JP2018031824A - 露光装置 - Google Patents

Abstract

【課題】大きなガラス基板に対して微細な直線パターンを正確に形成することができる。【解決手段】低熱膨張材料により形成された略直方体の定盤１１の上に、低熱膨張材料により形成され、略水平な上面に基板が載置される板状のステージ３１が、上面１１ａに固定された高さが略同一のレール２１を介して設けられる。第１駆動部と、ステージ３１の下面には、設けられたガイドレール２０を挟むように、２本の略棒状のガイド部材が設けられ、レール２１の上面に沿ってステージ３１を移動させる。そして、干渉ユニット４２は、ステージ３１に載置された基板に干渉縞を照射して、いわゆるラインアンドスペースを形成する。【選択図】 図１

Description

本発明は、露光装置に関する。

特許文献１には、コヒーレント光源の出力光を２以上に分岐し、これらを所定の干渉角度で交差させて、干渉縞の長手方向が所定の角度で交差する干渉光を発生させること、及び、当該干渉光を用いてステップアンドリピート方式により感光性材料層の干渉露光を行い、干渉露光後の感光性材料層における干渉光の照射エリア若しくは非照射エリアを除去して感光性材料層に微細パターンを形成し、基板若しくは機能材料層をエッチングして微細パターンを得ることが開示されている。

特開２０１６−１１１０５９号公報

特許文献１に記載の発明は、８インチウェハ等の小さな基板をある方向（Ｙ方向とする）に移動させて、Ｙ方向に沿った微細パターンを形成するものである。特許文献１に記載の発明では、露光時におけるワークの移動量が小さいため、ワークをステージに載置したときのワークの平坦度、ワークが載置されたステージを移動させるときの精度等は大きな問題にならない。しかしながら、特許文献１に記載の発明を用いて、例えば１ｍ×１．５ｍ程度の大きなガラス基板を露光しようとすると、様々な問題が生じるおそれがある。

例えば、大きなガラス基板をステージに載置したときに、ガラス基板の高さにばらつきが生じ、それによりパターンの精度（パターンの幅、深さ等）が低くなるおそれがある。また、例えば、ステージをＹ方向に直進させるとき、移動距離が長くなるほどステージの移動精度が低くなり、それによりパターンが蛇行してしまうおそれがある。

本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、大きなガラス基板に対して微細な直線パターンを正確に形成することができる露光装置を提供することを目的とする。

上記課題を解決するために、本発明に係る露光装置は、例えば、低熱膨張材料により形成された略直方体の定盤と、低熱膨張材料により形成され、略水平な上面に基板が載置される板状のステージと、前記ステージを第１方向に移動させる第１移動部であって、長手方向が前記第１方向に沿うように前記定盤の上面に固定された高さが略同一の複数のレールであって、前記ステージが載置される複数のレールと、前記複数のレールの上面に沿って前記ステージを移動させる第１駆動部と、前記複数のレールのうちの１本であるガイドレールを挟むように前記ステージの下面に設けられた２本の略棒状のガイド部材と、を有する第１移動部と、光源と、前記光源から照射されたレーザ光を２つの光束に分割し、当該２つの光束を干渉させて生成した干渉縞を前記ステージに向けて照射する干渉ユニットであって、前記光源から照射されたレーザ光を第１光束及び第２光束に分割するビームスプリッタと、前記第１光束を反射させる第１ミラーと、前記第２光束を反射させる第２ミラーと、前記ビームスプリッタと前記第２ミラーとの間に設けられ、前記第２光束が通過する補正光学部材と、を有する干渉ユニットと、を有する光照射部と、前記定盤に設けられ、前記ステージの上方に前記干渉ユニットを移動可能に保持する枠体であって、前記第１方向及び鉛直方向と略直交する第２方向に延設された棒状部を有する枠体と、前記干渉ユニットを前記棒状部に沿って移動させる第２移動部と、を備えたことを特徴とする。

本発明に係る露光装置によれば、低熱膨張材料により形成された略直方体の定盤の上に、低熱膨張材料により形成され、略水平な上面に基板が載置される板状のステージが、盤の上面に固定された高さが略同一の複数のレールを介して設けられる。ステージの下面には、ガイドレールを挟むように２本の略棒状のガイド部材が設けられ、レールの上面及び側面に沿ってステージを移動させる。そして、干渉ユニットは、ステージに載置された基板に干渉縞を照射していわゆるラインアンドスペースを形成する。これにより、ワーク、すなわちステージが大きくても、ステージを第１方向（ｘ方向）に沿って移動させることができ、その結果ラインアンドスペースの長手方向をｘ方向とほぼ平行にすることができる。また、定盤やステージが低熱膨張材料により形成されているため、ワークＷが大きくても、ワークＷの水平面（ｘｙ平面）方向の熱変形を抑えることができる。したがって、ワークＷに描くラインアンドスペースの幅や位置を一定にし、大きなガラス基板に対して、微細な直線パターンを正確に形成することができる。

ここで、前記ステージの前記第２方向に沿った側面には、前記干渉縞を直接読み取る光読取部が設けられ、前記光読取部は、前記干渉縞の光をとらえる対物レンズと、前記干渉縞を結像するカメラと、を有してもよい。これにより、干渉ユニットの高さと、基板に照射される干渉縞のコントラストと、の関係を直接確認することができる。

ここで、前記干渉ユニットに隣接して設けられたオートフォーカス部を備え、前記オートフォーカス部は、側面視において斜め上から前記ステージに向けて光を照射するオートフォーカス用光源と、前記オートフォーカス用光源から照射された光を受光し、当該受光した光が結像した位置に基づいて前記ステージの高さ方向の位置ずれを検出するオートフォーカス用センサと、を有してもよい。これにより、基板（ステージ）の高さを測定することができる。そして、高さに応じて露光条件を変化させることで、ラインアンドスペースの精度を高くすることができる。具体的には、干渉縞の焦点ボケを無くし、高いコントラストで安定したライン幅を保つことができる。また、部分的な基板の反りを検出し、干渉縞の第２方向（ｙ方向）のズレを補正することができる。

ここで、前記補正光学部材は、板状の部材であり、前記干渉ユニットは、前記補正光学部材を回転させる移動機構を有してもよい。これにより、干渉縞の横方向（ｙ方向）の位置を微調整することができる。

ここで、前記干渉ユニットは、前記光源から照射され、前記基板及び前記第２ミラーで反射され、前記補正光学部材及び前記ビームスプリッタを通過した光、及び前記光源から照射され、前記基板、前記第１ミラー及び前記ビームスプリッタで反射された光を受光する受光センサを有してもよい。これにより、露光に用いる光学系を用いて、露光後の基板を検査することができる。

ここで、前記棒状部の鉛直方向における両側の面にそれぞれ前記第２方向に沿って延設されたスケールを有し、前記干渉ユニットの前記第２方向における位置を測定する第１位置測定部及び第２位置測定部と、前記干渉ユニットの前記第２方向における位置を測定するレーザ干渉計と、前記レーザ干渉計の測定結果に基づいて前記第１位置測定部及び前記第２位置測定部の測定結果を校正する制御部と、を備えてもよい。これにより、ステージのピッチングやヨーイングによる誤差等を含まないように第１位置測定部及び第２位置測定部を校正し、干渉ユニットの移動精度を高くすることができる。

ここで、前記ステージの下面には、前記ガイドレールと対向する位置に凸部が設けられ、前記ガイド部材は、前記凸部の両側に設けられ、前記凸部及び前記ガイド部材には、前記ガイドレールに向けて空気を吐出する空気吐出部と、前記ガイドレールとの間にある空気を吸引する空気吸引部と、が設けられてもよい。これにより、ステージを変形させず、ステージの移動方向を規制することができる。

本発明によれば、大きなガラス基板に対して微細な直線パターンを正確に形成することができる。

第１の実施の形態に係る露光装置１の概略を示す斜視図である。 露光装置１の概略を示す斜視図である。 露光装置１の概略を示す平面図である。 第１移動部２０の概略を示す図である。 ステージ３１を斜め下から見た概略斜視図である。 干渉ユニット４２を模式的に示す図である。 レーザ光Ｌ１、Ｌ２の干渉による干渉縞Ｌ３を模式的に示す図である。 光読取部５０ａの概略を示す斜視図であり、要部を透視した図である。 オートフォーカス部６０の概略を示す図である。 露光装置１の測定系の概略を示す図である。 露光装置１の電気的な構成を示すブロック図である。 制御部１５１ａが行なう処理を説明する機能ブロック図である。

以下、本発明の実施形態を、図面を参照して詳細に説明する。各図面において、同一の要素には同一の符号が付されており、重複する部分については説明を省略する。

本発明における露光装置は、略水平方向に保持した感光性基板（例えば、ガラス基板）の表面に感光性材料層（例えば、フォトレジスト等）を形成したワークに対して露光を行い、ワークに微細な直線パターンを形成するものである。本実施の形態では、微細な直線パターンとして、例えば、太さが略９０ｎｍ、ピッチが略１８０ｎｍのストライプ状の微細な凹凸（いわゆるラインアンドスペース）を形成する。

感光性基板は、一辺が例えば１ｍを超える（例えば、１０００ｍｍ×１５００ｍｍ）大型の略矩形形状の基板である。なお、感光性基板としては、例えば、熱膨張率が非常に小さい（例えば、約５．５×１０^−７／Ｋ程度）石英ガラスが用いられる。

図１、２は、第１の実施の形態に係る露光装置１の概略を示す斜視図である。図３は、露光装置１の概略を示す平面図である。露光装置１は、主として、定盤１１と、除振台１２、１３と、第１移動部２０と、ステージ３１と、枠体３２と、光照射部４０と、光読取部５０と、オートフォーカス部６０（図９参照）と、を有する。なお、図１〜３においては、一部の構成について図示を省略している。また、露光装置１は、装置全体を覆う図示しない温度調整部により、一定温度に保たれている。

定盤１１は、略直方体形状（厚板状）の部材であり、例えば、石（例えば、花崗岩）や低膨張率の鋳物（例えば、ニッケル系の合金）等の低熱膨張材料で形成される。定盤１１は、設置面（例えば、床）上に載置された複数の除振台１２、１３の上に載置される。これにより、定盤１１が除振台１２、１３を介して設置面上に載置される。定盤１１は、略水平（ｘｙ平面と略平行）な上面（＋ｚ側の面）１１ａを有する。

除振台１２は、アクティブ除振台であり、除振台１３は、重さを支えるパッシブ除振台である。除振台１３は、ｚ方向に移動可能な受動型バネ要素を有する。除振台１２は、除振台１３に、ｘ方向及びｙ方向のそれぞれに移動可能なアクチュエータ（図示せず）と、アクチュエータを制御するためのセンサ（図示せず）と、センサからの信号に基づいて外部から入力する振動を抑制するようにアクチュエータを制御する制御回路（図示せず）と、を追加したものである。除振台１２、１３については、すでに公知であるため、詳細な説明を省略する。

第１移動部２０は、定盤１１の上面１１ａに載置され、ステージ３１は、第１移動部２０の上に載置される。第１移動部２０は、ステージ３１をｘ方向に移動させる。

第１移動部２０は、主として、４本のレール２１と、１本のガイドレール２２と、レール２１の上面に沿ってステージ３１を移動させる駆動部２３と、を有する。なお、図１〜３では図示しないが、第１移動部２０には、ポンプ等から空気が供給される。

４本のレール２１及びガイドレール２２は、セラミック製の細長い板状の部材であり、定盤１１の上面１１ａに、長手方向がｘ方向に沿うように固定される。４本のレール２１及びガイドレール２２は、高さ（ｚ方向の位置）が略同一である。レール２１及びガイドレール２２の上面と、ガイドレール２２の側面とは、高精度及び高平坦度で形成される。

ガイドレール２２は、定盤１１のｙ方向における略中央に設けられる。ｘｚ平面と略平行な面であって、ガイドレール２２を含む面には、露光装置１の重心位置が含まれる。

４本のレール２１は、ガイドレール２２を挟んで線対称の位置に設けられる。本実施の形態では、２本のレール２１がガイドレール２２の−ｙ側に設けられ、２本のレール２１がガイドレール２２の＋ｙ側に設けられる。

４本のレール２１及びガイドレール２２の上には、ステージ３１が載置される。４本のレール２１のうちの−ｙ側の端に位置するレール２１には、ステージ３１の−ｙ側の端部である側面３１ｃ近傍の領域が載置され、４本のレール２１のうちの＋ｙ側の端に位置するレール２１には、ステージ３１の＋ｙ側の端部である側面３１ｄ近傍の領域が載置される。

また、定盤１１の上面１１ａには、４本のレール２１及びガイドレール２２を挟むように、２つの駆動部２３が設けられる。駆動部２３は、永久磁石を有する固定子２３ａと、電磁コイルを有する可動子２３ｂと、を有するリニアモータである。

固定子２３ａは、断面略コの字形状の棒状の部材であり、長手方向がｘ方向に沿うように定盤１１の上面１１ａに設けられる。固定子２３ａは、ガイドレール２２を中心として線対称の位置に設けられる。また、固定子２３ａの内部には、冷却液（例えば、フッ素系不活性液体）が流れる配管（図示せず）が設けられている。

可動子２３ｂは、ステージ３１の側面３１ｃ、３１ｄにそれぞれ設けられる。可動子２３ｂは、電磁コイルが設けられた凸部を有し、この凸部が固定子２３ａ内に挿入される。可動子２３ｂは、Ｕ相、Ｖ相、Ｗ相のコイル（図示せず）が順番に並べられており、固定子２３ａに沿って移動する。また、可動子２３ｂの内部には、コイルの間を縫うように、冷却液が流れる配管（図示せず）が設けられている。

ステージ３１は、板状であり、略水平な上面３１ａと、下面３１ｂ（図７参照）と、を有する。上面３１ａには、ワークＷ（図示省略）が載置される。ステージ３１は、熱膨張係数が略０．５〜１×１０^−７／Ｋの低膨張性セラミック等の低熱膨張材料を用いて形成される。これにより、ステージ３１の変形を防止することができる。なお、ステージ３１は、熱膨張係数が略５×１０^−８／Ｋの超低膨張性ガラスセラミックを用いて形成することが望ましい。この場合には、制御しきれない温度変化が発生したとしても、ステージ３１の変形を確実に防止することができる。また、ステージ３１は、定盤１１や枠体３２よりも熱膨張係数が小さい材料を用いて形成することが望ましい。ステージ３１の熱変形を防止することで、ワークＷを熱変形させないようにしたり、ワークＷの熱変形量を小さくしたりすることができる。

ここで、ステージ３１が第１移動部２０によりどのように移動されるかについて説明する。図４は、第１移動部２０の側面図であり、第１移動部２０の中央部分を部分的に拡大した図である。図５は、ステージ３１を斜め下から見た概略斜視図である。

ステージ３１の下面３１ｂには、レール２１及びガイドレール２２と対向する位置に凸部３１ｆ、３１ｇが形成される。複数の凸部３１ｆ、３１ｇは、下面３１ｂに２次元状に配列される。凸部３１ｆ、３１ｇは、先端（レール２１又はガイドレール２２と対向する面）が平面である。

ステージ３１の下面３１ｂには、ガイドレール２２を挟むように、凸部３１ｇの両側に２本の略棒状のエアパッド２４が設けられる。これにより、ステージ３１のｙ方向の位置、すなわちステージ３１がｘ方向以外に移動しないようにステージ３１の移動方向が規制される。このように、エアパッド２４は、ステージ３１の移動方向を規制するガイド部材としても機能する。

図４に示すように、エアパッド２４には、ガイドレール２２の側面に向けて空気を吐出する空気吐出部２４ａが設けられる。空気吐出部２４ａは、エアパッド２４の側面に開口する空気穴を有する。また、空気吐出部２４ａは、内径が絞られたオリフィスを有する。したがって、この開口からは、ポンプ（図示せず）等から供給された空気が高圧及び高速で吐出される。これにより、空気吐出部２４ａとガイドレール２２との間に、空気の層が形成される。

また、エアパッド２４には、空気吐出部２４ａとガイドレール２２との間にある空気を吸引する空気吸引部２４ｂと、空気吐出部２４ａとガイドレール２２との間に形成された空間と外部空間とを連通する連通孔２４ｃと、が設けられる。

凸部３１ｇには、空気吐出部３１ｈが形成される。空気吐出部３１ｈは、凸部３１ｇの先端面に開口する空気穴を有し、この開口からは、ポンプ（図示せず）等から供給された空気がガイドレール２２に向けて高圧及び高速で吐出される。これにより、凸部３１ｇとガイドレール２２との間に、空気の層が形成される。

また、凸部３１ｇには、凸部３１ｇとガイドレール２２との間にある空気を吸引する空気吸引部３１ｉと、凸部３１ｇとガイドレール２２との間に形成された空間と外部空間とを連通する連通孔３１ｊと、が設けられる。

このように、エアパッド２４及び凸部３１ｇと、ガイドレール２２との間の空間に空気を吐出しつつ空気を吸引するため、ステージ３１を変形させず、ステージ３１の移動方向を規制することができる。

凸部３１ｆには、複数（例えば、５個）の空気吐出部３１ｈが設けられ、ポンプ（図示せず）等から供給された空気がレール２１に向けて高圧及び高速で吐出される。これにより、空気吐出部３１ｈとレール２１との間に、空気の層が形成される。したがって、ステージ３１を滑らかに移動させることができる。

なお、本実施の形態では、隣接する凸部３１ｆ、３１ｇはｘ方向にもｙ方向にも離れているが、凸部３１ｆ、３１ｇの形態はこれに限られない。例えば、凸部がｘ方向沿って長いリブ状であり、リブ状の凸部がｙ方向に複数並べられていてもよい。

図１〜３の説明に戻る。枠体３２は、定盤１１の上面１１ａに設けられ、ステージ３１の上方（＋ｚ方向）に光照射部４０を移動可能に保持する。枠体３２は、定盤１１と同じ材料、例えば石（例えば、花崗岩）や低膨張率の鋳物（例えば、ニッケル系の合金）等の低熱膨張材料を用いて形成され、２本の柱３２ａと、柱３２ａを連結する梁３２ｂと、を有する。梁３２ｂは、棒状の部材であり、ステージ３１の上方（＋ｚ方向）に、ｙ方向に沿って延設される。また、梁３２ｂには、取付部材３３と、梁３２ｂに沿って取付部材３３、すなわち取付部材３３に設けられた干渉ユニット４２（後に詳述）を移動させる駆動部３４と、が設けられる。

駆動部３４は、梁３２ｂのｚ方向の両端面（＋ｚ側の面と−ｚ側の面）にそれぞれ設けられる。図１〜３では、−ｚ側の面に設けられた駆動部３４の図示を省略している。

駆動部３４は、永久磁石を有する固定子３４ａと、電磁コイルを有する可動子（図示せず）と、を有するリニアモータである。固定子３４ａは、断面略コの字形状の棒状の部材であり、長手方向がｙ方向に沿うように梁３２ｂに設けられる。可動子は、取付部材３３に設けられ、電磁コイルが設けられた凸部が固定子３４ａ内に挿入される。可動子は、Ｕ相、Ｖ相、Ｗ相のコイル（図示せず）が順番に並べられており、固定子３４ａに沿って移動する。これにより、取付部材３３がｙ方向に沿って移動する。

光照射部４０は、ワークＷ（すなわち、ステージ３１）に向けて光（本実施の形態では、レーザ光）を照射するものであり、主として、光源４１と、干渉ユニット４２と、ミラー４３と、を有する。

光源４１は、コヒーレント光を出射するコヒーレント光源であり、例えば、波長λが２６６ｎｍのレーザ光を出射する半導体励起固体レーザである。光源としては、例えば、ネオジウムがドープされたＹＡＧレーザを用いることができる。この光源から出力されるレーザ光の波長は１０．６μｍであり、ＳＨＧ素子等を用いて波長λが２６６ｎｍのレーザ光を得ることができる。ただし、光源４１の種類や、光源が出射するレーザ光の波長はこれに限られない。

レーザ光Ｌは、光源４１からｙ方向に沿って（本実施の形態では−ｙ方向に）出射され、ミラー４３で反射されて下向き（−ｚ方向）に向きが変えられる。ミラー４３は、干渉ユニット４２に設けられ、ミラー４３で反射されたレーザ光Ｌは、干渉ユニット４２へ導かれる。

干渉ユニット４２は、梁３２ｂを周方向に覆う取付部材３３を介して梁３２ｂに設けられる。図６は、干渉ユニット４２を模式的に示す図である。干渉ユニット４２は、光源４１から照射された光を２つの高速に分割し、２つの光束を干渉させて形成された縞状の光をワークＷ（すなわち、ステージ３１）に向けて照射するものである。図６において、光路を２点鎖線で示し、光軸を１点鎖線で示す。

干渉ユニット４２は、主として、枠４２ａと、ビームエキスパンダ４２ｂと、ミラー４２ｃと、ビームスプリッタ４２ｄと、ミラー４２ｅ、４２ｆと、補正光学部材４２ｇと、反射強度センサ４２ｈと、を有する。

枠４２ａは、セラミック等で形成された２個の中空角棒を有する。２つの中空角棒は、隣接して設けられる。枠４２ａは、図示しない移動機構を介して、取付部材３３に上下方向（ｚ方向）に移動可能に設けられる。また、枠４２ａは、図示しない移動機構を介して、ｚ軸を中心に回転可能に設けられる。なお、移動機構については、公知の技術を用いることができる。

枠４２ａには、ミラー４３、ビームエキスパンダ４２ｂ、ミラー４２ｃ、ビームスプリッタ４２ｄ、ミラー４２ｅ、４２ｆ、補正光学部材４２ｇ、及び反射強度センサ４２ｈが設けられる。２つの中空角棒の間にビームスプリッタ４２ｄを設け、２つの中空角棒の両外側の面にミラー４２ｅ、４２ｆを設けることで、ミラー４２ｅ、４２ｆが中心軸ａｘを中心に略左右対称に設けられる。

光源４１から出射されたレーザ光Ｌは、ミラー４３で反射された後、ビームエキスパンダ４２ｂによってビーム径が拡大され、ミラー４２ｃによってその光路が偏向されてビームスプリッタ４２ｄに導かれる。

ビームスプリッタ４２ｄは、１本のレーザ光Ｌを２つの光束に分割するものである。ビームスプリッタ４２ｄは、例えば、板状のハーフミラーを用いることができるが、これに限定されない。ビームスプリッタ４２ｄにより分割された２本のレーザ光Ｌ１、Ｌ２は、それぞれミラー４２ｅ、４２ｆで反射し、ワークＷ上で干渉し、干渉光を発生させる。

ビームスプリッタ４２ｄとミラー４２ｆとの間には、補正光学部材４２ｇが設けられている。補正光学部材４２ｇは、例えばビームスプリッタ４２ｄと同じ板厚のガラス板であり、ビームスプリッタ４２ｄを通過したレーザ光Ｌ２が通過する。補正光学部材４２ｇは、ビームスプリッタ４２ｄを通過し、ミラー４２ｆで反射したレーザ光Ｌ１の光路長と、ビームスプリッタ４２ｄ及びミラー４２ｅで反射したレーザ光Ｌ２の光路長と、が同じ長さとなるように、ビームスプリッタ４２ｄを通過した光の光路長を補正する。

補正光学部材４２ｇは、図示しない移動機構により回転可能（図６矢印参照）に設けられる。なお、補正光学部材４２ｇは板状の部材に限られず、補正光学部材４２ｇの移動方向は回転方向に限られない。なお、移動機構については、公知の技術を用いることができる。

２本のレーザ光Ｌ１、Ｌ２は、所定の干渉角度２θで交差する。これにより、ワークＷの上面近傍で二つのレーザ光Ｌ１、Ｌ２の干渉による干渉縞が生成され、これがワークＷに露光光として照射される。

図７は、レーザ光Ｌ１、Ｌ２の干渉による干渉縞Ｌ３を模式的に示す図である。干渉縞Ｌ３においては、レーザ光Ｌ１、Ｌ２が重なる中心軸ａｘ上において同位相となり、光が強くなる。また、干渉縞Ｌ３においては、逆位相となる箇所では光が弱くなる。また、干渉縞Ｌ３においては、同位相となる箇所が所定のピッチで現れる。このピッチｐは以下の数式（１）で表される。数式（１）において、ｎは屈折率であり、θはレーザ光Ｌ１、Ｌ２の傾斜角である。

［数１］
ピッチｐ＝λ／２ｎｓｉｎθ・・・（１）

λが２６６ｎｍであり、ｎが１（空気）であり、θが５０度であるとすると、ピッチｐは１７４ｎｍとなる。

このように、光照射部４０は、１回の露光でワークＷ上に、例えばピッチｐが１７４ｎｍのラインアンドスペースのパターンを転写することができる。ワークＷに塗布されたレジストが、光照射部分が現像液に溶解するポジ型である場合には、光照射されていない箇所が残存したラインアンドスペースのレジストパターンを得ることができる。一方、レジストが、光照射部分が架橋して現像液に溶解しなくなるネガ型である場合には、光照射された箇所が現像後に残存したラインアンドスペースのレジストパターンを得ることができる。

なお、レーザ光Ｌは、強度分布がガウス関数となるガウシアンビームであるため、レーザ光Ｌ１、Ｌ２の干渉による干渉縞も同様の強度分布を有する（図７の細線参照）。したがって、露光時に、ガウシアン半径ｗ（レーザ光の強度がピーク値の１／ｅ^２まで減少する位置における中心軸ａｘからの距離）だけ干渉ユニット４２をｙ方向に移動させる（図７の２点鎖線参照）ことで、一定の強度のレーザ光をワークＷに照射する（図７の長破線参照）ことができる。

図６の説明に戻る。反射強度センサ４２ｈは、光源４１から出射され、干渉ユニット４２を通ってワークＷで反射した光を受光し、その強度を測定するセンサである。反射強度センサ４２ｈには、ワークＷで反射した光のうち、ミラー４２ｆで反射し、補正光学部材４２ｇ及びビームスプリッタ４２ｄを通過した光と、ミラー４２ｅ及びビームスプリッタ４２ｄで反射した光と、が入射する。

ワークＷにラインアンドスペースのパターンが転写されている場合には、補正光学部材４２ｇを微小角度だけ回転させることで、反射強度センサ４２ｈに入射する光の強度分布が変化する。これにより、露光に用いる光学系と同じ光学系を用いてパターンの位置を検出することができる。なお、パターン位置の検出を行なう場合には、光源４１から出射される光の強度を、露光時の強度よりも弱くする。

図１の説明に戻る。ステージ３１の−ｘ側の側面３１ｅには、干渉ユニット４２から照射された干渉縞（空中像）を直接読み取る光読取部５０が設けられる。光読取部５０は、３個の光読取部５０ａ、光読取部５０ｂ、光読取部５０ｃを有する。光読取部５０ａ、５０ｃは、側面３１ｅの両端近傍に設けられ、光読取部５０ｂは、側面３１ｅの中央近傍に設けられる。光読取部５０ａ〜５０ｃは同一の構成であるため、以下、光読取部５０ａについて説明する。

図８は、光読取部５０ａの概略を示す斜視図であり、要部を透視した図である。光読取部５０ａは、主として、空中像ｉの光をとらえる対物レンズ５１と、対物レンズ５１から導かれた光を反射するミラー５２と、低熱伝導体で形成された鏡筒５３と、鏡筒５３の内部に設けられたチューブレンズ５４と、を有する顕微鏡と、顕微鏡により取得されたパターンを結像するＵＶカメラ５５と、を有する。

対物レンズ５１は、倍率が略１００倍の高倍率、開口数（ＮＡ、ｎｕｍｅｒｉｃａｌ ａｐｅｒｔｕｒｅ）が略０．９５、焦点距離が略２ｍｍの特性を有するＵＶレンズである。なお、対物レンズ５１の開口数ＮＡは、干渉ユニット４２の開口数ＮＡより大きい必要がある。開口数ＮＡは、以下の数式（２）で求められる。

［数２］
開口数ＮＡ＝ｎｓｉｎθ

例えば、ｎが１であり、θ（図６参照）が５０度であるとすると、干渉ユニット４２の開口数ＮＡは約０．７７となる。したがって、本実施の形態では、対物レンズ５１の開口数ＮＡは、０．７７より大きければよい。

チューブレンズ５４は、無限遠補正された対物レンズ５１からの光を結像させるレンズであり、焦点距離が略２００ｍｍである。

ＵＶカメラ５５は、解像度がＳＸＧＡ（１２８０×１０２４画素）程度であり、大きさが１／４インチ程度であり、消費電力が０．１Ｗ程度である。ＵＶカメラ５５は、制御部１５１ａ（図１２参照）により、超低速度スキャンが可能であるため、空中像ｉを正確に読み取ることができる。また、使用しないときには自動的にシャットダウンが可能である。

干渉ユニット４２により形成された空中像ｉは、対物レンズ５１で拡大され、ＵＶカメラ５５に投影されて、その位置や形状が読み取られる。その結果、干渉ユニット４２の高さ（ｚ方向の位置）と、ワークＷに照射される干渉縞Ｌ３のコントラストと、の関係（すなわち、干渉ユニット４２の高さがどこであれば、コントラストの高い干渉縞Ｌ３がワークＷに照射できるか）を直接確認することができる。本実施の形態では、光源４１からｙ方向に光を出射し、ミラー４３で光を下方向に曲げているため、干渉ユニット４２のｙ方向の位置によって干渉縞のコントラストが異なる可能性がある。したがって、複数個所に設けられた光読取部５０ａ、５０ｂ、５０ｃのそれぞれで空中像ｉを読み取ることが望ましい。

また、光読取部５０で空中像ｉを読み取ることで、干渉ユニット４２をｙ方向に１ステップ（例えば、ガルシアン半径ｗ分、図７参照）だけ移動させた時に干渉縞が完全に重なるか否かを確認することができる。そして、光読取部５０における読み取り結果に基づいて、干渉ユニット４２を１ステップでｙ方向に移動させる距離を微調整することができる。

図３の説明に戻る。オートフォーカス部６０は、干渉ユニット４２の枠４２ａに設けられる。言い換えると、オートフォーカス部６０と干渉ユニット４２とは隣接して設けられる。

図９は、オートフォーカス部６０の概略を示す図である。図９においては、参考として、レーザ光Ｌ１、Ｌ２を破線で示す。

オートフォーカス部６０は、主として、ステージ３１（ワークＷ）に対し、側面視（ｘ方向から見たとき）において斜め上から光を照射するオートフォーカス用光源（ＡＦ用光源）６１と、ＡＦ用光源６１に隣接して設けられたコリメータレンズ６２と、コリメータレンズ６２を通った光をステージ３１に結像させる投影レンズ６３と、ＡＦ用光源６１から照射されてワークＷで反射した光を受光するオートフォーカス用センサ（ＡＦセンサ）６４と、ワークＷで反射した光をＡＦセンサ６４に結像させる結像レンズ６５と、を有する。

ＡＦ用光源６１は、例えばレーザーダイオードであり、赤色光又は近赤外光を発光する。ＡＦ用光源６１から出射された光は、コリメータレンズ６２を通過して平行光となる。そして、投影レンズ６３において、干渉縞Ｌ３による描画エリアの中心点で光が点となるように集光される。描画エリアの中心点近傍で反射した光は、結像レンズ６５を通りＡＦセンサ６４に入射する。結像レンズ６５は、反射光をＡＦセンサ６４の上に点として結像させる。描画エリアの中心点、すなわちワークＷ上で光を点とし、ＡＦセンサ６４上でも光を点とすることで、ワークＷの傾斜がＡＦセンサ６４において誤差として検出されなくなる。

なお、現像後のレジストのラインアンドスペースパターンによる回折でＡＦセンサ６４に誤差が生じるのを防ぐため、ＡＦ用光源６１、コリメータレンズ６２、投影レンズ６３、ＡＦセンサ６４及び結像レンズ６５は、ＡＦ用光源６１から照射された光の光軸を、干渉ユニット４２が照射する２本のレーザ光Ｌ１、Ｌ２と略直交するように設けることが望ましい。

ＡＦセンサ６４は、光が結像した位置に基づいてステージ３１の高さ方向の位置ずれを検出する（ＡＦ処理）。例えば、干渉ユニット４２とステージ３１とが遠い（ステージ３１が低い）場合は、光がＡＦセンサ６４の上側の領域に結像する。また、例えば、干渉ユニット４２とステージ３１とが近い（ステージ３１が高い）場合は、光がＡＦセンサ６４の下側の領域に結像する。そして、干渉ユニット４２とステージ３１との距離が適切な距離（予め定められている）である場合には、光がＡＦセンサ６４の略中央に結像する。このように、光が結像した位置に基づいて干渉ユニット４２とステージ３１との距離を検出することができる。特に、ワークＷとステージ３１との間に異物が挟まり、ワークＷが山なりとなった場合にも、オートフォーカス部６０はこの凸形状の左右の傾斜を正しく検出することができる。

なお、ＡＦ処理は、ステージ３１にワークＷを載置した後、露光処理の前に、ワークＷ全体に対して行なわれる。これにより、ワークＷの位置とワークＷの高さとの関係をマッピングし、干渉ユニット４２から照射される干渉縞の位置（ｘｙ平面上の位置及びｚ方向の位置）を調整することができる。なお、干渉縞の位置の調整は、図示しない移動機構により補正光学部材４２ｇを回転することにより行なわれる。また、駆動部６６により干渉ユニット４２及びオートフォーカス部６０をｚ方向に移動させることで、干渉縞のｚ方向の位置を大まかに調整することができる。

次に、露光装置１の測定系について説明する。図１０は、露光装置１の測定系の概略を示す図である。露光装置１は、主として、リニアエンコーダ７１、７２、７３、７４と、レーザ干渉計８１、８２、８３と、を有する。

リニアエンコーダ７１、７２、７３、７４は、それぞれスケール７１ａ、７２ａ、７３ａ、７４ａと、検出ヘッド７１ｂ、７２ｂ、７３ｂ、７４ｂと、を有する。なお、検出ヘッド７２ｂ、７４ｂについては図示を省略する。

スケール７１ａ、７２ａ、７３ａ、７４ａは、例えばレーザホログラムスケールであり、０．１ｎｍ〜１ｎｍ程度の分解能を持つように構成されている。検出ヘッド７１ｂ、７２ｂ、７３ｂ、７４ｂは、光（例えば、レーザ光）を照射し、スケール７１ａ、７２ａ、７３ａ、７４ａで反射された光を取得する。リニアエンコーダ７１、７２、７３、７４は、すでに公知であるため、詳細な説明を省略する。

スケール７１ａ、７２ａは、それぞれ第１移動部２０の−ｙ側及び＋ｙ側の端面に設けられ、検出ヘッド７１ｂ、７２ｂは、それぞれステージ３１の側面３１ｃ、３１ｄに設けられる。リニアエンコーダ７１、７２は、定盤１１とステージ３１との位置関係、すなわちリニアエンコーダ７１、７２の原点位置に対するステージ３１のｘ方向の位置を測定する。

スケール７３ａ、７４ａは、それぞれ梁３２ｂの＋ｚ側及び−ｚ側の端面に設けられ、検出ヘッド７３ｂ、７４ｂは、それぞれ取付部材３３に設けられる。リニアエンコーダ７３、７４は、梁３２ｂと取付部材３３との位置関係、すなわちリニアエンコーダ７３、７４の原点位置に対する取付部材３３（すなわち、干渉ユニット４２）のｙ方向の位置を測定する。

レーザ干渉計８１、８２、８３は、取付部材３３又は干渉ユニット４２のｙ方向の位置を測定する。レーザ干渉計８１、８２、８３へは、トランスデューサ８４（図１〜３参照）から出射されたレーザ光が導かれる。

レーザ干渉計８１は、４本のレーザ光を照射する。４本のレーザ光のうちの２本は、ステージ３１に設けられたバーミラー３１ｍで反射して、その反射光がレーザ干渉計８１で受光される。４本のレーザ光のうちの残りの２本は、干渉ユニット４２のｘ方向と平行な側面に設けられたミラー８５で反射して、その反射光がレーザ干渉計８１で受光される。レーザ干渉計８１は、ｙ方向におけるバーミラー３１ｍとミラー８５との相対位置を測定する。

レーザ干渉計８２、８３は、２本のレーザ光を照射する。レーザ干渉計８２が照射した２本のレーザ光は、取付部材３３の−ｘ側の端面に設けられたミラー８６で反射して、その反射光がレーザ干渉計８２で受光される。レーザ干渉計８３が照射した２本のレーザ光は、取付部材３３の＋ｘ側の端面に設けられたミラー８７で反射して、その反射光がレーザ干渉計８３で受光される。レーザ干渉計８２、８３は、それぞれミラー８６、８７のｙ方向の位置を測定する。

このようにしてレーザ干渉計８１、８２、８３によって測定されたミラー８５、８６、８７の位置は、ステージ３１のピッチングやヨーイングによる誤差等を含まない。したがって、レーザ干渉計８１、８２、８３を用いて、これらの誤差を含む測定を行うリニアエンコーダ７３、７４を校正することで、干渉ユニット４２の移動精度を高くする。

図１１は、露光装置１の電気的な構成を示すブロック図である。露光装置１は、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）１５１と、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）１５２と、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）１５３と、入出力インターフェース（Ｉ／Ｆ）１５４と、通信インターフェース（Ｉ／Ｆ）１５５と、メディアインターフェース（Ｉ／Ｆ）１５６と、を有する。

ＣＰＵ１５１は、ＲＡＭ１５２、ＲＯＭ１５３に格納されたプログラムに基づいて動作し、各部の制御を行う。ＣＰＵ１５１には、リニアエンコーダ７１、７２、７３、７４、レーザ干渉計８１、８２、８３等から信号が入力される。ＣＰＵ１５１からは、駆動部２３、３４、光照射部４０等に信号が出力される。

ＲＡＭ１５２は、揮発性メモリである。ＲＯＭ１５３は、各種制御プログラム等が記憶されている不揮発性メモリである。ＣＰＵ１５１は、ＲＡＭ１５２、ＲＯＭ１５３に格納されたプログラムに基づいて動作し、各部の制御を行う。ＲＯＭ１５３は、露光装置１の起動時にＣＰＵ１５１が行うブートプログラムや、露光装置１のハードウェアに依存するプログラムなどを格納する。ＲＡＭ１５２は、ＣＰＵ１５１が実行するプログラム及びＣＰＵ１５１が使用するデータなどを格納する。

ＣＰＵ１５１は、入出力インターフェース１５４を介して、キーボードやマウス等の入出力装置１４１を制御する。通信インターフェース１５５は、ネットワーク１４２を介して他の機器からデータを受信してＣＰＵ１５１に送信すると共に、ＣＰＵ１５１が生成したデータを、ネットワーク１４２を介して他の機器に送信する。

メディアインターフェース１５６は、記憶媒体１４３に格納されたプログラム又はデータを読み取り、ＲＡＭ１５２に格納する。なお、記憶媒体１４３は、例えば、ＩＣカード、ＳＤカード、ＤＶＤ等である。

なお、各機能を実現するプログラムは、例えば、記憶媒体１４３から読み出されて、ＲＡＭ１５２を介して露光装置１にインストールされ、ＣＰＵ１５１によって実行される。

ＣＰＵ１５１は、入力信号に基づいて露光装置１の各部を制御する制御部１５１ａの機能を有する。制御部１５１ａは、ＣＰＵ１５１が読み込んだ所定のプログラムを実行することにより構築される。

図１１に示す露光装置１の構成は、本実施形態の特徴を説明するにあたって主要構成を説明したのであって、例えば一般的な情報処理装置が備える構成を排除するものではない。露光装置１の構成要素は、処理内容に応じてさらに多くの構成要素に分類されてもよいし、１つの構成要素が複数の構成要素の処理を実行してもよい。

図１２は、制御部１５１ａが行なう処理を説明する機能ブロック図である。制御部１５１ａは、リニアエンコーダ７１、７２から入力された信号を平均する（平均回路１６１）。また、制御部１５１ａは、ＡＦセンサ６４の検出結果に基づいて、ステージ３１（ワークＷ）の高さを求め、高さの変化量を横方向（ｘｙ方向）の変化量に変換する（変換回路１６２）。そして、制御部１５１ａは、これらの結果からステージ３１のｘ方向の位置を求め（ＬＵＴ１６６）、ステージ３１のｘ方向の位置に基づいて駆動部２３を制御して、ステージ３１をｘ方向に移動させる。それと同時に、制御部１５１ａは、補正光学部材４２ｇを回転させる図示しない駆動部４２ｉを制御して、補正光学部材４２ｇを回転させる。このように、ステージ３１の高さに応じて露光条件（干渉縞Ｌ３の位置等）を変化させる。

制御部１５１ａは、リニアエンコーダ７３、７４から入力された信号に基づいて干渉縞Ｌ３の位置を求める（差分回路、外挿回路１６４）。また、制御部１５１ａは、レーザ干渉計８１、８２から入力された信号に基づいて干渉縞Ｌ３の位置を求める（差分回路、外挿回路１６５）。そして、制御部１５１ａは、リニアエンコーダ７３、７４から入力された信号をレーザ干渉計８１、８２から入力された信号を用いて校正する（ＬＵＴ１６７）。制御部１５１ａは、校正後の測定値に基づいて駆動部３４等を制御して、取付部材３３をｙ方向に移動させる。

制御部１５１ａは、レーザ干渉計８２、８３から入力された信号に基づいて、干渉ユニット４２が生成する干渉縞Ｌ３のｘ方向の位置を求める（差分回路１６３）。制御部１５１ａは、干渉ユニット４２をｚ軸を中心に回転させる図示しない駆動部４２ｊを制御する。これにより、干渉縞Ｌ３の縞の方向をｘ方向と平行にする。

そして、制御部１５１ａは、これらの制御と同時に光源４１から光を出射し、干渉ユニット４２により干渉縞Ｌ３を生成してワークＷに照射し、露光処理を行う。

本実施の形態によれば、定盤１１やステージ３１が低熱膨張材料により形成されているため、ワークＷ（ステージ３１）が大きくても、ワークＷの高さ方向の位置を一定に保つことができる。したがって、ワークＷに描くラインアンドスペースの幅や位置を一定にすることができる。また、本実施の形態によれば、ガイドレール２２を挟むように設けられた２本のエアパッド２４によりステージ３１の移動方向を規制するため、ワークＷが大きくても、ワークＷをｘ方向に沿って移動させることができる。したがって、ラインアンドスペースの長手方向をｘ方向とほぼ平行にすることができる。以上より、大きなガラス基板に対して、微細な直線パターンを正確に形成することができる。

また、本実施の形態によれば、光読取部５０で干渉縞Ｌ３の空中像ｉを読み取ることにより、干渉ユニット４２の高さ（ｚ方向の位置）がどの位置であれば、コントラストの高い干渉縞がワークＷに照射できるかを直接確認することができる。また、干渉ユニット４２をｙ方向に１ステップだけ移動させた時に干渉縞が完全に重なるか否かについても、直接確認することができる。これにより、ピントを合わせて干渉縞Ｌ３をワークＷに照射し、さらにｘ軸に沿ってワークＷ（ステージ３１）を移動させながら（ｘ軸スキャン）ワークＷを露光するときに、干渉ユニット４２をｙ方向に移動させる（ｙステップ）ことによる干渉縞Ｌ３の重ね誤差を確実に防ぐことができる。

また、本実施の形態によれば、補正光学部材４２ｇを回転させることにより、干渉縞Ｌ３の横方向（ｙ方向）の位置を微調整することができる。

また、本実施の形態によれば、干渉ユニット４２に反射強度センサ４２ｈを設けることで、露光に用いる光学系を用いて露光後のワークＷの検査を行なうことができる。

また、本実施の形態によれば、オートフォーカス部６０を設けることで、ワークＷの高さ（干渉ユニット４２とワークＷとの距離）を測定することができる。これにより、ワークＷ表面の凹凸に応じて露光条件を変化させ、ラインアンドスペースの精度を高くすることができる。具体的には、干渉縞Ｌ３の焦点ボケを無くし、高いコントラストで安定したライン幅を保つことができる。また、部分的なワークＷの反りを検出し、干渉縞Ｌ３のｙ方向のズレを補正することができる。

また、本実施の形態によれば、レーザ干渉計８１、８２を用いてリニアエンコーダ７３、７４を校正するため、干渉ユニット４２の移動精度を高くし、それによりラインアンドスペースの精度を高くすることができる。

以上、この発明の実施形態を、図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。当業者であれば、実施形態の各要素を、適宜、変更、追加、変換等することが可能である。

また、本発明において、「略」とは、厳密に同一である場合のみでなく、同一性を失わない程度の誤差や変形を含む概念である。例えば、略水平とは、厳密に水平の場合には限られず、例えば数度程度の誤差を含む概念である。また、例えば、単に平行、直交等と表現する場合において、厳密に平行、直交等の場合のみでなく、略平行、略直交等の場合を含むものとする。また、本発明において「近傍」とは、基準となる位置の近くのある範囲（任意に定めることができる）の領域を含むことを意味する。例えば、Ａの近傍という場合に、Ａの近くのある範囲の領域であって、Ａを含んでもいても含んでいなくてもよいことを示す概念である。

１ ：露光装置
１１ ：定盤
１１ａ ：上面
１２、１３：除振台
２０ ：第１移動部
２１ ：レール
２２ ：ガイドレール
２３ ：駆動部
２３ａ ：固定子
２３ｂ ：可動子
２４ ：エアパッド
２４ａ ：空気吐出部
２４ｂ ：空気吸引部
２４ｃ ：連通孔
３１ ：ステージ
３１ａ ：上面
３１ｂ ：下面
３１ｃ、３１ｄ、３１ｅ：側面
３１ｆ ：凸部
３１ｇ ：凸部
３１ｈ ：空気吐出部
３１ｉ ：空気吸引部
３１ｊ ：連通孔
３１ｍ ：バーミラー
３２ ：枠体
３２ａ ：柱
３２ｂ ：梁
３３ ：取付部材
３４ ：駆動部
３４ａ ：固定子
４０ ：光照射部
４１ ：光源
４２ ：干渉ユニット
４２ａ ：枠
４２ｂ ：ビームエキスパンダ
４２ｃ、４２ｅ、４２ｆ：ミラー
４２ｄ ：ビームスプリッタ
４２ｇ ：補正光学部材
４２ｈ ：反射強度センサ
４２ｉ、４２ｊ：駆動部
４３ ：ミラー
５０、５０ａ、５０ｂ、５０ｃ：光読取部
５１ ：対物レンズ
５２ ：ミラー
５３ ：鏡筒
５４ ：チューブレンズ
５５ ：ＵＶカメラ
６０ ：オートフォーカス部
６１ ：ＡＦ用光源
６２ ：コリメータレンズ
６３ ：投影レンズ
６４ ：ＡＦセンサ
６５ ：結像レンズ
６６ ：駆動部
７１、７２、７３、７４：リニアエンコーダ
７１ａ、７２ａ、７３ａ、７４ａ：スケール
７１ｂ、７２ｂ、７３ｂ、７４ｂ：検出ヘッド
８１、８２、８３：レーザ干渉計
８４ ：トランスデューサ
８５、８６、８７：ミラー
１４１ ：入出力装置
１４２ ：ネットワーク
１４３ ：記憶媒体
１５１ ：ＣＰＵ
１５１ａ ：制御部
１５２ ：ＲＡＭ
１５３ ：ＲＯＭ
１５４ ：入出力インターフェース
１５５ ：通信インターフェース
１５６ ：メディアインターフェース
１６１ ：平均回路
１６２ ：変換回路
１６３ ：差分回路
１６４ ：外挿回路
１６５ ：外挿回路

Claims (7)

1. 低熱膨張材料により形成された略直方体の定盤と、
   低熱膨張材料により形成され、略水平な上面に基板が載置される板状のステージと、
   前記ステージを第１方向に移動させる第１移動部であって、長手方向が前記第１方向に沿うように前記定盤の上面に固定された高さが略同一の複数のレールであって、前記ステージが載置される複数のレールと、前記複数のレールの上面に沿って前記ステージを移動させる第１駆動部と、前記複数のレールのうちの１本であるガイドレールを挟むように前記ステージの下面に設けられた２本の略棒状のガイド部材と、を有する第１移動部と、
   光源と、前記光源から照射されたレーザ光を２つの光束に分割し、当該２つの光束を干渉させて生成した干渉縞を前記ステージに向けて照射する干渉ユニットであって、前記光源から照射されたレーザ光を第１光束及び第２光束に分割するビームスプリッタと、前記第１光束を反射させる第１ミラーと、前記第２光束を反射させる第２ミラーと、前記ビームスプリッタと前記第２ミラーとの間に設けられ、前記第２光束が通過する補正光学部材と、を有する干渉ユニットと、を有する光照射部と、
   前記定盤に設けられ、前記ステージの上方に前記干渉ユニットを移動可能に保持する枠体であって、前記第１方向及び鉛直方向と略直交する第２方向に延設された棒状部を有する枠体と、
   前記干渉ユニットを前記棒状部に沿って移動させる第２移動部と、
   を備えたことを特徴とする露光装置。
2. 前記ステージの前記第２方向に沿った側面には、前記干渉縞を直接読み取る光読取部が設けられ、
   前記光読取部は、前記干渉縞の光をとらえる対物レンズと、前記干渉縞を結像するカメラと、を有する
   ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
3. 前記干渉ユニットに隣接して設けられたオートフォーカス部を備え、
   前記オートフォーカス部は、側面視において斜め上から前記ステージに向けて光を照射するオートフォーカス用光源と、前記オートフォーカス用光源から照射された光を受光し、当該受光した光が結像した位置に基づいて前記ステージの高さ方向の位置ずれを検出するオートフォーカス用センサと、を有する
   ことを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
4. 前記補正光学部材は、板状の部材であり、
   前記干渉ユニットは、前記補正光学部材を回転させる移動機構を有する
   ことを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
5. 前記干渉ユニットは、前記光源から照射され、前記基板及び前記第２ミラーで反射され、前記補正光学部材及び前記ビームスプリッタを通過した光、及び前記光源から照射され、前記基板、前記第１ミラー及び前記ビームスプリッタで反射された光を受光する受光センサを有することを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の露光装置。
6. 前記棒状部の鉛直方向における両側の面にそれぞれ前記第２方向に沿って延設されたスケールを有し、前記干渉ユニットの前記第２方向における位置を測定する第１位置測定部及び第２位置測定部と、
   前記干渉ユニットの前記第２方向における位置を測定するレーザ干渉計と、
   前記レーザ干渉計の測定結果に基づいて前記第１位置測定部及び前記第２位置測定部の測定結果を校正する制御部と、
   を備えたことを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の露光装置。
7. 前記ステージの下面には、前記ガイドレールと対向する位置に凸部が設けられ、
   前記ガイド部材は、前記凸部の両側に設けられ、
   前記凸部及び前記ガイド部材には、前記ガイドレールに向けて空気を吐出する空気吐出部と、前記ガイドレールとの間にある空気を吸引する空気吸引部と、が設けられる
   ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。

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