JP2859433B2 - 移動機構とこの移動機構を使った露光装置 - Google Patents
移動機構とこの移動機構を使った露光装置Info
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、プリント基板製造用露光装置に用いら
れ、プリントすべき回路パターンが描かれたレチクルの
移動機構、及び光学顕微鏡を初めとして各種顕微鏡にお
ける試料台の移動機構、さらにその多各種測定器の移動
体に関する移動機構に関するものである。
れ、プリントすべき回路パターンが描かれたレチクルの
移動機構、及び光学顕微鏡を初めとして各種顕微鏡にお
ける試料台の移動機構、さらにその多各種測定器の移動
体に関する移動機構に関するものである。
プリント基板製造用の露光装置、光学顕微鏡、その他
各種の測定器には移動体とこれを移動させるための移動
機構がある。
各種の測定器には移動体とこれを移動させるための移動
機構がある。
例えば、露光装置について言えば、光源からの光が、
回路パターンが描かれたレチクル（フォトマスク）に照
射して、このレチクルを通過した光が、レンズを介して
フィルム等に投影される。この場合、レチクルを、フィ
ルムやレンズと位置合せするために移動（微調整）する
必要がある。そしてこの移動を、正確に行うための専用
の移動機構が必要になる。尚、露光装置の構造について
は周知であるのでその説明は省略する。
回路パターンが描かれたレチクル（フォトマスク）に照
射して、このレチクルを通過した光が、レンズを介して
フィルム等に投影される。この場合、レチクルを、フィ
ルムやレンズと位置合せするために移動（微調整）する
必要がある。そしてこの移動を、正確に行うための専用
の移動機構が必要になる。尚、露光装置の構造について
は周知であるのでその説明は省略する。
以下、従来の移動機構の説明を露光装置におけるレチ
クルを一例として行う。第１図はレチクルとその移動機
構を示した図である。図は光軸方向から見た図である。
１は転写する回路パターンが描かれたレチクル（フォト
マスク）である。21はレチクル１を保持したＸ、Ｙ方向
移動台である。後述のＸ方向移動機構61やＹ方向移動機
構62によって移動させることができる。22はこれらを載
せるレチクル台である。
クルを一例として行う。第１図はレチクルとその移動機
構を示した図である。図は光軸方向から見た図である。
１は転写する回路パターンが描かれたレチクル（フォト
マスク）である。21はレチクル１を保持したＸ、Ｙ方向
移動台である。後述のＸ方向移動機構61やＹ方向移動機
構62によって移動させることができる。22はこれらを載
せるレチクル台である。
次に、これら移動機構について具体的に説明する。第
２図はＸ方向移動機構61を示している。モータ74の回転
部先端はスライド軸継手80、自在軸継手76を介して雄ネ
ジ71に接続される。雄ネジ71は、基台と繋がった突起部
の雌ネジ72と螺合している。雄ネジ71の反対側先端は基
台に固定された穴77にはめ合った押圧部78に接触してお
り、その先端にはローラ79が接続されている。そしてこ
のローラ79が、移動体70に接触している。この移動体70
には戻りの移動としてスプリング73を有する。この場合
移動体とは、第１図におけるＸ、Ｙ方向移動台21であ
る。
２図はＸ方向移動機構61を示している。モータ74の回転
部先端はスライド軸継手80、自在軸継手76を介して雄ネ
ジ71に接続される。雄ネジ71は、基台と繋がった突起部
の雌ネジ72と螺合している。雄ネジ71の反対側先端は基
台に固定された穴77にはめ合った押圧部78に接触してお
り、その先端にはローラ79が接続されている。そしてこ
のローラ79が、移動体70に接触している。この移動体70
には戻りの移動としてスプリング73を有する。この場合
移動体とは、第１図におけるＸ、Ｙ方向移動台21であ
る。
このような構成において、モータ74が回転すると、そ
の回転量だけ雄ネジ71が軸線方向に移動する。この作用
によってＸ、Ｙ方向移動台21（移動体70）は基台22上で
移動する。この時雄ネジ71とモータ74の間の軸線方向の
長さの増減は、スライド軸継手80で補償する。第１図に
示すＹ方向移動機構62についても同様の構成である。そ
して、Ｘ、Ｙ方向の戻りの移動はスプリング13でその力
を受ける。
の回転量だけ雄ネジ71が軸線方向に移動する。この作用
によってＸ、Ｙ方向移動台21（移動体70）は基台22上で
移動する。この時雄ネジ71とモータ74の間の軸線方向の
長さの増減は、スライド軸継手80で補償する。第１図に
示すＹ方向移動機構62についても同様の構成である。そ
して、Ｘ、Ｙ方向の戻りの移動はスプリング13でその力
を受ける。
このように雄ネジ71の回転によって、軸線方向に移動
して、移動体70を移動させるわけであるが、この移動の
補償は、前述の如くスライド軸継手80によって行われ
る。スライド軸継手80については、公知であるので説明
は省略する。さらに図に示していないが、Ｘ、Ｙ方向の
移動以外に光軸を中心としたレチクル１の回転方向及び
上下方向（光軸）も同様の移動機構で構成できる。この
ような移動機構によって、移動体を精密に移動させて位
置合わせをすることができる。例えば露光装置の場合、
被露光物、光源、レチクル、光学系等の位置ずれを修正
するためにこの移動機構を使用することができる。
して、移動体70を移動させるわけであるが、この移動の
補償は、前述の如くスライド軸継手80によって行われ
る。スライド軸継手80については、公知であるので説明
は省略する。さらに図に示していないが、Ｘ、Ｙ方向の
移動以外に光軸を中心としたレチクル１の回転方向及び
上下方向（光軸）も同様の移動機構で構成できる。この
ような移動機構によって、移動体を精密に移動させて位
置合わせをすることができる。例えば露光装置の場合、
被露光物、光源、レチクル、光学系等の位置ずれを修正
するためにこの移動機構を使用することができる。
以上説明したように、従来の移動機構においては、モ
ータと、その回転部先端に接続されたスライド軸継手、
次に自在軸継手を介して、さらに雄ネジに接続される。
そしてモータの回転に伴って、雄ネジが、基台に固定さ
れた雌ネジと螺合して、移動体を軸線方向に移動させ
る。このようなモータとネジの回転の伝達手段として
は、スライド軸継手が必要であり、そのキーとキー溝の
関係により連結されている。
ータと、その回転部先端に接続されたスライド軸継手、
次に自在軸継手を介して、さらに雄ネジに接続される。
そしてモータの回転に伴って、雄ネジが、基台に固定さ
れた雌ネジと螺合して、移動体を軸線方向に移動させ
る。このようなモータとネジの回転の伝達手段として
は、スライド軸継手が必要であり、そのキーとキー溝の
関係により連結されている。
ところが、このような移動機構を必要とする装置は、
正確な移動が必要とされる。例えば露光装置に使用され
るレチクルの場合は、２〜３μｍのレベルで要求され
る。一方前述のスライド軸継手は滑らかに動くため、キ
ーとキー溝の間に、間隙が必要となる。この間隙は、回
転駆動の時は「あそび」となるわけであるが、正確な移
動精度を要求する装置には大きな問題となってしまう。
また、スライド軸継手のエナーシャが迅速に回転するた
めの問題にもなっている。
正確な移動が必要とされる。例えば露光装置に使用され
るレチクルの場合は、２〜３μｍのレベルで要求され
る。一方前述のスライド軸継手は滑らかに動くため、キ
ーとキー溝の間に、間隙が必要となる。この間隙は、回
転駆動の時は「あそび」となるわけであるが、正確な移
動精度を要求する装置には大きな問題となってしまう。
また、スライド軸継手のエナーシャが迅速に回転するた
めの問題にもなっている。
自在軸継手については、機構の「あそび」がほとんど
零に近いものが近年では商品化されている。
零に近いものが近年では商品化されている。
本発明は、このような問題点を解決するために、移動
体を正確に（２〜３μｍのレベルの精度で移動ができ
る）迅速に移動や停止ができる移動機構を提供すること
を目的とする。
体を正確に（２〜３μｍのレベルの精度で移動ができ
る）迅速に移動や停止ができる移動機構を提供すること
を目的とする。
上記課題を解決するために、本発明の移動機構は、四
角形の移動体をＸ方向に押すＸ方向移動機構とＹ方向に
押すＹ方向移動機構とからなる移動機構であって、各移
動機構は、Ｘ方向またはＹ方向に向けた直線ガイドを設
け、該直線ガイド上を移動するモータを設け、該モータ
の回転軸には、それと同軸に雄ネジを設け、該雄ネジの
先端には、一方の移動機構は１つのローラを、他方の移
動機構は間隔を置いて並べて配置した２つのローラを、
移動体を押すように配置し、移動体の反対側には、移動
体を各移動機構に押しつけるスプリングを設け、前記雄
ネジは基板に固定された雌ネジに螺合されていることを
特徴とする。さらに、移動機構は、前記モータと前記雄
ネジの間に、自在軸継手を設けたことを特徴とする。ま
た本発明の露光装置は、光源と、光源からの光が照射さ
れるレチクルと、このレチクルの位置を調節するレチク
ル移動機構と、レチクルを通過した光を露光面に結び、
レチクルのパターンを投影する投影レンズと、この投影
レンズの位置を調節する投影レンズ移動機構と、投影レ
ンズによる像の投影位置に、フィルムを載せて保持する
フィルムステージとからなる露光装置において、前記２
つの移動機構の少なくとも一方は、特許請求の範囲第１
項記載の移動機構よりなることを特徴とする。
角形の移動体をＸ方向に押すＸ方向移動機構とＹ方向に
押すＹ方向移動機構とからなる移動機構であって、各移
動機構は、Ｘ方向またはＹ方向に向けた直線ガイドを設
け、該直線ガイド上を移動するモータを設け、該モータ
の回転軸には、それと同軸に雄ネジを設け、該雄ネジの
先端には、一方の移動機構は１つのローラを、他方の移
動機構は間隔を置いて並べて配置した２つのローラを、
移動体を押すように配置し、移動体の反対側には、移動
体を各移動機構に押しつけるスプリングを設け、前記雄
ネジは基板に固定された雌ネジに螺合されていることを
特徴とする。さらに、移動機構は、前記モータと前記雄
ネジの間に、自在軸継手を設けたことを特徴とする。ま
た本発明の露光装置は、光源と、光源からの光が照射さ
れるレチクルと、このレチクルの位置を調節するレチク
ル移動機構と、レチクルを通過した光を露光面に結び、
レチクルのパターンを投影する投影レンズと、この投影
レンズの位置を調節する投影レンズ移動機構と、投影レ
ンズによる像の投影位置に、フィルムを載せて保持する
フィルムステージとからなる露光装置において、前記２
つの移動機構の少なくとも一方は、特許請求の範囲第１
項記載の移動機構よりなることを特徴とする。
このような構成の移動機構であるため、モータの回転
は固着された自在軸継手に伝達されて、さらに自在軸継
手に固着された雄ネジに伝達される。このため従来のよ
うに、スライド軸継手を使用しないので、回転の伝達に
対して、キーとキー溝を有しない。すなわちキーとキー
溝における間隙の影響を受けることがない。そして軸線
方向の長さの変化は、モータを載せた直線ガイドによっ
て、補償することができる。
は固着された自在軸継手に伝達されて、さらに自在軸継
手に固着された雄ネジに伝達される。このため従来のよ
うに、スライド軸継手を使用しないので、回転の伝達に
対して、キーとキー溝を有しない。すなわちキーとキー
溝における間隙の影響を受けることがない。そして軸線
方向の長さの変化は、モータを載せた直線ガイドによっ
て、補償することができる。
以下、実施例によって本発明を具体的に説明する。第
３図は本発明の移動機構を示す。第３図（ａ）は、従来
の移動機構（第２図）に対する本発明の実施例である。
図中、同一番号は、同一部材のため説明は省略するもの
もある。移動体70は、モータ74の回転に相当する分だけ
雄ネジ71によって移動する。モータ74の回転先端部は、
自在軸継手76に固着される。（加工精度又は調整精度を
高めると、モータ軸と雄ネジ71を直結する構造も可能で
あり、この場合自在軸継手76は不要になる。）一方モー
タ74は、載置台75に載っているわけであるが、この台75
は直線ガイドよりなる。ここに使用する直線ガイドは滑
り・転がり・無接触の空圧・油圧・磁気浮上等のいづれ
のガイドでもよいが「あそび」のないことと抵抗が少な
いことが必要である。ここでは一般化している転がり直
線ガイドを例として説明する。同図（ｂ）はモータ74の
後方より見た図（移動体70と反対側）である。転がり直
線ガイド74は、可動基台81、可動側レール82、基板側レ
ール83と、この両レールに挟まれた転動体84よりなる。
この転動体84は球又は円筒よりなる。
３図は本発明の移動機構を示す。第３図（ａ）は、従来
の移動機構（第２図）に対する本発明の実施例である。
図中、同一番号は、同一部材のため説明は省略するもの
もある。移動体70は、モータ74の回転に相当する分だけ
雄ネジ71によって移動する。モータ74の回転先端部は、
自在軸継手76に固着される。（加工精度又は調整精度を
高めると、モータ軸と雄ネジ71を直結する構造も可能で
あり、この場合自在軸継手76は不要になる。）一方モー
タ74は、載置台75に載っているわけであるが、この台75
は直線ガイドよりなる。ここに使用する直線ガイドは滑
り・転がり・無接触の空圧・油圧・磁気浮上等のいづれ
のガイドでもよいが「あそび」のないことと抵抗が少な
いことが必要である。ここでは一般化している転がり直
線ガイドを例として説明する。同図（ｂ）はモータ74の
後方より見た図（移動体70と反対側）である。転がり直
線ガイド74は、可動基台81、可動側レール82、基板側レ
ール83と、この両レールに挟まれた転動体84よりなる。
この転動体84は球又は円筒よりなる。
モータ74は、上記のレールの働きにより、可動基台21
ごとその軸線方向（移動体70を移動させる方向）に移動
する。また、転動体84は、予圧をかけているので、がた
を防止できる。以下、ころがり直線ガイドは通常使用さ
れているのでその詳細な説明は省略する。
ごとその軸線方向（移動体70を移動させる方向）に移動
する。また、転動体84は、予圧をかけているので、がた
を防止できる。以下、ころがり直線ガイドは通常使用さ
れているのでその詳細な説明は省略する。
このような構成であるため、モータ74の回転に相当す
る分だけ、雄ネジ71を回転させて、移動体70を移動させ
る。その際、従来のようにスライド軸継手を使っていな
いので、キー溝の間隙による、回転伝達の誤差を生じる
ことはない。このため、移動体70を正確に移動させるこ
とができる。尚この場合モータは、例えばステッピング
モータが適用される。このような、移動機構を使って、
露光装置のレチクルを移動させる構造は、第１図と同様
である。
る分だけ、雄ネジ71を回転させて、移動体70を移動させ
る。その際、従来のようにスライド軸継手を使っていな
いので、キー溝の間隙による、回転伝達の誤差を生じる
ことはない。このため、移動体70を正確に移動させるこ
とができる。尚この場合モータは、例えばステッピング
モータが適用される。このような、移動機構を使って、
露光装置のレチクルを移動させる構造は、第１図と同様
である。
第４図に、本発明の移動機構を使った露光装置（特に
フィルム露光装置）の概略を示す。この露光装置は電子
部品の実装に使われるフィルム回路基板を作るためのも
のである。フィルムＦには、フォトレジストの槽が設け
られていて、このレジストに、光源からのレジスト感光
波長が投影される。この照射光は、照射系10、投影系20
を介して投影されるわけであるが、レチクル１には、転
写させたい回路パターンが描かれ、このパターンが、フ
ィルムＦに投影される。そしてフィルムＦは搬送系40
（図において、40番台のものによって構成される。）で
露光装置５に１コマずつステップ送りされる。
フィルム露光装置）の概略を示す。この露光装置は電子
部品の実装に使われるフィルム回路基板を作るためのも
のである。フィルムＦには、フォトレジストの槽が設け
られていて、このレジストに、光源からのレジスト感光
波長が投影される。この照射光は、照射系10、投影系20
を介して投影されるわけであるが、レチクル１には、転
写させたい回路パターンが描かれ、このパターンが、フ
ィルムＦに投影される。そしてフィルムＦは搬送系40
（図において、40番台のものによって構成される。）で
露光装置５に１コマずつステップ送りされる。
照射系10は、超高圧水銀ランプのようなレジスト感光
波長を良好に放射するランプ11と、この放射光を効率よ
く反射する凹面鏡12と、放射光を導く平面鏡14と、シャ
ッター15と、コンデンサレンズ13より構成される。
波長を良好に放射するランプ11と、この放射光を効率よ
く反射する凹面鏡12と、放射光を導く平面鏡14と、シャ
ッター15と、コンデンサレンズ13より構成される。
一方、照射系10からの放射光を受ける投影系20は、レ
チクル１を含むレチクル台22と、レチクル１を通過した
光を効率よくフィルムＦに投影する投影レンズ30より構
成される。
チクル１を含むレチクル台22と、レチクル１を通過した
光を効率よくフィルムＦに投影する投影レンズ30より構
成される。
搬送系40は、フィルムＦが巻かれていて、露光位置５
に供給するフィルム供給リール41と、露光後のフィルム
Ｆを巻き取るフィルム巻き取りリール42と、レジストを
保護するスペイサーのためのリール43、44をそれぞれ有
する。またフィルムＦの駆動ローラ46と、これに従動さ
れるローラ45がスプロケット式で構成される。そしてこ
れらローラ46、45の補助ローラ48、47を有する。
に供給するフィルム供給リール41と、露光後のフィルム
Ｆを巻き取るフィルム巻き取りリール42と、レジストを
保護するスペイサーのためのリール43、44をそれぞれ有
する。またフィルムＦの駆動ローラ46と、これに従動さ
れるローラ45がスプロケット式で構成される。そしてこ
れらローラ46、45の補助ローラ48、47を有する。
５は露光位置であり、ステージ51上に構成される。ス
テージ51は図示略であるが吸着機構やフィルムＦの位置
検出機構52を有する。この位置検出機構52はホトセンサ
及び図示略であるがCCDカメラよりなる。そしてフィル
ムＦにある２つの位置検出用の穴F10に対応するように
なっている。レチクル１には、図示略であるが、F10に
対応した２つの位置合わせ用マークがある。そして光源
11からの光が、レチクル１上の位置合わせ用マーク、フ
ィルムＦの穴F10を透過して、位置検出機構52で検出さ
れる。この位置検出は、搬送系によって搬送されたフィ
ルムＦの１コマを停止させるための検出と（ホトセンサ
ーによる）、搬送停止させた後にレチクル１とフィルム
Ｆを50〜100μｍレベルで制御するための検出がある。
（CCDによる） このような露光装置において、フィルムＦが露光位置
５上で搬送停止すると、位置検出機構52からの信号によ
って、Ｘ方向移動機構61やＹ方向移動機構62を駆動させ
る。すなわち搬送されたフィルムＦの位置検出用の穴F1
0に対して、レチクル１を移動させて、レチクル１上の
位置合わせ用マークを合わせることによって、正確な位
置制御を達成することができる。この移動機構に本発明
のものを適用できる。すなわち位置検出機構52からの信
号によって、図示略のモータ駆動機構が作動して、モー
タ74を回転させる。
テージ51は図示略であるが吸着機構やフィルムＦの位置
検出機構52を有する。この位置検出機構52はホトセンサ
及び図示略であるがCCDカメラよりなる。そしてフィル
ムＦにある２つの位置検出用の穴F10に対応するように
なっている。レチクル１には、図示略であるが、F10に
対応した２つの位置合わせ用マークがある。そして光源
11からの光が、レチクル１上の位置合わせ用マーク、フ
ィルムＦの穴F10を透過して、位置検出機構52で検出さ
れる。この位置検出は、搬送系によって搬送されたフィ
ルムＦの１コマを停止させるための検出と（ホトセンサ
ーによる）、搬送停止させた後にレチクル１とフィルム
Ｆを50〜100μｍレベルで制御するための検出がある。
（CCDによる） このような露光装置において、フィルムＦが露光位置
５上で搬送停止すると、位置検出機構52からの信号によ
って、Ｘ方向移動機構61やＹ方向移動機構62を駆動させ
る。すなわち搬送されたフィルムＦの位置検出用の穴F1
0に対して、レチクル１を移動させて、レチクル１上の
位置合わせ用マークを合わせることによって、正確な位
置制御を達成することができる。この移動機構に本発明
のものを適用できる。すなわち位置検出機構52からの信
号によって、図示略のモータ駆動機構が作動して、モー
タ74を回転させる。
尚詳細な説明は省いたが、レチクルの移動機構として
は、Ｘ方向やＹ方向だけに限らず回転方向や光軸方向に
ついても本発明の移動機構が適用でき、さらには投影レ
ンズ30の移動に対してもこの構造を適用できる。露光に
対して、本発明の移動機構を適用すると、露光する度に
搬送されたフィルムの１コマに対して、位置、焦点、倍
率の上で精度の高い調節ができる。
は、Ｘ方向やＹ方向だけに限らず回転方向や光軸方向に
ついても本発明の移動機構が適用でき、さらには投影レ
ンズ30の移動に対してもこの構造を適用できる。露光に
対して、本発明の移動機構を適用すると、露光する度に
搬送されたフィルムの１コマに対して、位置、焦点、倍
率の上で精度の高い調節ができる。
本発明の移動機構は、上記の露光装置以外にも光学顕
微鏡をはじめとして各種顕微鏡の試料の移動、及び各種
測定器の移動体にも適用できる。
微鏡をはじめとして各種顕微鏡の試料の移動、及び各種
測定器の移動体にも適用できる。
以上説明したように、本発明の移動機構によれば、モ
ータの回転を確実に伝達して、その回転力によって、移
動体を移動させることができる。すなわち従来の移動機
構のようにキーとキー溝の構造がないので、その間の間
隙により誤差を生じるということはない。このため移動
体を２〜３μｍのレベルで移動させることができる。
ータの回転を確実に伝達して、その回転力によって、移
動体を移動させることができる。すなわち従来の移動機
構のようにキーとキー溝の構造がないので、その間の間
隙により誤差を生じるということはない。このため移動
体を２〜３μｍのレベルで移動させることができる。
また、この移動機構を露光装置に応用すれば、露光位
置に配置された被露光物と、レチクルの位置調節を確実
に行うことができる。
置に配置された被露光物と、レチクルの位置調節を確実
に行うことができる。
【図面の簡単な説明】 第１図は、露光装置のレチクルとその移動機構を示した
図である。 第２図は、従来の移動機構の構造図である。 第３図は、本発明の移動機構の構造図である。 （ａ）は、その全体の概略図である。 （ｂ）は、モータを後方（移動体と反対側）から見た図
である。 第４図は、本発明の移動機構を使った露光装置の全体の
概略図である。 図中、 1:レチクル、70:移動体 10:光源、71:雄ネジ 30:投影レンズ、72:雌ネジ 61:X方向移動機構、73:スプリング 62:Y方向移動機構、74:モータ 75:転がり直線ガイド、 76:自在軸継手、
図である。 第２図は、従来の移動機構の構造図である。 第３図は、本発明の移動機構の構造図である。 （ａ）は、その全体の概略図である。 （ｂ）は、モータを後方（移動体と反対側）から見た図
である。 第４図は、本発明の移動機構を使った露光装置の全体の
概略図である。 図中、 1:レチクル、70:移動体 10:光源、71:雄ネジ 30:投影レンズ、72:雌ネジ 61:X方向移動機構、73:スプリング 62:Y方向移動機構、74:モータ 75:転がり直線ガイド、 76:自在軸継手、
Claims (3)
- 【請求項１】四角形の移動体をＸ方向に押すＸ方向移動
機構とＹ方向に押すＹ方向移動機構とからなる移動機構
であって、 各移動機構は、 Ｘ方向またはＹ方向に向けた直線ガイドを設け、 該直線ガイド上を移動するモータを設け、 該モータの回転軸には、それと同軸に雄ネジを設け、 該雄ネジの先端には、一方の移動機構は１つのローラ
を、他方の移動機構は間隔を置いて並べて配置した２つ
のローラを、移動体を押すように配置し、 移動体の反対側には、移動体を各移動機構に押しつける
スプリングを設け、 前記雄ネジは基板に固定された雌ネジに螺合されている ことを特徴とする移動機構。 - 【請求項２】前記モータと前記雄ネジの間に、自在軸継
手を設けたことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
の移動機構。 - 【請求項３】光源と、 光源からの光が照射されるレチクルと、 このレチクルの位置を調節するレチクル移動機構と、 レチクルを通過した光を露光面に結び、レチクルのパタ
ーンを投影する投影レンズと、 この投影レンズの位置を調節する投影レンズ移動機構
と、 投影レンズによる像の投影位置に、フィルムを載せて保
持するフィルムステージとからなる露光装置において、 前記２つの移動機構の少なくとも一方は、特許請求の範
囲第１項記載の移動機構よりなることを特徴とする露光
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2330549A JP2859433B2 (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 移動機構とこの移動機構を使った露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2330549A JP2859433B2 (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 移動機構とこの移動機構を使った露光装置 |
Publications (2)
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| JPH04204535A JPH04204535A (ja) | 1992-07-24 |
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1990
- 1990-11-30 JP JP2330549A patent/JP2859433B2/ja not_active Expired - Fee Related
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