JPH03112123A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
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- JPH03112123A JPH03112123A JP1249241A JP24924189A JPH03112123A JP H03112123 A JPH03112123 A JP H03112123A JP 1249241 A JP1249241 A JP 1249241A JP 24924189 A JP24924189 A JP 24924189A JP H03112123 A JPH03112123 A JP H03112123A
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- JP
- Japan
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- microscope
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 18
- 239000000428 dust Substances 0.000 abstract description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 abstract description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract 2
- 230000009545 invasion Effects 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
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- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Automatic Focus Adjustment (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
本発明は、露光装置に関し、詳しくは例えばマスクなど
の原板を用いて液晶表示装置（液晶Ｔ■）や半導体装置
のパターンを基板上に露光する装置に関するものである
。
の原板を用いて液晶表示装置（液晶Ｔ■）や半導体装置
のパターンを基板上に露光する装置に関するものである
。
［従来技術１
従来、この種の露光装置における原板（以下、マスクと
いう）と基板と顕微鏡との関係は、マスクの上に顕微鏡
がありマスクと基板を投影系を通して観察するというも
のであった。観察するためには、顕微鏡とマスク面、お
よびマスク面と基板面との焦点位置決めを行なう必要が
ある。
いう）と基板と顕微鏡との関係は、マスクの上に顕微鏡
がありマスクと基板を投影系を通して観察するというも
のであった。観察するためには、顕微鏡とマスク面、お
よびマスク面と基板面との焦点位置決めを行なう必要が
ある。
マスク面と基板面の焦点位置決めの手段としては、大き
く分けて２方式が有る。
く分けて２方式が有る。
まず第一の方式は、マスクと基板とをあらかじめ焦点間
隔が出ている基準板に突当てる方式である。
隔が出ている基準板に突当てる方式である。
第二の方式は、マスク側を基準板に突当てし、基板側は
センサーにて位置を検出し、基板側を駆動することによ
り、所定の位置に位置決めする方式である。
センサーにて位置を検出し、基板側を駆動することによ
り、所定の位置に位置決めする方式である。
他方、顕微鏡とマスク面との位置出しは、顕微鏡にてマ
スクの像を観ながら焦点が合う根に手動で顕微鏡を移動
させる方式がある。
スクの像を観ながら焦点が合う根に手動で顕微鏡を移動
させる方式がある。
［発明が解決しようとしている課題］
ところで、最近、露光装置においては無人化および無塵
化のためマスクを自動交換する機能が付加されたきた。
化のためマスクを自動交換する機能が付加されたきた。
ここでマスクを自動交換した際、マスクの厚さがマスク
により異なるため、マスク厚の差をΔｄ、屈折率をｎと
すれば （ｎ−１／ｎ）Δｄ の量だけ顕微鏡とマスクの焦点位置が異なることとなる
。この場合、従来の様に顕微鏡とマスクとの焦点位置出
しを手動で行なっていては無人化および無塵化は達成さ
れない。
により異なるため、マスク厚の差をΔｄ、屈折率をｎと
すれば （ｎ−１／ｎ）Δｄ の量だけ顕微鏡とマスクの焦点位置が異なることとなる
。この場合、従来の様に顕微鏡とマスクとの焦点位置出
しを手動で行なっていては無人化および無塵化は達成さ
れない。
本発明は、上述の従来例における問題点に鑑み、マスク
の自動交換等でマスクが異なる厚さのものに交換された
場合であっても、顕微鏡とマスクの焦点位置出しを自動
的に行なうことのできる露光装置を提供することを目的
とする。
の自動交換等でマスクが異なる厚さのものに交換された
場合であっても、顕微鏡とマスクの焦点位置出しを自動
的に行なうことのできる露光装置を提供することを目的
とする。
［課題を解決するための手段および作用］上記の目的を
達成するため、本発明は、マスクが交換されたときにマ
スクの寸法を自動的に計測器にて測定し、その測定され
た値に基づいて顕微鏡の高さを自動的に調整することに
より、顕微鏡とマスクの焦点位置出しを行なう。
達成するため、本発明は、マスクが交換されたときにマ
スクの寸法を自動的に計測器にて測定し、その測定され
た値に基づいて顕微鏡の高さを自動的に調整することに
より、顕微鏡とマスクの焦点位置出しを行なう。
これにより、マスクの自動交換等でマスクが異なる厚さ
のものに交換された場合であっても、顕微鏡とマスクの
焦点位置出しを自動的に行なうことができる。
のものに交換された場合であっても、顕微鏡とマスクの
焦点位置出しを自動的に行なうことができる。
［実施例］
以下、図面を用いて本発明の詳細な説明する。
第１図は、本発明の一実施例に係る露光装置の概略構成
図（断面）を示す。
図（断面）を示す。
同図において、１は照明系であり、マスク２の像を投影
系３を通して基板４に投影するものである。５は基板４
の高さ位置（紙面上下方向）を検出するための位置セン
サーであり、上下駆動機構６により位置出しを行なう、
７はマスク２と基板４の像を観察するための顕微鏡であ
る。８はマスク２の位置出しを行なうための吸着板であ
る。９はマスクの厚さを測定するための測定器、１０は
測定された値に基づいて顕微鏡７を上下方向に駆動する
ためのモータ、１２は駆動機構のラック＆ピニオンであ
る。１１は測定器９からの人力信号を顕微鏡７を駆動す
るための出力信号に変換するための制御回路である。
系３を通して基板４に投影するものである。５は基板４
の高さ位置（紙面上下方向）を検出するための位置セン
サーであり、上下駆動機構６により位置出しを行なう、
７はマスク２と基板４の像を観察するための顕微鏡であ
る。８はマスク２の位置出しを行なうための吸着板であ
る。９はマスクの厚さを測定するための測定器、１０は
測定された値に基づいて顕微鏡７を上下方向に駆動する
ためのモータ、１２は駆動機構のラック＆ピニオンであ
る。１１は測定器９からの人力信号を顕微鏡７を駆動す
るための出力信号に変換するための制御回路である。
第１図の装置の動作を順を追って説明する。まず、交換
されたマスク２はマスク吸着板８により真空吸着され位
置決めされる。基板４は位置センサー５と駆動機構６に
より所定の位置に位置決めされる。
されたマスク２はマスク吸着板８により真空吸着され位
置決めされる。基板４は位置センサー５と駆動機構６に
より所定の位置に位置決めされる。
次に、マスク２の厚さを厚さ測定器９にて測定し、その
測定値に基づいて顕微鏡７の移動量を計算し、モータ１
０により顕微鏡を焦点方向に移動する。これにより顕微
鏡７とマスク２の焦点位置出しを行なう。このようにし
て、顕１！鏡７とマスク２と基板４との焦点位置出しを
行ない、顕微鏡７を用いてマスク２と基板４のアライメ
ントを行なう。
測定値に基づいて顕微鏡７の移動量を計算し、モータ１
０により顕微鏡を焦点方向に移動する。これにより顕微
鏡７とマスク２の焦点位置出しを行なう。このようにし
て、顕１！鏡７とマスク２と基板４との焦点位置出しを
行ない、顕微鏡７を用いてマスク２と基板４のアライメ
ントを行なう。
測定器９としては非接触タイプのエアーセンサや光反射
型センサーを用いることができる。
型センサーを用いることができる。
なお、第１図の装置ではマスク２が吸着板８に吸着され
た後にマスク２の厚さを測定しているが、第２図のよう
にして吸着板８に吸着される以前に厚さ測定器９にてマ
スク２の厚さを測定することも可能である。
た後にマスク２の厚さを測定しているが、第２図のよう
にして吸着板８に吸着される以前に厚さ測定器９にてマ
スク２の厚さを測定することも可能である。
第３図は、投影系のないコンタクト／ブリキシミティ露
光機に本発明を適用した場合の実施例である。第１．２
図と同一の付番は共通の部材を示すものとする。
光機に本発明を適用した場合の実施例である。第１．２
図と同一の付番は共通の部材を示すものとする。
［発明の効果］
以上説明したように、本発明によ□れば、マスクが交換
されたときにマスクの寸法を自動的に計測器にて測定し
、その測定された値に基づいて顕微鏡の高さを自動的に
調整しているので、マスクの自動交換等でマスクが異な
る厚さのものに交換された場合であっても、顕微鏡とマ
スクの焦点位置出しを自動的に行なうことができる。こ
のため、マスク交換によるゴミの混入を防ぎ、無人化お
よび無塵化を図ることができる。
されたときにマスクの寸法を自動的に計測器にて測定し
、その測定された値に基づいて顕微鏡の高さを自動的に
調整しているので、マスクの自動交換等でマスクが異な
る厚さのものに交換された場合であっても、顕微鏡とマ
スクの焦点位置出しを自動的に行なうことができる。こ
のため、マスク交換によるゴミの混入を防ぎ、無人化お
よび無塵化を図ることができる。
第１図は、本発明の一実施例に係る露光装置の概略構成
図、 第２図は、吸着板に吸着される以前にマスクの厚さ測定
を行なう露光装置の概略構成図、第３図は、投影系のな
いコンタクト／ブロキシミティ露光機に本発明を適用し
た露光装置の概略構成図である。 １ ： ２ ： ３ ； ４ ： ５ ： ６ ニ ア ： ８ ： ９ ： ０ １ 照明系、 マスク、 投影系、 基板、 位置センサ、 上下駆動機構、 顕微鏡、 吸着板、 厚さ測定器、 ：モータ、 二制御回路、 ２ ニ ラック及ピニオン。 特 許 出 願 人 キャノン株式会社
図、 第２図は、吸着板に吸着される以前にマスクの厚さ測定
を行なう露光装置の概略構成図、第３図は、投影系のな
いコンタクト／ブロキシミティ露光機に本発明を適用し
た露光装置の概略構成図である。 １ ： ２ ： ３ ； ４ ： ５ ： ６ ニ ア ： ８ ： ９ ： ０ １ 照明系、 マスク、 投影系、 基板、 位置センサ、 上下駆動機構、 顕微鏡、 吸着板、 厚さ測定器、 ：モータ、 二制御回路、 ２ ニ ラック及ピニオン。 特 許 出 願 人 キャノン株式会社
Claims (2)
- （１）顕微鏡を用いて原板と基板とを位置合わせした後
、原板の像を基板上に転写する露光装置であって、原板
の厚さを測定する測定手段と、該測定器からの入力信号
を顕微鏡を駆動するための出力信号に変換する制御手段
と、該制御手段からの出力信号に基づいて上記顕微鏡を
原板に対し焦点方向に駆動する駆動手段とを具備し、自
動的に上記原板と顕微鏡との焦点位置決めを行なうこと
を特徴とする露光装置。 - （２）前記原板の厚さを測定する測定手段が、前記原板
に対し非接触で測定することができる測定器である請求
項１に記載の露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1249241A JPH03112123A (ja) | 1989-09-27 | 1989-09-27 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1249241A JPH03112123A (ja) | 1989-09-27 | 1989-09-27 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03112123A true JPH03112123A (ja) | 1991-05-13 |
Family
ID=17190027
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1249241A Pending JPH03112123A (ja) | 1989-09-27 | 1989-09-27 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03112123A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020004164A1 (ja) * | 2018-06-25 | 2020-01-02 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 露光装置および高さ調整方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS539472A (en) * | 1976-07-14 | 1978-01-27 | Hitachi Ltd | Observation apparatus of pattern position deviation |
| JPS60188955A (ja) * | 1984-03-08 | 1985-09-26 | Canon Inc | 露光装置 |
| JPS6139518A (ja) * | 1984-07-30 | 1986-02-25 | Hitachi Ltd | 投影露光装置 |
| JPS63286809A (ja) * | 1987-05-20 | 1988-11-24 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | 基板露光装置 |
-
1989
- 1989-09-27 JP JP1249241A patent/JPH03112123A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS539472A (en) * | 1976-07-14 | 1978-01-27 | Hitachi Ltd | Observation apparatus of pattern position deviation |
| JPS60188955A (ja) * | 1984-03-08 | 1985-09-26 | Canon Inc | 露光装置 |
| JPS6139518A (ja) * | 1984-07-30 | 1986-02-25 | Hitachi Ltd | 投影露光装置 |
| JPS63286809A (ja) * | 1987-05-20 | 1988-11-24 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | 基板露光装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020004164A1 (ja) * | 2018-06-25 | 2020-01-02 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 露光装置および高さ調整方法 |
| JP2020003533A (ja) * | 2018-06-25 | 2020-01-09 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 露光装置および高さ調整方法 |
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