의해 변화할 수 있지만, 평균 입자 직경 200 nm 이하의 입자라면, 대부분의 피부 또는 체모에 대하여 입자를 침입시킬 수 있다. 피부 또는 체모에 대한 침입성, 입자 조제의 용이함 등의 관점에서, 히알루론산 입자의 평균 입자 직경으로는, 예컨대, 150 nm 이하, 120 nm 이하 또는 100 nm 이하로 할 수 있고, 또한, 10 nm 이상, 30 nm 이상 또는 50 nm 이상으로 할 수 있다. 여기서, 평균 입자 직경이란, 히알루론산 입자의 입자 형상을 구형으로 가정했을 때에 동적 광산란법에 의해 광학적으로 측정된 히알루론산 입자의 Z 평균 입자 직경을 의도한다. 이러한 평균 입자 직경은, 예컨대, 제타사이저(말번·파날리티칼사 제조), 또는 다이나믹 광산란 광도계 DLS-8000(오쓰카 전자사 제조)을 이용하여 측정할 수 있다. 이들 측정 장치는, 각 히알루론산의 오버랩 컨센트레이션에 기초하여 적절하게 선정할 수 있다. 예컨대, 오버랩 컨센트레이션 미만이면, 다이나믹 광산란 광도계 DLS-8000을 사용할 수 있고, 오버랩 컨센트레이션 이상이면, 제타사이저를 사용할 수 있다. 오버랩 컨센트레이션은, 예컨대, 공초점 퇴색후 형광 회복법(Confocal-FRAP)에 의해 산출할 수 있다.

평균 입자 직경이 200 nm 이하인 히알루론산 입자는, 피부 또는 체모의 내부에 침입할 수 있는 한편, 입자 직경이 작기 때문에, 피부 또는 체모의 내부에 머무르기 어렵다고 생각된다. 본 개시의 화장료는, 이러한 히알루론산 입자에 대하여 킬레이트제를 포함하는 제2제를 적용하여, 이러한 입자를 팽윤화시킬 수 있다. 즉, 히알루론산을 피부 또는 체모의 내부에 침입시킨 후에, 제2제를 적용하여 히알루론산을 피부 또는 체모의 내부에서 팽윤화시킬 수 있기 때문에, 히알루론산을 피부 또는 체모의 내부에 머무르게 할 수 있다. 그 결과, 피부 또는 체모의 내부에서의 보습 효과를 보다 장기간 지속시킬 수 있다.

제1제 중의 히알루론산의 함유량으로는, 예컨대, 보습성, 비용 등의 관점에서, 제1제의 전량에 대하여, 0.005 질량% 이상, 0.01 질량% 이상, 0.05 질량% 이상, 0.10 질량% 이상, 0.15 질량% 이상, 0.20 질량% 이상 또는 0.25 질량% 이상으로 할 수 있고, 또한, 1.0 질량% 이하, 0.80 질량% 이하, 0.60 질량% 이하, 0.50 질량% 이하, 또는 0.45 질량% 이하로 할 수 있다. 본 개시의 제1제 중에 포함되는 히알루론산은, 전술한 바와 같이, 히알루론산 응집 수축물 중의 히알루론산의 함유 비율이 높고, 또한, 제2제의 킬레이트제의 작용에 의해, 히알루론산 중의 카르복실기에 기초하는 수화능이 우수하기 때문에, 제1제 중의 히알루론산의 함유량이 비교적 저량이라 하더라도 충분한 보습 효과를 나타낼 수 있다.

(수성 매체)

본 개시의 제1제는, 전형적으로는 수성 매체를 포함할 수 있다. 이러한 수성 매체로는 특별히 제한은 없고, 화장료, 의약부외품 등에 사용되는 수성 매체를 사용할 수 있다. 예컨대, 이온 교환수, 증류수, 초순수, 수도물, 완충액 등을 사용할 수 있다. 수성 매체는 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.

완충액으로는, 예컨대, 시트르산 완충액, 락트산 완충액, 인산 완충액, 아세트산 완충액, 타르타르산 완충액, 붕산 완충액 및 트리스 완충액을 들 수 있다. 완충능이 높다고 하는 관점에서, 시트르산 완충액, 락트산 완충액 및 인산 완충액이 바람직하고, 시트르산 완충액이 보다 바람직하다.

완충액의 pH로는, 7.0 이하, 6.8 이하 또는 6.5 이하로 할 수 있다. 완충액의 pH의 하한치는 특별히 제한되지 않지만, 예컨대, 피부 또는 체모에 대한 자극성의 관점 등에서, 4.5 이상, 5.5 이상 또는 6.0 이상인 것이 바람직하다.

〈제2제〉

본 개시의 제2제는, 킬레이트제를 포함하고 있고, 전술한 히알루론산을 팽윤시킬 수 있다. 히알루론산을 팽윤시킬 수 있다는 것은, 바꿔 말하면, 도 1 또는 도 2에 도시된 바와 같은, 히알루론산을 팽윤시킬 수 있는 범위의 양으로, 킬레이트제가 제2제 중에 포함되는 것을 의도하고 있다. 히알루론산을 팽윤시킬 수 있는 비율로 킬레이트제가 제2제 중에 포함되어 있으면, 히알루론산 중의 카르복실기를 중화시키고 있는 양이온을 킬레이트제로 충분히 포착할 수 있다고 할 수 있다. 양이온이 괴리된 히알루론산 중의 카르복실기는, 물을 떠안는 성능(수화능)을 충분히 발현할 수 있게 되고, 또한, 팽윤한 히알루론산은 컴팩트화한 히알루론산에 비교하여 보수력이 증가하기 때문에, 이러한 히알루론산은 피부에 대하여 양호한 보습성을 제공할 수 있다.

히알루론산이 팽윤화한다는 것은, 제1제 중의 히알루론산의 체적이, 제1제에 대하여 제2제를 적용하면 증대한다는 것이며, 이 히알루론산의 체적의 증대에 관해서는, 입자 직경에 의한 비(「입자 직경비」라고 칭하는 경우가 있다.) 또는 부분 비용(比容)에 의한 비(「부분 비용비」라고 칭하는 경우가 있다.)로 평가할 수 있다.

입자 직경비로는, 1.00 초과, 1.10 이상, 1.20 이상 또는 1.30 이상으로 할 수 있다. 입자 직경비의 상한치에 대해서는 특별히 제한은 없지만, 예컨대, 3.00 이하, 2.50 이하, 2.00 이하 또는 1.80 이하로 할 수 있다. 여기서 「입자 직경비」란, 하기의 식 1로부터 산출되는 값을 의미한다:

입자 직경비=킬레이트제를 소정량 배합한 제1제 중의 히알루론산 입자의 평균 입자 직경/킬레이트제를 포함하지 않는 제1제 중의 히알루론산 입자의 평균 입자 직경… 식 1

부분 비용비로는, 1.00 초과, 1.01 이상 또는 1.02 이상으로 할 수 있다. 부분 비용비의 상한치에 대해서는 특별히 제한은 없지만, 예컨대, 1.20 이하, 1.15 이하 또는 1.10 이하로 할 수 있다. 여기서 「부분 비용」이란, 온도, 압력 및 다른 모든 성분의 농도를 일정하게 하여, 히알루론산 1 g을 무한대의 용매에 녹였을 때의 총체적의 변화량(㎤/g)이며, 하기의 식 2로부터 산출되는 값을 의미하고, 「부분 비용비」는 하기의 식 3으로부터 산출되는 값을 의미한다:

(식 2 중,

V⁰ _sp,hya는, 히알루론산의 부분 비용이고,

ρ는, 히알루론산 수용액의 밀도이고,

w_hya는, 히알루론산의 중량분률이다.)

부분 비용비=제1제에 킬레이트제를 소정량 배합한 상태의 히알루론산의 부분 비용/킬레이트제를 포함하지 않는 제1제 중의 히알루론산의 부분 비용

… 식 3

(킬레이트제)

본 개시의 제2제에 배합할 수 있는 킬레이트제로는, 히알루론산의 카르복실기의 마이너스 전하를 정전 차폐하고 있는 양이온을 포착하여, 히알루론산을 팽윤화시킬 수 있는 킬레이트제라면 특별히 제한은 없다. 이러한 킬레이트제로서, 예컨대, 에틸렌디아민사아세트산, 에틸렌디아민사아세트산이나트륨, 에틸렌디아민사아세트산삼나트륨, 니트릴로삼아세트산, 니트릴로삼아세트산나트륨, 니트릴로삼아세트산암모늄, 히드록시에틸에틸렌디아민삼아세트산, 히드록시에틸에틸렌디아민삼아세트산나트륨, 펜테틱산, 펜테틱산오나트륨, 트리에틸렌테트라민육아세트산, 트리에틸렌테트라민육아세트산나트륨, 이미디숙신산, 이미디숙신산사나트륨, 에틸렌디아민이숙신산, 에틸렌디아민이숙신산삼나트륨, 히드록시에틸이미노이아세트산, 히드록시에틸이미노이아세트산이나트륨, 이미노이숙신산, 이미노이숙신산사나트륨, 트리에틸렌테트라민육아세트산, 트리에틸렌테트라민육아세트산나트륨, 메틸글리신이아세트산, 메틸글리신이아세트산삼나트륨, 히드록시이미노디숙신산, 히드록시이미노디숙신산사나트륨, L-아스파라긴산이아세트산 L-아스파라긴산이아세트산사나트륨, 글루타민산디아세트산, 글루타민산디아세트산사나트륨, 프로판디아민사아세트산, 에틸렌디아민사아세트산이암모늄, 1,3-디아미노-2-히드록시프로판-사아세트산, 1,3-디아미노-2-히드록시프로판-사아세트산, N,N-비스(2-히드록시에틸)글리신, 글리콜에테르디아민사아세트산, 이카르복시메틸글루타민산, 이카르복시메틸글루타민산사나트륨, 디에틸렌트리아민오아세트산, 헥사메타인산, 헥사메타인산나트륨, 니트릴로트리스(메틸렌포스폰산), 니트릴로트리스(메틸렌포스폰산)칼륨, 2-포스포노부탄-1,2,4-트리카르복실산, 에틸렌디아민테트라메틸렌포스폰산, 에틸렌디아민테트라메틸렌포스폰산오나트륨, 피틴산, 및 시트르산을 들 수 있다. 킬레이트제는, 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 그 중에서도, 양이온의 포착성, 및 이 양이온의 포착에 따르는 히알루론산의 보습 효과의 관점에서, 에틸렌디아민사아세트산이나트륨(EDTA), 히드록시에틸이미노이아세트산(HIDA), 디에틸렌트리아민오아세트산(DTPA), 니트릴로삼아세트산, 피틴산 및 헥사메타인산나트륨(HMP)이 바람직하다.

제2제 중의 킬레이트제의 배합량은, 제1제 중의 히알루론산 또는 염의 종류 및 양, 및 킬레이트제의 종류에 따라, 히알루론산의 입자 직경비 또는 부분 비용비가 증대하는 범위에서 적절하게 설정할 수 있다.

예컨대, 킬레이트제로서 에틸렌디아민사아세트산이나트륨을 사용하는 경우, 염 100 몰에 대한 킬레이트제의 물질량(=(킬레이트제의 몰 농도/염의 몰 농도)×100)으로는, 0.001 이상, 0.01 이상, 0.05 이상, 0.07 이상, 0.10 이상, 0.15 이상, 0.20 이상, 0.25 이상 또는 0.30 이상으로 할 수 있고, 또한, 10 이하, 7.0 이하, 5.0 이하, 3.0 이하, 2.0 이하, 1.7 이하 또는 1.5 이하로 할 수 있다.

예컨대, 킬레이트제로서 헥사메타인산나트륨을 사용하는 경우, 염 100 몰에 대한 킬레이트제의 물질량(=(킬레이트제의 몰 농도/염의 몰 농도)×100)으로는, 0.1 이상, 0.5 이상, 1.0 이상, 1.2 이상, 1.5 이상, 1.7 이상 또는 2.0 이상으로 할 수 있고, 또한, 20 이하, 15 이하, 10 이하, 7.0 이하, 5.0 이하, 4.5 이하 또는 4.0 이하로 할 수 있다.

(수성 매체)

본 개시의 제2제는, 전형적으로는 수성 매체를 포함할 수 있다. 수성 매체로는 특별히 제한은 없고, 화장료, 의약부외품 등에 사용되는 수성 매체를 사용할 수 있다. 예컨대, 이온 교환수, 증류수, 초순수, 수도물을 사용할 수 있다. 수성 매체는 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.

〈임의 성분〉

본 개시의 화장료의 제1제 및 제2제는, 본 발명의 효과에 영향을 미치지 않는 범위에서, 각종 성분을 적절하게 배합할 수 있다. 이러한 성분으로는, 예컨대, 피부 또는 모발 영양제, 비타민, 의약품, 의약부외품, 화장품 등에 적용 가능한 수용성 약제, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 방부제, 산화 방지 조제, 증점제, 안료, 염료, 색소, 향료 등을 들 수 있다. 임의 성분은, 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.

《화장료의 조제 방법》

본 개시의 화장료의 제1제 및 제2제는, 예컨대 이하의 방법을 이용하여 조제할 수 있다. 또, 제1제 및 제2제의 조제 방법으로 사용할 수 있는, 히알루론산, 염, 킬레이트제, 물, 완충액, 임의 성분 등의 각종 재료에 대해서는, 전술한 각종 재료를 사용할 수 있다.

〈제1제의 조제 방법〉

물 또는 완충액에 염을 배합하여 용액을 조제하고, 이 용액에 히알루론산을 배합하고, 교반 혼합하면서 히알루론산을 용해시켜 제1제를 조제할 수 있다.

또는, 히알루론산을 물 또는 완충액에 배합하고, 교반 혼합하여 히알루론산을 용해시킨 후에, 염을 더 배합하여 제1제를 조제할 수 있다.

또, 완충액 자체가, 완충액 중에 포함되어 있는 염의 작용에 의해 전술한 염 농도 또는 이온 강도를 나타내는 경우에는, 염의 첨가를 생략할 수 있다.

전술한 임의 성분을 배합하는 경우에는, 이러한 임의 성분은, 히알루론산을 염으로 컴팩트화하기 전에 배합해도 좋지만, 컴팩트화한 히알루론산에 영향을 미치지 않도록, 컴팩트화한 히알루론산을 조제한 후에 배합하는 것이 바람직하다.

〈제2제의 조제 방법〉

물에 킬레이트제를 배합하고, 교반 혼합하여 제2제를 조제할 수 있다.

《화장료의 적용 부위》

본 개시의 화장료는, 몸의 모든 부분에 적용할 수 있고, 예컨대, 피부의 표면(체표) 상 또는 체모(모발) 상의 어떠한 개소에 적용할 수 있다. 구체적으로는, 예컨대, 얼굴(입술, 눈언저리, 눈꺼풀, 볼, 이마, 미간, 코 등), 머리(두피), 귀, 손, 팔, 목, 다리, 발, 가슴, 배, 등 등의 피부 표면, 또는 모발, 속눈썹, 눈썹, 수염 등의 체모에 대하여 적절하게 적용할 수 있다. 여기서, 피부에는, 피부의 표피의 각질이 변화하여 경화한 손톱 등도 포함된다. 또한, 체모는 몸에 나는 털을 의도한다. 본 개시에 있어서 「체모」는 「모발」이라고 칭할 수도 있다.

이와 같이, 본 개시의 화장료는, 피부용 화장료 또는 모발용 화장료로서 적합하게 사용할 수 있다.

《화장료를 이용한 미용 방법》

본 개시의 화장료를 이용한 미용 방법은, 전술한 제1제를 체표 또는 체모에 적용한 후에, 이 제1제의 적용면에 대하여 전술한 제2제를 적용하는 것을 포함한다. 또, 본 개시에 있어서 「미용 방법」이란, 본 개시의 화장료를 체표 또는 체모에 대하여 적용하여 체표 또는 체모의 상태를 아름답게 정돈하여 미화하는 방법을 의미하며, 인간을 수술, 치료 또는 진단하는 방법과는 상이하다.

일반적으로, 건조에 노출된 피부 또는 체모는, 모르는 사이에 수분이 빼앗겨, 피부 또는 체모의 표면의 수분량을 유지할 수 없는 상태가 된다. 예컨대, 피부 표면의 수분이 부족해지면, 피부 스스로 만들어내는 보습 성분(천연 보습 인자 : Nature Moisturizing Factor(NMF))을 잘 만들어내지 못하게 된다. 그 결과, 피부 표면에서의 배리어 기능과 보습 기능이 저하되고, 피부는 손상을 받기 쉬워지므로, 윤기를 잃어 주름, 거친 피부 등을 야기한다고 생각된다. 또한, 예컨대, 모발의 윤기가 없어져 건조해지면, 끝이 갈라지거나 모발이 끊기거나, 정전기에 의해 모발이 부스스해진다고 생각된다.

본 개시의 화장료는, 컴팩트화한 히알루론산을, 피부의 고랑 또는 모공 등에 머무르게 하거나, 혹은 체모의 표면에 흡착시키거나 한 후, 또한, 경우에 따라서는, 피부 또는 체모의 내부에 침입시킨 후에, 히알루론산 중의 카르복실기의 마이너스 전하를 중화시켰던 나트륨 이온 등의 양이온을 포착하여 팽윤화시키고, 히알루론산 자체가 갖는 보습성을 충분히 발현시켜 피부 또는 체모를 양호하게 보습할 수 있다. 그 결과, 예컨대, 피부 스스로 만들어내는 보습 성분의 생성 기능이 개선됨과 더불어, 각질층에서의 턴오버의 부조도 개선되기 때문에, 혹은, 머리털의 윤기가 개선되기 때문에, 거친 피부, 또는 끝이 갈라지거나 모발이 끊기는 등의 트러블이 생기기 어려워져, 미용 효과를 높일 수 있다.

제1제 및 제2제의 체표 또는 체모에 대한 적용 수단은 특별히 제한은 없고, 예컨대, 제1제 및 제2제를 체표 또는 체모에 도포함으로써 실시할 수 있다. 제1제 및 제2제의 체표 또는 체모에 대한 도포 수단으로는, 예컨대, 제1제 또는 제2제를 투입한 각 스프레이 용기를 이용하여 피부 또는 체모에 살포하여 실시해도 좋고, 혹은, 스프레이 기능을 갖지 않는 용기에 제1제 또는 제2제를 각각 투입하고, 이러한 용기로부터 적량의 제1제 또는 제2제를 손가락 또는 손바닥 등에 채취하여, 그것을 체표 또는 체모에 각각 도포해 가도록 하여 실시해도 좋다.

실시예

이하에 시험예 및 실시예를 들어, 본 발명에 대해 더욱 자세히 설명하지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것이 아니다.

《시험예 1∼4》

〈피부 화장료의 평가〉

하기의 제조 방법에 의해 얻은 각 시험 샘플을 이용하여 이하에 나타내는 각종 평가를 실시하고, 그 결과를 표 1∼5 및 도 1∼4에 정리한다.

(입자 직경비의 평가: 히알루론산의 팽윤성)

시험 샘플 중의 히알루론산 입자의 평균 입자 직경에 대해, 제타사이저(말번·파날리티칼사)를 이용하여, 동적 광산란법에 의한 Z 평균 입자 직경에 기초하여 평가했다. 얻어진 각 평균 입자 직경과 하기 식 4로부터 입자 직경비를 산출했다:

입자 직경비=킬레이트제를 소정량 배합한 시험 샘플 중의 히알루론산 입자의 평균 입자 직경/킬레이트제를 포함하지 않는 시험 샘플 중의 히알루론산 입자의 평균 입자 직경… 식 4

(각질 수분량의 평가)

피험자의 상완 내측부를 비누(사본돌(상표))로 세정 후, 온도 25±1℃, 상대 습도 50±5%의 항온 항습실에서 15분 경과하고, 피험자의 환경 조정을 행했다. 이어서, 세정한 상완 내측부의 피부 표면에서의 시험 샘플 적용 전의 수분량, 및 시험 샘플을 피부 표면에 대하여 2 ㎕/㎠의 비율로 18 ㎕ 도포하고 나서 30분 후 및 90분 후의 수분량을, 코르네오미터(상표) CM825(Courage and Khazaka사 제조)를 이용하여 측정했다. 여기서, 킬레이트제를 포함하는 제2제를 사용하는 경우에는, 제1제를 상기 양으로 피부에 도포한 후, 그 도포부에 대하여 제2제를 상기 양으로 피부에 더 도포했다. 또한, 표 4 중의 수분량의 값은 6회의 평균치를 나타내고, 「차분」이란, 각 실측치로부터 도포 전의 실측치를 뺀 값이다.

(피부결의 수의 평가)

피험자의 상완 내측부를 비누(사본돌(상표))로 세정 후, 온도 25±1℃, 상대 습도 50±5%의 항온 항습실에서 15분 경과하고, 피험자의 환경 조정을 행했다. 이어서, 세정한 상완 내측부의 피부 표면에서의 시험 샘플 적용 전의 피부결의 수, 및 시험 샘플을 피부 표면에 대하여 2 ㎕/㎠의 비율로 18 ㎕ 도포하고 나서 30분 후 및 90분 후의 피부결의 수를, 핸디 스킨 센서 II(주식회사 시세이도 제조)를 이용하여 측정했다. 여기서, 킬레이트제를 포함하는 제2제를 사용하는 경우에는, 제1제를 상기 양으로 피부에 도포한 후, 그 도포부에 대하여 제2제를 상기 양으로 피부에 더 도포했다. 또한, 표 5 중의 피부결의 수의 값은 6회의 평균치를 나타낸다.

〈시험예 1 : 킬레이트제의 영향〉

시험예 1에서는, 염을 배합하여 컴팩트화한 히알루론산에 미치는 킬레이트제의 영향에 대해 검토했다. 그 결과를 표 1∼2 및 도 1∼2에 나타낸다. 여기서, 킬레이트제(HMP)의 물질량은 메타인산(P₂O₅)으로 환산한 물질량이다.

(시험 샘플의 조제 방법)

히알루론산(주식회사 시세이도 제조, 바이오히알로 12 : 중량 평균 분자량 120만)을 이온 교환수 중에 0.5 질량%의 함유량이 되도록 첨가하고, 볼텍스 믹서로 교반 혼합하여 조성물 A를 조제했다. 히알루론산을 용해시킨 후, 분취한 각 조성물 A에 대하여, 염화마그네슘육수화물(MgCl₂·6H₂O)을 0.46 질량%, 0.91 질량% 및 1.42 질량%의 농도로 첨가하거나, 또는 염화나트륨을 0.82 질량% 및 1.23 질량%의 농도로 첨가하고, 볼텍스 믹서로 교반 혼합하여 킬레이트제를 포함하지 않는 시험 샘플을 각각 조제했다.

이어서, 분취한 킬레이트제를 포함하지 않는 각 시험 샘플에 대하여, 킬레이트제로서 헥사메타인산나트륨(HMP)을 표 1 및 표 2에 나타내는 농도로 첨가하고, 볼텍스 믹서로 교반 혼합하여 킬레이트제를 포함하는 시험 샘플을 각각 조제했다.

(결과)

표 1∼2 및 도 1∼2의 결과에서 분명한 바와 같이, 염을 첨가하여 컴팩트화한 히알루론산에 대하여, 킬레이트제를 소정의 비율로 배합하면, 히알루론산의 입자 직경비가 커지는, 즉, 히알루론산이 팽윤하는 것을 확인할 수 있었다. 이 히알루론산의 팽윤은, 킬레이트제가, 히알루론산의 카르복실기의 마이너스 전하를 정전 차폐하고 있는 양이온을 포착했기 때문이라고 생각된다.

또, 이 시험에서는, 염과 히알루론산을 포함하는 샘플병에 대하여 킬레이트제를 첨가한 것을 평가하고 있지만, 염과 히알루론산을 포함하는 제를 피부에 적용하고, 그 적용부에 대하여 킬레이트제를 포함하는 제를 적용하면, 히알루론산은 마찬가지로 팽윤한다고 추인할 수 있다.

〈시험예 2 : 킬레이트제의 종류〉

시험예 2에서는, 헥사메타인산나트륨(HMP) 이외의 다른 킬레이트제에 의한, 염을 배합하여 컴팩트화한 히알루론산의 팽윤성에 대해 검토했다. 그 결과를 표 3에 나타낸다. 여기서, 표 3 중의 「컨트롤」이란, 킬레이트제를 포함하지 않는, 염과 히알루론산을 포함하는 시험 샘플이며, 입자 직경비의 비교의 기준이 되는 시험 샘플이다. 또한, 표 3 중의 「EDTA」는, 에틸렌디아민사아세트산이나트륨을 의미하고, 「HIDA」는, 히드록시에틸이미노이아세트산을 의미하고, 「DTPA」는, 디에틸렌트리아민오아세트산을 의미한다.

(시험 샘플의 조제 방법)

표 3에 기재되는 각 킬레이트제를 이용하여, 시험예 1과 동일한 방법으로 시험 샘플을 조제했다. 여기서, 염으로는, 염화마그네슘육수화물(MgCl₂·6H₂O)를 사용하고, 염 농도는 1.42 질량%로 했다. 또한, 킬레이트제의 농도는 모두 0.03 질량%로 했다.

(결과)

표 3의 결과에서 분명한 바와 같이, 헥사메타인산나트륨(HMP) 이외의 다른 킬레이트제를 이용한 경우에도, 히알루론산이 팽윤하는 것을 확인할 수 있었다.

〈시험예 3 : 보습성의 평가(각질 수분량)〉

시험예 3에서는, 각 시험 샘플에 의한 각질층 수분량의 경시 변화로부터, 보습성에 대한 평가를 검토했다. 그 결과를 표 4 및 도 3에 나타낸다.

(실시예 1)

히알루론산(주식회사 시세이도 제조, 바이오히알로 12 : 중량 평균 분자량 120만)을 이온 교환수 중에 0.5 질량%의 함유량이 되도록 첨가하고, 볼텍스 믹서로 교반 혼합하여 조성물을 조제했다. 이 조성물에 대하여, 염화마그네슘육수화물(MgCl₂·6H₂O)을 1.42 질량%의 농도로 첨가하고, 볼텍스 믹서로 교반 혼합하여 제1제의 시험 샘플을 조제했다.

이어서, 이온 교환수 중에, 킬레이트제인 헥사메타인산나트륨(HMP)을 0.03 질량%의 농도로 첨가하고, 볼텍스 믹서로 교반 혼합하여 제2제의 시험 샘플을 조제했다.

(비교예 1)

실시예 1의 제1제를, 비교예 1의 시험 샘플로서 사용했다.

(비교예 2)

실시예 1의 제2제를, 비교예 2의 시험 샘플로서 사용했다.

(결과)

표 4 및 도 3의 결과에서 분명한 바와 같이, 염을 첨가하여 컴팩트화한 히알루론산을 피부에 도포한 후에 킬레이트제를 적용하면, 각질 수분량이 대폭 상승하는 것을 확인할 수 있었다. 이것은, 히알루론산 중의 카르복실기의 마이너스 전하를 중화시켰던 마그네슘 이온이, 킬레이트제에 의해 포착된 결과, 히알루론산 자체가 갖는 보습 성능이 충분히 발현됨과 더불어, 히알루론산이 팽윤하여 보수력이 증가했기 때문이라고 생각된다. 킬레이트제에 의한 양이온의 포착에 관한 결과는, 전술한 표 1∼2 및 도 1∼2의 결과와도 정합한다.

〈시험예 4 : 보습성의 평가(피부결의 수)〉

시험예 4에서는, 각 시험 샘플에 의한 피부결의 수의 경시 변화로부터, 보습성에 대한 평가를 검토했다. 그 결과를 표 5 및 도 4에 나타낸다.

(실시예 2)

실시예 1의 제1제 및 제2제를, 실시예 2의 시험 샘플로서 사용했다.

(비교예 3)

실시예 1의 제1제를, 비교예 3의 시험 샘플로서 사용했다.

(비교예 4)

실시예 1의 제2제를, 비교예 4의 시험 샘플로서 사용했다.

(결과)

표 5 및 도 4의 결과에서 분명한 바와 같이, 염을 첨가하여 컴팩트화한 히알루론산을 피부에 도포한 후에, 킬레이트제를 적용하면, 피부결의 수가 상승하는 것을 확인할 수 있었다. 이것은, 전술한 표 4 및 도 3의 결과에 나타난 바와 같이, 실시예 1의 제1제 및 제2제를 피부에 적용함으로써 각질 수분량이 증가하여, 피부결이 부드럽게 부풀어 정돈되었기 때문이다고 생각된다.

《참고 시험예 1∼6》

참고를 위해, 히알루론산이 염에 의해 입자와 같이 컴팩트화할 수 있는 것, 및 이러한 히알루론산 입자가 미치는 작용에 대해 이하에 설명한다.

〈조성물의 평가〉

하기의 제조 방법에 의해 얻은 조성물에 대하여, 이하에 나타내는 각종 평가를 실시하여, 그 결과를 표 6∼11 및 도 5∼10에 정리한다. 또, 표 및 도면 중의 「HA」는 히알루론산을 의도한다.

(평균 입자 직경의 평가)

조성물 중의 히알루론산 입자의 평균 입자 직경에 대해서는, 제타사이저(말번·파날리티칼사 제조), 또는 다이나믹 광산란 광도계 DLS-8000(오쓰카 전자사 제조)를 이용하여, 동적 광산란법에 의한 Z 평균 입자 직경에 기초하여 평가했다.

(수분량비의 평가)

피험자의 상완 내측부를 비누로 세정 후, 온도 21±1℃, 상대 습도 45±5%의 항온 항습실에서 20분 경과하고, 피험자의 환경 조정을 행했다. 이어서, 세정한 상완 내측부의 피부 표면에서의 조성물 적용 전의 수분량, 및 조성물을 피부 표면에 대하여 1 방울(2×2 ㎠) 도포하고 나서 20분 후, 30분 후, 60분 후 및 120분 후의 수분량을, 콜네오미터(상표) CM825(Courage and Khazaka사 제조)를 이용하여 측정했다. 얻어진 각 수분량으로부터 이하의 식 5에 의해 수분량비를 산출했다:

수분량비=조성물 적용 후의 수분량/조성물 적용 전의 수분량… 식 5

〈참고 시험예 1 : 이온 강도의 영향〉

참고 시험예 1에서는, 히알루론산 입자의 입자 직경에 미치는 이온 강도의 영향에 대해 검토했다. 그 결과를 표 6 및 도 5에 나타낸다.

(조성물의 조제 방법)

히알루론산(주식회사 시세이도 제조, 바이오히알로 12 : 중량 평균 분자량 120만)을 이온 교환수 중에 0.1 질량%의 함유량이 되도록 첨가하고, 볼텍스 믹서로 교반 혼합하여 조성물 B를 조제했다. 히알루론산을 용해시킨 후, 염의 이온 강도가, 0.001, 0.003, 0.01, 0.02, 0.03 및 0.10이 되도록, 분취한 각 조성물 B에 대하여, 염화나트륨을 0.01 M(mol/l), 0.003 M, 0.01 M, 0.02 M, 0.03 M 및 0.10 M의 농도로 첨가하고, 볼텍스 믹서로 교반 혼합하여 히알루론산 입자 함유 조성물을 각각 조제했다. 여기서, 1가의 양이온과 1가의 마이너스 전하로 구성되는 염화나트륨의 경우에는, 염화나트륨의 농도와 이온 강도의 값은 일치한다.

(결과)

표 6 및 도 5의 결과에서 분명한 바와 같이, 염을 첨가함으로써 나노미터 오더의 히알루론산 입자가 얻어지는 것을 확인할 수 있었다. 또한, 염의 첨가량의 증가, 즉, 이온 강도의 증가에 따라, 히알루론산 입자의 입자 직경은 감소하는 경향을 나타내고, 특히, 이온 강도가 0.03 이상에 있어서, 100 nm 이하의 히알루론산 입자가 얻어지는 것을 확인할 수 있었다.

〈참고 시험예 2 : 히알루론산의 농도 및 이온 강도의 영향〉

참고 시험예 2에서는, 히알루론산 입자의 입자 직경에 미치는 조성물 조제시의 히알루론산의 농도와 이온 강도의 영향에 대해 검토했다. 그 결과를 표 7 및 도 6에 나타낸다.

(조성물의 조제 방법)

조성물 조제시의 히알루론산의 농도를 0.01 질량%, 0.1 질량%, 0.2 질량%, 0.3 질량%, 0.4 질량%, 0.5 질량%로 하고, 이온 강도가 표 7에 기재되는 비율이 되도록 염화나트륨을 배합한 것 외에는, 참고 시험예 1과 동일하게 하여 히알루론산 입자 함유 조성물을 각각 조제했다.

(결과)

표 7 및 도 6의 결과에서 분명한 바와 같이, 히알루론산의 농도가 올라가더라도, 염을 첨가함으로써 나노미터 오더의 히알루론산 입자가 얻어지는 것을 확인할 수 있었다.

〈참고 시험예 3 : 히알루론산의 농도가 0.4∼0.5 질량%일 때의 이온 강도의 영향〉

참고 시험예 3에서는, 조성물 조제시의 히알루론산의 농도가 0.4∼0.5 질량%일 때의, 히알루론산 입자에 미치는 이온 강도의 영향에 대해 검토했다. 그 결과를 표 8 및 도 7에 나타낸다.

(조성물의 조제 방법)

히알루론산의 농도를 0.4 질량%, 0.5 질량%로 하고, 이온 강도가 표 8에 기재되는 비율이 되도록 염화나트륨을 배합한 것 외에는, 참고 시험예 1과 동일하게 하여 히알루론산 입자 함유 조성물을 각각 조제했다.

(결과)

표 8 및 도 7의 결과에서 분명한 바와 같이, 히알루론산의 농도가 0.4 질량% 및 0.5 질량%의 어느 경우도, 이온 강도가 0.05 이상이면, 200 nm 이하의 히알루론산 입자가 얻어지는 것을 확인할 수 있었다. 특히, 히알루론산의 농도가 0.4 질량%인 경우에는, 이온 강도가 0.20∼1.0의 범위에서, 100 nm 이하의 히알루론산 입자가 얻어지는 것을 확인할 수 있었다.

〈참고 시험예 4 : 보습성에 미치는 히알루론산 입자의 입자 직경의 영향〉

참고 시험예 4에서는, 보습성에 미치는 히알루론산 입자의 입자 직경의 영향에 대해 검토했다. 그 결과를 표 9 및 도 8에 나타낸다. 여기서, 수분량비는, 1보다 커지면 커질수록, 조성물 적용 전의 상태에 비교하여 보습 성능이 향상되었다고 할 수 있다. 수분량비는, 1.25 이상인 것이 바람직하고, 1.30 이상인 것이 보다 바람직하고, 1.35 이상인 것이 특히 바람직하다.

(조성물의 조제 방법)

히알루론산의 농도를 0.4 질량%로 하고, 이온 강도가 표 9에 기재되는 비율이 되도록 염화나트륨을 배합한 것 외에는, 참고 시험예 1과 동일하게 하여 히알루론산 입자 함유 조성물을 각각 조제했다. 여기서, 염화나트륨을 첨가하지 않은 이온 강도 0의 조성물 중의 히알루론산 분자는, 실모양으로 퍼져, 입자의 형태를 취하지 않는다고 생각되기 때문에, 표 및 도면 중에는 「비입자」로 표기하고 있다.

(결과)

표 9 및 도 8의 결과에서 분명한 바와 같이, 입자화하지 않은 히알루론산을 포함하는 조성물, 및 평균 입자 직경이 294 nm 이상인 히알루론산 입자를 함유하는 조성물의 경우에는, 조성물을 피부에 적용한 직후는, 보습 성능이 일시적으로 상승하고 있지만, 그 보습 성능은 겨우 30분 정도에서 저하되어, 조성물을 적용하지 않은 상태와 거의 같은 정도의 보습 성능밖에 나타내지 않았다. 이것은, 이들 조성물 중의 히알루론산이 피부 내부까지 침입하지 않았기 때문이다고 생각된다.

한편, 평균 입자 직경이 84 nm인 히알루론산 입자를 함유하는 조성물의 경우에는, 조성물을 피부에 적용하자마자 우수한 보습 성능이 발휘되고, 그 보습 성능은 장기간에 걸쳐 유지할 수 있는 것을 확인할 수 있었다. 이 보습 성능의 즉효성과 지속성에 관한 작용 효과는, 히알루론산 입자가, 피부의 내부까지 침입하기 쉬운 200 nm 이하의 초미세 입자 형태인 것과, 입자 중의 히알루론산의 함유 비율이 높은 것에 기인하고 있다고 생각된다.

〈참고 시험예 5 : 시트르산나트륨에 의한 히알루론산 입자의 입자 직경의 영향〉

참고 시험예 5에서는, 시트르산나트륨에 의한 히알루론산 입자의 입자 직경의 영향에 대해 검토했다. 그 결과를 표 10 및 도 9에 나타낸다.

(조성물의 조제 방법)

히알루론산(주식회사 시세이도 제조, 바이오히알로 12 : 중량 평균 분자량 120만)을 시트르산 완충액(후지 필름 와코준야쿠 주식회사 제조 : pH 6.5, 이온 강도 0.006) 중에 0.1 질량%의 함유량이 되도록 첨가하고, 볼텍스 믹서로 교반 혼합하여 조성물 C를 조제했다. 히알루론산을 용해시킨 후, 염의 이온 강도가 0.03, 0.06 및 0.30이 되도록, 분취한 각 조성물 C에 대하여 시트르산나트륨을 첨가하고, 볼텍스 믹서로 교반 혼합하여 히알루론산 입자 함유 조성물을 각각 조제했다. 여기서, 이온 강도가 0.03일 때의 시트르산나트륨의 농도는 0.005 M이며, 이온 강도가 0.06일 때의 시트르산나트륨의 농도는 0.010 M이며, 이온 강도가 0.30일 때의 시트르산나트륨의 농도는 0.050 M이었다.

(결과)

표 10 및 도 9의 결과에서 분명한 바와 같이, 염화나트륨 이외의 염이라 하더라도, 200 nm 이하의 히알루론산 입자가 얻어지는 것을 확인할 수 있었다.

〈참고 시험예 6 : 수소 결합을 저해하는 첨가제의 사용에 따른 히알루론산 입자의 입자 직경의 영향〉

참고 시험예 6으로부터, 수소 결합을 저해하는 첨가제인 요소의 사용에 따른 히알루론산 입자의 입자 직경의 영향에 대해 검토했다. 그 결과를 표 11 및 도 10에 나타낸다.

(참고 실시예 1)

히알루론산(시세이도 주식회사 제조, 바이오히알로 12 : 중량 평균 분자량 120만)을 이온 교환수 중에 0.1 질량%의 함유량이 되도록 첨가하고, 볼텍스 믹서로 교반 혼합하여 조성물 D를 조제했다. 히알루론산을 용해시킨 후, 염의 이온 강도가 0.10이 되도록, 조성물 D에 대하여 염화나트륨을 0.10 M의 농도로 첨가하고, 볼텍스 믹서로 교반 혼합하여 히알루론산 입자 함유 조성물을 조제했다.

(참고 실시예 2)

히알루론산(시세이도 주식회사 제조, 바이오히알로 12 : 중량 평균 분자량 120만)을 등장의 인산 완충액(다카라바이오 주식회사 제조 : pH 7.4, 이온 강도 0.154) 중에 0.1 질량%의 함유량이 되도록 첨가하고, 볼텍스 믹서로 교반 혼합하여 히알루론산 입자 함유 조성물을 조제했다.

(참고 비교예 1)

참고 실시예 1의 히알루론산 입자 함유 조성물의 전량에 대하여, 요소를 10 질량% 배합하여 참고 비교예 1의 조성물을 조제했다.

(참고 비교예 2)

참고 실시예 2의 히알루론산 입자 함유 조성물의 전량에 대하여, 요소를 10 질량% 배합하여 참고 비교예 2의 조성물을 조제했다.

(결과)

표 11 및 도 10의 결과에서, 수소 결합을 절단하는 작용을 발휘하는 요소를 조성물 중에 첨가하면, 히알루론산 입자의 입자 직경이 대폭 상승하는 것을 확인할 수 있었다. 이 결과에서도 분명한 바와 같이, 염을 이용하여 조제한 히알루론산 입자는, 수소 결합을 절단하는 요소의 배합에 의해 입자 직경이 변동하고 있다는 점에서, 요소의 영향을 받지 않는 가교 결합에 의해 얻어지는 입자가 아니라, 수소 결합에 의해 입자화한 입자라고 생각된다.

Claims

무기염 및 유기산염으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종의 염, 및 히알루론산을 포함하는 제1제, 및,
킬레이트제를 포함하는, 상기 히알루론산을 팽윤시키기 위한 제2제
를 포함하는 화장료.
제1항에 있어서, 상기 제1제 중의 히알루론산의 체적이, 상기 제1제에 대하여 상기 제2제를 적용하면 증대되는 화장료.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 히알루론산이, 상기 제1제의 전량에 대하여 0.005 질량% 이상 포함되어 있는 화장료.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 염을 구성하는 양이온이 금속 이온인 화장료.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 킬레이트제가, 에틸렌디아민사아세트산, 에틸렌디아민사아세트산이나트륨, 에틸렌디아민사아세트산삼나트륨, 니트릴로삼아세트산, 니트릴로삼아세트산나트륨, 니트릴로삼아세트산암모늄, 히드록시에틸에틸렌디아민삼아세트산, 히드록시에틸에틸렌디아민삼아세트산나트륨, 펜테틱산, 펜테틱산오나트륨, 트리에틸렌테트라민육아세트산, 트리에틸렌테트라민육아세트산나트륨, 이미디숙신산, 이미디숙신산사나트륨, 에틸렌디아민이숙신산, 에틸렌디아민이숙신산삼나트륨, 히드록시에틸이미노이아세트산, 히드록시에틸이미노이아세트산이나트륨, 이미노이숙신산, 이미노이숙신산사나트륨, 트리에틸렌테트라민육아세트산, 트리에틸렌테트라민육아세트산나트륨, 메틸글리신이아세트산, 메틸글리신이아세트산삼나트륨, 히드록시이미노디숙신산, 히드록시이미노디숙신산사나트륨, L-아스파라긴산이아세트산 L-아스파라긴산이아세트산사나트륨, 글루타민산디아세트산, 글루타민산디아세트산사나트륨, 프로판디아민사아세트산, 에틸렌디아민사아세트산이암모늄, 1,3-디아미노-2-히드록시프로판-사아세트산, 1,3-디아미노-2-히드록시프로판-사아세트산, N,N-비스(2-히드록시에틸)글리신, 글리콜에테르디아민사아세트산, 이카르복시메틸글루타민산, 이카르복시메틸글루타민산사나트륨, 헥사메타인산, 디에틸렌트리아민오아세트산, 헥사메타인산나트륨, 니트릴로트리스(메틸렌포스폰산), 니트릴로트리스(메틸렌포스폰산)칼륨, 2-포스포노부탄-1,2,4-트리카르복실산, 에틸렌디아민테트라메틸렌포스폰산, 에틸렌디아민테트라메틸렌포스폰산오나트륨, 피틴산 및 시트르산으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종인 화장료.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 히알루론산의 중량 평균 분자량이 10,000,000 이하인 화장료.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 기재된 화장료를 사용하는 미용 방법으로서,
상기 제1제를 체표 또는 체모에 적용한 후에, 상기 제1제의 적용면에 대하여 상기 제2제를 적용하는 미용 방법.