CN112334836B - 曝光装置以及高度调整方法 - Google Patents

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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022129897A (ja) * 2021-02-25 2022-09-06 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 描画装置、描画方法およびプログラム
JP2022183616A (ja) * 2021-05-31 2022-12-13 株式会社ジャノメ 経路教示データ作成装置及びその方法並びにプログラム
WO2023145085A1 (ja) * 2022-01-31 2023-08-03 ファナック株式会社 支持構造

Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006286131A (ja) * 2005-04-04 2006-10-19 Ricoh Co Ltd ワーク回転駆動装置及び光ディスク原盤露光装置
DE102005030304A1 (de) * 2005-06-27 2006-12-28 Xtreme Technologies Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung von extrem ultravioletter Strahlung
CN101658976A (zh) * 2008-08-25 2010-03-03 株式会社迪思科 激光加工装置
CN101681008A (zh) * 2007-05-11 2010-03-24 株式会社尼康 光学元件驱动装置、镜筒、曝光装置及器件的制造方法
NL2004527A (en) * 2009-08-25 2011-02-28 Asml Netherlands Bv Optical apparatus, and method of orienting a reflective element.
JP2011119551A (ja) * 2009-12-04 2011-06-16 Nikon Corp 光学部材変形装置、光学系、露光装置、デバイスの製造方法
CN103048851A (zh) * 2011-10-12 2013-04-17 奥林巴斯映像株式会社 操作装置
DE102012201410A1 (de) * 2012-02-01 2013-08-01 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage mit einer Messvorrichtung zum Vermessen eines optischen Elements
WO2013150790A1 (ja) * 2012-04-04 2013-10-10 株式会社ニコン 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法
JP2014168030A (ja) * 2012-03-29 2014-09-11 Nsk Technology Co Ltd 露光装置及び露光方法
JP2015070014A (ja) * 2013-09-27 2015-04-13 株式会社ニコン 基板保持方法及び装置、並びに露光方法及び装置
CN106687866A (zh) * 2014-04-17 2017-05-17 株式会社V技术 曝光装置用反射镜单元及曝光装置
WO2017154659A1 (ja) * 2016-03-07 2017-09-14 株式会社ブイ・テクノロジー マスク製造装置
JP2017181579A (ja) * 2016-03-28 2017-10-05 株式会社ブイ・テクノロジー マスク製造装置及びマスク製造装置の制御方法
JP2018031824A (ja) * 2016-08-22 2018-03-01 株式会社ブイ・テクノロジー 露光装置

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4748335A (en) * 1985-04-19 1988-05-31 Siscan Systems, Inc. Method and aparatus for determining surface profiles
JPH03112123A (ja) * 1989-09-27 1991-05-13 Canon Inc 露光装置
DE4127341C2 (de) 1991-08-19 2000-03-09 Leybold Ag Vorrichtung zum selbsttätigen Gießen, Beschichten, Lackieren, Prüfen und Sortieren von Werkstücken
JP4496711B2 (ja) * 2003-03-31 2010-07-07 株式会社ニコン 露光装置及び露光方法
JP4688525B2 (ja) * 2004-09-27 2011-05-25 株式会社 日立ディスプレイズ パターン修正装置および表示装置の製造方法
DE102006008080A1 (de) * 2006-02-22 2007-08-30 Kleo Maschinenbau Ag Belichtungsanlage
US7679849B2 (en) * 2007-06-01 2010-03-16 Stmicroelectronics (Grenoble) Sas Mobile lens unit with detection device
JP5573849B2 (ja) * 2009-08-20 2014-08-20 株式会社ニコン 物体処理装置、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
JP2011242563A (ja) * 2010-05-18 2011-12-01 Hitachi High-Technologies Corp 露光装置、露光装置のランプ位置調整方法、及び表示用パネル基板の製造方法
US8988655B2 (en) * 2010-09-07 2015-03-24 Nikon Corporation Exposure apparatus, movable body apparatus, flat-panel display manufacturing method, and device manufacturing method
WO2013160123A1 (en) * 2012-04-27 2013-10-31 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus comprising an actuator, and method for protecting such actuator
US9360757B2 (en) * 2013-08-14 2016-06-07 Carbon3D, Inc. Continuous liquid interphase printing
JP6314426B2 (ja) 2013-10-31 2018-04-25 セイコーエプソン株式会社 ロボット制御装置およびロボット制御方法
JP2019095662A (ja) * 2017-11-24 2019-06-20 株式会社ブイ・テクノロジー 光学装置の取付構造及び露光装置

Patent Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006286131A (ja) * 2005-04-04 2006-10-19 Ricoh Co Ltd ワーク回転駆動装置及び光ディスク原盤露光装置
DE102005030304A1 (de) * 2005-06-27 2006-12-28 Xtreme Technologies Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung von extrem ultravioletter Strahlung
CN101681008A (zh) * 2007-05-11 2010-03-24 株式会社尼康 光学元件驱动装置、镜筒、曝光装置及器件的制造方法
CN101658976A (zh) * 2008-08-25 2010-03-03 株式会社迪思科 激光加工装置
NL2004527A (en) * 2009-08-25 2011-02-28 Asml Netherlands Bv Optical apparatus, and method of orienting a reflective element.
JP2011119551A (ja) * 2009-12-04 2011-06-16 Nikon Corp 光学部材変形装置、光学系、露光装置、デバイスの製造方法
CN103048851A (zh) * 2011-10-12 2013-04-17 奥林巴斯映像株式会社 操作装置
DE102012201410A1 (de) * 2012-02-01 2013-08-01 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage mit einer Messvorrichtung zum Vermessen eines optischen Elements
JP2014168030A (ja) * 2012-03-29 2014-09-11 Nsk Technology Co Ltd 露光装置及び露光方法
WO2013150790A1 (ja) * 2012-04-04 2013-10-10 株式会社ニコン 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法
JP2015070014A (ja) * 2013-09-27 2015-04-13 株式会社ニコン 基板保持方法及び装置、並びに露光方法及び装置
CN106687866A (zh) * 2014-04-17 2017-05-17 株式会社V技术 曝光装置用反射镜单元及曝光装置
WO2017154659A1 (ja) * 2016-03-07 2017-09-14 株式会社ブイ・テクノロジー マスク製造装置
JP2017181579A (ja) * 2016-03-28 2017-10-05 株式会社ブイ・テクノロジー マスク製造装置及びマスク製造装置の制御方法
JP2018031824A (ja) * 2016-08-22 2018-03-01 株式会社ブイ・テクノロジー 露光装置

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