KR20210023820A - 노광 장치 및 높이 조정 방법 - Google Patents

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KR20210023820A
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마코토 요네자와
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브이 테크놀로지 씨오. 엘티디
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    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor

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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022129897A (ja) * 2021-02-25 2022-09-06 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 描画装置、描画方法およびプログラム
JP2022183616A (ja) * 2021-05-31 2022-12-13 株式会社ジャノメ 経路教示データ作成装置及びその方法並びにプログラム
WO2023145085A1 (ja) * 2022-01-31 2023-08-03 ファナック株式会社 支持構造

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09320943A (ja) 1996-05-31 1997-12-12 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 描画装置および自動焦点制御方法

Family Cites Families (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4748335A (en) * 1985-04-19 1988-05-31 Siscan Systems, Inc. Method and aparatus for determining surface profiles
JPH03112123A (ja) * 1989-09-27 1991-05-13 Canon Inc 露光装置
DE4127341C2 (de) 1991-08-19 2000-03-09 Leybold Ag Vorrichtung zum selbsttätigen Gießen, Beschichten, Lackieren, Prüfen und Sortieren von Werkstücken
JP4496711B2 (ja) * 2003-03-31 2010-07-07 株式会社ニコン 露光装置及び露光方法
JP4688525B2 (ja) * 2004-09-27 2011-05-25 株式会社 日立ディスプレイズ パターン修正装置および表示装置の製造方法
JP2006286131A (ja) * 2005-04-04 2006-10-19 Ricoh Co Ltd ワーク回転駆動装置及び光ディスク原盤露光装置
DE102005030304B4 (de) * 2005-06-27 2008-06-26 Xtreme Technologies Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung von extrem ultravioletter Strahlung
DE102006008080A1 (de) * 2006-02-22 2007-08-30 Kleo Maschinenbau Ag Belichtungsanlage
CN101681008A (zh) * 2007-05-11 2010-03-24 株式会社尼康 光学元件驱动装置、镜筒、曝光装置及器件的制造方法
US7679849B2 (en) * 2007-06-01 2010-03-16 Stmicroelectronics (Grenoble) Sas Mobile lens unit with detection device
JP5139922B2 (ja) * 2008-08-25 2013-02-06 株式会社ディスコ レーザー加工装置
KR101862234B1 (ko) * 2009-08-20 2018-05-29 가부시키가이샤 니콘 물체 처리 장치, 노광 장치와 노광 방법, 및 디바이스 제조 방법
NL2004527A (en) * 2009-08-25 2011-02-28 Asml Netherlands Bv Optical apparatus, and method of orienting a reflective element.
JP2011119551A (ja) * 2009-12-04 2011-06-16 Nikon Corp 光学部材変形装置、光学系、露光装置、デバイスの製造方法
JP2011242563A (ja) * 2010-05-18 2011-12-01 Hitachi High-Technologies Corp 露光装置、露光装置のランプ位置調整方法、及び表示用パネル基板の製造方法
US8988655B2 (en) * 2010-09-07 2015-03-24 Nikon Corporation Exposure apparatus, movable body apparatus, flat-panel display manufacturing method, and device manufacturing method
JP5663449B2 (ja) * 2011-10-12 2015-02-04 オリンパスイメージング株式会社 操作装置
DE102012201410B4 (de) * 2012-02-01 2013-08-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage mit einer Messvorrichtung zum Vermessen eines optischen Elements
JP6150043B2 (ja) * 2012-03-29 2017-06-21 株式会社ブイ・テクノロジー 露光装置
JP5863149B2 (ja) * 2012-04-04 2016-02-16 株式会社ニコン 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法
NL2010628A (en) * 2012-04-27 2013-10-29 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus comprising an actuator, and method for protecting such actuator.
US9360757B2 (en) * 2013-08-14 2016-06-07 Carbon3D, Inc. Continuous liquid interphase printing
JP2015070014A (ja) * 2013-09-27 2015-04-13 株式会社ニコン 基板保持方法及び装置、並びに露光方法及び装置
JP6314426B2 (ja) 2013-10-31 2018-04-25 セイコーエプソン株式会社 ロボット制御装置およびロボット制御方法
JP6484853B2 (ja) * 2014-04-17 2019-03-20 株式会社ブイ・テクノロジー 露光装置用反射鏡ユニット及び露光装置
JP6591916B2 (ja) * 2016-03-07 2019-10-16 株式会社ブイ・テクノロジー マスク製造装置
JP6564727B2 (ja) * 2016-03-28 2019-08-21 株式会社ブイ・テクノロジー マスク製造装置及びマスク製造装置の制御方法
JP2018031824A (ja) * 2016-08-22 2018-03-01 株式会社ブイ・テクノロジー 露光装置
JP2019095662A (ja) * 2017-11-24 2019-06-20 株式会社ブイ・テクノロジー 光学装置の取付構造及び露光装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09320943A (ja) 1996-05-31 1997-12-12 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 描画装置および自動焦点制御方法

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