JPH0510748A - 位置情報検出装置およびそれを用いた転写装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】被測定物体の形状精度の状態にかかわらず回転
誤検知を防止してより高精度な位置情報検出を可能にす
る。 【構成】被測定物体のＸ，Ｙの各方向の位置を互いに異
なる点で検出するそれぞれ一対ずつの検出器１Ｘ，２Ｘ
と１Ｙ，２Ｙとを設け、Ｘ，Ｙの各方向の位置情報は各
方向用の検出器の少なくとも１つずつの検出出力を用い
て検出するとともに、被測定物体の回転は少なくともい
ずれか一対の検出器の検出出力を用いて検出する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、位置情報検出装置およ
びそれを用いた転写装置に関する。本発明は、特に、半
導体ウエハまたは液晶表示パネル等の平板状物体にパタ
ーンを形成するための露光装置等の転写装置、更に言う
ならば半導体メモリや演算装置等の高密度集積回路チッ
プの製造の際に回路パターンの焼付を行なうべきウエハ
等の被露光体の姿勢を適確に保持して高精度な露光を行
なうことができる露光装置、およびその露光位置決めに
好適に用いることが可能な位置情報検出装置に関する。

【０００２】

【従来技術】従来、ＸＹステージと称される装置の位置
決めには、Ｘ，Ｙ軸に関し、それぞれの方向よりレーザ
ー光を各々ステージの所定位置に入射し、反射光よりビ
ーム入射位置のビーム入射方向に沿った位置変動情報を
得て位置検出を行ない、この検出結果より位置決めを行
なっていた。ヨーイング（回転）検出用としてステージ
の１軸（例えばＸ軸）側にもう１本レーザーを入射して
二ケ所のビーム入射位置の１軸方向に沿った位置変動情
報を得ていた。この１組（２本）のレーザー光より得ら
れる２ケ所の位置変動値によってＸＹ平面移動時のヨー
イング検出とそのヨーイングを補正する制御を行なって
いた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところが、このような
ＸＹ位置決め装置においては、測長する被測定面である
ミラーの面精度の影響を受けるという問題があった。例
えば、Ｘ方向から２本のレーザーをミラー面上の２ケ所
に入射したと仮定した場合、ステージがＸ方向に移動す
る場合はこのミラー面上のビーム入射位置は変化しない
ので問題ないが、ステージがＹ方向に移動する際には、
ミラー面内でレーザー光の当たる位置が例えばミラーの
曲がりや面形状誤差等の影響を受けて変化するため、正
しいヨーイングの計測や制御ができなかった。これを説
明する。

【０００４】例えばミラーに１ケ所面形状誤差がある場
合、ステージのＹ方向移動の途中でＸ方向より入射する
レーザー光の１本の入射位置がこの面形状誤差位置と一
致した時には、このレーザー光の反射光からはＸ方向に
位置変動があったという情報が得られてしまう。もう一
本のレーザー光の反射光からは位置変動なしという情報
が得られているとすると、ヨーイングが発生していない
にもかかわらず、最終的にヨーイング発生と誤検知され
てしまう。

【０００５】本発明は上述従来例の欠点に鑑みてなされ
たものであり、ミラーの面形状精度の状態にかかわらず
ヨーイング誤検知を防止してより高精度な位置情報検出
が可能な装置を提供することを第１の目的とする。

【０００６】本発明の他の目的は後述する本発明の詳細
な実施例の説明の中で明らかになっていくであろう。

【０００７】

【問題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に本発明は、被測定物体の位置情報を検出する装置で、
被測定物体上の対向する第一部所の第一の方向に沿った
位置情報を検出する第一検出手段と、前記被測定物体上
の対向する第二部所の前記第一の方向に沿った位置情報
を検出する第二検出手段と、前記被測定物体上の対向す
る第三部所の、前記第一方向と交差する第二の方向に沿
った位置情報を検出する第三検出手段と、前記被測定物
体上で対向する第四部所の前記第二の方向に沿った位置
情報を検出する第四検出手段と、前記第一ないし第四検
出手段の検出に基づいて位置情報を検出する位置情報検
出手段とを有し、前記位置情報検出手段は、前記第一、
第二検出手段の少なくとも一方の検出に基づいて前記被
測定物体の前記第一の方向に沿った位置情報を検出し、
かつ前記第三、第四検出手段の少なくとも一方の検出に
基づいて前記被測定物体の前記第二の方向に沿った位置
情報を検出するとともに、少なくとも前記第一および第
二検出手段または前記第三および第四検出手段の検出に
基づいて前記被測定物体の回転情報の検出を行なうよう
にしている。

【０００８】また、本発明は、原版のパターンを感光体
に転写するための装置で、原版のパターンを感光体に転
写するための転写手段と、原版と感光体の位置合わせの
ための基準を与える基準手段と、前記基準手段上の対向
する第一部所の第一の方向に沿った位置情報を検出する
第一検出手段と、前記基準手段上の対向する第二部所の
前記第一の方向に沿った位置情報を検出する第二検出手
段と、前記基準手段上の対向する第三部所の、前記第一
方向と交差する第二の方向に沿った位置情報を検出する
第三検出手段と、前記基準手段上の対向する第四部所の
前記第二の方向に沿った位置情報を検出する第四検出手
段と、前記第一ないし第四検出手段の検出に基づいて位
置情報検出を行なう位置情報検出手段と、前記位置情報
検出手段の検出に基づいて前記原版と感光体の位置合わ
せのための駆動を行なう駆動手段と、を有し、前記位置
情報検出手段は、前記第一、第二検出手段の少なくとも
一方の検出に基づいて前記基準手段の前記第一の方向に
沿った位置情報を検出し、かつ前記第三、第四検出手段
の少なくとも一方の検出に基づいて前記基準手段の前記
第二の方向に沿った位置情報を検出するとともに、少な
くとも前記第一および第二検出手段または前記第三およ
び第四検出手段の検出に基づいて前記基準手段の回転情
報の検出を行なうことで前述の課題を解決した転写装置
を実現している。

【０００９】さらに、本発明の他の態様では被測定物体
の位置情報を検出する装置で、被測定物体の第一面上の
対向部所の、第一の方向に沿った位置情報を検出する第
一検出手段と、前記第一面上の対向部所から前記第一面
の角度に関連した情報を検出する第二検出手段と、前記
被測定物体の第一面と異なる第二面上の対向部所の前記
第一方向と交差する第二の方向に沿った位置情報を検出
する第三検出手段と、前記第二面上の対向部所から前記
第二面の角度に関連した情報を検出する第四検出手段
と、位置情報検出手段とを有し、前記位置情報検出手段
は少なくとも前記第一検出手段の検出に基づいて前記被
測定物体の前記第一の方向に沿った位置情報を検出し、
少なくとも前記第三検出手段の検出に基づいて前記被測
定物体の前記第二の方向に沿った位置情報を検出し、少
なくとも前記第二検出手段の検出に基づいて前記第一面
の回転情報の検出を行ない且つ少なくとも前記第四検出
手段の検出に基づいて前記第二面の回転情報の検出を行
なうことを特徴とする。

【００１０】また、第一の方向と、該第一と交差する第
二の方向とに沿って移動可能な被検物体のヨーイングを
検出する装置で、被検物体が第一の方向に移動するとき
に被検物体の第一の方向に垂直な面の傾き変化を検出す
る第一ヨーイング検出手段と、被検物体が第二の方向に
移動するときに被検物体の第二の方向に垂直な面の傾き
変化を検出する第二ヨーイング検出手段を有することを
特徴とする。

【００１１】

【実施例】図１は、本発明の第１実施例の概念を表わす
構成説明図であり、縮小投影露光装置（ステッパ）を示
している。図において、８はレンズ系、９はレチクル、
１１がウエハであり、この部材以外がウエハステージ系
となる。ウエハステージ系はウエハ１１をレチクル９に
対して位置合わせするのに用いられる。パターン転写の
際には、位置合わせの終ったウエハ１１上の感光剤上
に、不図示の光源により照明されたレチクル９のパター
ンがレンズ８で投影される。１Ｘ，２Ｘおよび１Ｙ，２
Ｙはレーザー干渉計、３はｘ，ｙ軸をそれぞれ面法線と
する２つのミラー面を有するＬ形のミラー（被測定
面）、４はＸＹテーブル（ＸＹステージ）、５はθ回転
テーブル、６はＸＹテーブル４に対し回転テーブル５を
回転駆動するための、圧電素子からなる回転駆動機構、
７はＸＹ駆動部（ＤＣモーター）、１０は演算回路およ
び駆動回路等を含む制御ボックス、Ｌはレーザー光であ
る。レーザー干渉計１Ｘ，２Ｘの組および１Ｙ，２Ｙの
組はそれぞれＸ，Ｙ各方向に沿ったミラー３の位置変動
を計測するために設けられている。レーザー干渉計１
Ｘ，２ＸはＸ方向より、またレーザー干渉計１Ｙ，２Ｙ
はＹ方向よりレーザー光を入射させる。

【００１２】これらのレーザー干渉計は反射面に面の法
線方向からレーザー光を入射させ逆方向に反射してきた
レーザー光の、レーザー光進行方向に沿った反射面位置
変動に伴なう位相シフトを検出して反射面上レーザー入
射位置のレーザー光進行方向に沿った位置変化情報（変
位量、速度等）を検出する装置であり、構成の詳細は周
知なので説明は省略する。

【００１３】ミラー３の位置、すなわち回転テーブル５
の最初の位置は制御ボックス１０に記憶されており、回
転テーブル５の現在の位置はこの最初の位置に、レーザ
ー干渉計によるミラー３のＸ，Ｙ両方向の現在までの変
位量の積分値を加算することで得られる。ウエハ１１が
この回転テーブル５上に正しく設置された時、テーブル
５をどこへ移動させればウエハ１１が適正な被露光位置
に配置されるかのデータは制御ボックス１０に記憶され
ており、制御ボックスはこのデータと検出された回転テ
ーブル５の現在の位置のデータとに基づいて、ＸＹ駆動
部７を介してＸＹテーブルを移動させることによりレチ
クル９とウエハ１１とを位置合わせする。

【００１４】Ｘ，Ｙ方向の位置計測は、それぞれレーザ
ー干渉計１Ｘ，１Ｙで行ない、移動時のヨーイング計測
をＸ，Ｙ各方向についてそれぞれレーザー干渉計１Ｘと
２Ｘ（Ｘ方向）、１Ｙと２Ｙ（Ｙ方向）の検出値差を検
出することで行ない、制御ボックス１０内で演算処理
し、位置制御およびヨーイング制御（回転駆動機構６を
作動させてヨーイングを０にする制御）を行なう。

【００１５】次に第２実施例について説明する。装置構
成、位置決めの仕方等は第１実施例と同じであり説明を
省略する。第２実施例におけるヨーイングの計測および
制御の仕方について、制御ボックス１０の計測フローを
示す図２を用いて説明する。まず制御状態よりテーブル
５をＸ方向、Ｙ方向のいずれに駆動させている状態かを
判断し、Ｘ方向のみに駆動させている場合には、Ｘ方向
よりレーザー光を入射させているレーザー干渉計１Ｘ，
２Ｘの検出する変位量の差よりヨーイングの発生とその
方向を検出する。またはこの差よりヨーイング角を算出
する。Ｘ方向にのみ駆動している間、このレーザー干渉
計１Ｘ，２Ｘによるミラー３上でのビーム入射位置は実
質的に変化しないと考えられる。したがって従来技術の
説明中で述べたような、ミラー上でのビーム入射位置の
変化中におこるミラー面形状に依存するヨーイングの誤
検知は発生せず、高精度なヨーイング計測が維持され
る。この計測値に基づいてヨーイングを０にすべく回転
駆動機構６を作動させる（ヨーイング処理）。Ｘ方向駆
動が終了し、この時レーザー干渉計１Ｘ，２Ｘによって
ヨーイングが計測されていないにもかかわらずレーザー
干渉計１Ｙ，２Ｙに検出変移量の差が発生している場合
には、この差はヨーイングによるものではなく、ミラー
の面形状誤差によるものであると判断される。そこでこ
の時の差を、次にＹ方向駆動が行なわれる際にヨーイン
グ検出のために検出されるレーザー干渉計１Ｙ，２Ｙの
検出変位量差から差し引かれるためのオフセット量とし
て使用するために、記憶しておく。

【００１６】Ｙ方向にのみ駆動する場合には上述とはＸ
とＹに関して全く逆転した形で計測を行なう。

【００１７】ＸとＹの両方に駆動する場合にはレーザー
干渉計１Ｘ，２Ｘの検出変位量差とレーザー干渉計１
Ｙ，２Ｙの検出変位量差の平均値を出し、この値よりヨ
ーイングの発生とその方向、またはヨーイング角そのも
のを算出し、これに基づいてヨーイング制御を行なう。

【００１８】更に別の実施例として前記ヨーイング計測
手段において、１軸例えばＸ軸駆動時にＸ軸のヨーイン
グ計測値とともにＹ軸のヨーイング計測値を求め、Ｙ軸
側の計測値をＸ軸のヨーイング計測値で補正すれば、Ｙ
軸ミラー面の面精度すなわちミラー面各位置におけるヨ
ーイング検出誤差成分を計測できる。

【００１９】さらに、前記計測した値を記憶し、ソフト
の補正値として使用すれば、この後は１軸（例えばＸ
軸）用のレーザー干渉計のみを用いたヨーイング制御で
も面精度の影響を排除して制御できる。

【００２０】以下に更に別の実施例を説明する。装置構
成等は同様なので、ヨーイング制御に関する制御ボック
ス１０の計測制御フローである図３，４でのみ示す。

【００２１】図３はミラー３の面精度を計測するための
フローチャートである。このような面精度計測は、１日
の動作の始まり毎に行なうようにしても、またはもっと
長期で定期的に行なうようにしても、さらにはこの装置
を初めて作動させる時１回だけ行なうようにしても良
い。

【００２２】まず、ミラー３のＹミラー面、すなわちレ
ーザー干渉計１Ｙ，２Ｙに対向するミラー面に関して計
測する場合について説明する。最初にテーブル５を、レ
ーザー干渉計１Ｙ，２Ｙのいずれか一方がＹミラーの実
効部分の端にレーザー入射させるような所定位置に移動
させる。ここでヨーイング計測系をリセット、すなわち
この時のヨーイング計測値を基準として以後のヨーイン
グ変動を計測するようにし、この後テーブルを、レーザ
ー干渉計１Ｙ，２Ｙの他方がＹミラーの実効部分の他方
の端にレーザー入射させるような位置に達するまで、Ｘ
方向にのみ駆動する。この間のテーブル５（すなわちミ
ラー３）のＸ方向位置（第ｎ番目位置）はレーザー干渉
計１Ｘによって常時モニタされており、同時に各位置に
おけるＸ方向からのヨーイング計測値すなわちレーザー
干渉計１Ｘ，２Ｘで計測されるヨーイング値Ｑｘ（ｎ）
とＹ方向からのヨーイング計測値すなわちレーザー干渉
計１Ｙ，２Ｙで計測されるヨーイング値Ｑｙ（ｎ）もモ
ニターされ、記憶される。この時のヨーイング値Ｑｘ
（ｎ）は前述したように誤差のないヨーイング値と考え
られるので両者の差Ｈｙ（ｎ）＝Ｑｙ（ｎ）−Ｑｘ
（ｎ）はテーブル５のＸ方向第ｎ番目位置におけるＹミ
ラーの面形状に起因する誤差成分と判断できる。このＨ
ｙ［ｎ］を補正値として前述のようにしてＹミラーのＸ
方向全域にわたって求め、これを記憶する。

【００２３】ミラー３のＸミラー、すなわちレーザー干
渉計１Ｘ，２Ｘと対向するミラー面に関する計測は、上
述の計測とはＸとＹに関して全く逆転した形で行ない、
同様に第ｍ番目位置におけるＨｘ［ｍ］＝Ｑｘ（ｍ）−
Ｑｙ（ｍ）を補正値としてＸミラーのＹ方向全域にわた
って求め記憶する。

【００２４】次に、この計測された面精度を用いたヨー
イング制御について、この制御フローチャートを示す図
４を用いて説明する。

【００２５】まず、テーブル５を所定の位置（ホームポ
ジション）に配置し、ここでヨーイング計測系をリセッ
トする。次にヨーイング計測にレーザー干渉計１Ｙ，２
Ｙを使うのか、レーザー干渉計１Ｘ，２Ｘを使うのか、
両方使用するのかを決定する。これはオペレータが選択
できるようにすればよい。レーザー干渉計１Ｙ，２Ｙを
使用する場合はテーブル５を位置決めする各目標地点の
Ｘ座標に最も近い第ｎ番目位置をそれぞれ割りだす。そ
して各目標地点にテーブルが位置決めされる際に、各目
標地点のＸ座標に最も近い第ｎ番目位置における補正値
Ｈｙ（ｎ）がヨーイング値として計測されるように回転
駆動機構６を制御する。レーザー干渉計１Ｘ，２Ｘを使
用する場合はこれとＸ，Ｙについて逆転させた形で行な
われる。また両方のレーザー干渉計組を使用する場合
は、目標地点毎にＨｙ［ｎ］とＨｘ［ｍ］がヨーイング
としてそれぞれのレーザー干渉計組によって計測される
ように回転駆動機構６を制御する。Ｈｙ［ｎ］とＨｘ
［ｍ］が一緒に計測されない場合はそれぞれの計測値と
Ｈｙ［ｎ］，Ｈｘ［ｍ］との差分が一致する所で止め
る。他の例として、例えばＨｙ［ｎ］が計測されている
時にＨｘ［ｍ］が計測されないようなことがあれば何か
トラブルがあったものとして警告を発するようにしても
よい。

【００２６】図３において例えばＸミラーの面精度のみ
計測し、すなわち補正値Ｈｘ［ｍ］のみを求め、図４の
フローの中でレーザー干渉計１Ｘ，２Ｘの組のみでヨー
イング制御を行なえば、補正値計測後Ｙ方向計測用のレ
ーザー干渉計は１Ｙの１本で済む。

【００２７】また、図３の中でＸミラーおよびＹミラー
ともに面精度を計測し、補正値として記憶し、図４の両
方のレーザー干渉計組を用いたヨーイング制御のフロー
で制御を行なえば、平均化効果も含めてより正確なヨー
イング制御を行なうことが可能となる。

【００２８】以上述べてきたように、第１，第２実施例
の如く、駆動方向に応じてレーザー干渉計１Ｘ，２Ｘと
１Ｙ，２Ｙで交互に、または両方を用いてヨーイング制
御を行なうことにより被計測面（ミラー面）の影響を無
くすことができる。

【００２９】したがって、高精度な位置決め制御が可能
になり、半導体露光装置（ステッパー）等において特に
有効である。

【００３０】また、別の実施例の如く予め一軸（例えば
Ｘ軸）のみ移動制御した際に一軸（Ｘ軸）のヨーイング
計測値とともにもう一軸（Ｙ軸）のヨーイング計測値を
計っておき、もう一軸（Ｙ軸）の計測値から一軸（Ｘ
軸）のヨーイング計測値を差し引いておけば、ミラー面
の平面精度も計測することができる。この値を記憶して
位置に対する補正値として用いれば、片側（例えばＸ軸
側）だけの通常のヨーイング計測制御に加えて補正値に
よってもう片方（Ｙ方向）についてもヨーイング制御を
行なうことが可能となる。両方向とも補正値を使うこと
もできる。

【００３１】以上のことから極めて重ね合わせ精度の高
い、高生産性および高融通性を有するステッパーのよう
な高精度位置決め装置を提供することができる。

【００３２】上述の実施例においてＸおよびＹ方向の位
置計測をそれぞれレーザー干渉計１Ｘと２Ｘの計測値の
平均値およびレーザー干渉計１Ｙと２Ｙの計測値の平均
値より出すようにしてもよい。

【００３３】ヨーイングの計測手段としてのレーザー干
渉計２Ｘ，２Ｙは、Ｘ軸、Ｙ軸独立に設けたコリメータ
等に置き換えることも可能である。

【００３４】以下にこの例を説明する。図５はＸミラー
に対向するコリメータの様子を示す図である。Ｙミラー
側にもこのような形でコリメータがレーザー干渉計２Ｙ
の代わりに配置されている。コリメータの構成を説明す
る。

【００３５】光源ＬＳより出た光をコリメータレンズＣ
Ｌ１によって平行光にし、ハーフミラーＨＭを通ってミ
ラー３に当たる（ハーフミラーＨＭで反射した光は捨て
る）。ミラー３より反射した光のうちハーフミラーＨＭ
面で反射する光をコリメータレンズＣＬ２により集光
し、集光部に置いたディテクタＤＴ（ＰＳＤセンサー
等）で受光する。ミラー３に角度変化が生じると、この
ディテクタＤＴに入射する光束の入射位置が変化するの
で、ディテクタＤＴでこの光束入射位置を検出すること
によって角度変化を算出する。

【００３６】この例においては、制御ボックス１０はヨ
ーイングを、レーザー干渉計１Ｘ，１Ｙの出力は使わず
このＸ，Ｙ両方向に設けたコリメータの計測結果（ディ
テクタＤＴの出力）で検出する。本例においても、ヨー
イング計測にレーザー干渉計１Ｘ，１Ｙを使わない点を
除いてヨーイングの計測を、前述の実施例と同様な形で
行なえば、同様の効果が得られるものである。

【００３７】

【発明の効果】本発明によりミラー面精度等にかかわら
ずヨーイング誤検知を防止した位置情報検出が可能にな
った。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の第１実施例に係る露光装置構成説明
図である。

【図２】 本発明の第２実施例の計測・制御フローチャ
ートである。

【図３】 本発明の別の実施例における計測用フローチ
ャートである。

【図４】 同実施例におけるヨーイング制御フローチャ
ートである。

【図５】 本発明の更に他の実施例の部分説明図であ
る。

【符号の説明】

１Ｘ，２Ｘ，１Ｙ，２Ｙ：レーザー干渉計、３：ミラ
ー、４：ＸＹテーブル、５：θ回転テーブル、６：θ駆
動部、７：ＸＹ駆動部、８：レンズ、９：レチクル、１
０：制御ボックス、１１：ウエハ。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ１２Ｂ 5/00 Ｔ 6843−2Ｆ Ｈ０１Ｌ 21/027

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被測定物体の位置情報を検出する装置
   で、被測定物体上の対向する第一部所の第一の方向に沿
   った位置情報を検出する第一検出手段と、前記被測定物
   体上の対向する第二部所の前記第一の方向に沿った位置
   情報を検出する第二検出手段と、前記被測定物体上の対
   向する第三部所の、前記第一方向と交差する第二の方向
   に沿った位置情報を検出する第三検出手段と、前記被測
   定物体上で対向する第四部所の前記第二の方向に沿った
   位置情報を検出する第四検出手段と、前記第一ないし第
   四検出手段の検出に基づいて位置情報を検出する位置情
   報検出手段とを有し、前記位置情報検出手段は、前記第
   一、第二検出手段の少なくとも一方の検出に基づいて前
   記被測定物体の前記第一の方向に沿った位置情報を検出
   し、かつ前記第三、第四検出手段の少なくとも一方の検
   出に基づいて前記被測定物体の前記第二の方向に沿った
   位置情報を検出するとともに、少なくとも前記第一およ
   び第二検出手段または前記第三および第四検出手段の検
   出に基づいて前記被測定物体の回転情報の検出を行なう
   ことを特徴とする位置情報検出装置。
2. 【請求項２】 前記第一、第二、第三、第四検出手段は
   それぞれレーザー干渉計を有することを特徴とする請求
   項１の位置情報検出装置。
3. 【請求項３】 前記位置情報検出手段は、前記被測定物
   が前記第一の方向に沿って移動する時には前記第一およ
   び第二検出手段の検出に基づいて前記被測定物体の回転
   情報の検出を行ない、前記被測定物が前記第二の方向に
   沿って移動する時には前記第三および第四検出手段の検
   出に基づいて前記被測定物体の回転検出を行なうことを
   特徴とする請求項１の位置情報検出装置。
4. 【請求項４】 前記位置情報検出手段は、前記第一およ
   び第二検出手段の検出結果と前記第三および第四検出手
   段の検出結果との平均値より前記被測定物体の回転情報
   を検出することを特徴とする請求項１の位置情報検出装
   置。
5. 【請求項５】 前記位置情報検出手段は、前記被測定物
   体の第一方向への移動中の前記第一および第二検出手段
   の検出結果と前記第三および第四検出手段の検出結果と
   の差より、前記第三および第四検出手段による回転情報
   の検出誤差情報を算出することを特徴とする請求項１の
   位置情報検出装置。
6. 【請求項６】 前記位置情報検出手段は前記検出誤差情
   報に基づいて前記第三および第四検出手段を用いて前記
   被測定物体の回転情報検出を行なうことを特徴とする請
   求項５の位置情報検出装置。
7. 【請求項７】 原版のパターンを感光体に転写するため
   の装置で、原版のパターンを感光体に転写するための転
   写手段と、原版と感光体の位置合わせのための基準を与
   える基準手段と、前記基準手段上の対向する第一部所の
   第一の方向に沿った位置情報を検出する第一検出手段
   と、前記基準手段上の対向する第二部所の前記第一の方
   向に沿った位置情報を検出する第二検出手段と、前記基
   準手段上の対向する第三部所の、前記第一方向と交差す
   る第二の方向に沿った位置情報を検出する第三検出手段
   と、前記基準手段上の対向する第四部所の前記第二の方
   向に沿った位置情報を検出する第四検出手段と、前記第
   一ないし第四検出手段の検出に基づいて位置情報検出を
   行なう位置情報検出手段と、前記位置情報検出手段の検
   出に基づいて前記原版と感光体の位置合わせのための駆
   動を行なう駆動手段と、を有し、前記位置情報検出手段
   は、前記第一、第二検出手段の少なくとも一方の検出に
   基づいて前記基準手段の前記第一の方向に沿った位置情
   報を検出し、かつ前記第三、第四検出手段の少なくとも
   一方の検出に基づいて前記基準手段の前記第二の方向に
   沿った位置情報を検出するとともに、少なくとも前記第
   一および第二検出手段または前記第三および第四検出手
   段の検出に基づいて前記基準手段の回転情報の検出を行
   なうことを特徴とする転写装置。
8. 【請求項８】 被測定物体の位置情報を検出する装置
   で、被測定物体の第一面上の対向部所の、第一の方向に
   沿った位置情報を検出する第一検出手段と、前記第一面
   上の対向部所から前記第一面の角度に関連した情報を検
   出する第二検出手段と、前記被測定物体の第一面と異な
   る第二面上の対向部所の前記第一方向と交差する第二の
   方向に沿った位置情報を検出する第三検出手段と、前記
   第二面上の対向部所から前記第二面の角度に関連した情
   報を検出する第四検出手段と、位置情報検出手段とを有
   し、前記位置情報検出手段は少なくとも前記第一検出手
   段の検出に基づいて前記被測定物体の前記第一の方向に
   沿った位置情報を検出し、少なくとも前記第三検出手段
   の検出に基づいて前記被測定物体の前記第二の方向に沿
   った位置情報を検出し、少なくとも前記第二検出手段の
   検出に基づいて前記第一面の回転情報の検出を行ない且
   つ少なくとも前記第四検出手段の検出に基づいて前記第
   二面の回転情報の検出を行なうことを特徴とする位置情
   報検出装置。
9. 【請求項９】 第一の方向と、該第一と交差する第二の
   方向とに沿って移動可能な被検物体のヨーイングを検出
   する装置で、被検物体が第一の方向に移動するときに被
   検物体の第一の方向に垂直な面の傾き変化を検出する第
   一ヨーイング検出手段と、被検物体が第二の方向に移動
   するときに被検物体の第二の方向に垂直な面の傾き変化
   を検出する第二ヨーイング検出手段を有することを特徴
   とするヨーイング検出装置。