KR20230121734A - 광학 필름 및 그 제조 방법 - Google Patents

Abstract

결정성을 갖는 중합체를 포함하는 수지로 이루어지는 광학 필름으로서, 상기 광학 필름이, 두께 방향 중앙을 포함하는 부분인 중앙부와, 상기 중앙부에 대하여 두께 방향 외측에 있고, 상기 광학 필름의 주표면을 포함하는 부분인 외측부를 갖고, 상기 중앙부에 있어서의 단위 중량당의 함유 용매 중량이, 상기 외측부에 있어서의 단위 중량당의 함유 용매 중량보다 적고, NZ 계수가 0보다 크고 1 미만인, 광학 필름.

Description

광학 필름 및 그 제조 방법

본 발명은, 광학 필름 및 그 제조 방법에 관한 것이다.

결정성인 수지를 주성분으로 하는 수지 필름을 연신하여 얻어진 연신 필름을, 탄화수소계 용매와 접촉시키는 공정을 갖는, 수지 필름의 제조 방법이 알려져 있다(특허문헌 1).

일본 공개특허공보 2016-026909호

결정성을 갖는 중합체를 포함하는 수지로 이루어지는 수지 필름에 용매를 접촉시키는 공정을 포함하는 제조 방법에 의해, 수지 필름으로부터, NZ 계수가 0보다 크고 1 미만인 광학 필름이 얻어질 수 있다.

그러나, 결정성을 갖는 중합체를 포함하는 수지로 이루어지는 수지 필름에 용매를 접촉시키면, 얻어지는 광학 필름이 크게 컬되어, 광학 필름의 반송이 곤란해지는 경우가 있다. 광학 필름의 반송이 곤란해지면, 광학 필름을 그 후의 공정을 행하기 위한 장치에 연속적으로 공급하는 것이 곤란해져, 광학 필름을 포함하는 제품을, 효율적으로 제조하는 것이 곤란해지는 경우가 있다.

따라서, NZ 계수가 0보다 크고 1 미만이면서, 컬이 작은 신규한 광학 필름; 및 당해 광학 필름의 제조 방법이 요구되고 있다.

본 발명자는, 상기 과제를 해결하기 위하여, 예의 검토한 결과, 광학 필름의 중앙부에 있어서의 단위 중량당의 함유 용매 중량과 외측부에 있어서의 단위 중량당의 함유 용매 중량을 특정한 관계로 함으로써, 상기 과제가 해결되는 것을 알아내어, 본 발명을 완성시켰다.

즉, 본 발명은, 이하를 제공한다.

[1] 결정성을 갖는 중합체를 포함하는 수지로 이루어지는 광학 필름으로서,

상기 광학 필름이, 두께 방향 중앙을 포함하는 부분인 중앙부와,

상기 중앙부에 대하여 두께 방향 외측에 있고, 상기 광학 필름의 주표면을 포함하는 부분인 외측부를 갖고,

상기 중앙부에 있어서의 단위 중량당의 함유 용매 중량이, 상기 외측부에 있어서의 단위 중량당의 함유 용매 중량보다 적고,

NZ 계수가 0보다 크고 1 미만인,

광학 필름.

[2] 상기 결정성을 갖는 중합체를 포함하는 수지의 고유 복굴절이, 플러스인, [1]에 기재된 광학 필름.

[3] 상기 결정성을 갖는 중합체가, 지환식 구조를 함유하는 중합체인, [1] 또는 [2]에 기재된 광학 필름.

[4] [1] ~ [3] 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름의 제조 방법으로서,

결정성을 갖는 중합체를 포함하는 수지를, 압출 성형하여 필름(a)를 얻는 공정(1),

상기 필름(a)의 2개의 표면 중 제1 표면 상에 용매를 도공하여, 10μm보다 큰 두께를 갖는 제1 용매층을 형성하는 공정(2a),

상기 제1 용매층을 건조시키는 공정(3a),

상기 필름(a)의 2개의 표면 중 제2 표면 상에 용매를 도공하여, 10μm보다 큰 두께를 갖는 제2 용매층을 형성하는 공정(2b),

상기 제2 용매층을 건조시키는 공정(3b), 및

상기 제1 용매층 및 상기 제2 용매층을 건조시켜 얻어진 필름(b)를 연신하여 필름(c)를 얻는 공정(4)

를 포함하는, 광학 필름의 제조 방법.

[5] 상기 공정(2a) 및 상기 공정(2b)가, 동시에 행하여지는, [4]에 기재된 광학 필름의 제조 방법.

본 발명에 의하면, NZ 계수가 0보다 크고 1 미만이면서, 컬이 작은 신규한 광학 필름; 및 당해 광학 필름의 제조 방법을 제공할 수 있다.

도 1은 본 발명의 일 실시형태에 따른 광학 필름을 모식적으로 나타내는 단면도이다.

이하, 본 발명에 대하여 실시형태 및 예시물을 나타내어 상세하게 설명한다. 단, 본 발명은 이하에 나타내는 실시형태 및 예시물에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 청구범위 및 그 균등한 범위를 일탈하지 않는 범위에 있어서 임의로 변경하여 실시할 수 있다.

이하의 설명에 있어서, 「장척」의 필름이란, 폭에 대하여 5배 이상의 길이를 갖는 필름을 말하며, 바람직하게는 10배 혹은 그 이상의 길이를 갖고, 구체적으로는 롤상으로 권취되어 보관 또는 운반되는 정도의 길이를 갖는 필름을 말한다. 필름의 길이의 상한은, 특별히 제한은 없고, 예를 들어, 폭에 대하여 10만배 이하로 할 수 있다.

이하의 설명에 있어서, 장척의 필름의 경사 방향이란, 별도로 언급하지 않는 한, 그 필름의 면내 방향으로서, 그 필름의 길이 방향과 평행도 아니고 수직도 아닌 방향을 나타낸다.

이하의 설명에 있어서, 고유 복굴절이 플러스인 재료란, 별도로 언급하지 않는 한, 연신 방향의 굴절률이 그것과 수직한 방향의 굴절률보다 커지는 재료를 의미한다. 또한, 고유 복굴절이 마이너스인 재료란, 별도로 언급하지 않는 한, 연신 방향의 굴절률이 그것과 수직한 방향의 굴절률보다 작아지는 재료를 의미한다. 고유 복굴절의 값은 유전율 분포로부터 계산할 수 있다.

이하의 설명에 있어서, 층의 면내 리타데이션 Re는, 별도로 언급하지 않는 한, Re = (nx - ny) × d로 나타내어지는 값이다. 또한, 층의 두께 방향의 리타데이션 Rth는, 별도로 언급하지 않는 한, Rth = [{(nx + ny)/2} - nz] × d로 나타내어지는 값이다. 또한, 층의 NZ 계수는, 별도로 언급하지 않는 한, (nx - nz)/(nx - ny)로 나타내어지는 값이다. 여기서, nx는, 층의 두께 방향과 수직한 방향(면내 방향)으로서 최대의 굴절률을 부여하는 방향의 굴절률을 나타낸다. ny는, 층의 상기 면내 방향으로서 nx의 방향과 직교하는 방향의 굴절률을 나타낸다. nz는 층의 두께 방향의 굴절률을 나타낸다. d는, 층의 두께를 나타낸다. 측정 파장은, 별도로 언급하지 않는 한, 590nm이다.

NZ 계수는, NZ 계수 = Rth/Re + 0.5의 식으로부터 산출될 수 있다.

이하의 설명에 있어서, 요소의 방향이 「평행」, 「수직」, 및 「직교」란, 별도로 언급하지 않는 한, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위 내, 예를 들어 ±3°, ±2°, 또는 ±1°의 범위 내에서의 오차를 포함하고 있어도 된다.

[1. 광학 필름의 개요]

본 발명의 일 실시형태에 따른 광학 필름은, 결정성을 갖는 중합체를 포함하는 수지로 이루어지고, 결정성을 갖는 중합체로부터 형성되어 있다. 이하의 설명에 있어서, 결정성을 갖는 중합체를 「결정성 중합체」라고 하는 경우가 있다.

광학 필름은, 중앙부와, 외측부를 갖고 있다. 중앙부는, 광학 필름의 두께 방향 중앙을 포함하는 부분이다.

외측부는, 중앙부에 대하여, 광학 필름의 두께 방향 외측에 있고, 광학 필름의 주표면을 포함하는 부분이다.

중앙부에 있어서의 단위 중량당의 함유 용매 중량은, 상기 외측부에 있어서의 단위 중량당의 함유 용매 중량보다 적다.

광학 필름은, NZ 계수가 0보다 크고 1 미만이다.

본 실시형태의 광학 필름은, NZ 계수가 0보다 크고 1 미만이면서, 컬이 작다.

[1.1. 광학 필름의 특성]

(광학 필름의 함유 용매 중량)

본 실시형태의 광학 필름에 대하여, 이하 도면을 이용하여 설명한다.

도 1은, 본 발명의 일 실시형태에 따른 광학 필름을 모식적으로 나타내는 단면도이다.

광학 필름(100)은, 두께(d)를 갖는다. 광학 필름(100)은, 중앙부(110)와, 제1 외측부(121)와, 제2 외측부(122)로 구성된다.

광학 필름(100)은, 주표면으로서, 제1 표면(100U)과 제2 표면(100D)을 갖는다. 광학 필름(100)의 두께 방향 중앙(111)은, 제1 표면(100U)과 제2 표면(100D)으로부터 등거리의 면이다. 중앙부(110)는, 두께 방향 중앙(111)을 포함하는 부분이다. 제1 외측부(121)는, 중앙부(110)보다 두께 방향 외측에 있고, 제1 표면(100U)을 포함하는 부분이다. 제2 외측부(122)는, 중앙부(110)보다 두께 방향 외측에 있고, 제2 표면(100D)을 포함하는 부분이다.

제1 외측부(121)는, 두께(d1)을 갖는다. 제2 외측부(122)는, 두께(d2)를 갖는다. 중앙부(110)는, 두께(d3)을 갖는다. 두께(d1)과, 두께(d2)와, 두께(d3)은, 서로 동등하며, d1 = d2 = d3이다. 또한, 두께(d1)과, 두께(d2)와, 두께(d3)의 합은, 광학 필름(100)의 두께(d)와 동등하며, d = d1 + d2 + d3이다. 따라서, d1 = d2 = d3 = d/3이다.

중앙부(110)에 있어서의 단위 중량당의 함유 용매 중량 Wc는, 제1 외측부(121) 및 제2 외측부(122)에 있어서의 단위 중량당의 함유 용매 중량 Ws보다 적다.

이에 의해, 광학 필름의 컬을 작게 할 수 있다.

여기서, 단위 중량을 1mg으로 한다.

단위 중량당의 함유 용매 중량은, 하기 방법에 의해 측정할 수 있다.

광학 필름(100)의 중량 W0(0.5mg 또는 0.2mg) 중의 함유 용매 중량 St를, n-데칸을 표준 시료로 하여 GC/MS에 의해 측정한다. GC/MS의 측정 조건은, 실시예에 기재된 조건으로 할 수 있다.

이어서, 광학 필름(100)으로부터 외측부(즉, 제1 외측부(121) 및 제2 외측부(122))를 제외한 나머지의 중앙부(110)의 중량 W0 중의 함유 용매 중량 Sc를, 함유 용매 중량 St와 마찬가지로 GC/MS에 의해 측정한다.

얻어진 함유 용매 중량 St 및 함유 용매 중량 Sc로부터, 식: Ss = St - Sc에 따라 제1 외측부(121) 및 제2 외측부(122)의 중량 W0 중의 함유 용매 중량 Ss를 구한다.

얻어진 함유 용매 중량 Sc, 칭량한 샘플량 W0(0.5mg 또는 0.2mg)으로부터, 중앙부에 있어서의 단위 중량(1mg)당의 함유 용매 중량 Wc를 구할 수 있다. 또한, 함유 용매 중량 Ss와, W0으로부터, 제1 외측부 및 제2 외측부에 있어서의 단위 중량(1mg)당의 함유 용매 중량 Ws를 구할 수 있다.

여기서, 제1 외측부(121)에 있어서의 단위 중량당의 함유 용매 중량과, 제2 외측부(122)에 있어서의 단위 중량당의 함유 용매 중량은, 동일하다고 간주한다.

광학 필름의 중앙부(110)에 있어서의 단위 중량(1mg)당의 함유 용매 중량 Wc는, 바람직하게는 0.03 mg/mg 이하, 보다 바람직하게는 0.02 mg/mg 이하, 더욱 바람직하게는 0.01 mg/mg 이하이고, 통상 0 mg/mg 이상이며, 0.0001 mg/mg 이상이어도 되고 0.001 mg/mg 이상이어도 된다.

광학 필름의 제1 외측부(121) 및 제2 외측부(122)에 있어서의 단위 중량(1mg)당의 함유 용매 중량 Ws는, 바람직하게는 0.001 mg/mg 이상, 보다 바람직하게는 0.005 mg/mg 이상, 더욱 바람직하게는 0.01 mg/mg 이상이고, 바람직하게는 0.15 mg/mg 이하, 보다 바람직하게는 0.1 mg/mg 이하, 더욱 바람직하게는 0.05 mg/mg 이하이다.

중앙부(110)에 있어서의 단위 중량당의 함유 용매 중량 Wc의 제1 외측부(121) 및 제2 외측부(122)에 있어서의 단위 중량당의 함유 용매 중량 Ws에 대한 비율(Wc/Ws)은, 통상 1.0 미만이고, 바람직하게는 0.5 이하, 보다 바람직하게는 0.4 이하, 더욱 바람직하게는 0.3 이하이며, 통상 0 이상이고, 0이어도 되며, 예를 들어 0.0001 이상, 예를 들어 0.001 이상이어도 된다.

이에 의해, 광학 필름에 원하는 광학 특성을 부여할 수 있는 동시에, 광학 필름의 컬을 작게 할 수 있다.

비율(Wc/Ws)은, 광학 필름의 제조에 있어서, 수지 필름의 주표면 상에 형성하는 용매층의 두께를 적당히 조정함으로써 조정할 수 있다. 용매층의 두께를 크게 할수록, 비율(Wc/Ws)을, 통상 크게 할 수 있다.

광학 필름에 포함될 수 있는 용매는, 통상 유기 용매이다. 광학 필름에 포함되는 유기 용매는, 1종이어도 되고, 2종 이상이어도 된다. 광학 필름이 유기 용매를 2종 이상 포함하는 경우, 상기 Wc 및 Ws는 각각, 포함되는 복수종의 유기 용매의 총 중량을 의미한다. 광학 필름에 포함될 수 있는 바람직한 유기 용매의 예로는, 결정성 중합체를 용해하지 않는 유기 용매를 들 수 있고, 톨루엔, 리모넨, 데칼린 등의 탄화수소 용매; 이황화탄소;를 들 수 있으며, 바람직하게는 톨루엔이다.

(광학 필름의 NZ 계수)

광학 필름의 NZ 계수는, 통상 0보다 크고, 바람직하게는 0.1 이상, 보다 바람직하게는 0.2 이상이며, 통상 1 미만, 바람직하게는 0.8 이하, 보다 바람직하게는 0.7 이하이다.

NZ 계수가 상기 범위에 있는 광학 필름은, 컬이 크기 때문에, 효율적으로 제조하는 것이 어려운 경우가 있었다. 본 실시형태의 광학 필름은, 광학 필름의 NZ 계수가 상기 범위에 있으면서, 컬이 작다. 따라서, 광학 필름 및 광학 필름을 포함하는 제품을 효율적으로 제조할 수 있다.

광학 필름을, 예를 들어 후술하는 제조 방법으로 제조함으로써, 광학 필름의 NZ 계수를 상기 범위 내에 들어가게 할 수 있다.

(광학 필름의 리타데이션)

광학 필름의 면내 리타데이션 Re는, 광학 필름에 요구되는 NZ 계수를 만족하는 것을 전제로 하여, 광학 필름의 광학 용도에 따른 임의의 범위로 할 수 있다.

예를 들어, 광학 필름의 면내 리타데이션 Re는, 바람직하게는 80nm 이상, 보다 바람직하게는 90nm 이상, 더욱 바람직하게는 100nm 이상으로 할 수 있고, 바람직하게는 400nm 이하, 보다 바람직하게는 350nm 이하, 더욱 바람직하게는 300nm 이하로 할 수 있다. 광학 필름의 면내 리타데이션 Re는, 예를 들어, 광학 필름을 제조하기 위한 수지 필름의 두께, 연신 배율 등의 제조 조건을 조정함으로써 조정할 수 있다.

광학 필름의 두께 방향에 있어서의 리타데이션 Rth는, 광학 필름에 요구되는 NZ 계수를 만족하는 것을 전제로 하여, 임의의 범위로 할 수 있다.

예를 들어, 광학 필름의 두께 방향에 있어서의 리타데이션 Rth는, 바람직하게는 -70nm 이상, 보다 바람직하게는 -60nm 이상, 더욱 바람직하게는 -50nm 이상이고, 바람직하게는 70nm 이하, 보다 바람직하게는 60nm 이하, 더욱 바람직하게는 50nm 이하이다. 광학 필름의 두께 방향에 있어서의 리타데이션 Rth는, 예를 들어, 후술하는 용매층의 두께를 조정하는 것, 연신 배율 등의 제조 조건을 조정하는 것에 의해 조정할 수 있다.

필름의 리타데이션은, 위상차계(예를 들어, AXOMETRICS사 제조 「AxoScan OPMF-1」)를 사용하여 측정할 수 있다.

[1.2. 광학 필름의 재료]

상기와 같이, 본 실시형태의 광학 필름은, 결정성을 갖는 중합체를 포함하는 수지로 이루어지고, 당해 수지로 형성되어 있다.

「결정성을 갖는 중합체」란, 녹는점 Tm을 갖는 중합체를 나타낸다. 즉, 「결정성을 갖는 중합체」란, 시차 주사 열량계(DSC)로 녹는점을 관측할 수 있는 중합체를 나타낸다. 이하의 설명에 있어서, 결정성을 갖는 중합체를, 「결정성 중합체」라고 하는 경우가 있다. 또한, 결정성 중합체를 포함하는 수지를 「결정성 수지」라고 하는 경우가 있다. 이 결정성 수지는, 바람직하게는 열가소성 수지이다.

결정성 중합체는, 플러스의 고유 복굴절을 갖는 것이 바람직하다. 플러스의 고유 복굴절을 갖는 결정성 중합체를 사용함으로써, 원하는 광학 특성을 갖는 광학 필름을 용이하게 제조할 수 있다.

결정성 중합체는, 예를 들어, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN) 등의 폴리에스테르; 폴리에틸렌(PE), 폴리프로필렌(PP) 등의 폴리올레핀; 등이어도 되고, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 지환식 구조를 함유하는 것이 바람직하다. 지환식 구조를 함유하는 결정성 중합체를 사용함으로써, 광학 필름의 기계 특성, 내열성, 투명성, 저흡습성, 치수 안정성, 및 경량성을 양호하게 할 수 있다. 지환식 구조를 함유하는 중합체란, 분자 내에 지환식 구조를 갖는 중합체를 나타낸다. 이러한 지환식 구조를 함유하는 중합체는, 예를 들어, 고리형 올레핀을 단량체로서 사용한 중합 반응에 의해 얻어질 수 있는 중합체 또는 그 수소화물일 수 있다.

지환식 구조로는, 예를 들어, 시클로알칸 구조 및 시클로알켄 구조를 들 수 있다. 이들 중에서도, 열 안정성 등의 특성이 우수한 광학 필름이 얻어지기 쉬운 점에서, 시클로알칸 구조가 바람직하다. 1개의 지환식 구조에 포함되는 탄소 원자의 수는, 바람직하게는 4개 이상, 보다 바람직하게는 5개 이상이고, 바람직하게는 30개 이하, 보다 바람직하게는 20개 이하, 특히 바람직하게는 15개 이하이다. 1개의 지환식 구조에 포함되는 탄소 원자의 수가 상기 범위 내에 있음으로써, 기계적 강도, 내열성, 및 성형성이 고도로 밸런스된다.

지환식 구조를 함유하는 결정성 중합체에 있어서, 모든 구조 단위에 대한 지환식 구조를 갖는 구조 단위의 비율은, 바람직하게는 30 중량% 이상, 보다 바람직하게는 50 중량% 이상, 특히 바람직하게는 70 중량% 이상이다. 지환식 구조를 갖는 구조 단위의 비율을 상기와 같이 많게 함으로써, 내열성을 높일 수 있다. 모든 구조 단위에 대한 지환식 구조를 갖는 구조 단위의 비율은, 100 중량% 이하로 할 수 있다. 또한, 지환식 구조를 함유하는 결정성 중합체에 있어서, 지환식 구조를 갖는 구조 단위 이외의 잔부는, 특별한 한정은 없고, 사용 목적에 따라 적당히 선택할 수 있다.

지환식 구조를 함유하는 결정성 중합체로는, 예를 들어, 하기의 중합체(α) ~ 중합체(δ)를 들 수 있다. 이들 중에서도, 내열성이 우수한 광학 필름이 얻어지기 쉬운 점에서, 중합체(β)가 바람직하다.

중합체(α): 고리형 올레핀 단량체의 개환 중합체로서, 결정성을 갖는 것.

중합체(β): 중합체(α)의 수소화물로서, 결정성을 갖는 것.

중합체(γ): 고리형 올레핀 단량체의 부가 중합체로서, 결정성을 갖는 것.

중합체(δ): 중합체(γ)의 수소화물로서, 결정성을 갖는 것.

구체적으로는, 지환식 구조를 함유하는 결정성 중합체로는, 디시클로펜타디엔의 개환 중합체로서 결정성을 갖는 것, 및 디시클로펜타디엔의 개환 중합체의 수소화물로서 결정성을 갖는 것이 보다 바람직하다. 그 중에서도, 디시클로펜타디엔의 개환 중합체의 수소화물로서 결정성을 갖는 것이 특히 바람직하다. 여기서, 디시클로펜타디엔의 개환 중합체란, 전체 구조 단위에 대한 디시클로펜타디엔 유래의 구조 단위의 비율이, 통상 50 중량% 이상, 바람직하게는 70 중량% 이상, 보다 바람직하게는 90 중량% 이상, 더욱 바람직하게는 100 중량%인 중합체를 말한다.

디시클로펜타디엔의 개환 중합체의 수소화물은, 라세모·다이애드의 비율이 높은 것이 바람직하다. 구체적으로는, 디시클로펜타디엔의 개환 중합체의 수소화물에 있어서의 반복 단위의 라세모·다이애드의 비율은, 바람직하게는 51% 이상, 보다 바람직하게는 70% 이상, 특히 바람직하게는 85% 이상이다. 라세모·다이애드의 비율이 높은 것은, 신디오택틱 입체 규칙성이 높은 것을 나타낸다. 따라서, 라세모·다이애드의 비율이 높을수록, 디시클로펜타디엔의 개환 중합체의 수소화물의 녹는점이 높은 경향이 있다.

라세모·다이애드의 비율은, 후술하는 실시예에 기재된 ¹³C-NMR 스펙트럼 분석에 기초하여 결정할 수 있다.

상기 중합체(α) ~ 중합체(δ)로는, 국제 공개 제2018/062067호에 개시되어 있는 제조 방법에 의해 얻어지는 중합체를 사용할 수 있다.

결정성 중합체의 녹는점 Tm은, 바람직하게는 200℃ 이상, 보다 바람직하게는 230℃ 이상이고, 바람직하게는 290℃ 이하이다. 이러한 녹는점 Tm을 갖는 결정성 중합체를 사용함으로써, 성형성과 내열성의 밸런스가 더욱 우수한 광학 필름을 얻을 수 있다.

통상, 결정성 중합체는, 유리 전이 온도 Tg를 갖는다. 결정성 중합체의 구체적인 유리 전이 온도 Tg는, 특별히 한정되지 않지만, 통상은 85℃ 이상, 통상 170℃ 이하이다.

중합체의 유리 전이 온도 Tg 및 녹는점 Tm은, 이하의 방법에 의해 측정할 수 있다. 먼저, 중합체를, 가열에 의해 융해시키고, 융해된 중합체를 드라이아이스로 급랭한다. 계속해서, 이 중합체를 시험체로서 사용하고, 시차 주사 열량계(DSC)를 사용하여, 10℃/분의 승온 속도(승온 모드)로, 중합체의 유리 전이 온도 Tg 및 녹는점 Tm을 측정할 수 있다.

결정성 중합체의 중량 평균 분자량(Mw)은, 바람직하게는 1,000 이상, 보다 바람직하게는 2,000 이상이고, 바람직하게는 1,000,000 이하, 보다 바람직하게는 500,000 이하이다. 이러한 중량 평균 분자량을 갖는 결정성 중합체는, 성형 가공성과 내열성의 밸런스가 우수하다.

결정성 중합체의 분자량 분포(Mw/Mn)는, 바람직하게는 1.0 이상, 보다 바람직하게는 1.5 이상이고, 바람직하게는 4.0 이하, 보다 바람직하게는 3.5 이하이다. 여기서, Mn은 수평균 분자량을 나타낸다. 이러한 분자량 분포를 갖는 결정성 중합체는, 성형 가공성이 우수하다.

중합체의 중량 평균 분자량(Mw) 및 분자량 분포(Mw/Mn)는, 테트라하이드로푸란을 전개 용매로 하는 겔·퍼미에이션·크로마토그래피(GPC)에 의해, 폴리스티렌 환산값으로서 측정할 수 있다.

광학 필름에 포함되는 결정성 중합체의 결정화도는, 특별한 제한은 없으나, 통상은, 어느 정도 이상 높다.

구체적인 결정화도의 범위는, 바람직하게는 10% 이상, 보다 바람직하게는 15% 이상, 특히 바람직하게는 30% 이상이다.

결정성 중합체의 결정화도는, X선 회절법에 의해 측정할 수 있다.

결정성 중합체는, 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 임의의 비율로 조합하여 사용해도 된다.

결정성 수지에 있어서의 결정성 중합체의 비율은, 바람직하게는 50 중량% 이상, 보다 바람직하게는 70 중량% 이상, 특히 바람직하게는 90 중량% 이상이다. 결정성 중합체의 비율이 상기 범위의 하한값 이상인 경우, 광학 필름의 내열성을 높일 수 있다. 결정성 중합체의 비율의 상한은, 100 중량% 이하일 수 있다.

결정성 수지는, 결정성 중합체에 더하여, 임의의 성분을 포함할 수 있다. 임의의 성분으로는, 예를 들어, 페놀계 산화 방지제, 인계 산화 방지제, 황계 산화 방지제 등의 산화 방지제; 힌더드아민계 광 안정제 등의 광 안정제; 석유계 왁스, 피셔 트로프슈 왁스, 폴리알킬렌 왁스 등의 왁스; 소르비톨계 화합물, 유기 인산의 금속염, 유기 카르복실산의 금속염, 카올린, 및 탤크 등의 핵제; 디아미노스틸벤 유도체, 쿠마린 유도체, 아졸계 유도체(예를 들어, 벤조옥사졸 유도체, 벤조트리아졸 유도체, 벤조이미다졸 유도체, 및 벤조티아졸 유도체), 카르바졸 유도체, 피리딘 유도체, 나프탈산 유도체, 및 이미다졸론 유도체 등의 형광 증백제; 벤조페논계 자외선 흡수제, 살리실산계 자외선 흡수제, 벤조트리아졸계 자외선 흡수제 등의 자외선 흡수제; 탤크, 실리카, 탄산칼슘, 유리 섬유 등의 무기 충전재; 착색제; 난연제; 난연 조제; 대전 방지제; 가소제; 근적외선 흡수제; 활제; 필러; 및 연질 중합체 등의, 결정성 중합체 이외의 임의의 중합체; 등을 들 수 있다. 임의의 성분은, 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 임의의 비율로 조합하여 사용해도 된다.

[1.3. 광학 필름의 그 밖의 특성]

(두께)

광학 필름의 두께는, 광학 필름의 용도에 따라 적절하게 설정할 수 있다. 광학 필름의 두께(d)는, 바람직하게는 5μm 이상, 보다 바람직하게는 10μm 이상이고, 바람직하게는 80μm 이하, 보다 바람직하게는 70μm 이하이다. 광학 필름의 두께(d)가 상기 범위의 하한값 이상인 경우, 핸들링성을 양호하게 하거나, 강도를 높게 하거나 할 수 있다. 또한, 광학 필름의 두께(d)가 상한값 이하인 경우, 장척의 광학 필름의 권취가 용이하다.

(길이)

본 실시형태의 광학 필름은, 매엽의 필름이어도 되고, 장척의 필름이어도 된다. 통상, 광학 필름은 장척의 필름으로서 제조된다. 장척의 광학 필름은, 롤·투·롤법을 이용하여 효율적으로 다른 장척의 광학 요소와 조합될 수 있다. 따라서, 광학 필름은, 장척인 것이 바람직하다.

(투명성)

본 실시형태의 광학 필름은, 높은 투명성을 갖는 것이 바람직하다. 광학 필름의 구체적인 전체 광선 투과율은, 바람직하게는 80% 이상, 보다 바람직하게는 85% 이상, 특히 바람직하게는 88% 이상이다. 광학 필름의 전체 광선 투과율은, 통상 100% 이하이다. 광학 필름의 전체 광선 투과율은, 자외·가시 분광계를 사용하여, 파장 400nm ~ 700nm의 범위에서 측정할 수 있다.

[2. 광학 필름의 제조 방법]

본 실시형태의 광학 필름은, 임의의 방법에 의해 제조할 수 있다.

예를 들어, 광학 필름은, 하기 공정을 포함하는 제조 방법에 의해 제조할 수 있다.

공정(1): 결정성을 갖는 중합체를 포함하는 수지를, 압출 성형하여 필름(a)를 얻는 공정.

공정(2a): 상기 필름(a)의 2개의 표면 중 제1 표면 상에 용매를 도공하여, 10μm보다 큰 두께를 갖는 제1 용매층을 형성하는 공정.

공정(3a): 상기 제1 용매층을 건조시키는 공정.

공정(2b): 상기 필름(a)의 2개의 표면 중 제2 표면 상에 용매를 도공하여, 10μm보다 큰 두께를 갖는 제2 용매층을 형성하는 공정.

공정(3b): 상기 제2 용매층을 건조시키는 공정.

공정(4): 상기 제1 용매층 및 상기 제2 용매층을 건조시켜 얻어진 필름(b)를 연신하여 필름(c)를 얻는 공정.

통상 공정(2a) 및 공정(2b)는, 공정(1) 후에 행하여진다.

통상 공정(3a)는, 공정(2a) 후에 행하여진다.

통상 공정(3b)는, 공정(2b) 후에 행하여진다.

공정(2a) 및 공정(2b)는, 동시에 행하여져도 되고, 공정(2a) 후에 공정(2b)가 행하여져도 된다.

공정(3a) 및 공정(3b)는, 동시에 행하여져도 되고, 공정(3a) 후에 공정(3b)가 행하여져도 된다.

일 실시형태에서는, 공정(2a), 공정(3a), 공정(2b), 공정(3b)의 순서로 행하여져도 된다.

다른 실시형태에서는, 공정(2a) 및 공정(2b)가 동시에 행하여지고, 이어서 공정(3a) 및 공정(3b)가 동시에 행하여져도 된다.

공정(3a)에 있어서의 제1 용매층의 건조 및 공정(3b)에 있어서의 제2 용매층의 건조에 의해 얻어진 필름을 필름(b)로 한다.

공정(4)는, 통상 공정(3a) 후 또한 공정(3b) 후에 행하여진다.

본 실시형태의 광학 필름의 제조 방법은, 상기 공정(1), 공정(2a), 공정(2b), 공정(3a), 공정(3b), 및 공정(4)에 더하여, 임의의 공정을 포함하고 있어도 된다.

[2.1. 공정(1)]

공정(1)에서는, 결정성 중합체를 포함하는 수지를, 압출 성형하여 필름(a)를 얻는다.

공정(1)에서 사용하는 결정성 중합체를 포함하는 수지는, 광학 필름에 포함되는 결정성 중합체를 포함하는 수지와 동일할 수 있다. 단, 필름(a)에 포함되는 결정성 중합체의 결정화도는, 작은 것이 바람직하다. 구체적인 결정화도는, 바람직하게는 10% 미만, 보다 바람직하게는 5% 미만, 특히 바람직하게는 3% 미만이다. 유기 용매를 도공하기 전의 필름(a)에 포함되는 결정성 중합체의 결정화도가 낮으면, 유기 용매의 도공량에 의해 광학 필름의 NZ 계수를 제어하는 것이 용이해진다.

압출 성형법에 의한 제조 조건은, 예를 들어 하기와 같다.

실린더 온도(용융 수지 온도)는, 바람직하게는 Tm 이상, 보다 바람직하게는 「Tm + 20℃」 이상이고, 바람직하게는 「Tm + 100℃」 이하, 보다 바람직하게는 「Tm + 50℃」 이하이다. 또한, 필름상으로 압출된 용융 수지가 최초로 접촉하는 냉각체는 특별히 한정되지 않지만, 통상은 캐스트 롤을 사용한다. 이 캐스트 롤 온도는, 바람직하게는 「Tg - 50℃」 이상이고, 바람직하게는 「Tg + 70℃」 이하, 보다 바람직하게는 「Tg + 40℃」 이하이다. 또한, 냉각 롤 온도는, 바람직하게는 「Tg - 70℃」 이상, 보다 바람직하게는 「Tg - 50℃」 이상이고, 바람직하게는 「Tg + 60℃」 이하, 보다 바람직하게는 「Tg + 30℃」 이하이다. 이러한 조건으로 필름(a)를 제조하는 경우, 두께 1μm ~ 1mm의 필름(a)를 용이하게 제조할 수 있다. 여기서, 「Tm」은, 결정성 중합체의 녹는점을 나타내고, 「Tg」는 결정성 중합체의 유리 전이 온도를 나타낸다.

필름(a)의 두께는, 제조하고자 하는 광학 필름의 두께에 따라 설정하는 것이 바람직하다. 통상, 공정(2a) 및 공정(2b)에서 필름(a)에 용매를 도공함으로써, 필름의 두께는 커진다. 한편, 광학 필름의 제조 방법은, 연신 공정을 포함하며, 연신에 의해 필름의 두께는 작아진다. 따라서, 상기와 같은 공정(1)보다 뒤의 공정에 있어서의 두께의 변화를 고려하여, 필름(a)의 두께를 설정해도 된다.

필름(a)의 두께는, 예를 들어, 25μm 이상, 예를 들어 30μm 이상, 예를 들어 90μm 이하, 예를 들어 80μm 이하로 할 수 있다.

압출 성형에 의하면, 필름(a)의 두께를 용이하게 제어할 수 있다.

필름(a)는, 매엽의 필름이어도 되지만, 장척의 필름인 것이 바람직하다. 장척의 필름(a)를 사용함으로써, 롤·투·롤법에 의한 광학 필름의 연속적인 제조가 가능하므로, 광학 필름의 생산성을 효과적으로 높일 수 있다.

필름(a)는, 유기 용매의 함유량이 작은 것이 바람직하고, 유기 용매를 포함하지 않는 것이 보다 바람직하다. 필름(a)의 중량 100%에 대한 당해 필름(a)에 포함되는 유기 용매의 비율(용매 함유율)은, 바람직하게는 1% 이하, 보다 바람직하게는 0.5% 이하, 더욱 바람직하게는 0.1% 이하이고, 이상적으로는 0.0%이다. 유기 용매를 도공하기 전의 필름(a)에 포함되는 유기 용매의 양이 적음으로써, 유기 용매의 도공량에 의해 광학 필름의 NZ 계수를 제어하는 것이 용이해진다.

압출 성형에 의하면, 유기 용매의 함유량이 작은, 통상 유기 용매를 포함하지 않는 필름(a)가 얻어질 수 있다.

필름(a)의 용매 함유율은, 밀도에 의해 측정할 수 있다.

필름(a)의 면내 리타데이션 Re는, 바람직하게는 10nm 이하, 보다 바람직하게는 8nm 이하, 더욱 바람직하게는 5nm 이하이고, 통상 0nm 이상이다.

필름(a)의 두께 방향의 리타데이션 Rth는, 바람직하게는 15nm 이하, 보다 바람직하게는 10nm 이하, 더욱 바람직하게는 8nm 이하이고, 바람직하게는 0nm 이상, 보다 바람직하게는 0.5nm 이상, 더욱 바람직하게는 1nm 이상이다.

필름(a)의 위상차가, 이와 같이 낮음으로써, 광학 필름의 위상차를, 원하는 범위로 조정하여 광학 필름의 NZ 계수를 원하는 범위로 조정하는 것이 용이해진다.

[2.2. 공정(2a) 및 공정(2b)]

공정(2a)에서는, 상기 필름(a)의 2개의 표면(주표면) 중 제1 표면 상에 용매를 도공하여, 10μm보다 큰 두께를 갖는 제1 용매층을 형성한다.

공정(2b)에서는, 상기 필름(a)의 2개의 표면(주표면) 중 제2 표면 상에 용매를 도공하여, 10μm보다 큰 두께를 갖는 제2 용매층을 형성한다.

용매는, 통상 유기 용매이다. 유기 용매는, 통상 광학 필름에 잔류한다. 도공하는 유기 용매로는, 통상 결정성 중합체를 용해하지 않는 것을 사용할 수 있다. 바람직한 유기 용매의 예로는, 톨루엔, 리모넨, 데칼린 등의 탄화수소 용매; 이황화탄소;를 들 수 있고, 바람직하게는 톨루엔이다. 유기 용매의 종류는, 1종류여도 되고, 2종류 이상이어도 된다.

제1 용매층의 형성에 사용하는 용매와, 제2 용매층의 형성에 사용하는 용매는, 다른 용매여도 되고, 동일한 용매여도 되는데, 컬을 효과적으로 작게 하는 관점에서는, 동일한 용매인 것이 바람직하다.

필름(a)의 2개의 표면의 양방 상에 용매를 도공하여 용매층을 형성함으로써, 필름(a)의 두께 방향의 굴절률이 변화한 필름을 얻을 수 있다. 용매층을 형성함으로써, 필름(a)의 두께 방향의 굴절률이 변화하는 이유는, 하기와 같이 추찰되는데, 본 발명을 한정하는 것은 아니다.

필름(a)의 양면 상에 용매를 도공함으로써, 그 용매가 필름(a) 중에 침입한다. 침입한 용매의 작용에 의해, 필름(a) 중의 결정성 중합체의 분자에 마이크로브라운 운동이 일어나, 필름(a)의 분자쇄가 배향된다고 생각된다.

그런데, 필름(a)의 표면적은, 주표면인 표면 및 이면이 크다. 따라서, 용매의 침입 속도는, 상기의 표면 또는 이면을 지난 두께 방향으로의 침입 속도가 크다. 그러면, 상기의 결정성 중합체의 분자쇄의 배향은, 당해 중합체의 분자가 두께 방향으로 배향되도록 진행될 수 있다. 이와 같이 결정성 중합체의 분자가 두께 방향으로 배향됨으로써, 필름(a)의 두께 방향의 굴절률이 변화할 수 있다.

공정(2a) 및 공정(2b)에 있어서의 도공법은, 바람직하게는 도공에 의해 필름(a)의 표면에 형성되는 용매층의 두께를 제어할 수 있는 방법이 이용된다.

도공법의 예로는, 와이어 바 코트법, 스프레이법, 롤 코트법, 그라비아 코트법, 다이 코트법, 커튼 코트법, 슬라이드 코트법, 및 익스트루전 코트법을 들 수 있고, 다이 코트법이 바람직하다.

공정(2a)에 있어서의 도공법과, 공정(2b)에 있어서의 도공법은, 다른 방법이어도 되지만, 용매층의 두께를 제어하기 위한 조건 설정을 공통으로 할 수 있는 점에서, 동일한 방법인 것이 바람직하다.

공정(2a) 및 공정(2b)에 있어서 각각 형성되는 제1 용매층 및 제2 용매층의 두께는, 도공 직후에 있어서의 두께이다. 제1 용매층 및 제2 용매층의 두께는, 용매가 도공된 필름(a)의 표면적, 필름(a)에 도공된 용매의 체적으로부터 산출할 수 있다. 제1 용매층 및 제2 용매층의 두께는, 예를 들어 도공 장치로부터의 용매의 유량을 조정함으로써 조정할 수 있다.

제1 용매층의 두께 T1은 통상 10μm보다 크고, 바람직하게는 11μm 이상, 보다 바람직하게는 12μm 이상, 더욱 바람직하게는 13μm 이상이고, 바람직하게는 55μm 이하, 보다 바람직하게는 50μm 이하, 더욱 바람직하게는 45μm 이하이다.

제2 용매층의 두께 T2는, 통상 10μm보다 크고, 제1 용매층의 바람직한 두께의 범위와 동일한 범위로 할 수 있다.

제1 용매층의 두께 T1 및 제2 용매층의 두께 T2는, 동일해도 되고, 달라도 된다. 광학 필름의 컬을 효과적으로 저감하는 관점에서, 두께 T1의 두께 T2에 대한 비(T1/T2)는, 바람직하게는 1/2 ~ 2/1, 보다 바람직하게는 1/1.5 ~ 1.5/1, 더욱 바람직하게는 1/1.3 ~ 1.3/1이고, 이상적으로는 1이다.

두께 T1 및 두께 T2의 합계의 두께의, 필름(a)의 두께 T에 대한 비((T1 + T2)/T)는, 필름(b)에 원하는 범위의 두께 방향의 리타데이션을 발현시키는 관점에서, 바람직하게는 25/100 이상, 보다 바람직하게는 25/80 이상, 더욱 바람직하게는 25/70 이상이고, 바람직하게는 90/40 이하, 보다 바람직하게는 90/45 이하, 더욱 바람직하게는 90/50 이하이다.

[2.3. 공정(3a) 및 공정(3b)]

공정(3a)에서는, 상기 제1 용매층을 건조시킨다. 공정(3b)에서는, 상기 제2 용매층을 건조시킨다. 공정(3a) 및 공정(3b)를 거쳐, 제1 용매층 및 제2 용매층이 건조된 필름(b)가 얻어진다. 공정(3a)에 의해, 제1 용매층으로부터 용매가 제거된다. 공정(3b)에 의해, 제2 용매층으로부터 용매가 제거된다.

건조 방법으로서, 사용한 용매의 끓는점에 따라 임의의 방법을 채용할 수 있다. 건조 방법의 예로는, 자연 건조, 가열 건조, 감압 건조, 감압 가열 건조 등을 들 수 있다.

공정(2a) 및 공정(2b)에 있어서 도공된 용매층의 용매의 일부 또는 전부는, 용매가 도공된 필름(a)에 흡수되어, 중합체의 내부에 파고 들어갈 수 있다. 따라서, 공정(3a) 및 (3b)에 있어서, 용매의 끓는점 이상에서 건조를 행하였다고 해도, 용매가 도공된 필름으로부터 용이하게는 용매를 완전히 제거하는 것은 어렵다. 따라서, 필름(b)는, 용매를 포함할 수 있다.

또한, 공정(2a) 및 공정(2b)에 있어서, 용매층의 두께가 조정되어 있으므로, 필름(b) 및 이것을 연신하여 얻어지는 광학 필름의 단위 중량당에 포함되는 용매량은 두께 방향에 있어서 불균일해진다. 또한, 통상, 필름(a)의 주표면으로부터 필름(a) 두께 방향 중앙을 향하여 도공된 용매층의 용매가 침투한다. 그 때문에, 통상 광학 필름의 중앙부에 있어서의 단위 중량당의 함유 용매 중량이 외측부에 있어서의 단위 중량당의 함유 용매 중량보다 적어진다.

필름(b)의 면내 리타데이션 Reb는, 필름(b)를 연신하여 얻어지는 필름(c)의 NZ 계수를 용이하게 원하는 범위 내에 들어가게 하는 관점에서, 바람직하게는 0nm 이상, 보다 바람직하게는 3nm 이상이고, 바람직하게는 35nm 이하, 보다 바람직하게는 30nm 이하이다.

필름(b)의 두께 방향에 있어서의 리타데이션 Rthb는, 필름(b)를 연신하여 얻어지는 필름(c)의 NZ 계수를 용이하게 원하는 범위 내에 들어가게 하는 관점에서, 바람직하게는 -500nm 이상, 보다 바람직하게는 -450nm 이상이고, 바람직하게는 -50nm 이하, 보다 바람직하게는 -60nm 이하이다.

[2.4. 공정(4)]

공정(4)에서는, 상기 제1 용매층 및 상기 제2 용매층을 건조시켜 얻어진 필름(b)를 연신하여 필름(c)를 얻는다.

연신에 의해, 필름(b)에 포함되는 결정성 중합체의 분자를 연신 방향에 따른 방향으로 배향시킬 수 있다. 따라서, 공정(4)에 의하면, 필름(b)의 면내 방향의 복굴절 Re/d, 면내 리타데이션 Re, 두께 방향의 복굴절 Rth/d, 두께 방향의 리타데이션 Rth 등의 광학 특성; 그리고, 두께(d)를 조정할 수 있다.

연신 방향에 제한은 없고, 예를 들어, 길이 방향, 폭 방향, 경사 방향 등을 들 수 있다. 여기서, 경사 방향이란, 두께 방향에 대하여 수직한 방향으로서, 폭 방향과 평행도 아니고 수직도 아닌 방향을 나타낸다. 또한, 연신 방향은, 일방향이어도 되고, 2 이상의 방향이어도 된다. 따라서, 연신 방법으로는, 예를 들어, 필름을 길이 방향으로 1축 연신하는 방법(종1축 연신법), 필름을 폭 방향으로 1축 연신하는 방법(횡1축 연신법) 등의 1축 연신법; 필름을 길이 방향으로 연신하는 동시에 폭 방향으로 연신하는 동시 2축 연신법, 필름을 길이 방향 및 폭 방향의 일방으로 연신한 후에 타방으로 연신하는 축차 2축 연신법 등의 2축 연신법; 필름을 경사 방향으로 연신하는 방법(경사 연신법); 등을 들 수 있다.

1축 연신법의 다른 예로는, 필름의 단부를 고정하여 행하는 고정 1축 연신법, 필름의 단부를 고정하지 않고 행하는 자유 1축 연신법을 들 수 있다.

연신에 의해, 광학 필름에 용이하게 원하는 NZ 계수를 발현시키는 관점에서, 공정(4)에 있어서의 연신은, 1축 연신법이 바람직하고, 자유 1축 연신법이 보다 바람직하다.

연신 배율은, 바람직하게는 1배 이상, 보다 바람직하게는 1.01배 이상이고, 바람직하게는 1.5배 이하, 보다 바람직하게는 1.4배 이하이다. 구체적인 연신 배율은, 연신하는 필름(b)의 광학 특성, 두께, 강도 등의 요소에 따라 적절하게 설정하는 것이 바람직하다.

연신 배율이 상기 범위의 하한값 이상인 경우, 연신에 의해 복굴절을 크게 변화시킬 수 있다. 또한, 연신 배율이 상기 범위의 상한값 이하인 경우, 지상축의 방향을 용이하게 제어하거나, 필름의 파단을 효과적으로 억제하거나 할 수 있다.

연신 온도는, 바람직하게는 「Tg + 5℃」 이상, 보다 바람직하게는 「Tg + 10℃」 이상이고, 바람직하게는 「Tg + 100℃」 이하, 보다 바람직하게는 「Tg + 90℃」 이하이다. 여기서, 「Tg」는 결정성 중합체의 유리 전이 온도를 나타낸다. 연신 온도가 상기 범위의 하한값 이상인 경우, 필름(b)를 충분히 연화시켜 연신을 균일하게 행할 수 있다. 또한, 연신 온도가 상기 범위의 상한값 이하인 경우, 결정성 중합체의 결정화의 진행에 의한 필름(b)의 경화를 억제할 수 있으므로, 연신을 원활하게 행할 수 있다. 또한, 연신에 의해 복굴절을 크게 변화시킬 수 있다. 또한, 통상은, 연신 후에 얻어지는 필름의 헤이즈를 작게 하여 투명성을 높일 수 있다.

상기의 연신 처리를 실시함으로써, 연신된 필름(b)로서의 필름(c)를 얻을 수 있다. 상기와 같이, 공정(4)에서의 연신에 의해 복굴절이 변화할 수 있으므로, 필름(c)의 면내 리타데이션 Re 및 두께 방향 리타데이션 Rth의 조정을 행할 수 있다. 따라서, 필름(b)의 공정(4)에 의한 연신에 의해, 필름(c)의 광학 특성을, 광학 필름으로서 원하는 범위로 조정할 수 있어, 필름(c)를 광학 필름으로서 얻을 수 있다.

공정(4)는, 필름(b)를 연신하는 공정(공정(4b)로 한다.)에 더하여, 하기 공정 중 어느 하나를 더 포함하고 있어도 된다.

공정(4a): 필름(b)를 예열하는 공정.

공정(4c): 필름(b)를 열처리하는 공정.

공정(4d): 필름(c)를 냉각하는 공정.

공정(4)가 공정(4a)를 포함하는 경우, 공정(4a)는 통상 공정(4b) 전에 행하여진다.

공정(4)가 공정(4c)를 포함하는 경우, 공정(4c)는 통상 공정(4b) 후에 행하여진다.

공정(4)가 공정(4d)를 포함하는 경우, 공정(4d)는, 통상 공정(4a) ~ (4c) 후에 행하여진다.

열처리에 의해, 연신된 필름(b)에 포함되는 결정성 중합체의 결정화를 진행시킬 수 있다. 따라서, 공정(4c)에 의해, 광학 필름의 내열성을 향상시킬 수 있다.

열처리 온도는, 통상, 결정성 중합체의 유리 전이 온도 Tg 이상, 결정성 중합체의 녹는점 Tm 이하이다. 보다 상세하게는, 열처리 온도는, 바람직하게는 Tg℃ 이상, 보다 바람직하게는 Tg + 10℃ 이상이고, 바람직하게는 Tm - 20℃ 이하, 보다 바람직하게는 Tm - 40℃ 이하이다. 상기의 온도 범위에서는, 결정화의 진행에 의한 백탁을 억제하면서, 신속하게 결정성 중합체의 결정화를 진행시킬 수 있다.

열처리의 처리 시간은, 바람직하게는 1초 이상, 보다 바람직하게는 5초 이상이고, 바람직하게는 30분 이하, 보다 바람직하게는 15분 이하이다.

공정(4a)에 있어서의 예열 온도는, 통상, 공정(4b)에 있어서의 연신 온도와 동일하지만, 달라도 된다. 예열 온도는, 연신 온도 T1에 대하여, 바람직하게는 T1 - 60℃ 이상, 보다 바람직하게는 T1 - 10℃ 이상, 더욱 바람직하게는 T1 - 5℃ 이상이고, 바람직하게는 T1 + 5℃ 이하, 보다 바람직하게는 T1 + 2℃ 이하이다. 예열 시간은 임의이며, 바람직하게는 1초 이상, 보다 바람직하게는 5초 이상일 수 있고, 또한, 바람직하게는 60초 이하, 보다 바람직하게는 30초 이하일 수 있다.

공정(4d)에 있어서의 냉각 온도는, 공정(4d) 전에 행하여지는 공정(공정(4b) 또는 공정(4c))에 있어서의 가열 온도보다 낮게 설정된다. 냉각 시간은 임의이며, 바람직하게는 1초 이상, 보다 바람직하게는 5초 이상일 수 있고, 또한, 바람직하게는 30초 이하, 보다 바람직하게는 20초 이하일 수 있다.

공정(4) 후의 광학 필름에는 잔류 응력이 포함될 수 있다. 이에, 광학 필름의 제조 방법은, 예를 들어, 연신 후의 필름을 열수축시켜 잔류 응력을 제거하는 완화 처리를 행하는 공정을 포함하고 있어도 된다. 완화 처리에서는, 통상, 연신된 필름을 평탄하게 유지하면서, 적절한 온도 범위에서 필름에 열수축을 발생시킴으로써, 잔류 응력을 제거할 수 있다.

상기의 제조 방법에 의하면, 결정성 수지로부터 장척의 필름(a)를 제조하고, 필름(a)로부터 장척의 광학 필름을 제조할 수 있다. 광학 필름의 제조 방법은, 이와 같이 제조된 장척의 광학 필름을 롤상으로 권취하는 공정을 포함하고 있어도 된다. 또한, 광학 필름의 제조 방법은, 장척의 광학 필름을 원하는 형상으로 잘라내는 공정을 포함하고 있어도 된다.

[3. 광학 필름의 용도]

본 실시형태의 광학 필름은, 예를 들어, 표시 장치에 설치될 수 있다. 이 경우, 광학 필름은, 표시 장치에 표시되는 화상의 시야각, 콘트라스트, 화질 등의 표시 품질을 개선할 수 있다.

실시예

이하, 실시예를 나타내어 본 발명에 대하여 구체적으로 설명한다. 단, 본 발명은 이하에 나타내는 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 청구범위 및 그 균등한 범위를 일탈하지 않는 범위에 있어서 임의로 변경하여 실시할 수 있다.

이하의 설명에 있어서, 양을 나타내는 「%」 및 「부」는, 별도로 언급하지 않는 한, 중량 기준이다. 또한, 이하에 설명하는 조작은, 별도로 언급하지 않는 한, 상온(20℃±15℃) 및 상압(1 atm)의 조건에서 행하였다.

[평가 방법]

(중합체의 중량 평균 분자량 Mw 및 수평균 분자량 Mn의 측정 방법)

중합체의 중량 평균 분자량 Mw 및 수평균 분자량 Mn은, 겔·퍼미에이션·크로마토그래피(GPC) 시스템(토소사 제조 「HLC-8320」)을 사용하여, 폴리스티렌 환산값으로서 측정하였다. 측정시, 칼럼으로는 H 타입 칼럼(토소사 제조)을 사용하고, 용매로는 테트라하이드로푸란을 사용하였다. 또한, 측정시의 온도는, 40℃였다.

(중합체의 수소화율의 측정 방법)

중합체의 수소화율은, 오르토디클로로벤젠-d₄를 용매로 하여, 145℃에서, ¹H-NMR에 의해 측정하였다.

(유리 전이 온도 Tg 및 녹는점 Tm의 측정 방법)

중합체의 유리 전이 온도 Tg 및 녹는점 Tm의 측정은, 이하와 같이 하여 행하였다. 먼저, 중합체를, 가열에 의해 융해시키고, 융해된 중합체를 드라이아이스로 급랭하였다. 계속해서, 이 중합체를 시험체로서 사용하고, 시차 주사 열량계(DSC)를 사용하여, 10℃/분의 승온 속도(승온 모드)로, 중합체의 유리 전이 온도 Tg 및 녹는점 Tm을 측정하였다.

(고유 복굴절의 부호의 확인)

측정 대상의 필름을 50mm × 150mm의 치수로 커트하여 필름편을 얻었다. 측정 장치로서, 항온 항습조 장착의 인장 시험기(인스트론사 제조 「5564형」)를 사용하여, 필름편을 자유 1축 연신하였다. 연신 온도는, (필름을 형성하는 수지의 Tg + 15℃), 인장 속도는, 1.5 배/min으로 하였다.

그 후, AXOMETRICS사 제조 「AxoScan OPMF-1」에 의해 연신한 필름편의 지상축 방향을 결정하고, 연신 방향과 지상축 방향이 평행인 경우에, 필름편을 구성하는 수지의 고유 복굴절이 플러스라고 하고, 연신 방향과 지상축 방향이 수직인 경우에, 필름편을 구성하는 수지의 고유 복굴절이 마이너스라고 하였다.

(중합체의 라세모·다이애드의 비율의 측정 방법)

중합체의 라세모·다이애드의 비율의 측정은 이하와 같이 하여 행하였다. 오르토디클로로벤젠-d₄를 용매로 하여, 200℃에서, inverse-gated decoupling법을 적용하여, 중합체의 ¹³C-NMR 측정을 행하였다. 이 ¹³C-NMR 측정의 결과에 있어서, 오르토디클로로벤젠-d₄의 127.5 ppm의 피크를 기준 시프트로 하여, 메소·다이애드 유래의 43.35 ppm의 시그널과, 라세모·다이애드 유래의 43.43 ppm의 시그널을 동정하였다. 이들 시그널의 강도비에 기초하여, 중합체의 라세모·다이애드의 비율을 구하였다.

(Re, Rth의 측정 방법)

필름의 면내 리타데이션 Re 및 두께 방향의 리타데이션 Rth는, AXOMETRICS사 제조 「AxoScan OPMF-1」에 의해 측정하였다. 이 때, 측정은, 파장 590nm에서 행하였다.

(필름의 두께의 측정 방법)

필름의 두께는, 접촉식 두께계(MITUTOYO사 제조 Code No.543-390)를 사용하여 측정하였다.

(Wc 및 Ws의 측정)

측정 대상의 광학 필름으로부터, 필름편을 잘라내고, 필름편을 0.5mg 칭량하였다. 단, 피크가 포화하는 샘플의 경우에는 0.2mg을 칭량하였다. 여기서 칭량된 필름편의 중량을, W0으로 하였다. 칭량한 필름 샘플에 대하여, 하기 조건으로 GC/MS에 의한 아웃 가스 측정을 실시하고, 중량 W0의 광학 필름 중의 함유 용매 중량 St를 구하였다. 함유 용매 중량 St는, n-데칸을 표준 시료로 하여 환산한 값을 이용하였다.

<GC/MS 측정 조건>

퍼지 유량: 180℃ × 30min(40℃/min) 30 mL/min

트랩: -130℃

INJ: 300℃ × 5min Init 2min

칼럼: HP-5ms 0.25mm × 30m df = 0.25μm

오븐: 40℃ × 3min, 이어서 10℃/min으로 120℃까지 승온하고, 이어서 40℃/min으로 280℃까지 승온

인터페이스: 280℃

He 유량: 1.0 mL/min

TDS: splitless

CIS: split 1/50

측정 이온: 29 ~ 550

그 후, 광학 필름 전체의 함유 용매 중량 St의 측정을 위하여 필름편을 잘라낸 광학 필름의 장소의 부근으로부터, 필름편을 더 잘라냈다.

이 필름편의 표면을 물로 적시면서, 샌드페이퍼(4000번, 8000번, 15000번)를 사용해 표면을 깎아내어 필름편을 얇게 하여, 필름편을, 두께 방향 중앙을 포함하는 중앙부만으로 하였다.

표면의 깎아내기는, 하기와 같이 행하였다.

먼저 필름편의 일방의 표면으로부터, 원래의 필름편의 두께의 1/3의 두께를 깎아내어, 필름편으로부터 제1 외측부를 제거하고, 필름편을 중앙부 및 제2 외측부만으로 하였다. 그 후, 필름편의 반대의 면으로부터도 마찬가지로, 원래의 필름편의 두께의 1/3의 두께를 깎아내어, 필름편으로부터 제2 외측부를 제거하고, 필름편을 원래의 두께의 1/3의 두께를 갖는 중앙부만으로 하였다.

그 후, 상기와 동일한 조건으로, 중앙부만이 된 필름편으로부터 W0과 동일한 중량을 칭량하고, GC/MS에 의한 아웃 가스 측정을 실시하여, 중량 W0의 중앙부 중의 함유 용매 중량 Sc를 구하였다. 계속해서 식: Ss = St - Sc를 이용하여, 중량 W0의 외측부(제1 외측부 및 제2 외측부) 중의 함유 용매 중량 Ss를 구하였다.

얻어진 함유 용매 중량 Sc와, 칭량한 샘플량 W0(0.5mg 또는 0.2mg)으로부터, 중앙부에 있어서의 단위 중량(1mg)당의 함유 용매 중량 Wc를 구하였다. 또한, 제1 외측부와 제2 외측부에서는, 단위 중량당의 함유 용매 중량은 동일하다고 간주하고, 함유 용매 중량 Ss와, W0으로부터, 외측부(제1 외측부 및 제2 외측부)에 있어서의 단위 중량(1 mg)당의 함유 용매 중량 Ws를 구하였다.

(핸들링성(컬))

이하의 평가 기준에 따라, 광학 필름(필름(c))의 핸들링성(컬의 정도)을 평가하였다.

양호: 필름(c)의 반송을 할 수 있을 정도로, 폭 방향 단부의 컬의 정도가 작거나, 또는 컬이 발생하고 있지 않다.

불량: 필름(c)의 반송을 할 수 없을 만큼, 폭 방향 단부의 컬의 정도가 크다.

[제조예 1. 결정성 수지 A의 제조]

금속제의 내압 반응기를, 충분히 건조시킨 후, 질소 치환하였다. 이 금속제 내압 반응기에, 시클로헥산 154.5 부, 디시클로펜타디엔(엔도체 함유율 99% 이상)의 농도 70% 시클로헥산 용액 42.8 부(디시클로펜타디엔의 양으로서 30 부), 및 1-헥센 1.9 부를 첨가하고, 53℃로 가온하였다.

테트라클로로텅스텐페닐이미드(테트라하이드로푸란) 착물 0.014 부를 0.70 부의 톨루엔에 용해시켜, 용액을 조제하였다. 이 용액에, 농도 19%의 디에틸알루미늄에톡시드/n-헥산 용액 0.061 부를 첨가해 10분간 교반하여, 촉매 용액을 조제하였다. 이 촉매 용액을 내압 반응기에 첨가하여, 개환 중합 반응을 개시하였다. 그 후, 53℃를 유지하면서 4시간 반응시켜, 디시클로펜타디엔의 개환 중합체의 용액을 얻었다. 얻어진 디시클로펜타디엔의 개환 중합체의 수평균 분자량(Mn) 및 중량 평균 분자량(Mw)은, 각각 8,750 및 28,100이고, 이들로부터 구해지는 분자량 분포(Mw/Mn)는 3.21이었다.

얻어진 디시클로펜타디엔의 개환 중합체의 용액 200 부에, 정지제로서 1,2-에탄디올 0.037 부를 첨가하여, 60℃로 가온하고, 1시간 교반하여 중합 반응을 정지시켰다. 여기에, 하이드로탈사이트형 화합물(쿄와 화학 공업사 제조 「쿄와드(등록상표) 2000」)을 1 부 첨가하여, 60℃로 가온하고, 1시간 교반하였다. 그 후, 여과 조제(쇼와 화학 공업사 제조 「라디올라이트(등록상표) #1500」)를 0.4 부 첨가하고, PP 플리츠 카트리지 필터(ADVANTEC 토요사 제조 「TCP-HX」)를 사용하여 흡착제와 용액을 여과 분리하였다.

여과 후의 디시클로펜타디엔의 개환 중합체의 용액 200 부(중합체량 30 부)에, 시클로헥산 100 부를 첨가하고, 클로로하이드라이드카르보닐트리스(트리페닐포스핀)루테늄 0.0043 부를 첨가하여, 수소압 6 MPa, 180℃에서 4시간 수소화 반응을 행하였다. 이에 의해, 디시클로펜타디엔의 개환 중합체의 수소화물을 포함하는 반응액이 얻어졌다. 이 반응액은, 수소화물이 석출되어 슬러리 용액이 되어 있었다.

상기의 반응액에 포함되는 수소화물과 용액을, 원심 분리기를 사용하여 분리하고, 60℃에서 24시간 감압 건조하여, 결정성을 갖는 디시클로펜타디엔의 개환 중합체의 수소화물 28.5 부를 얻었다. 이 수소화물의 수소화율은 99% 이상, 유리 전이 온도 Tg는 93℃, 녹는점(Tm)은 267℃, 라세모·다이애드의 비율은 89%였다.

얻어진 디시클로펜타디엔의 개환 중합체의 수소화물 100 부에, 산화 방지제(테트라키스[메틸렌-3-(3',5'-디-t-부틸-4'-하이드록시페닐)프로피오네이트]메탄; BASF 저팬사 제조 「이르가녹스(등록상표) 1010」) 1.1 부를 혼합 후, 내경 3 mmΦ의 다이 구멍을 4개 구비한 2축 압출기(제품명 「TEM-37B」, 토시바 기계사 제조)에 투입하였다. 디시클로펜타디엔의 개환 중합체의 수소화물 및 산화 방지제의 혼합물을, 열용융 압출 성형에 의해 스트랜드상으로 성형한 후, 스트랜드 커터로 세단하여, 펠릿 형상의 결정성 수지 A를 얻었다. 상기의 2축 압출기의 운전 조건은, 이하와 같았다.

·배럴 설정 온도 = 270 ~ 280℃

·다이 설정 온도 = 250℃

·스크루 회전수 = 145 rpm

[실시예 1]

(1-1. 공정(1): 결정성 수지 A로 이루어지는 필름의 제조)

제조예 1에서 제조한 결정성 수지 A를, T 다이를 구비하는 열용융 압출 필름 성형기를 사용해 성형하여, 대략 폭 400mm의, 장척의 필름(a)로서의 압출 필름(두께 38μm)을 얻었다. 얻어진 압출 필름을, 권취하여 롤의 형태로 하였다. 필름(a)의 평가 결과는 하기 표에 기재된 바와 같았다. 또한 필름(a)를 사용하여, 결정성 수지 A의 고유 복굴절의 부호를 확인한 결과, 결정성 수지 A의 고유 복굴절의 부호는, 「플러스」였다.

상기의 필름 성형기의 운전 조건은, 이하와 같았다.

·배럴 설정 온도 = 280℃ ~ 300℃

·다이 온도 = 270℃

·캐스트 롤 온도 = 80℃

(1-2. 공정(2a) 및 공정(2b): 도공 공정)

(1-1)에서 제작한 필름(a)로서의 압출 필름의 롤로부터, 압출 필름을 권출하고, 압출 필름의 양면 상에 다이 코터로 톨루엔을 편면당 30μm의 두께(즉, 양면에서 합계 60μm의 두께)로 도공하였다.

도공은, 하기의 순서로 행하였다.

먼저 압출 필름의 일방의 면에 제1 다이 코터에 의해 톨루엔을 도공하였다(공정(2a)).

제1 다이 코터로부터 압출 필름의 반송 방향의 대략 1.5m 하류에 있어서 압출 필름의 타방의 면에 제2 다이 코터에 의해 톨루엔을 도공하였다(공정(2b)).

톨루엔의 도공 두께는, 다이 코터로부터의 톨루엔의 유량을 조정함으로써 조정하였다. 톨루엔의 도공 두께는, 톨루엔의 단위 시간당의 유량, 압출 필름의 반송 속도, 및 압출 필름의 폭으로부터 산출된 수치이다.

이에 의해, 필름(a)의 2개의 표면 상에, 각각 용매층으로서의 톨루엔층이 형성되어, 필름(a')이 얻어졌다. 필름(a')의 용매층의 총 두께는, 60μm이다.

(1-3. 공정(3a) 및 (3b): 건조 공정)

그 후, 필름(a')을 100℃의 오븐 내에서 2분간 가열 건조시켜, 장척의 필름(b)를 얻었다. 얻어진 필름(b)를 권취하여, 롤의 형태로 하였다. 필름(b)의 평가 결과는 하기 표에 기재된 바와 같았다.

(1-4. 공정(4): 연신 가열 공정)

필름(b)를 자유 1축 연신하여, 광학 필름으로서의 필름(c)를 얻었다. 자유 1축 연신은, 하기 방법에 따라 행하였다.

연신기로서, 예열 롤을 4개, 연신 롤을 2개, 및 냉각 롤을 2개를, 이 순서로 구비하는 롤 종연신기를 사용하였다. 이 롤 종연신기는, 2개의 연신 롤의 회전 속도에 차를 형성함으로써, 연신을 행하는 장치이다. 4개의 예열 롤의 온도는 전부 100℃로 설정하였다. 2개의 연신 롤의 온도는 전부 160℃로 설정하였다. 2개의 냉각 롤의 온도는 전부 60℃로 설정하였다. 2개의 연신 롤의 회전 속도를 각각 조정하여, 필름(b)를 배율 1.1배로 종1축 연신하였다.

[실시예 2]

하기 사항을 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 조작하여, 필름(c)를 얻었다.

·(1-2. 공정(2a) 및 공정(2b): 도공 공정)에 있어서, 압출 필름의 양면 상에 다이 코터로 톨루엔을 편면당 15μm(즉, 양면에서 합계 30μm의 두께)로 도공하였다.

도공은, 하기의 순서로 행하였다.

압출 필름의 롤로부터, 압출 필름을 연직 방향 상으로 권출하면서, 압출 필름의 양면의 각각에 대향하여 배치된 제1 다이 코터 및 제2 다이 코터에 의해, 압출 필름의 양면 상에 톨루엔을 도공하였다. 제1 다이 코터의 립과, 제2 다이 코터의 립을, 압출 필름을 개재하여 대향하도록 배치하고, 압출 필름의 양면 상에, 동시에 톨루엔을 도공하도록 하였다.

톨루엔의 도공 두께는, 다이 코터로부터의 톨루엔의 유량을 조정함으로써 조정하였다. 톨루엔의 도공 두께는, 톨루엔의 단위 시간당의 유량, 압출 필름의 반송 속도, 및 압출 필름의 폭으로부터 산출된 수치이다.

[비교예 1]

하기 사항을 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 조작하여, 필름(c)를 얻었다.

·(1-2. 공정(2a) 및 공정(2b): 도공 공정)에 있어서, 압출 필름의 편면 상에만, 다이 코터로 톨루엔을 30μm의 두께로 도공하였다.

도공은, 하기의 순서로 행하였다.

압출 필름의 일방의 면에 제1 다이 코터에 의해 톨루엔을 도공하였다. 제2 다이 코터에 의한 도공은 행하지 않았다.

·(1-4. 공정(4): 연신 가열 공정)에 있어서, 롤 종연신기가 구비하는 2개의 연신 롤의 온도를 전부 140℃로 설정하였다. 2개의 연신 롤의 회전 속도를 각각 조정하여, 필름(b)를 배율 1.5배로 종1축 연신하였다.

[비교예 2]

하기 사항을 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 조작하여, 필름(c)를 얻었다.

·필름(a)에 대하여, (1-2. 공정(2a) 및 공정(2b)) 및 (1-3. 공정(3a) 및 (3b))를 행하지 않고, 하기의 용매 침지 공정을 행하여, 필름(b)를 얻었다.

필름(a)를, 톨루엔으로 채워진 욕조 중을 통과시킴으로써, 필름(a)를 톨루엔에 침지하였다. 필름(a)가 당해 욕조 중을 통과하는 시간(즉, 필름(a)가 톨루엔에 접촉하는 시간)은 5초간이었다. 당해 욕조 중을 통과시킨 필름(a)를, 80℃의 오븐 중을 통과시킴으로써, 톨루엔에 침지된 필름(a)를 건조시켜, 필름(b)를 얻었다.

·(1-4. 공정(4))에 있어서, 필름(b)를 자유 1축 연신하는 대신에, 하기의 방법으로 고정 1축 연신하여 필름(c)를 얻었다.

필름(b)를 텐터법을 이용한 횡연신기에 공급하고, 인취 장력과 텐터 체인 장력을 조정하면서, 가로 방향으로 1.5배로 고정 1축 연신하여, 광학 필름으로서의 필름(c)를 제작하였다. 연신을, (4a): 필름(b)를 110℃로 예열하고, 이어서; (4b): 예열된 필름(b)를 110℃에서 연신하고, 이어서; (4c): 연신된 필름(b)를 긴장시킨 상태에서, 온도 170℃에서 유지하여 결정화를 촉진시키고, 이어서; (4d): 결정화가 촉진된 필름(b)를 온도 100℃에서 냉각하는; 것에 의해 실시하였다.

실시예 및 비교예의 결과를 하기 표에 나타낸다.

하기 표에 있어서, 약호는 하기의 의미를 나타낸다.

「결정성 수지 COP」: 제조예 1에서 얻어진, 디시클로펜타디엔의 개환 중합체의 수소화물로서 결정성인 것을 포함하는 수지(결정성 수지 A)

「Rea」: 필름(a)의 면내 리타데이션 Re

「Rtha」: 필름(a)의 두께 방향에 있어서의 리타데이션 Rth

「Nza」: 필름(a)의 NZ 계수

「Reb」: 필름(b)의 면내 리타데이션 Re

「Rthb」: 필름(b)의 두께 방향에 있어서의 리타데이션 Rth

「Nzb」: 필름(b)의 NZ 계수

「Rec」: 필름(c)의 면내 리타데이션 Re

「Rthc」: 필름(c)의 두께 방향에 있어서의 리타데이션 Rth

「Nzc」: 필름(c)의 NZ 계수

「Ws」: 필름(c)의 외측부에 있어서의 단위 중량(1mg)당의 용매 중량

「Wc」: 필름(c)의 중앙부에 있어서의 단위 중량(1mg)당의 용매 중량

상기 결과로부터, 이하의 사항을 알 수 있다.

실시예 1, 2에 따른, 광학 필름으로서의 필름(c)는, NZ 계수가 0보다 크고 1 미만이며, 컬의 정도가 작아 핸들링성이 양호하다.

한편, 비교예 1에 따른 광학 필름으로서의 필름(c)는, NZ 계수가 1 이상이고, 컬의 정도가 커 핸들링성이 불량하다.

또한, 비교예 2에 따른 광학 필름으로서의 필름(c)는, 중앙부에 있어서의 단위 중량당의 함유 용매 중량 Wc와, 외측부에 있어서의 단위 중량당의 함유 용매 중량 Ws가 동등하고(Wc = Ws), NZ 계수가 0보다 크고 1 미만이지만, 컬의 정도가 커 핸들링성이 불량하다.

비교예 1에 따른 광학 필름의 제조 방법에서는, 필름(a)의 일방의 표면 상에만 용매를 도공하고, 양면에 도공하고 있지 않다(즉, 공정(2a)를 포함하지만, 공정(2b)를 포함하고 있지 않다.).

비교예 2에 따른 광학 필름의 제조 방법에서는, 필름(a)를 용매 중에 침지하고 있다(즉, 공정(2a) 및 공정(2b)를 포함하지 않는다.).

이상의 결과에 의해, 본 발명에 따른 광학 필름은, NZ 계수가 0보다 크고 1 미만이면서, 컬이 작은 것이 나타난다.

또한, 본 발명에 따른, 광학 필름의 제조 방법에 의하면, NZ 계수가 0보다 크고 1 미만이면서, 컬이 작은 광학 필름을 제조할 수 있는 것이 나타난다.

100 광학 필름
100U 제1 표면
100D 제2 표면
110 중앙부
111 중앙
121 제1 외측부
122 제2 외측부

Claims (5)

1. 결정성을 갖는 중합체를 포함하는 수지로 이루어지는 광학 필름으로서,
   상기 광학 필름이, 두께 방향 중앙을 포함하는 부분인 중앙부와,
   상기 중앙부에 대하여 두께 방향 외측에 있고, 상기 광학 필름의 주표면을 포함하는 부분인 외측부를 갖고,
   상기 중앙부에 있어서의 단위 중량당의 함유 용매 중량이, 상기 외측부에 있어서의 단위 중량당의 함유 용매 중량보다 적고,
   NZ 계수가 0보다 크고 1 미만인,
   광학 필름.
2. 제1항에 있어서,
   상기 결정성을 갖는 중합체를 포함하는 수지의 고유 복굴절이, 플러스인, 광학 필름.
3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
   상기 결정성을 갖는 중합체가, 지환식 구조를 함유하는 중합체인, 광학 필름.
4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름의 제조 방법으로서,
   결정성을 갖는 중합체를 포함하는 수지를, 압출 성형하여 필름(a)를 얻는 공정(1),
   상기 필름(a)의 2개의 표면 중 제1 표면 상에 용매를 도공하여, 10μm보다 큰 두께를 갖는 제1 용매층을 형성하는 공정(2a),
   상기 제1 용매층을 건조시키는 공정(3a),
   상기 필름(a)의 2개의 표면 중 제2 표면 상에 용매를 도공하여, 10μm보다 큰 두께를 갖는 제2 용매층을 형성하는 공정(2b),
   상기 제2 용매층을 건조시키는 공정(3b), 및
   상기 제1 용매층 및 상기 제2 용매층을 건조시켜 얻어진 필름(b)를 연신하여 필름(c)를 얻는 공정(4)
   를 포함하는, 광학 필름의 제조 방법.
5. 제4항에 있어서,
   상기 공정(2a) 및 상기 공정(2b)가, 동시에 행하여지는, 광학 필름의 제조 방법.