CN116615327A - 光学膜及其制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种光学膜，由包含具有结晶性的聚合物的树脂构成，上述光学膜具有中央部和外侧部，上述中央部是包含厚度方向中央的部分，上述外侧部相对于上述中央部位于厚度方向外侧、是包含上述光学膜的主表面的部分，上述中央部的每单位重量的含有溶剂重量比上述外侧部的每单位重量的含有溶剂重量小，上述光学膜的NZ系数大于0且小于1。

Description

光学膜及其制造方法

技术领域

本发明涉及光学膜及其制造方法。

背景技术

已知有一种树脂膜的制造方法，其具有使拉伸膜与烃系溶剂接触的工序，上述拉伸膜是对以结晶性的树脂为主成分的树脂膜进行拉伸而得到的(专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2016-026909号公报。

发明内容

发明要解决的问题

通过包含使溶剂与由包含具有结晶性的聚合物的树脂构成的树脂膜接触的工序的制造方法，能够由树脂膜得到NZ系数大于0且小于1的光学膜。

但是，当使溶剂与由包含具有结晶性的聚合物的树脂构成的树脂膜接触时，有时得到的光学膜会大幅卷曲，光学膜的输送变得困难。如果光学膜的输送变得困难，则难以将光学膜连续供给至用于进行之后的工序的装置，有时会难以高效地制造包含光学膜的产品。

因此，需求NZ系数大于0且小于1并且卷曲小的新型的光学膜、以及该光学膜的制造方法。

用于解决问题的方案

本发明人为了解决上述问题进行了深入研究，结果发现，通过使光学膜的中央部的每单位重量的含有溶剂重量与外侧部的每单位重量的含有溶剂重量为特定的关系，能够解决上述问题，从而完成了本发明。

即，本发明提供了以下方案。

[1]一种光学膜，其由包含具有结晶性的聚合物的树脂构成，

上述光学膜具有中央部和外侧部，上述中央部是包含厚度方向中央的部分，上述外侧部相对于上述中央部位于厚度方向外侧、是包含上述光学膜的主表面的部分，

上述中央部的每单位重量的含有溶剂重量比上述外侧部的每单位重量的含有溶剂重量小，

上述光学膜的NZ系数大于0且小于1。

[2]根据[1]所记载的光学膜，其中，上述包含具有结晶性的聚合物的树脂的固有双折射为正。

[3]根据[1]或[2]所记载的光学膜，其中，上述具有结晶性的聚合物是含有脂环式结构的聚合物。

[4]一种光学膜的制造方法，是[1]～[3]中任一项所记载的光学膜的制造方法，包括：

将包含具有结晶性的聚合物的树脂进行挤出成型而得到膜(a)的工序(1)；

将溶剂涂敷在上述膜(a)的两个表面中的第一表面上而形成具有大于10μm的厚度的第一溶剂层的工序(2a)；

使上述第一溶剂层干燥的工序(3a)；

将溶剂涂敷在上述膜(a)的两个表面中的第二表面上而形成具有大于10μm的厚度的第二溶剂层的工序(2b)；

使上述第二溶剂层干燥的工序(3b)；以及

将使上述第一溶剂层和上述第二溶剂层干燥而得到的膜(b)进行拉伸而得到膜(c)的工序(4)。

[5]根据[4]所记载的光学膜的制造方法，其中，上述工序(2a)和上述工序(2b)同时进行。

发明效果

根据本发明，能够提供NZ系数大于0且小于1并且卷曲小的新型的光学膜、以及该光学膜的制造方法。

附图说明

图1是示意性地示出本发明的一个实施方式的光学膜的剖视图。

具体实施方式

以下，示出实施方式和例示物对本发明进行详细说明。但是，本发明并不限定于以下所示的实施方式和例示物，能够在不脱离本发明的权利要求书及其同等的范围的范围内任意地变更实施。

在以下的说明中，“长条”的膜是指相对于宽度具有5倍以上的长度的膜，优选相对于宽度具有10倍或其以上的长度，具体而言是指具有可卷成卷状而保管或搬运的程度的长度的膜。膜的长度的上限没有特别限定，例如相对于宽度可以为10万倍以下。

在以下的说明中，只要没有另外说明，长条的膜的倾斜方向表示该膜的面内方向中的与该膜的长度方向既不平行也不垂直的方向。

在以下的说明中，只要没有另外说明，固有双折射为正的材料的意思是，拉伸方向的折射率比与其垂直的方向的折射率大的材料。此外，只要没有另外说明，固有双折射为负的材料的意思是，拉伸方向的折射率比与其垂直的方向的折射率小的材料。固有双折射的值能够根据介电常数分布来计算。

在以下的说明中，只要没有另外说明，层的面内延迟Re是Re＝(nx-ny)×d所表示的值。此外，只要没有另外说明，层的厚度方向的延迟Rth是Rth＝[{(nx+ny)/2}-nz]×d所表示的值。进而，只要没有另外说明，层的NZ系数是(nx-nz)/(nx-ny)所表示的值。在此，nx表示与层的厚度方向垂直的方向(面内方向)中的提供最大折射率的方向的折射率。ny表示层的上述面内方向中的与nx的方向正交的方向的折射率。nz表示层的厚度方向的折射率。d表示层的厚度。只要没有另外说明，测定波长为590nm。

NZ系数能够根据NZ系数＝Rth/Re+0.5的公式计算出。

在以下的说明中，只要没有另外说明，要素的方向“平行”、“垂直”以及“正交”可以在不损害本发明的效果的范围内包含例如±3°、±2°或±1°的范围内的误差。

[1.光学膜的概要]

本发明的一个实施方式的光学膜由包含具有结晶性的聚合物的树脂构成，由具有结晶性的聚合物形成。在以下的说明中，有时将具有结晶性的聚合物称作“结晶性聚合物”。

光学膜具有中央部和外侧部。中央部是包含光学膜的厚度方向中央的部分。

外侧部相对于中央部位于光学膜的厚度方向外侧，是包含光学膜的主表面的部分。

中央部的每单位重量的含有溶剂重量比上述外侧部的每单位重量的含有溶剂重量小。

光学膜的NZ系数大于0且小于1。

本实施方式的光学膜的NZ系数大于0且小于1、并且卷曲小。

[1.1.光学膜的特性]

(光学膜的含有溶剂重量)

使用以下附图对本实施方式的光学膜进行说明。

图1是示意性地示出本发明的一个实施方式的光学膜的剖视图。

光学膜100具有厚度d。光学膜100由中央部110、第一外侧部121以及第二外侧部122构成。

光学膜100具有第一表面100U和第二表面100D作为主表面。光学膜100的厚度方向中央111是距第一表面100U和第二表面100D距离相等的面。中央部110是包含厚度方向中央111的部分。第一外侧部121相比于中央部110位于厚度方向外侧、是包含第一表面100U的部分。第二外侧部122相比于中央部110位于厚度方向外侧、是包含第二表面100D的部分。

第一外侧部121具有厚度d1。第二外侧部122具有厚度d2。中央部110具有厚度d3。厚度d1、厚度d2以及厚度d3彼此相等，即d1＝d2＝d3。此外，厚度d1、厚度d2以及厚度d3的和等于光学膜100的厚度d，即d＝d1+d2+d3。因此，d1＝d2＝d3＝d/3。

中央部110的每单位重量的含有溶剂重量Wc比第一外侧部121和第二外侧部122的每单位重量的含有溶剂重量Ws小。

由此，能够使光学膜的卷曲小。

这里，单位重量是1mg。

能够通过下述方法来对每单位重量的含有溶剂重量进行测定。

将正癸烷作为标准试样通过GC/MS来测定光学膜100的重量W0(0.5mg或0.2mg)中的含有溶剂重量St。GC/MS的测定条件能够是实施例所记载的条件。

接着，以与含有溶剂重量St相同的方式，通过GC/MS来测定从光学膜100中去除外侧部(即，第一外侧部121和第二外侧部122)后剩余的中央部110的重量W0中的含有溶剂重量Sc。

根据得到的含有溶剂重量St和含有溶剂重量Sc，按照公式：Ss＝St-Sc，求出第一外侧部121和第二外侧部122的重量W0中的含有溶剂重量Ss。

能够根据得到的含有溶剂重量Sc和称量的样品量W0(0.5mg或0.2mg)求出中央部的每单位重量(1mg)的含有溶剂重量Wc。此外，能够根据含有溶剂重量Ss和W0求出第一外侧部和第二外侧部的每单位重量(1mg)的含有溶剂重量Ws。

在此，第一外侧部121的每单位重量的含有溶剂重量与第二外侧部122的每单位重量的含有溶剂重量视为相同。

光学膜的中央部110的每单位重量(1mg)的含有溶剂重量Wc优选为0.03mg/mg以下，更优选为0.02mg/mg以下，进一步优选为0.01mg/mg以下，通常为0mg/mg以上，可以为0.0001mg/mg以上，也可以为0.001mg/mg以上。

光学膜的第一外侧部121和第二外侧部122的每单位重量(1mg)的含有溶剂重量Ws优选为0.001mg/mg以上，更优选为0.005mg/mg以上，进一步优选为0.01mg/mg以上，优选为0.15mg/mg以下，更优选为0.1mg/mg以下，进一步优选为0.05mg/mg以下。

中央部110的每单位重量的含有溶剂重量Wc相对于第一外侧部121和第二外侧部122的每单位重量的含有溶剂重量Ws的比率(Wc/Ws)通常小于1.0，优选为0.5以下，更优选为0.4以下，进一步优选为0.3以下，通常为0以上，也可以为0，例如可以为0.0001以上，例如也可以为0.001以上。

由此，能够对光学膜赋予期望的光学特性，并且能够使光学膜的卷曲小。

比率(Wc/Ws)能够通过在光学膜的制造中适当调节形成在树脂膜的主表面上的溶剂层的厚度来调节。通常，溶剂层的厚度越大，能够使比率(Wc/Ws)越大。

光学膜所包含的溶剂通常是有机溶剂。光学膜所包含的有机溶剂可以是一种，也可以是两种以上。在光学膜包含两种以上的有机溶剂的情况下，上述Wc和Ws分别意为所包含的多种有机溶剂的总重量。作为光学膜所能包含的优选的有机溶剂的例子，可举出不溶解结晶性聚合物的有机溶剂，可举出甲苯、柠檬烯、十氢化萘等烃溶剂；二硫化碳；优选为甲苯。

(光学膜的NZ系数)

光学膜的NZ系数通常大于0，优选为0.1以上，更优选为0.2以上，通常小于1，优选为0.8以下，更优选为0.7以下。

NZ系数在上述范围的光学膜的卷曲大，因此有时难以高效地制造。对于本实施方式的光学膜，光学膜的NZ系数在上述范围，并且卷曲小。由此，能够高效地制造光学膜和包含光学膜的产品。

通过利用例如后述的制造方法来制造光学膜，能够将光学膜的NZ系数控制在上述范围内。

(光学膜的延迟)

以满足光学膜所需求的NZ系数为前提，光学膜的面内延迟Re可以是与光学膜的光学用途对应的任意的范围。

例如，光学膜的面内延迟Re能够优选为80nm以上、更优选为90nm以上、进一步优选为100nm以上，能够优选为400nm以下、更优选为350nm以下、进一步优选为300nm以下。光学膜的面内延迟Re能够通过例如调节用于制造光学膜的树脂膜的厚度、拉伸倍率等制造条件来调节。

以满足光学膜所需求的NZ系数为前提，光学膜的厚度方向的延迟Rth能够为任意的范围。

例如，光学膜的厚度方向的延迟Rth优选为-70nm以上，更优选为-60nm以上，进一步优选为-50nm以上，优选为70nm以下，更优选为60nm以下，进一步优选为50nm以下。光学膜的厚度方向的延迟Rth能够通过例如调节后述的溶剂层的厚度、以及调节拉伸倍率等制造条件来调节。

膜的延迟能够使用相位差计(例如AXOMETRICS公司制“AxoScan OPMF-1”)来测定。

[1.2.光学膜的材料]

如上所述，本实施方式的光学膜由包含具有结晶性的聚合物的树脂构成，由该树脂形成。

“具有结晶性的聚合物”表示具有熔点Tm的聚合物。即，“具有结晶性的聚合物”表示通过差示扫描量热计(DSC)能够观测到熔点的聚合物。在以下的说明中，有时将具有结晶性的聚合物称作“结晶性聚合物”。另外，有时将包含结晶性聚合物的树脂称作“结晶性树脂”。该结晶性树脂优选为热塑性树脂。

结晶性聚合物优选具有正的固有双折射。通过使用具有正的固有双折射的结晶性聚合物，能够容易地制造具有期望的光学特性的光学膜。

结晶性聚合物例如可以是聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)等聚酯；聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)等聚烯烃等，没有特别限定，优选含有脂环式结构。通过使用含有脂环式结构的结晶性聚合物，能够使光学膜的机械特性、耐热性、透明性、低吸湿性、尺寸稳定性以及轻质性良好。含有脂环式结构的聚合物表示在分子内具有脂环式结构的聚合物。这样的含有脂环式结构的聚合物例如能够是通过使用环状烯烃作为单体的聚合反应能够得到的聚合物或其氢化物。

作为脂环式结构，可举出例如环烷烃结构和环烯烃结构。其中，从容易得到热稳定性等特性优异的光学膜的观点出发，优选环烷烃结构。1个脂环式结构中所包含的碳原子数优选为4个以上，更优选为5个以上，优选为30个以下，更优选为20个以下，特别优选为15个以下。通过使1个脂环式结构所包含的碳原子数在上述范围内，可使机械强度、耐热性以及成型性高度地平衡。

在含有脂环式结构的结晶性聚合物中，具有脂环式结构的结构单元相对于全部结构单元的比例优选为30重量％以上，更优选为50重量％以上，特别优选为70重量％以上。通过使具有脂环式结构的结构单元的比例像上述那样多，能够提高耐热性。具有脂环式结构的结构单元相对于全部结构单元的比例能够为100重量％以下。此外，在含有脂环式结构的结晶性聚合物中，具有脂环式结构的结构单元以外的剩余部分没有特别限定，可以根据使用目的适当选择。

作为含有脂环式结构的结晶性聚合物，可举出例如下述聚合物(α)～聚合物(δ)。其中，从容易得到耐热性优异的光学膜的观点出发，优选聚合物(β)。

聚合物(α)：环状烯烃单体的开环聚合物中的具有结晶性的聚合物。

聚合物(β)：聚合物(α)的氢化物中的具有结晶性的聚合物。

聚合物(γ)：环状烯烃单体的加成聚合物中的具有结晶性的聚合物。

聚合物(δ)：聚合物(γ)的氢化物中的具有结晶性的聚合物。

具体而言，作为含有脂环式结构的结晶性聚合物，更优选双环戊二烯的开环聚合物中的具有结晶性的聚合物、以及双环戊二烯的开环聚合物的氢化物中的具有结晶性的聚合物。其中，特别优选双环戊二烯的开环聚合物的氢化物中的具有结晶性的聚合物。在此，双环戊二烯的开环聚合物是指，来自双环戊二烯的结构单元相对于全部结构单元的比例通常为50重量％以上、优选为70重量％以上、更优选为90重量％以上、进一步优选为100重量％的聚合物。

双环戊二烯的开环聚合物的氢化物优选间同二单元组(racemo-dyad)的比例高。具体而言，双环戊二烯的开环聚合物的氢化物中的重复单元的间同二单元组的比例优选为51％以上，更优选为70％以上，特别优选为85％以上。间同二单元组的比例高表示间规立构规整性高。由此，存在间同二单元组的比例越高、双环戊二烯的开环聚合物的氢化物的熔点越高的倾向。

间同二单元组的比例能够基于后述的实施例所记载的¹³C-NMR谱分析来确定。

作为上述聚合物(α)～聚合物(δ)，能够使用通过国际公开第2018/062067号所公开的制造方法得到的聚合物。

结晶性聚合物的熔点Tm优选为200℃以上，更优选为230℃以上，优选为290℃以下。通过使用具有这样的熔点Tm的结晶性聚合物，能够得到成型性与耐热性的平衡更优异的光学膜。

通常，结晶性聚合物具有玻璃化转变温度Tg。结晶性聚合物的具体的玻璃化转变温度Tg没有特别限定，通常为85℃以上，通常为170℃以下。

聚合物的玻璃化转变温度Tg和熔点Tm能够通过以下的方法来测定。首先，通过加热使聚合物熔化，通过干冰将熔化的聚合物骤冷。接着，将该聚合物用作试验体，使用差示扫描量热计((DSC)以10℃/分钟的升温速度(升温模式)测定聚合物的玻璃化转变温度Tg和熔点Tm。

结晶性聚合物的重均分子量(Mw)优选为1000以上，更优选为2000以上，优选为1000000以下，更优选为500000以下。具有这样的重均分子量的结晶性聚合物的成型加工性与耐热性的平衡优异。

结晶性聚合物的分子量分布(Mw/Mn)优选为1.0以上，更优选为1.5以上，优选为4.0以下，更优选为3.5以下。在此，Mn表示数均分子量。具有这样的分子量分布的结晶性聚合物的成型加工性优异。

聚合物的重均分子量(Mw)和分子量分布(Mw/Mn)能够通过将四氢呋喃作为洗脱剂的凝胶渗透色谱法(GPC)作为聚苯乙烯换算值而测定。

光学膜所包含的结晶性聚合物的结晶化度没有特别限制，但通常高至某种程度以上。

具体的结晶化度的范围优选为10％以上，更优选为15％以上，特别优选为30％以上。

结晶性聚合物的结晶化度能够通过X射线衍射法来测定。

结晶性聚合物可以单独使用一种，也可以以任意的比率组合使用两种以上。

结晶性树脂中的结晶性聚合物的比例优选为50重量％以上，更优选为70重量％以上，特别优选为90重量％以上。在结晶性聚合物的比例为上述范围的下限值以上的情况下，能够提高光学膜的耐热性。结晶性聚合物的比例的上限能够为100重量％以下。

结晶性树脂除了包含结晶性聚合物以外，还能够包含任意的成分。作为任意的成分，可举出例如：酚系抗氧化剂、磷系抗氧化剂、硫系抗氧化剂等抗氧化剂；受阻胺系光稳定剂等光稳定剂；石油系蜡、费托蜡、聚亚烷基蜡等蜡；山梨糖醇系化合物、有机磷酸的金属盐、有机羧酸的金属盐、高岭土及滑石等成核剂；二氨基茋衍生物、香豆素衍生物、唑系衍生物(例如，苯并恶唑衍生物、苯并三唑衍生物、苯并咪唑衍生物以及苯并噻唑衍生物)、咔唑衍生物、吡啶衍生物、萘二甲酸衍生物以及咪唑酮衍生物等荧光增白剂；二苯甲酮系紫外线吸收剂、水杨酸系紫外线吸收剂、苯并三唑系紫外线吸收剂等紫外线吸收剂；滑石、二氧化硅、碳酸钙、玻璃纤维等无机填充材料；着色剂；阻燃剂；阻燃助剂；防静电剂；增塑剂；近红外线吸收剂；滑剂；填料；及软质聚合物等结晶性聚合物以外的任意的聚合物等。任意的成分可以单独使用一种，也可以以任意的比率组合使用两种以上。

[1.3.光学膜的其它特性]

(厚度)

光学膜的厚度能够根据光学膜的用途而适当设定。光学膜的厚度d优选为5μm以上，更优选为10μm以上，优选为80μm以下，更优选为70μm以下。在光学膜的厚度d为上述范围的下限值以上的情况下，能够使处理性良好，或者能够提高强度。此外，在光学膜的厚度d为上限值以下的情况下，容易使长条的光学膜卷绕。

(长度)

本实施方式的光学膜可以是单张的膜，也可以是长条的膜。通常，光学膜作为长条的膜而制造。长条的光学膜能够使用卷对卷(roll to roll)法高效地与其它的长条的光学元件组合。因此，光学膜优选为长条。

(透明性)

本实施方式的光学膜优选具有高的透明性。光学膜的具体的全光线透过率优选为80％以上，更优选为85％以上，特别优选为88％以上。光学膜的全光线透过率通常为100％以下。光学膜的全光线透过率能够使用紫外/可见分光光度计在波长400nm～700nm的范围进行测定。

[2.光学膜的制造方法]

本实施方式的光学膜能够通过任意的方法来制造。

例如，光学膜能够通过包括下述工序的制造方法来制造。

工序(1)：将包含具有结晶性的聚合物的树脂进行挤出成型而得到膜(a)的工序。

工序(2a)：将溶剂涂敷在上述膜(a)的两个表面中的第一表面上而形成具有大于10μm的厚度的第一溶剂层的工序。

工序(3a)：使上述第一溶剂层干燥的工序。

工序(2b)：将溶剂涂敷在上述膜(a)的两个表面中的第二表面上而形成具有大于10μm的厚度的第二溶剂层的工序。

工序(3b)：使上述第二溶剂层干燥的工序。

工序(4)：将使上述第一溶剂层和上述第二溶剂层干燥而得到的膜(b)进行拉伸而得到膜(c)的工序。

通常，工序(2a)和工序(2b)在工序(1)之后进行。

通常，工序(3a)在工序(2a)之后进行。

通常，工序(3b)在工序(2b)之后进行。

工序(2a)和工序(2b)可以同时进行，也可以在工序(2a)之后进行工序(2b)。

工序(3a)和工序(3b)可以同时进行，也可以在工序(3a)之后进行工序(3b)。

在一个实施方式中，可以按照工序(2a)、工序(3a)、工序(2b)、工序(3b)的顺序进行。

在另一个实施方式中，可以同时进行工序(2a)和工序(2b)，接下来同时进行工序(3a)和工序(3b)。

将通过工序(3a)中的第一溶剂层的干燥和工序(3b)中的第二溶剂层的干燥而得到的膜作为膜(b)。

工序(4)通常在工序(3a)之后且工序(3b)之后进行。

本实施方式的光学膜的制造方法除了包括上述工序(1)、工序(2a)、工序(2b)、工序(3a)、工序(3b)、以及工序(4)之外，还可以包括任意的工序。

[2.1.工序(1)]

在工序(1)中，将包含结晶性聚合物的树脂进行挤出成型而得到膜(a)。

在工序(1)中使用的包含结晶性聚合物的树脂能够与光学膜所包含的包含结晶性聚合物的树脂相同。但是，膜(a)所包含的结晶性聚合物的结晶化度优选小。具体的结晶化度优选小于10％，更优选小于5％，特别优选小于3％。如果涂敷有机溶剂前的膜(a)所包含的结晶性聚合物的结晶化度低，则容易根据有机溶剂的涂敷量控制光学膜的NZ系数。

基于挤出成型法的制造条件例如如下所述。

料筒温度(熔融树脂温度)优选为Tm以上，更优选为“Tm+20℃”以上，优选为“Tm+100℃”以下，更优选为“Tm+50℃”以下。此外，挤出为膜状的熔融树脂最初接触的冷却体没有特别限定，通常使用铸辊。该铸辊温度优选为“Tg-50℃”以上，优选为“Tg+70℃”以下，更优选为“Tg+40℃”以下。进而，冷却辊温度优选为“Tg-70℃”以上，更优选为“Tg-50℃”以上，优选为“Tg+60℃”以下，更优选为“Tg+30℃”以下。在以这样的条件来制造膜(a)的情况下，能够容易地制造厚度1μm～1mm的膜(a)。在此，“Tm”表示结晶性聚合物的熔点，“Tg”表示结晶性聚合物的玻璃化转变温度。

膜(a)的厚度优选根据想要制造的光学膜的厚度来设定。通常，通过在工序(2a)和工序(2b)中将溶剂涂敷于膜(a)，膜的厚度变大。另一方面，光学膜的制造方法包括拉伸工序，通过拉伸，膜的厚度变小。因此，也可以考虑比上述那样的工序(1)靠后的工序中的厚度的变化来设定膜(a)的厚度。

膜(a)的厚度能够例如为25μm以上、例如为30μm以上、例如为90μm以下、例如为80μm以下。

通过挤出成型能够容易地控制膜(a)的厚度。

膜(a)可以为单张的膜，但优选为长条的膜。通过使用长条的膜(a)，能够通过卷对卷法来连续制造光学膜，因此能够有效提高光学膜的生产率。

膜(a)优选有机溶剂的含有量小，更优选不包含有机溶剂。相对于重量100％的膜(a)，该膜(a)所包含的有机溶剂的比率(溶剂含有率)优选为1％以下，更优选为0.5％以下，进一步优选为0.1％以下，理想的情况下为0.0％。通过使涂敷有机溶剂前的膜(a)所包含的有机溶剂的量少，容易根据有机溶剂的涂敷量来控制光学膜的NZ系数。

通过挤出成型能够得到有机溶剂的含量小、通常不包含有机溶剂的膜(a)。

膜(a)的溶剂含有率能够根据密度进行测定。

膜(a)的面内延迟Re优选为10nm以下，更优选为8nm以下，进一步优选为5nm以下，通常为0nm以上。

膜(a)的厚度方向的延迟Rth优选为15nm以下，更优选为10nm以下，进一步优选为8nm以下，优选为0nm以上，更优选为0.5nm以上，进一步优选为1nm以上。

通过使膜(a)的相位差像这样低，容易将光学膜的相位差调节在期望的范围从而使光学膜的NZ系数调节在期望的范围。

[2.2.工序(2a)和工序(2b)]

在工序(2a)中，将溶剂涂敷在上述膜(a)的两个表面(主表面)中的第一表面上而形成具有大于10μm的厚度的第一溶剂层。

在工序(2b)中，将溶剂涂敷在上述膜(a)的两个表面(主表面)中的第二表面上而形成具有大于10μm的厚度的第二溶剂层。

溶剂通常是有机溶剂。有机溶剂通常残留于光学膜。作为涂敷的有机溶剂，通常使用不溶解结晶性聚合物的有机溶剂。作为优选的有机溶剂的例子，可举出：甲苯、柠檬烯、十氢化萘等烃溶剂；二硫化碳，优选为甲苯。有机溶剂的种类可以为一种，也可以为两种以上。

用于形成第一溶剂层的溶剂与用于形成第二溶剂层的溶剂可以是不同的溶剂，也可以是相同的溶剂，从有效减小卷曲的观点出发，优选为相同的溶剂。

通过将溶剂涂敷在膜(a)的两个表面的两者上而形成溶剂层，能够得到膜(a)的厚度方向的折射率发生了变化的膜。通过形成溶剂层会使膜(a)的厚度方向的折射率变化的理由推测为如下所述，但不限定本发明。

通过将溶剂涂敷在膜(a)的两个面上，而使该溶剂浸入膜(a)中。可认为，通过浸入的溶剂的作用导致在膜(a)中的结晶性聚合物的分子中产生微观布朗运动，使膜(a)的分子链取向。

关于膜(a)的表面积，作为主表面的正面和反面大。由此，关于溶剂的浸入速度，向穿过上述的正面或反面的厚度方向的浸入速度大。由此，上述的结晶性聚合物的分子链的取向能够以该聚合物的分子在厚度方向上取向的方式进行。通过像这样使结晶性聚合物的分子在厚度方向上取向，能够使膜(a)的厚度方向的折射率变化。

工序(2a)和工序(2b)中的涂敷法优选使用能够通过涂敷而控制形成于膜(a)的表面的溶剂层的厚度的方法。

作为涂敷法的例子，可举出线棒涂敷法、喷涂法、辊涂法、凹版涂敷法、模涂法、帘式涂敷法、滑动涂敷法、以及挤出涂敷法，优选模涂法。

工序(2a)中的涂敷法与工序(2b)中的涂敷法可以为不同的方法，但从能够一同设定用于控制溶剂层的厚度的条件的观点出发，优选为相同的方法。

在工序(2a)和工序(2b)中分别形成的第一溶剂层和第二溶剂层的厚度是刚涂敷之后的厚度。第一溶剂层和第二溶剂层的厚度能够根据涂敷了溶剂的膜(a)的表面积、涂敷于膜(a)的溶剂的体积来计算出。第一溶剂层和第二溶剂层的厚度能够通过例如调节来自涂敷装置的溶剂的流量来调节。

第一溶剂层的厚度T1通常大于10μm，优选为11μm以上，更优选为12μm以上，进一步优选为13μm以上，优选为55μm以下，更优选为50μm以下，进一步优选为45μm以下。

第二溶剂层的厚度T2通常大于10μm，可以是与第一溶剂层的优选的厚度的范围相同的范围。

第一溶剂层的厚度T1和第二溶剂层的厚度T2可以相同，也可以不同。从有效减少光学膜的卷曲的观点出发，厚度T1相对于厚度T2的比(T1/T2)优选为1/2～2/1，更优选为1/1.5～1.5/1，进一步优选为1/1.3～1.3/1，理想情况下为1。

从使膜(b)显现期望的范围的厚度方向的延迟的观点出发，厚度T1和厚度T2的合计的厚度相对于膜(a)的厚度T的比((T1+T2)/T)优选为25/100以上，更优选为25/80以上，进一步优选为25/70以上，优选为90/40以下，更优选为90/45以下，进一步优选为90/50以下。

[2.3.工序(3a)和工序(3b)]

在工序(3a)中，使上述第一溶剂层干燥。在工序(3b)中，使上述第二溶剂层干燥。经过工序(3a)和工序(3b)，得到干燥有第一溶剂层和第二溶剂层的膜(b)。通过工序(3a)，从第一溶剂层除去溶剂。通过工序(3b)，从第二溶剂层除去溶剂。

作为干燥方法，能够根据使用的溶剂的沸点而采用任意的方法。作为干燥方法的例子，可举出自然干燥、加热干燥、减压干燥、减压加热干燥等。

在工序(2a)和工序(2b)中涂敷的溶剂层的溶剂的一部分或者全部能够进入到涂敷了溶剂的膜(a)中，并进入聚合物的内部。因此，在工序(3a)和(3b)中，即使以溶剂的沸点以上的温度进行干燥，也难以容易地将溶剂从涂敷了溶剂的膜中完全除去。由此，膜(b)能够包含溶剂。

此外，在工序(2a)和工序(2b)中对溶剂层的厚度进行了调节，因此，膜(b)和对其进行拉伸而得到的光学膜的每单位重量所包含的溶剂量在厚度方向上变得不均匀。此外，通常，涂敷的溶剂层的溶剂从膜(a)的主表面朝向膜(a)厚度方向中央浸透。因此，通常，光学膜的中央部的每单位重量的含有溶剂重量比外侧部的每单位重量的含有溶剂重量少。

从容易地将对膜(b)进行拉伸而得到的膜(c)的NZ系数控制在期望的范围内的观点出发，膜(b)的面内延迟Reb优选为0nm以上，更优选为3nm以上，优选为35nm以下，更优选为30nm以下。

从容易地将对膜(b)进行拉伸而得到的膜(c)的NZ系数控制在期望的范围内的观点出发，膜(b)的厚度方向的延迟Rthb优选为-500nm以上，更优选为-450nm以上，优选为-50nm以下，更优选为-60nm以下。

[2.4.工序(4)]

在工序(4)中，将使上述第一溶剂层和上述第二溶剂层干燥而得到的膜(b)进行拉伸，得到膜(c)。

通过拉伸，能够使膜(b)所包含的结晶性聚合物的分子在与拉伸方向对应的方向上取向。由此，通过工序(4)能够调节膜(b)的面内方向的双折射Re/d、面内延迟Re、厚度方向的双折射Rth/d、厚度方向的延迟Rth等光学特性，以及能够调节厚度d。

拉伸方向没有限制。可举出例如长度方向、宽度方向、倾斜方向等。在此，倾斜方向表示垂直于厚度方向的方向中的与宽度方向既不平行也不垂直的方向。此外，拉伸方向可以是一个方向，也可以是两个以上的方向。由此，作为拉伸方法，可举出例如：将膜在长度方向上进行单轴拉伸的方法(纵向单轴拉伸法)、将膜在宽度方向上进行单轴拉伸的方法(横向单轴拉伸法)等单轴拉伸法；将膜在长度方向上进行拉伸同时在宽度方向上进行拉伸的同时双轴拉伸法、在将膜在长度方向和宽度方向中的一个方向上进行拉伸之后在另一个方向上进行拉伸的依次双轴拉伸法等双轴拉伸法；将膜在倾斜方向上进行拉伸的方法(倾斜拉伸法)等。

作为单轴拉伸法的另一个例子，可举出固定膜的端部而进行的固定单轴拉伸法、以及不固定膜的端部而进行的自由单轴拉伸法。

从通过拉伸容易地使光学膜显现期望的NZ系数的观点出发，工序(4)中的拉伸优选单轴拉伸法，更优选自由单轴拉伸法。

拉伸倍率优选为1倍以上，更优选为1.01倍以上，优选为1.5倍以下，更优选为1.4倍以下。具体的拉伸倍率优选根据拉伸的膜(b)的光学特性、厚度、强度等要素来适当设定。

在拉伸倍率为上述范围的下限值以上的情况下，能够通过拉伸使双折射发生大的变化。此外，在拉伸倍率为上述范围的上限值以下的情况下，能够容易地控制慢轴的方向，或者有效抑制膜的断裂。

拉伸温度优选为“Tg+5℃”以上，更优选为“Tg+10℃”以上，优选为“Tg+100℃”以下，更优选为“Tg+90℃”以下。在此，“Tg”表示结晶性聚合物的玻璃化转变温度。在拉伸温度为上述范围的下限值以上的情况下，能够使膜(b)充分软化，均匀地进行拉伸。此外，在拉伸温度为上述范围的上限值以下的情况下，能够抑制结晶性聚合物的结晶化的进行所导致的膜(b)的固化，因此能够顺畅地进行拉伸。此外，能够通过拉伸使双折射发生大的变化。进而，通常能够使拉伸后所得到的膜的雾度小而提高透明性。

通过实施上述的拉伸处理，能够得到作为拉伸后的膜(b)的膜(c)。如前所述，通过工序(4)中的拉伸能够使双折射发生变化，因此，能够进行膜(c)的面内延迟Re和厚度方向延迟Rth的调节。由此，通过膜(b)的在工序(4)进行的拉伸，能够将膜(c)的光学特性调节到作为光学膜所期望的范围，能够得到膜(c)来作为光学膜。

工序(4)除了包括拉伸膜(b)的工序(即，工序(4b)。)之外，还可以包括下述工序中的任一工序。

工序(4a)：将膜(b)进行预热的工序。

工序(4c)：将膜(b)进行热处理的工序。

工序(4d)：将膜(c)进行冷却的工序。

在工序(4)包括工序(4a)的情况下，工序(4a)通常在工序(4b)之前进行。

在工序(4)包括工序(4c)的情况下，工序(4c)通常在工序(4b)之后进行。

在工序(4)包括工序(4d)的情况下，工序(4d)通常在工序(4a)～(4c)之后进行。

通过热处理，能够使拉伸后的膜(b)所包含的结晶性聚合物进行结晶化。由此，通过工序(4c)能够提高光学膜的耐热性。

热处理温度通常为结晶性聚合物的玻璃化转变温度Tg以上且结晶性聚合物的熔点Tm以下。更详细而言，热处理温度优选为Tg℃以上，更优选为Tg+10℃以上，优选为Tm-20℃以下，更优选为Tm-40℃以下。在上述的温度范围中，能够抑制结晶化的进行所导致的白浊，并且使结晶性聚合物的结晶化快速进行。

热处理的处理时间优选为1秒以上，更优选为5秒以上，优选为30分钟以下，更优选为15分钟以下。

工序(4a)中的预热温度通常与工序(4b)中的拉伸温度相同，也可以不同。相对于拉伸温度T1，预热温度优选为T1-60℃以上，更优选为T1-10℃以上，进一步优选为T1-5℃以上，优选为T1+5℃以下，更优选为T1+2℃以下。预热时间是任意的，优选为1秒以上，更优选为5秒以上，并且，优选为60秒以下，更优选为30秒以下。

工序(4d)中的冷却温度被设定为比在工序(4d)之前进行的工序(工序(4b)或工序(4c))中的加热温度低。冷却时间是任意的，优选为1秒以上，更优选为5秒以上，并且，优选为30秒以下，更优选为20秒以下。

在工序(4)后的光学膜中包含残留应力。因此，光学膜的制造方法例如也可以包括进行使拉伸后的膜热收缩而除去残留应力的松弛处理的工序。在松弛处理中，通常，通过一边使拉伸后的膜维持平坦，一边在适当的温度范围在膜中产生热收缩，从而能够除去残留应力。

通过上述的制造方法，能够由结晶性树脂制造长条的膜(a)，并由膜(a)制造长条的光学膜。光学膜的制造方法也可以包括将像这样制造的长条的光学膜卷成卷状的工序。进而，光学膜的制造方法也可以包括将长条的光学膜切出期望的形状的工序。

[3.光学膜的用途]

本实施方式的光学膜例如能够设置于显示装置。在该情况下，光学膜能够改善显示装置所显示的图像的视角、对比度、画质等显示品质。

实施例

以下，示出实施例来对本发明进行具体说明。但是，本发明不限定于以下所示的实施例，在不脱离本发明的权利要求书及其同等的范围的范围可以任意地变更实施。

在以下的说明中，只要没有另外说明，表示量的“％”和“份”为重量基准。此外，只要没有另外说明，以下说明的操作在常温(20℃±15℃)和常压(1atm)的条件下进行。

[评价方法]

(聚合物的重均分子量Mw和数均分子量Mn的测定方法)

聚合物的重均分子量Mw和数均分子量Mn使用凝胶渗透色谱法(GPC)系统(东曹株式会社制“HLC-8320”)作为聚苯乙烯换算值进行测定。在测定时，使用H型色谱柱(东曹株式会社制)作为色谱柱，使用四氢呋喃作为溶剂。此外，测定时的温度为40℃。

(聚合物的氢化率的测定方法)

聚合物的氢化率将邻二氯苯-d₄作为溶剂，在145℃，通过¹H-NMR来测定。

(玻璃化转变温度Tg和熔点Tm的测定方法)

聚合物的玻璃化转变温度Tg和熔点Tm的测定如下进行。首先，通过加热使聚合物熔化，通过干冰将熔化的聚合物骤冷。接下来，将该聚合物用作试验体，使用差示扫描量热计((DSC)以10℃/分钟的升温速度(升温模式)测定聚合物的玻璃化转变温度Tg和熔点Tm。

(固有双折射的符号的确认)

将测定对象的膜切成50mm×150mm的尺寸，得到膜片。作为测定装置，使用带恒温恒湿槽的拉伸试验机(英斯特朗(Instron)公司制“5564型”)，将膜片进行自由单轴拉伸。拉伸温度为形成膜的树脂的Tg+15℃，拉伸速度为1.5倍/分钟。

然后，确定通过AXOMETRICS公司制的“AxoScan OPMF-1”进行拉伸的膜片的慢轴方向，在拉伸方向与慢轴方向平行的情况下，构成膜片的树脂的固有双折射为正，在拉伸方向与慢轴方向垂直的情况下，构成膜片的树脂的固有双折射为负。

(聚合物的间同二单元组的比例的测定方法)

聚合物的间同二单元组的比例的测定如下进行。将邻二氯苯-d₄作为溶剂，在200℃应用反门控去耦(inverse-gated decoupling)法进行聚合物的¹³C-NMR测定。在该¹³C-NMR测定的结果中，以邻二氯苯-d₄的127.5ppm的峰为基准位移鉴定来自全同二单元组(meso-dyad)的43.35ppm的信号和来自间同二单元组的43.43ppm的信号。基于这些信号的强度比求出聚合物的间同二单元组的比例。

(Re、Rth的测定方法)

膜的面内延迟Re和厚度方向的延迟Rth通过AXOMETRICS公司制“AxoScan OPMF-1”来测定。此时，测定以波长590nm进行。

(膜的厚度的测定方法)

使用接触式厚度计(株式会社三丰(MITUTOYO)制Code No.543-390)来测定膜的厚度。

(Wc和Ws的测定)

从测定对象的光学膜切出膜片，称量0.5mg的膜片。但是，在峰饱和的样品的情况下，称量0.2mg。将此时称量的膜片的重量设为W0。对称量的膜样品以下述条件实施基于GC/MS的脱气测定，求出重量W0的光学膜中的含有溶剂重量St。含有溶剂重量St使用将正癸烷作为标准试样进行换算而得到的值。

＜GC/MS测定条件＞

吹扫流量：180℃×30分钟(40℃/分钟)30mL/分钟

捕集：-130℃

INJ：300℃×5分钟Init 2分钟

色谱柱：HP-5ms 0.25mm×30m df＝0.25μm

烘箱：40℃×3分钟，接下来以10℃/分钟升温至120℃，接下来以40℃/分钟升温至280℃

接口：280℃

He流量：1.0mL/分钟

TDS：splitless

CIS：split 1/50

测定离子：29～550

然后，从为了测定光学膜整体的含有溶剂重量St而切取膜片的光学膜的位置的附近，进一步切取膜片。

一边将该膜片的表面用水润湿，一边使用砂纸(4000目、8000目、15000目)削去表面，使膜片变薄，使膜片仅为包含厚度方向中央的中央部。

表面的削去通过如下所述的方式进行。

首先，从膜片的一个表面削去原来的膜片的厚度的1/3的厚度，从膜片除去第一外侧部，使膜片仅为中央部和第二外侧部。然后，同样地从膜片的相反的面削去原来的膜片的厚度的1/3的厚度，从膜片除去第二外侧部，使膜片仅是具有原来的厚度的1/3的厚度的中央部。

然后，以与上述相同的条件，从仅为中央部的膜片称量与W0相同的重量，实施基于GC/MS的脱气测定，求出重量W0的中央部中的含有溶剂重量Sc。接下来，使用公式：Ss＝St-Sc求出重量W0的外侧部(第一外侧部和第二外侧部)中的含有溶剂重量Ss。

根据得到的含有溶剂重量Sc和称量的样品量W0(0.5mg或0.2mg)求出中央部的每单位重量(1mg)的含有溶剂重量Wc。此外，在第一外侧部和第二外侧部中，将每单位重量的含有溶剂重量看作是相同的，根据含有溶剂重量Ss、和W0，求出外侧部(第一外侧部和第二外侧部)的每单位重量(1mg)的含有溶剂重量Ws。

(处理性(卷曲))

根据以下的评价基准评价光学膜(膜(c))的处理性(卷曲的程度)。

良好：宽度方向端部的卷曲的程度小至能够输送膜(c)的程度，或者不产生卷曲。

不良：宽度方向端部的卷曲的程度大至不能够输送膜(c)的程度。

[制造例1.结晶性树脂A的制造]

将金属制的耐压反应器充分地干燥后，进行氮置换。向该金属制耐压反应器加入154.5份的环己烷、42.8份的双环戊二烯(内型含有率99％以上)的浓度为70％的环己烷溶液(作为双环戊二烯的量为30份)、以及1.9份的1-己烯，加热至53℃。

将0.014份的四氯化钨苯基酰亚胺(四氢呋喃)络合物溶解于0.70份的甲苯，制备溶液。向该溶液加入0.061份的浓度19％的乙氧基二乙基铝/正己烷溶液，搅拌10分钟，制备催化剂溶液。将该催化剂溶液加入到耐压反应器中，引发开环聚合反应。然后，保持53℃的同时进行4小时反应，得到双环戊二烯的开环聚合物的溶液。得到的双环戊二烯的开环聚合物的数均分子量(Mn)和重均分子量(Mw)分别为8750和28100，根据它们求出的分子量分布(Mw/Mn)为3.21。

在得到的200份的双环戊二烯的开环聚合物的溶液中加入0.037份的1,2-乙二醇来作为终止剂，加热至60℃，搅拌1小时，使聚合反应终止。在其中加入1份的类水滑石化合物(协和化学工业株式会社制“KYOWAAD(注册商标)2000”)，加热至60℃，搅拌1小时。然后，加入0.4份的过滤助剂(昭和化学工业株式会社制的“Radiolite(注册商标)#1500”)，使用聚丙烯褶皱筒式过滤器(ADVANTEC东洋株式会社制的“TCP-HX”)过滤分离吸附剂和溶液。

在过滤后的200份的双环戊二烯的开环聚合物的溶液(聚合物量30份)中加入100份的环己烷，添加0.0043份的氯代氢化羰基三(三苯基膦)钌，以氢压6MPa、180℃进行4小时氢化反应。由此，得到包含双环戊二烯的开环聚合物的氢化物的反应液。在该反应液中，氢化物析出，成为浆料溶液。

将上述反应液中包含的氢化物与溶液使用离心分离器进行分离，在60℃减压干燥24小时，得到28.5份的具有结晶性的双环戊二烯的开环聚合物的氢化物。该氢化物的氢化率为99％以上、玻璃化转变温度Tg为93℃、熔点(Tm)为267℃、间同二单元组的比例为89％。

将得到的100份的双环戊二烯的开环聚合物的氢化物与1.1份的抗氧化剂(四[亚甲基-3-(3’,5’-二叔丁基-4’-羟基苯基)丙酸酯]甲烷；巴斯夫(BASF)日本公司制“Irganox(注册商标)1010”)进行混合后，投入到具有4个内径3mmΦ的模具孔的双轴挤出机(产品名“TEM-37B”，东芝机械株式会社)。通过热熔融挤出成型将双环戊二烯的开环聚合物的氢化物和抗氧化剂的混合物成型为股状之后，通过线料切割机切碎，得到颗粒形状的结晶性树脂A。上述的双轴挤出机的运转条件如下所述。

·筒体设定温度＝270～280℃

·模头设定温度＝250℃

·螺杆转速＝145rpm

[实施例1]

(1-1.工序(1)：由结晶性树脂A构成的膜的制造)

使用具有T模头的热熔融挤出膜成型机，将在制造例1中制造的结晶性树脂A进行成型，得到大约宽400mm的、长条的作为膜(a)的挤出膜(厚度38μm)。将得到的挤出膜卷绕成为卷的形态。膜(a)的评价结果记载于下表。此外，使用膜(a)对结晶性树脂A的固有双折射的符号进行了确认，结果为，结晶性树脂A的固有双折射的符号为“正”。

上述的膜成型机的运转条件如下所述。

·筒体设定温度＝280℃～300℃

·模头温度＝270℃

·铸辊温度＝80℃

(1-2.工序(2a)和工序(2b)：涂敷工序)

从在(1-1)中制作的作为膜(a)的挤出膜的卷送出挤出膜，通过模头涂敷机将甲苯按照每一个面30μm的厚度(即，两个面合计60μm的厚度)涂敷在挤出膜的两个面上。

按照下述步骤进行涂敷。

首先，通过第一模头涂敷机将甲苯涂敷在挤出膜的一个面上(工序(2a))。

在由第一模头涂敷机挤出的挤出膜的输送方向的大约1.5m的下游处，通过第二模头涂敷机将甲苯涂敷在挤出膜的另一个面上(工序(2b))。

甲苯的涂敷厚度通过调节来自模头涂敷机的甲苯的流量来调节。甲苯的涂敷厚度是根据甲苯的每单位时间的流量、挤出膜的输送速度、以及挤出膜的宽度计算出的数值。

由此，在膜(a)的两个表面上分别形成有作为溶剂层的甲苯层，得到膜(a’)。膜(a’)的溶剂层的总厚度为60μm。

(1-3.工序(3a)和(3b)：干燥工序)

然后，在100℃的烘箱内对膜(a’)进行2分钟加热干燥，得到长条的膜(b)。卷绕得到的膜(b)，成为卷的形态。膜(b)的评价结果如在下表所记载的那样。

(1-4.工序(4)：拉伸加热工序)

对膜(b)进行自由单轴拉伸，得到作为光学膜的膜(c)。按照下述方法进行自由单轴拉伸。

作为拉伸机，使用依次具有4条预热辊、2条拉伸辊以及2条冷却辊的辊式纵向拉伸机。该辊式纵向拉伸机是通过在2条拉伸辊的旋转速度中设置差来进行拉伸的装置。4条预热辊的温度全部设定为100℃。2条拉伸辊的温度全部设定为160℃。2条冷却辊的温度全部设定为60℃。分别对2条拉伸辊的旋转速度进行调节，按照倍率1.1倍对膜(b)进行纵向单轴拉伸。

[实施例2]

除了变更了下述事项以外，与实施例1同样地进行操作，得到膜(c)。

·在(1-2.工序(2a)和工序(2b)：涂敷工序)中，通过模头涂敷机将甲苯按照每一个面15μm(即，两个面合计30μm的厚度)的方式涂敷在挤出膜的两个面上。

按照下述步骤进行涂敷。

从挤出膜的卷在铅垂方向上送出挤出膜，同时通过分别与挤出膜的两个面对向配置的第一模头涂敷机和第二模头涂敷机，将甲苯涂敷在挤出膜的两个面上。将第一模头涂敷机的唇和第二模头涂敷机的唇配置为隔着挤出膜对向，同时将甲苯涂敷在挤出膜的两个面上。

甲苯的涂敷厚度通过调节来自模头涂敷机的甲苯的流量来调节。甲苯的涂敷厚度是根据甲苯的每单位时间的流量、挤出膜的输送速度、以及挤出膜的宽度计算出的数值。

[比较例1]

除了变更了下述事项以外，与实施例1同样地进行操作，得到膜(c)。

·在(1-2.工序(2a)和工序(2b)：涂敷工序)中通过模头涂敷机将甲苯以30μm的厚度仅涂敷在挤出膜的一个面上。

按照下述步骤进行涂敷。

通过第一模头涂敷机将甲苯涂敷在挤出膜的一个面上。不通过第二模头涂敷机进行涂敷。

·在(1-4.工序(4)：拉伸加热工序)中，将辊纵向拉伸机所具有的2条拉伸辊的温度全部设定为140℃。分别对2条拉伸辊的旋转速度进行调节，按照倍率1.5倍对膜(b)进行纵向单轴拉伸。

[比较例2]

除了变更了下述事项以外，与实施例1同样地进行操作，得到膜(c)。

·对于膜(a)，不进行(1-2.工序(2a)和工序(2b))和(1-3.工序(3a)和(3b))，进行下述的溶剂浸渍工序，得到膜(b)。

通过使膜(a)穿过充满甲苯的浴槽中，而将膜(a)浸渍于甲苯。膜(a)穿过该浴槽中的时间(即，膜(a)与甲苯接触的时间)为5秒钟。通过使穿过了该浴槽中的膜(a)穿过80℃的烘箱中，对浸渍于甲苯的膜(a)进行干燥，得到膜(b)。

·在(1-4.工序(4))中，代替对膜(b)进行自由单轴拉伸，而通过下述方法进行固定单轴拉伸，得到膜(c)。

向使用拉幅机法的横向拉伸机供给膜(b)，一边对牵引张力和拉幅机链条张力进行调节，一边在横向上以1.5倍进行固定单轴拉伸，制作作为光学膜的膜(c)。通过如下方式实施拉伸，(4a)：将膜(b)在110℃进行预热，接下来；(4b)：在110℃拉伸预热后的膜(b)，接下来；(4c)：在使拉伸后的膜(b)为紧张的状态下，在温度170℃进行保持，促进结晶化，接下来；(4d)：在温度100℃对促进结晶化后的膜(b)进行冷却。

实施例和比较例的结果在下表中示出。

在下表中，缩写表示下述意思。

“结晶性树脂COP”：在制造例1中得到的、包含双环戊二烯的开环聚合物的氢化物中的具有结晶性的聚合物的树脂(结晶性树脂A)

“Rea”：膜(a)的面内延迟Re

“Rtha”：膜(a)的厚度方向的延迟Rth

“Nza”：膜(a)的NZ系数

“Reb”：膜(b)的面内延迟Re

“Rthb”：膜(b)的厚度方向的延迟Rth

“Nzb”：膜(b)的NZ系数“Rec”：膜(c)的面内延迟Re

“Rthc”：膜(c)的厚度方向的延迟Rth

“Nzc”：膜(c)的NZ系数“Ws”：膜(c)的外侧部的每单位重量(1mg)的溶剂重量“Wc”：膜(c)的中央部的每单位重量(1mg)的溶剂重量[表1]

表1

根据上述结果，可知以下的事项。

实施例1、2的作为光学膜的膜(c)的NZ系数大于0且小于1，卷曲的程度小，处理性良好。

另一方面，比较例1的作为光学膜的膜(c)的NZ系数为1以上，卷曲的程度大，处理性不好。

此外，比较例2的作为光学膜的膜(c)的中央部的每单位重量的含有溶剂重量Wc与外侧部的每单位重量的含有溶剂重量Ws相等(Wc＝Ws)，虽然NZ系数大于0且小于1，但卷曲的程度大，处理性不好。

在比较例1的光学膜的制造方法中，将溶剂仅涂敷在膜(a)的一个表面上，未在两个面上进行涂敷(即，包括工序(2a)，但不包括工序(2b)。)。

在比较例2的光学膜的制造方法中，将膜(a)浸渍在溶剂中(即，不包括工序(2a)和工序(2b)。)。

通过以上的结果示出了，本发明的光学膜的NZ系数大于0且小于1并且卷曲小。

此外示出了，根据本发明的光学膜的制造方法，能够制造NZ系数大于0且小于1并且卷曲小的光学膜。

附图标记说明

100：光学膜；

100U：第一表面；

100D：第二表面；

110：中央部；

111：中央；

121：第一外侧部；

122：第二外侧部。

Claims (5)

1.一种光学膜，其由包含具有结晶性的聚合物的树脂构成，

所述光学膜具有中央部和外侧部，

所述中央部是包含厚度方向中央的部分，

所述外侧部相对于所述中央部位于厚度方向外侧、是包含所述光学膜的主表面的部分，

所述中央部的每单位重量的含有溶剂重量比所述外侧部的每单位重量的含有溶剂重量小，

所述光学膜的NZ系数大于0且小于1。

2.根据权利要求1所述的光学膜，其中，所述包含具有结晶性的聚合物的树脂的固有双折射为正。

3.根据权利要求1或2所述的光学膜，其中，所述具有结晶性的聚合物是含有脂环式结构的聚合物。

4.一种光学膜的制造方法，其为权利要求1～3中任一项所述的光学膜的制造方法，包括：

将包含具有结晶性的聚合物的树脂进行挤出成型而得到膜(a)的工序(1)；

将溶剂涂敷在所述膜(a)的两个表面中的第一表面上而形成具有大于10μm的厚度的第一溶剂层的工序(2a)；

使所述第一溶剂层干燥的工序(3a)；

将溶剂涂敷在所述膜(a)的两个表面中的第二表面上而形成具有大于10μm的厚度的第二溶剂层的工序(2b)；

使所述第二溶剂层干燥的工序(3b)；以及

将使所述第一溶剂层和所述第二溶剂层干燥而得到的膜(b)进行拉伸而得到膜(c)的工序(4)。

5.根据权利要求4所述的光学膜的制造方法，其中，所述工序(2a)和所述工序(2b)同时进行。