KR20190142460A - 마스크 어셈블리, 이를 포함하는 증착설비, 및 이를 이용한 표시장치의 제조방법 - Google Patents

마스크 어셈블리, 이를 포함하는 증착설비, 및 이를 이용한 표시장치의 제조방법 Download PDF

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Abstract

마스크 어셈블리는 프레임, 제1 스틱들, 및 마스크들을 포함한다. 프레임은 직사각형상을 갖고 제1 방향의 제1 길이는 제2 방향의 제2 길이보다 길다. 프레임에 제1 개구부가 정의된다. 제1 스틱들은 상기 제1 개구부에 중첩하도록 상기 프레임에 결합된다. 상기 제1 스틱들은 상기 제1 방향으로 연장되며 상기 제2 방향으로 나열된다. 마스크들은 상기 프레임과 상기 제1 스틱들 상에 배치되며, 상기 제2 방향으로 연장되고 상기 제1 방향으로 나열된다. 상기 제1 스틱들 각각은 상기 제2 방향에서 마주하는 제1 엣지와 제2 엣지를 갖고, 상기 제1 방향과 상기 제2 방향이 정의하는 평면상에서 상기 제1 스틱들 중 최외측에 배치된 최외측 스틱의 상기 제1 엣지와 상기 제2 엣지의 형상은 상이하다. 상기 최외측 스틱의 상기 제1 엣지와 상기 제2 엣지의 펼쳐진 상태의 직선상 길이는 실질적으로 동일하다.

Description

마스크 어셈블리, 이를 포함하는 증착설비, 및 이를 이용한 표시장치의 제조방법{MASK ASSEMBLY, DEPOSITION APPARATUS HAVING THE SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY DEVICE USING THE SAME}
일반적으로 발광 표시장치는 화소들마다 발광소자가 배치된다. 발광소자는 2개의 전극 사이에 배치된 발광층을 포함한다. 화소들에 배치되는 발광층들은 복수개의 그룹으로 구분될 수 있다.
복수개의 그룹의 발광층들을 작업기판에 증착하기 위해서 마스크 어셈블리를 이용한다. 마스크 어셈블리는 프레임, 지지스틱, 및 마스크를 포함한다. 마스크 상에 작업기판을 배치한 후 발광물질을 작업기판에 증착함으로써 패터닝된 발광층들이 형성될 수 있다.
일반적으로 발광 표시장치는 화소들마다 발광소자가 배치된다. 발광소자는 2개의 전극 사이에 배치된 발광층을 포함한다. 화소들에 배치되는 발광층들은 복수개의 그룹으로 구분될 수 있다.
복수개의 그룹의 발광층들을 작업기판에 증착하기 위해서 마스크 어셈블리를 이용한다. 마스크 어셈블리는 프레임, 지지스틱, 및 마스크를 포함한다. 마스크 상에 작업기판을 배치한 후 발광물질을 작업기판에 증착함으로써 패터닝된 발광층들이 형성될 수 있다.
본 발명의 목적은 열안정성이 우수하고 변형이 적은 마스크 어셈블리를 제공하는 것이다.
본 발명의 목적은 상기 마스크 어셈블리를 포함하는 증착설비를 제공하는 것이다.
본 발명의 목적은 불량률이 감소된 표시장치의 제조방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 어셈블리는 프레임, 제1 스틱들, 및 마스크들을 포함한다. 프레임은 직사각형상을 갖고 제1 방향의 제1 길이는 제2 방향의 제2 길이보다 길다. 프레임에 제1 개구부가 정의된다. 제1 스틱들은 상기 제1 개구부에 중첩하도록 상기 프레임에 결합된다. 상기 제1 스틱들은 상기 제1 방향으로 연장되며 상기 제2 방향으로 나열된다. 마스크들은 상기 프레임과 상기 제1 스틱들 상에 배치되며, 상기 제2 방향으로 연장되고 상기 제1 방향으로 나열된다. 상기 제1 스틱들 각각은 상기 제2 방향에서 마주하는 제1 엣지와 제2 엣지를 갖고, 상기 제1 방향과 상기 제2 방향이 정의하는 평면상에서 상기 제1 스틱들 중 최외측에 배치된 최외측 스틱의 상기 제1 엣지와 상기 제2 엣지의 형상은 상이하다. 상기 최외측 스틱의 상기 제1 엣지와 상기 제2 엣지의 펼쳐진 상태의 직선상 길이는 실질적으로 동일하다.
상기 제1 엣지와 상기 제2 엣지 중 어느 하나는 비직선영역을 포함할 수 있다.
상기 최외측 스틱의 상기 제1 엣지와 상기 제2 엣지 중 어느 하나는 복수 개의 슬릿 영역을 포함할 수 있다.
상기 슬릿 영역은 상기 최외측 스틱의 상기 프레임에 중첩하는 외측 영역 대비, 상기 최외측 스틱의 상기 제2 방향의 중심으로부터 대응하는 엣지까지의 길이가 짧을 수 있다.
상기 프레임은, 상기 제1 방향에서 마주하는 제1 연장 부분 및 제2 연장 부분 및 상기 제2 방향에서 마주하며 각각이 상기 제1 연장 부분과 상기 제2 연장 부분을 연결하는 제3 연장 부분 및 제4 연장 부분을 포함할 수 있다.
상기 최외측 스틱은, 상기 제2 방향에서 마주하며 상기 제3 연장 부분과 상기 제4 연장 부분에 각각 인접하게 배치된 제1 최외측 스틱 및 제2 최외측 스틱을 포함할 수 있다.
상기 제1 최외측 스틱과 상기 제2 최외측 스틱은 상기 제1 방향을 지시하는 방향축을 기준으로 대칭인 형상을 가질 수 있다.
상기 최외측 스틱은, 상기 제2 방향에서 마주하며 상기 제3 연장 부분과 상기 제4 연장 부분에 각각 인접하게 배치된 제1 최외측 스틱 및 제2 최외측 스틱을 포함할 수 있다.
상가 복수 개의 제1 스틱들은 상기 제1 최외측 스틱과 상기 제2 최외측 스틱 사이에 배치된 내측 스틱들을 포함할 수 있다.
상기 평면 상에서, 상기 내측 스틱들 각각의 상기 제1 엣지와 상기 제2 엣지의 형상은 상기 제1 방향을 지시하는 방향축을 기준으로 대칭일 수 있다.
상기 제1 연장 부분과 상기 제2 연장 부분 각각에는 상기 최외측 스틱이 결합되는 결합홈들이 정의될 수 있다.
상기 평면상에서, 상기 제1 스틱들의 형상은 동일할 수 있다.
상기 복수 개의 마스크들 각각은, 상기 복수 개의 제2 개구부들이 정의된 개구영역과 상기 개구영역을 에워싸는 비개구영역을 포함할 수 있다. 상기 최외측 스틱의 상기 제1 엣지 및 상기 제2 엣지 각각의 상기 개구영역에 중첩하는 부분은 활성 엣지 영역로 정의될 수 있다. 상기 최외측 스틱의 상기 제1 엣지의 상기 활성 엣지 영역은 곡선을 포함할 수 있다.
상기 최외측 스틱의 상기 제2 엣지의 상기 활성 엣지 영역은 슬릿 영역을 포함할 수 있다. 상기 슬릿 영역은 상기 최외측 스틱의 상기 프레임에 중첩하는 외측 영역 대비, 상기 최외측 스틱의 상기 제2 방향의 중심으로부터 상기 제2 엣지까지의 길이가 짧을 수 있다.
상기 복수 개의 마스크들 각각은, 상기 복수 개의 제2 개구부들이 정의된 개구영역과 상기 개구영역을 에워싸는 비개구영역을 포함할 수 있다. 상기 복수 개의 제1 스틱들 각각의 상기 제1 엣지의 상기 개구영역에 중첩하는 부분은 활성 엣지 영역으로 정의될 수 있다. 상기 활성 엣지 영역은 곡선을 포함할 수 있다.
상기 복수 개의 제1 스틱들 각각의 상기 제2 엣지의 상기 비개구영역에 중첩하는 부분은 비활성 엣지 영역으로 정의될 수 있다. 상기 평면 상에서, 상기 비활성 엣지 영역은 복수 개의 슬릿 영역을 포함할 수 있다.
상기 슬릿 영역은 상기 복수 개의 제1 스틱들 각각의 상기 프레임에 중첩하는 외측 영역 대비, 상기 복수 개의 제1 스틱들 각각의 상기 제2 방향의 중심으로부터 상기 제2 엣지까지의 길이가 짧을 수 있다.
상기 제1 개구부에 중첩하도록 상기 프레임에 결합되고, 상기 제2 방향으로 연장되며 상기 제1 방향으로 나열된 복수 개의 제2 스틱들을 더 포함할 수 있다.
상기 복수 개의 제2 스틱들 각각은 복수 개의 마스크들 중 인접한 2개의 마스크들의 경계에 중첩할 수 있다.
상기 복수 개의 제2 개구부들 중 일부는 상기 제1 스틱들에 중첩할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 증착설비는 챔버, 상기 챔버 내측에 배치된 증착 소스, 및 상기 챔버 내측에 배치되고, 상기 증착 소스 상에 배치되며, 작업기판을 지지하는 마스크 어셈블리를 포함한다. 마스크 어셈블리는 상술한 특징을 가질 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치의 제조방법은 챔버 내부에 제1 마스크 어셈블리에 의해 지지된 작업기판을 배치하는 단계 및 제1 증착 소스로부터 상기 작업기판에 제1 증착물질을 증착하는 단계를 포함한다. 상기 제1 마스크 어셈블리는 상술한 특징을 가질 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치의 제조방법은 상기 작업기판으로부터 상기 복수 개의 유닛셀 영역들을 분리하는 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 제1 증착물질은 상기 표시영역에 배치되어 유기발광 다이오드의 제1 발광층을 구성할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치의 제조방법은 상기 작업기판을 상기 제1 마스크 어셈블리로부터 분리하는 단계, 상기 작업기판을 제2 마스크 어셈블리에 실장하는 단계, 및 제2 증착 소스로부터 상기 작업기판에 상기 제1 증착물질과 다른 제2 증착물질을 증착하는 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 제2 마스크 어셈블리는 상기 제1 마스크 어셈블리의 상기 제1 마스크들의 상기 제2 개구부들과 다른 배열의 제2 개구부들을 포함하는 복수 개의 제2 마스크들을 포함할 수 있다.
상술한 바에 따르면, 적어도 최외측의 스틱들은 길이방향으로 연장된 제1 엣지와 제2 엣지는 길이 방향을 지시하는 방향축을 기준으로 비대칭 형상을 갖는다. 제1 엣지와 제2 엣지가 펼쳐진 상태의 직선상 길이가 실질적으로 동일함으로써, 외부로부터 인가되는 열에 의한 최외측의 스틱의 변형을 방지할 수 있다.
제2 스틱들은 마스크에 열을 제공하는 증착 증기를 차단하여 마스크의 변형을 감소시킬 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시패널의 부분 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 증착설비의 단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 어셈블리의 사시도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 어셈블리의 평면도이다.
도 5a는 본 발명의 일 실시예에 따른 내측 스틱의 평면도이다.
도 5b 및 도 5c는 본 발명의 일 실시예에 따른 최외측 스틱들의 평면도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 작업기판의 평면도이다.
도 7은 도 6에 도시된 하나의 유닛셀 영역에 대한 평면도이다.
도 8은 도 7의 AA 영역의 확대된 평면도이다.
도 9a는 본 발명의 일 실시예에 따른 제1 마스크의 확대된 평면도이다.
도 9b는 도 9a에 도시된 제1 마스크와 유닛셀 영역의 배치관계를 도시한 단면도이다.
도 9c 및 도 9d는 본 발명의 일 실시예에 따른 제2 마스크 및 제3 마스크의 확대된 평면도이다.
도 10a는 본 발명의 일 실시예에 따른 제1 스틱의 평면도이다.
도 10b는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 어셈블리의 평면도이다.
도 10c는 도 10b의 마스크 어셈블리에 의해 제조된 유닛셀 영역의 평면도이다.
도 11a는 본 발명의 일 실시예에 따른 제1 스틱의 평면도이다.
도 11b는 도 11a의 제1 스틱을 포함하는 마스크 어셈블리에 의해 제조된 유닛셀 영역의 평면도이다.
도 12a는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 어셈블리의 사시도이다.
도 12b는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 어셈블리의 평면도이다.
도 12c는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 어셈블리의 단면도이다.
도 13은 본 발명의 일 실시예에 따른 증착설비의 단면도이다.
동일한 도면부호는 동일한 구성요소를 지칭한다. 또한, 도면들에 있어서, 구성요소들의 두께, 비율, 및 치수는 기술적 내용의 효과적인 설명을 위해 과장된 것이다. "및/또는"은 연관된 구성들이 정의할 수 있는 하나 이상의 조합을 모두 포함한다.
제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.
또한, "아래에", "하측에", "위에", "상측에" 등의 용어는 도면에 도시된 구성들의 연관관계를 설명하기 위해 사용된다. 상기 용어들은 상대적인 개념으로, 도면에 표시된 방향을 기준으로 설명된다.
"포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시패널(DP)의 단면도이다. 본 실시예에서 표시패널(DP)은 발광 표시패널일 수 있다. 도 1은 복수 개의 화소들 중 하나에 대응하는 단면을 도시하였다. 좀 더 상세히는, 스위칭 트랜지스터(T1), 구동 트랜지스터(T2), 및 표시소자(OLED)에 대응하는 단면을 도시하였다.
도 1에 도시된 것과 같이, 표시패널(DP)은 베이스층(BL), 베이스층(BL) 상에 배치된 회로 소자층(DP-CL), 회로 소자층(DP-CL) 상에 배치된 표시 소자층(DP-OLED), 및 표시 소자층(DP-OLED) 상에 배치된 절연층(TFL, 이하 상부 절연층으로 정의됨)을 포함한다.
베이스층(BL)은 합성수지층을 포함할 수 있다. 표시패널(DP)의 제조시에 이용되는 지지기판 상에 합성수지층을 형성한다. 이후 합성수지층 상에 도전층 및 절연층 등을 형성한다. 지지기판이 제거되면 합성수지층은 베이스층(BL)에 대응한다.
회로 소자층(DP-CL)은 적어도 하나의 절연층과 회로 소자를 포함한다. 회로 소자는 신호라인, 화소의 구동회로 등을 포함한다. 코팅, 증착 등에 의한 절연층, 반도체층 및 도전층 형성공정과 포토리소그래피 공정에 의한 절연층, 반도체층 및 도전층층의 패터닝 공정을 통해 회로 소자층(DP-CL)이 형성될 수 있다.
본 실시예에서 회로 소자층(DP-CL)은 무기막인 버퍼막(BFL), 제1 중간 무기막(10) 및 제2 중간 무기막(20)을 포함하고, 유기막인 중간 유기막(30)을 포함할 수 있다. 도 1에는 스위칭 트랜지스터(T1) 및 구동 트랜지스터(T2)를 구성하는 제1 반도체 패턴(OSP1), 제2 반도체 패턴(OSP2), 제1 제어전극(GE1), 제2 제어전극(GE2), 제1 입력전극(DE1), 제1 출력전극(SE1), 제2 입력전극(DE2), 제2 출력전극(SE2)의 배치관계가 예시적으로 도시되었다. 제1 내지 제4 관통홀(CH1 내지 CH4) 역시 예시적으로 도시되었다.
표시 소자층(DP-OLED)은 발광소자를 포함한다. 표시 소자층(DP-OLED)은 발광소자로써 유기발광 다이오드들을 포함할 수 있다. 표시 소자층(DP-OLED)은 화소 정의막을 포함한다. 예컨대, 화소 정의막은 유기층일 수 있다
중간 유기막(30) 상에 제1 전극(AE)이 배치된다. 제1 전극(AE)은 중간 유기막(30)을 관통하는 제5 관통홀(CH5)을 통해 제2 출력전극(SE2)에 연결된다. 화소 정의막(PDL)에는 개구부(OP)가 정의된다. 화소 정의막(PDL)의 개구부(OP)는 제1 전극(AE)의 적어도 일부분을 노출시킨다. 화소 정의막(PDL)의 개구부(OP)는 다른 개구부들과 구분하기 위해 발광 개구부로 명명된다.
별도로 도시하지 않았으나, 화소 정의막(PDL)의 상면 상에는 화소 정의막(PDL)의 일부분에 중첩하는 스페이서가 배치될 수 있다. 스페이서는 화소 정의막(PDL)와 일체의 형상이거나, 추가 공정에 의해 형성된 절연구조물 일 수 있다.
도 1에 도시된 것과 같이, 표시패널(DP)은 발광영역(PXA)과 발광영역(PXA)에 인접한 비발광영역(NPXA)을 포함할 수 있다. 비발광영역(NPXA)은 발광영역(PXA)을 에워싸을수 있다. 본 실시예에서 발광영역(PXA)은 발광 개구부(OP)에 의해 노출된 제1 전극(AE)의 일부영역에 대응하게 정의되었다.
정공 제어층(HCL)은 발광영역(PXA)과 비발광영역(NPXA)에 공통으로 배치될 수 있다. 정공 제어층(HCL)은 정공 수송층을 포함하고, 정공 주입층을 더 포함할 수 있다. 정공 제어층(HCL) 상에 발광층(EML)이 배치된다. 발광층(EML)은 발광 개구부(OP)에 대응하는 영역에 배치될 수 있다. 즉, 발광층(EML)은 화소들 각각에 분리되어 형성될 수 있다. 발광층(EML)은 유기물질 및/또는 무기물질을 포함할 수 있다. 발광층(EML)은 소정의 유색 컬러광을 생성할 수 있다.
발광층(EML) 상에 전자 제어층(ECL)이 배치된다. 전자 제어층(ECL)은 전자 수송층을 포함하고, 전자 주입층을 더 포함할 수 있다. 정공 제어층(HCL)과 전자 제어층(ECL)은 오픈 마스크를 이용하여 복수 개의 화소들에 공통으로 형성될 수 있다. 전자 제어층(ECL) 상에 제2 전극(CE)이 배치된다. 제2 전극(CE)은 복수 개의 화소들에 공통적으로 배치된다.
제2 전극(CE) 상에 상부 절연층(TFL)이 배치된다. 상부 절연층(TFL)은 복수 개의 박막들을 포함할 수 있다. 본 실시예와 같이 복수 개의 박막들을 기능적으로 구분되는 박막 봉지층(TFE)과 캡핑층(CPL)을 포함할 수 있다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 증착설비(DA)의 단면도이다. 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 어셈블리(MSA)의 사시도이다. 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 어셈블리(MSA)의 평면도이다. 본 실시예에 따른 증착설비(DA)는 도 1의 표시패널(DP), 특히 발광층(EML)의 증착 공정에 이용될 수 있다.
도 2에 도시된 것과 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 증착설비(DA)는 증착 챔버(CB), 증착 챔버(CB)의 내측에 배치된 증착 소스(DS), 증착 챔버(CB)의 내측에 배치된 마스크 어셈블리(MSA)를 포함한다. 마스크 어셈블리(MSA)는 작업기판(WS)을 지지한다. 증착 챔버(CB)의 바닥면은 제1 방향축(DR1) 및 제2 방향축(DR2)이 정의하는 면과 평행한다. 증착 챔버(CB)의 바닥면의 법선 방향은 제3 방향축(DR3)이 지시한다.
이하, 제1 내지 제3 방향들은 제1 내지 제3 방향축들(DR1, DR2, DR3) 각각 이 지시하는 방향으로써 정의되고, 동일한 도면 부호를 참조한다. 이하에서 표현되는 "평면 상에서"는 제1 방향축(DR1) 및 제2 방향축(DR2)이 정의하는 면과 평행한 면을 기준으로 설정된다.
증착 챔버(CB)는 증착조건을 진공으로 설정할 수 있다. 증착 소스(DS)는 증착 물질, 예컨대 발광물질을 증발시켜, 증착 증기로써 분출할 수 있다. 해당 증착 증기는 마스크 어셈블리(MSA)를 통과하여 소정의 박막 패턴으로 작업기판(WS)에 증착된다.
도 2에는 미 도시되었으나, 증착설비(DA)는 마스크 어셈블리(MSA)를 홀딩하는 지그 또는 로봇암을 더 포함할 수 있다. 또한, 증착설비(DA)는 인라인 시스템을 구현하기 위한 추가 기계장치를 더 포함할 수 있다.
도 2 내지 도 4에 도시된 것과 같이, 마스크 어셈블리(MSA)는 프레임(FM), 복수 개의 제1 스틱들(ST1), 및 복수 개의 마스크들(MSK)을 포함한다. 본 발명의 일 실시예에서 마스크 어셈블리(MSA)는 다른 종류의 스틱들을 더 포함할 수 있다.
프레임(FM)에는 내측에 개구부(OP-F, 이하 제1 개구부)가 정의된다. 프레임(FM)은 평면 상에서 직사각형상을 가질 수 있다. 프레임(FM)은 제1 방향(DR1)의 제1 길이를 갖고, 제1 길이와 다른 제2 방향(DR2)의 제2 길이를 가질 수 있다. 본 실시예에서 제1 길이는 제2 길이보다 길다.
프레임(FM)은 그 재료로써 금속 물질로 구성될 수 있다. 예컨대, 열팽창계수가 작은 인바를 포함할 수 있다. 프레임(FM)은 예컨대 니켈(Ni), 니켈-코발트 합금, 니켈-철 합금 등을 포함할 수 있다. 프레임(FM)은 4개의 부분들을 포함할 수 있다. 프레임(FM)은 제1 방향(DR1)에서 마주하는 제1 연장 부분(FM-1) 및 제2 연장 부분(FM-2)을 포함할 수 있다. 프레임(FM)은 제2 방향(DR2)에서 마주하며 각각이 제1 연장 부분(FM-1) 및 제2 연장 부분(FM-2)을 연결하는 제3 연장 부분(FM-3) 및 제4 연장 부분(FM-4)을 포함할 수 있다. 제1 연장 부분(FM-1) 내지 제4 연장 부분(FM-4)은 용접 등에 의해 결합되거나, 일체의 형상을 가질 수도 있다.
프레임(FM)에는 복수 개의 결합홈들이 정의될 수 있다. 예컨대, 제1 연장 부분(FM-1) 및 제2 연장 부분(FM-2) 각각에는 제1 스틱들(ST1)이 결합되는 결합홈들(CGV)이 정의될 수 있다. 제1 스틱들(ST1)은 용접에 의해 프레임(FM)의 결합홈들(CGV)에 결합될 수 있다.
제1 스틱들(ST1)은 제1 개구부(OP-F)에 중첩하도록 프레임(FM)에 결합된다. 제1 스틱들(ST1)은 제1 방향(DR1)으로 연장되고, 제2 방향(DR2)으로 나열될 수 있다. 제1 스틱들(ST1)은 그 재료로써 서스를 포함할 수 있다. 제1 스틱들(ST1) 각각은 결합홈들(CGV)에 결합되는 외측 영역(OA)과 제1 개구부(OP-F)에 중첩하는 내측 영역(IA)를 포함할 수 있다. 제1 스틱들(ST1) 각각은 2개의 외측 영역들(OA)을 포함하는 것으로 도시되었다.
도 3에는 5개의 제1 스틱들(ST1-1 내지 ST1-5)이 예시적으로 도시되었다. 제1 스틱들(ST1) 중 최외측에 배치된 2개의 스틱들은 최외측 스틱으로 정의되고, 2개의 최외측 스틱들 사이에 배치된 나머지 스틱들은 내측 스틱으로 정의될 수 있다.
제1 스틱들(ST1) 각각은 제2 방향(DR2)에서 마주하는 제1 엣지(ED1)와 제2 엣지(ED2)를 갖는다. 내측 스틱들(ST1-2 내지 ST1-4)의 1 엣지(ED1)와 제2 엣지(ED2)는 제1 방향축(DR1)에 대하여 대칭인 형상을 가질 수 있다. 내측 스틱들(ST1-2 내지 ST1-4)은 서로 동일한 형상을 가질 수도 있다.
본 실시예에서 최외측 스틱들(ST1-1, ST1-5)과 내측 스틱들(ST1-2 내지 ST1-4)의 형상은 상이할 수 있다. 평면상에서 최외측 스틱들(ST1-1, ST1-5)의 1 엣지(ED1)와 제2 엣지(ED2)의 형상은 상이할 수 있다. 제1 스틱들(ST1)의 형상에 대한 상세한 설명은 도 5a 내지 도 5c를 참조하여 후술한다.
마스크들(MSK)은 프레임(FM)과 제1 스틱들(ST1) 상에 배치되며, 제2 방향(DR2)으로 연장되며 제1 방향(DR1)으로 나열될 수 있다. 마스크들(MSK)은 그 재료로써, 열팽창계수가 작은 인바를 포함할 수 있다. 마스크들(MSK)은 예컨대 니켈(Ni), 니켈-코발트 합금, 니켈-철 합금 등을 포함할 수 있다.
마스크들(MSK) 각각에는 복수 개의 개구부들(OP-M, 이하 제2 개구부들)이 정의된다. 마스크들(MSK) 각각은 제2 개구부들(OP-M)이 정의된 개구영역(A-OP)과 개구영역(A-OP)을 에워싸는 비개구영역(A-NOP)을 포함할 수 있다. 마스크들(MSK) 각각은 제2 방향(DR2)을 따라 연속적으로 정의된 단일의 개구영역(A-OP)을 포함할 수 있다. 제2 개구부들(OP-M)이 개구영역(A-OP) 내에서 균일하게 배치된다.
개구영역(A-OP)은 마스크(MSK) 길이의 85 % 내지 95 %로 정의될 수 있다. 개구영역(A-OP)의 길이는 제2 방향(DR2)에 있어서 마스크(MSK)의 일단에 가장 인접한 개구부(OP-M)과 마스크(MSK)의 타단에 가장 인접한 개구부(OP-M) 사이의 최단거리로 측정될 수 있다. 개구영역(A-OP)의 일부분, 즉 제2 개구부들(OP-M)의 일부는 제1 스틱들(ST1)과 중첩할 수 있다.
마스크들(MSK)은 프레임(FM)에 용접하여 결합될 수 있다. 도 2에는 미도시 되었으나, 마스크들(MSK) 각각을 제2 방향(DR2)으로 인장시킨 상태에서 마스크들(MSK)을 프레임(FM)에 용접한다. 마스크 어셈블리(MSA)는 마스크의 처짐을 억제하기 위해 프레임(FM)에 대응하는 대형 마스크들을 적용하는 대신 분할 마스크들(MSK)을 포함한다.
도 4에 도시된 것과 같이, 하나의 개구영역(A-OP)에 있어서 인접한 2개의 제1 스틱들(ST1-1 내지 ST1-5)로 분할된 영역(즉, 인접한 2개의 스틱들(ST1-1 내지 ST1-5)의 내측영역)은 유닛셀 개구영역(A-OPU)으로 정의될 수 있다. 복수 개의 유닛셀 개구영역들(A-OPU)은 후술하는 작업기판(WS, 도 6 참조)의 복수 개의 유닛셀 영역들(US)에 1 대 1로 대응하고, 유닛셀 영역들(US)의 표시영역들(DP-DA)을 1 대 1로 형성한다.
도 2 내지 도 4에 도시된 마스크 어셈블리(MSA)는 비정형적인 형상의 표시영역(DP-DA, 도 6 및 도 7 참조)을 포함하는 작업기판(WS)의 증착 공정에 이용될 수 있다. 여기서 비정형적인 형상이란, 평면상에서 실질적으로 직사각형상(코너각이 90도 또는 90도가 아니더라도 90도에 근접한 직사각형상)이 아닌 형상을 의미한다. 예컨대, 비정형적인 형상의 표시영역(DP-DA)은 일측 엣지가 곡선을 포함하거나, 오목영역 또는 볼록영역을 포함할 수 있다.
이하, 도 4 및 도 5a 내지 도 5c를 참조하여 유닛셀 개구영역(A-OPU)에 대해 좀 더 상세히 설명한다. 도 5a는 본 발명의 일 실시예에 따른 내측 스틱(ST1-2)의 평면도이다. 도 5b 및 도 5c는 본 발명의 일 실시예에 따른 최외측 스틱들(ST1-1, ST1-5)의 평면도이다.
비정형적인 형상의 표시영역(DP-DA, 도 6 및 도 7 참조)을 형성하기 위해서는 도 4에 개시된 유닛셀 개구영역들(A-OPU) 역시 비정형적인 형상을 갖는다. 도 5a 내지 도 5c에 도시된 것과 같이, 비정형적인 형상의 유닛셀 개구영역들(A-OPU)을 형성하기 위해서 제1 스틱들(ST1-1, ST1-2, ST1-5)의 제1 엣지(ED1)와 제2 엣지(ED2) 중 적어도 어느 하나는 비직선영역(NSA)을 포함한다. 다시 말해, 제1 스틱들(ST1-1, ST1-2, ST1-5)은 일정하지 않은 너비(제1 방향(DR1)에 따른 최단거리)를 갖는다.
도 5a 내지 도 5c에 도시된 것과 같이, 제1 스틱들(ST1-1, ST1-2, ST1-5)의 제1 엣지(ED1)와 제2 엣지(ED2) 각각은 활성 엣지 영역(AEA)과 비활성 엣지 영역(NAEA)을 포함할 수 있다. 활성 엣지 영역(AEA)과 비활성 엣지 영역(NAEA) 각각은 복수 개 제공될 수 있다.
도 5a 내지 도 5c에 도시된 활성 엣지 영역(AEA)은 도 4에 도시된 개구영역(A-OP)에 중첩하는 부분이고, 도 5a 내지 도 5c에 도시된 비활성 엣지 영역(NAEA)은 도 4에 도시된 비개구영역(A-NOP)에 중첩하는 부분이다. 제1 엣지(ED1)와 제2 엣지(ED2) 중 적어도 어느 하나의 활성 엣지 영역(AEA)은 곡선과 같은 비직선영역 포함할 수 있다.
도 4에 도시된 것과 같이, 최외측 스틱들(ST1-1, ST1-5)이 정의하는 유닛셀 개구영역(A-OPU)은 내측 스틱(ST1-2)이 정의하는 유닛셀 개구영역(A-OPU)과 동일한 형상을 갖는다. 최외측 스틱들(ST1-1, ST1-5)의 프레임(FM)에 대한 간섭을 방지하기 위해, 즉 최외측 스틱들(ST1-1, ST1-5)이 프레임(FM)의 제3 및 제4 연장부분(FM-3, FM-4)에 중첩하는 것을 방지하기 위해, 최외측 스틱들(ST1-1, ST1-5)은 도 5b 및 도 5c에 도시된 것과 같이 제1 방향축(DR1)에 대한 비대칭형상을 갖는다.
제1 최외측 스틱인 제1 스틱(ST1-1)과 제2 최외측 스틱인 제5 스틱(ST1-5)은 제1 방향축(DR1)을 기준으로 대칭인 형상을 가질 수 있다. 그에 따라 제1 스틱(ST1-1)과 제2 스틱(ST1-2)이 정의하는 유닛셀 개구영역(A-OPU)과 제4 스틱(ST1-4)과 제5 스틱(ST1-5)이 정의하는 유닛셀 개구영역(A-OPU)은 동일한 형상을 가질 수 있다.
도 5a에 도시된 것과 같이, 내측 스틱(ST1-2)의 제1 엣지(ED1)와 제2 엣지(ED2)가 제1 방향축(DR1)에 대하여 대칭인 형상을 갖기 때문에 외부로부터 열을 전달받더라도 내측 스틱(ST1-2)의 변형은 최소화될 수 있다.
그에 반하여 도 5b 및 도 5c에 도시된 최외측 스틱들(ST1-1, ST1-5)의 제1 엣지(ED1)와 제2 엣지(ED2)가 제1 방향축(DR1)에 대하여 비대칭인 형상을 갖기 때문에 외부로부터 열을 전달받는 경우 최외측 스틱들(ST1-1, ST1-5)의 변형이 발생할 가능성이 있다. 본 실시예에 있어서, 변형을 방지하기 위해 최외측 스틱들(ST1-1, ST1-5)은 펼쳐진 상태의 직선상 길이(이하, 기준 길이로 정의함)가 실질적으로 동일한 제1 엣지(ED1)와 제2 엣지(ED2)를 갖는다. 제1 엣지(ED1)와 제2 엣지(ED2)의 기준 길이를 실질적으로 동일하게 설정함으로써 제1 엣지(ED1)와 제2 엣지(ED2)의 열팽창 변화량 차이를 최소화할 수 있다.
최외측 스틱들(ST1-1, ST1-5)의 제1 엣지(ED1)와 제2 엣지(ED2)의 기준 길이를 실질적으로 동일하게 설정하기 위해 제1 엣지(ED1)와 제2 엣지(ED2) 중 적어도 어느 하나는 복수 개의 슬릿 영역들(STA)을 포함할 수 있다. 슬릿 영역들(STA) 각각에는 적어도 하나의 슬릿(ST)이 정의될 수 있다.
도 5b에 도시된 것과 같이, 최외측 스틱들(ST1-1, ST1-5)의 외측 영역(OA) 대비 슬릿 영역(STA)은, 최외측 스틱들(ST1-1, ST1-5)의 제2 방향(DR2)의 중심에 배치된 중심선(CL)으로부터 대응하는 엣지(ED2)까지의 길이가 짧다. 도 5b에는 제1 거리(D1)과 제2 거리(D2)가 비교 도시되었다. 적어도 하나의 슬릿(ST)이 정의됨으로써 제2 엣지(ED2)의 기준 길이가 증가되었다.
상술한 기준 길이의 "실질적으로 동일"은 제1 엣지(ED1)와 제2 엣지(ED2)의 열팽창 변화량 차이값이 증착 박막 패턴의 불량을 발생시키지 않는 정도의 오차범위를 포함한다. 이는 표시패널의 해상도 및/또는 마스크(MSK)의 해상도에 따라 달라질 수 있고, 이에 대한 설명은 표시패널의 제조방법을 참조하여 후술한다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 작업기판(WS)의 평면도이다. 도 7은 도 6에 도시된 하나의 유닛셀 영역(US)에 대한 평면도이다. 도 8은 도 7의 AA 영역의 확대된 평면도이다. 도 9a는 본 발명의 일 실시예에 따른 제1 마스크(MSK1)의 확대된 평면도이다. 도 9b는 도 9a에 도시된 제1 마스크(MSK1)와 유닛셀 영역(US)의 배치관계를 도시한 단면도이다. 도 9c 및 도 9d는 본 발명의 일 실시예에 따른 제2 마스크(MSK2) 및 제3 마스크(MSK3)의 확대된 평면도이다.
도 6에 도시된 작업기판(WS)은 복수 개의 유닛셀 영역들(US)을 포함한다. 복수 개의 유닛셀 영역들(US) 각각은 작업기판(WS)에서의 공정이 종료된 후 분리되어 표시패널(DP, 도 1)을 형성한다.
도 6 내지 도 8에 따른 작업기판(WS)은 도 2 내지 도 5c를 참조하여 설명한 마스크 어셈블리(MSA)를 이용하여 박막 패턴을 형성하기 이전 단계의 상태이다. 도 1을 참조하면 정공 제어층(HCL)까지 형성된 상태이다.
도 7에는 직사각형상의 표시영역(DP-DA)이 아닌, 4개의 코너영역들에 곡선영역이 배치된 비정형적인 표시영역(DP-DA)을 도시하였다. 이러한 표시영역(DP-DA)은 도 4에 도시된 유닛셀 개구영역(A-OPU)에 의해 형성된 것이다.
화소 정의막(PDL)은 표시영역(DP-DA)에 전면적으로 중첩하게 배치된다. 화소 정의막(PDL)의 일부는 비표시영역(DP-NDA)에 중첩할 수도 있다. 직사각형상의 화소 정의막(PDL)을 예시적으로 도시하였으나 이에 제한되지 않는다.
도 8에 도시된 것과 같이, 화소 정의막(PDL)에는 3종의 발광 개구부들이 형성될 수 있다. 3종의 발광 개구부들은 면적에 따라 구분되는 제1 발광 개구부(OP-G), 제2 발광 개구부(OP-R), 및 제3 발광 개구부(OP-B)를 포함할 수 있다. 제1 발광 개구부(OP-G), 제2 발광 개구부(OP-R), 및 제3 발광 개구부(OP-B)의 면적은 대응하는 화소의 발광면적(또는 제1 전극의 면적)과 비례한다. 본 실시예에서 제1 발광 개구부(OP-G), 제2 발광 개구부(OP-R), 및 제3 발광 개구부(OP-B)는 그린화소의 발광소자, 레드화소의 발광소자, 블루화소의 발광소자에 각각 대응할 수 있다.
그린 발광소자의 발광층, 레드 발광소자의 발광층, 및 블루 발광소자의 발광층을 제1 발광 개구부(OP-G), 제2 발광 개구부(OP-R), 및 제3 발광 개구부(OP-B)에 각각 대응하게 형성하기 위해 도 9a, 도 9c, 및 도 9d의 제1 내지 제3 마스크(MSK1 내지 MSK3)가 이용될 수 있다.
도 9b는 작업기판(WS)이 제1 마스크(MSK1) 상에 배치된 상태를 도시하였다. 제1 발광 개구부(OP-G), 제2 발광 개구부(OP-R), 및 제3 발광 개구부(OP-B)에 대응하는 3개의 제1 전극들(AE-G, AE-R, AE-B)이 추가적으로 도시되었다. 도 9b에는 앞서 설명한 지지기판(SS)이 추가적으로 도시되었다.
도 9a의 제1 마스크(MSK1)를 포함하는 마스크 조립체(MSA, 도 2 참고)를 이용하여 정공 제어층(HCL) 상에 그린 발광층들을 형성할 수 있다. 이후, 제2 마스크(MSK2)를 포함하는 마스크 조립체(MSA, 도 2 참고)를 이용하여 레드 발광층들을 형성하고, 제3 마스크(MSK3)를 포함하는 마스크 조립체(MSA, 도 2 참고)를 이용하여 블루 발광층들을 형성할 수 있다. 이후 도 1에 도시된 전자 제어층(ECL) 등을 추가로 형성한다.
도 9a에 도시된 제1 마스크(MSK1)의 제2 개구부(OP-MG)는 제1 발광 개구부(OP-G) 대비 더 큰 면적을 가질 수 있다. 마스크 어셈블리(MSA)가 챔버(CB)의 내부에 배치되며 제1 마스크(MSK1)와 작업기판(WS)이 정렬된 상태에서, 제1 발광 개구부(OP-G)는 제1 마스크(MSK1)의 제2 개구부(OP-MG) 내측에 배치되는 것이 바람직하다. 제2 마스크(MSK2)와 작업기판(WS)이 정렬된 상태에서 제2 발광 개구부(OP-R)는 제2 마스크(MSK2)의 제2 개구부(OP-MR) 내측에 배치되는 것이 바람직하다. 제3 마스크(MSK3)와 작업기판(WS)이 정렬된 상태에서 제3 발광 개구부(OP-B)는 제3 마스크(MSK3)의 제2 개구부(OP-MB) 내측에 배치되는 것이 바람직하다.
반복되는 증착 공정에서 발생한 열이 마스크 어셈블리(MSA)에 전달됨으로써(예컨대 증착 증기가 마스크 어셈블리(MSA)에 증착될 때 열이 전달됨) 마스크 어셈블리(MSA)에 변형이 발생할 수 있다. 도 5a 내지 도 5c를 참조하여 설명한 최외측 스틱들(ST1-1, ST1-5)의 변형이 발생할 수 있다. 최외측 스틱들(ST1-1, ST1-5)의 변형은 제1 발광 개구부(OP-G)와 제1 마스크(MSK1)의 제2 개구부(OP-MG)의 미스얼라인을 발생시킬 수 있다. 이는 결과적으로 증착 박막 패턴이 제1 발광 개구부(OP-G)와 미중첩하는 불량을 발생시킨다.
도 5a 내지 도 5c를 참조하여 설명한 것과 같이, 최외측 스틱들(ST1-1, ST1-5)의 변형을 방지하기 위해, 제1 엣지(ED1)와 제2 엣지(ED2)는 실질적으로 동일한 기준 길이를 갖는다. 표시패널의 해상도 및/또는 마스크(MSK)의 해상도와 연관되는 기준 길이의 "실질적 동일"의 범위는 아래와 같다.
해상도에 따른 화소 개수는 아래의 표 1과 같다. 도 8에 있어서 제1 발광 개구부(OP-G), 제2 발광 개구부(OP-R), 및 제3 발광 개구부(OP-B) 사이의 최소거리는 아래의 해상도에 따라 다르게 설정된다.
FHD 1920×1080
QHD 2560×1440
UHD 7680×4320
제1 발광 개구부(OP-G), 제2 발광 개구부(OP-R), 및 제3 발광 개구부(OP-B) 사이의 최단거리(RSD, 이하, 기준 최단거리)가 15㎛ 이하인 경우(즉, UHD), 제1 엣지(ED1)와 제2 엣지(ED2)의 기준 길이가 실질적으로 동일하다는 것은 이들의 길이 차이가 4.6% 이하인 것을 의미한다. 기준 최단거리가 20㎛ 이하인 경우(즉, QHD), 제1 엣지(ED1)와 제2 엣지(ED2)의 기준 길이가 실질적으로 동일하다는 것은 이들의 길이 차이가 9.6% 이하인 것을 의미한다. 기준 최단거리가 25㎛ 이하인 경우(즉, FHD), 제1 엣지(ED1)와 제2 엣지(ED2)의 기준 길이가 실질적으로 동일하다는 것은 이들의 길이 차이가 13.5% 이하인 것을 의미한다.도 10a는 본 발명의 일 실시예에 따른 제1 스틱(ST1)의 평면도이다. 도 10b는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 어셈블리(MSA)의 평면도이다. 도 10c는 도 10b의 마스크 어셈블리(MSA)에 의해 제조된 유닛셀 영역(US)의 평면도이다. 도 11a는 본 발명의 일 실시예에 따른 제1 스틱(ST1)의 평면도이다. 도 11b는 도 11a의 제1 스틱(ST1)을 포함하는 마스크 어셈블리에 의해 제조된 유닛셀 영역(US)의 평면도이다. 이하, 도 1 내지 도 9c를 참조하여 설명한 구성과 동일한 구성에 대한 상세한 설명은 생략한다.
도 10a에 도시된 것과 같이, 제1 스틱(ST1)의 제1 엣지(ED1)와 제2 엣지(ED2)가 제1 방향축(DR1)에 대하여 비대칭인 형상을 가질 수 있다. 제1 엣지(ED1)와 제2 엣지(ED2)의 기준 길이는 실질적으로 동일할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에서 슬릿 영역(STA)이 유닛셀 개구영역(A-OPU)의 형상을 변형시키는 것을 방지하기 위해서 슬릿 영역(STA)은 비활성 엣지 영역(NAEA) 내에 배치되는 것이 바람직하다. 이는 도 10b를 참조하면 확인할 수 있다.
도 10b에 도시된 것과 같이, 제1 스틱들(ST1-1 내지 ST1-5)은 도 10a에 도시된 제1 스틱(ST1)과 동일한 형상을 가질 수 있다. 도 10c에는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 어셈블리(MSA)를 이용하여 형성된 육각형상의 비정형적인 표시영역(DP-DA)을 도시하였다. 앞서 설명한 것과 같이, 슬릿 영역(STA)은 유닛셀 개구영역(A-OPU)의 형상에 영향을 미치지 않기 때문에, 육각형상의 표시영역(DP-DA)에는 슬릿 영역(STA)에 대응하는 영역이 발생하지 않는다.
도 11a는 도 5b의 제1 최외측 스틱(ST1-1)의 제1 엣지(ED1)와 다른 형상의 제1 스틱(ST1)을 도시하였다. 도 5b의 제1 엣지(ED1)의 활성 엣지 영역(AEA)이 제2 엣지(ED2)를 향하여 오목했던 것과 달리, 도 11a의 제1 엣지(ED1)의 일부분은 제2 엣지(ED2)와 멀어지도록 볼록하다.
마스크 어셈블리(MSA, 도 10b 참고)의 제1 스틱들(ST1-1 내지 SR1-5)에 도 11a와 같은 제1 스틱(ST1)을 모두 적용하여 증착 공정을 진행하면, 도 11b와 같은 비정형적인 형상의 표시영역(DP-DA)이 형성될 수 있다. 도 11b는 작업기판(WS)으로부터 분리된 유닛셀 영역(US)을 도시하였는데, 베이스층(BL) 및 화소정의막(PDL) 역시 비정형적인 형상을 가질 수 도 있다.
도 12a는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 어셈블리(MSA)의 사시도이다. 도 12b는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 어셈블리(MSA)의 평면도이다. 도 12c는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 어셈블리(MSA)의 단면도이다. 이하, 도 1 내지 도 11b를 참조하여 설명한 구성과 동일한 구성에 대한 상세한 설명은 생략한다.
도 12a 및 도 12b에 도시된 것과 같이, 마스크 어셈블리(MSA)는 제2 스틱들(ST2)을 더 포함할 수 있다. 제2 스틱들(ST2)은 제1 개구부(OP-F)에 중첩하도록 프레임(FM)에 결합된다. 제2 스틱들(ST2)은 제2 방향(DR2)으로 연장되며 제1 방향(DR1)으로 나열된다. 제2 스틱들(ST2) 각각의 양쪽 단부들은 제3 연장 부분(FM-3) 및 제4 연장 부분(FM-4)에 정의된 결합홈들(CGV)에 삽입될 수 있다.
제2 스틱들(ST2)은 제1 방향(DR1)의 너비가 실질적으로 일정한 직선 형상일 수 있다. 적어도 제2 스틱들(ST2) 각각의 제1 개구부(OP-F)에 중첩하는 부분의 너비는 앞선 조건을 만족한다. 외부로부터 유입된 열에 의한 변형을 방지하기 위함이다.
도 12b에 도시된 것과 같이, 제2 스틱(ST2)은 복수 개의 마스크들(MSK) 중 인접한 2개의 마스크들(MSK)의 경계에 중첩한다. 제2 스틱(ST2)은 인접한 2개의 마스크들(MSK)의 비개구영역들(A-NOP)과 엣지들에 중첩한다. 제2 스틱(ST2)은 제1 스틱들(ST1)을 지지하고, 증착 증기가 비개구영역들(A-NOP)에 증착되는 것을 방지한다.
도 13은 본 발명의 일 실시예에 따른 증착설비(DA)의 단면도이다. 본 실시예에 따른 증착설비는 인라인 시스템에 의해 동작될 수 있다. 도 13에서 마스크 어셈블리(MSA)를 홀딩하는 기계적 설비(이하, 홀딩 설비), 어셈블리(MSA)를 이동시키는 기계적 설비 및 마스크 어셈블리(MSA)로부터 작업기판(WS)을 분리하는 기계적 설비는 미도시 되었다.
증착설비(DA)는 제1 내지 제4 언로딩/로딩 챔버들(ULC1 내지 ULC4) 및 제1 내지 제3 증착 챔버들(CB1 내지 CB3)을 포함한다. 제1 내지 제3 증착 챔버들(CB1 내지 CB3) 각각은 도 2에 도시된 챔버들(CB)과 실질적으로 동일하다.
도 13의 마스크 어셈블리들(MSA1 내지 MSA3)은 앞서 설명한 마스크 어셈블리(MSA) 중 어느 하나일 수 있다. 제1 내지 제3 증착 챔버들(CB1 내지 CB3)에 따라 이들이 진입되는 마스크 어셈블리들(MSA1 내지 MSA3)의 마스크의 종류는 다를 수 있다.
제1 내지 제3 증착 챔버들(CB1 내지 CB3) 내부에는 제1 내지 제3 증착 소스(DS1 내지 DS3)이 각각 배치된다. 예컨대 제1 내지 제3 증착 챔버들(CB1 내지 CB3)은 그린 발광물질, 레드 발광물질, 및 블루 발광물질을 제공할 수 있다.
제1 언로딩/로딩 챔버(ULC1) 내부에 배치된 작업기판(WS)은 마스크 어셈블리(MSA1) 상에 실장된다. 작업기판(WS)이 정렬된 마스크 어셈블리(MSA1)는 홀딩 설비에 로딩된다. 마스크 어셈블리(MSA1)는 도 9a에 도시된 제1 마스크(MSK1)를 포함할 수 있다. 제1 증착 챔버(CB1) 내부에 배치된 작업기판(WS) 상에 그린 발광물질의 박막 패턴들을 형성할 수 있다.
제2 언로딩/로딩 챔버(ULC2)에서 홀딩 설비로부터 제1 마스크(MSK1)를 포함하는 마스크 어셈블리(MSA1)를 언로딩하고, 도 9c에 도시된 제2 마스크(MSK2)를 포함하는 마스크 어셈블리(MSA2)를 홀딩 설비에 로딩한다. 제2 증착 챔버(CB2) 내부에 배치된 작업기판(WS)에 레드 발광물질의 박막 패턴들을 형성할 수 있다.
제3 언로딩/로딩 챔버(ULC3)에서 홀딩 설비로부터 제2 마스크(MSK2)를 포함하는 마스크 어셈블리(MSA2)를 언로딩하고, 도 9d에 도시된 제3 마스크(MSK3)를 포함하는 마스크 어셈블리(MSA3)를 홀딩 설비에 로딩한다. 제3 증착 챔버(CB3) 내부에 배치된 작업기판(WS) 상에 블루 발광물질의 박막 패턴들을 형성할 수 있다.
제4 언로딩/로딩 챔버(ULC4)에서 홀딩 설비로부터 제3 마스크(MSK3)를 포함하는 마스크 어셈블리(MSA3)를 언로딩한다. 제4 언로딩/로딩 챔버(ULC4)에서, 이후 추가 공정을 위한 단계가 더 수행될 수 있다.
이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자 또는 해당 기술 분야에 통상의 지식을 갖는 자라면, 후술될 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허청구범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.
A-NOP: 비개구영역
A-OP: 개구영역
A-OPU: 유닛셀 개구영역
AEA: 활성 엣지 영역
CB: 증착 챔버
CGV: 결합홈
CL: 중심선
CPL: 캡핑층
DA:증착설비
DP-CL: 소자층
DP-DA: 비정형적인 표시영역
DP-OLED: 표시 소자층
DS: 증착 소스
ED1: 제1 엣지
ED2: 제2 엣지
FM: 프레임
IA: 내측 영역
MSA: 마스크 어셈블리
MSK: 마스크

Claims (20)

  1. 제1 방향의 제1 길이를 갖고, 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향의 제2 길이를 갖고, 제1 길이는 제2 길이보다 길며, 제1 개구부가 정의된 프레임;
    상기 제1 개구부에 중첩하도록 상기 프레임에 결합되고, 상기 제1 방향으로 연장되며 상기 제2 방향으로 나열된 복수 개의 제1 스틱들; 및
    상기 프레임과 상기 제1 스틱들 상에 배치되며, 상기 제2 방향으로 연장되고 상기 제1 방향으로 나열되며, 각각에 복수 개의 제2 개구부들이 정의된 복수 개의 마스크들을 포함하고,
    상기 제1 스틱들 각각은 상기 제2 방향에서 마주하는 제1 엣지와 제2 엣지를 포함하고, 상기 제1 방향과 상기 제2 방향이 정의하는 평면상에서 상기 제1 스틱들 중 최외측에 배치된 최외측 스틱의 상기 제1 엣지와 상기 제2 엣지의 형상은 상이하고,
    상기 최외측 스틱의 상기 제1 엣지와 상기 제2 엣지의 펼쳐진 상태의 직선상 길이는 실질적으로 동일한 마스크 어셈블리.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 엣지와 상기 제2 엣지 중 어느 하나는 비직선영역을 포함하는 마스크 어셈블리.
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 최외측 스틱의 상기 제1 엣지와 상기 제2 엣지 중 어느 하나는 복수 개의 슬릿 영역을 포함하고,
    상기 슬릿 영역은 상기 최외측 스틱의 상기 프레임에 중첩하는 외측 영역 대비, 상기 최외측 스틱의 상기 제2 방향의 중심으로부터 대응하는 엣지까지의 길이가 짧은 것을 특징으로 하는 마스크 어셈블리.
  4. 제1 항에 있어서,
    상기 프레임은,
    상기 제1 방향에서 마주하는 제1 연장 부분 및 제2 연장 부분; 및
    상기 제2 방향에서 마주하며 각각이 상기 제1 연장 부분과 상기 제2 연장 부분을 연결하는 제3 연장 부분 및 제4 연장 부분을 포함하는 마스크 어셈블리.
  5. 제4 항에 있어서,
    상기 최외측 스틱은, 상기 제2 방향에서 마주하며 상기 제3 연장 부분과 상기 제4 연장 부분에 각각 인접하게 배치된 제1 최외측 스틱 및 제2 최외측 스틱을 포함하고,
    상기 제1 최외측 스틱과 상기 제2 최외측 스틱은 상기 제1 방향을 지시하는 방향축을 기준으로 대칭인 형상을 갖는 마스크 어셈블리.
  6. 제4 항에 있어서,
    상기 최외측 스틱은, 상기 제2 방향에서 마주하며 상기 제3 연장 부분과 상기 제4 연장 부분에 각각 인접하게 배치된 제1 최외측 스틱 및 제2 최외측 스틱을 포함하고,
    상가 복수 개의 제1 스틱들은 상기 제1 최외측 스틱과 상기 제2 최외측 스틱 사이에 배치된 내측 스틱들을 포함하고,
    상기 평면 상에서, 상기 내측 스틱들 각각의 상기 제1 엣지와 상기 제2 엣지의 형상은 상기 제1 방향을 지시하는 방향축을 기준으로 대칭인 마스크 어셈블리.
  7. 제4 항에 있어서,
    상기 제1 연장 부분과 상기 제2 연장 부분 각각에는 상기 최외측 스틱이 결합되는 결합홈들이 정의된 마스크 어셈블리.
  8. 제1 항에 있어서,
    상기 평면상에서, 상기 제1 스틱들의 형상은 동일한 마스크 어셈블리.
  9. 제1 항에 있어서,
    상기 복수 개의 마스크들 각각은, 상기 복수 개의 제2 개구부들이 정의된 개구영역과 상기 개구영역을 에워싸는 비개구영역을 포함하고,
    상기 최외측 스틱의 상기 제1 엣지 및 상기 제2 엣지 각각의 상기 개구영역에 중첩하는 부분은 활성 엣지 영역로 정의되며,
    상기 최외측 스틱의 상기 제1 엣지의 상기 활성 엣지 영역은 곡선을 포함하고,
    상기 최외측 스틱의 상기 제2 엣지의 상기 활성 엣지 영역은 슬릿 영역을 포함하고,
    상기 슬릿 영역은 상기 최외측 스틱의 상기 프레임에 중첩하는 외측 영역 대비, 상기 최외측 스틱의 상기 제2 방향의 중심으로부터 상기 제2 엣지까지의 길이가 짧은 것을 특징으로 하는 마스크 어셈블리.
  10. 제1 항에 있어서,
    상기 복수 개의 마스크들 각각은, 상기 복수 개의 제2 개구부들이 정의된 개구영역과 상기 개구영역을 에워싸는 비개구영역을 포함하고,
    상기 복수 개의 제1 스틱들 각각의 상기 제1 엣지의 상기 개구영역에 중첩하는 부분은 활성 엣지 영역으로 정의되며,
    상기 활성 엣지 영역은 곡선을 포함하는 마스크 어셈블리.
  11. 제10 항에 있어서,
    상기 복수 개의 제1 스틱들 각각의 상기 제2 엣지의 상기 비개구영역에 중첩하는 부분은 비활성 엣지 영역으로 정의되며,
    상기 평면 상에서, 상기 비활성 엣지 영역은 복수 개의 슬릿 영역을 포함하고,
    상기 슬릿 영역은 상기 복수 개의 제1 스틱들 각각의 상기 프레임에 중첩하는 외측 영역 대비, 상기 복수 개의 제1 스틱들 각각의 상기 제2 방향의 중심으로부터 상기 제2 엣지까지의 길이가 짧은 것을 특징으로 하는 마스크 어셈블리.
  12. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 개구부에 중첩하도록 상기 프레임에 결합되고, 상기 제2 방향으로 연장되며 상기 제1 방향으로 나열된 복수 개의 제2 스틱들을 더 포함하고,
    상기 복수 개의 제2 스틱들 각각은 복수 개의 마스크들 중 인접한 2개의 마스크들의 경계에 중첩하는 마스크 어셈블리.
  13. 제1 항에 있어서,
    상기 복수 개의 제2 개구부들 중 일부는 상기 제1 스틱들에 중첩하는 마스크 어셈블리.
  14. 챔버;
    상기 챔버 내측에 배치된 증착 소스; 및
    상기 챔버 내측에 배치되고, 상기 증착 소스 상에 배치되며, 작업기판을 지지하는 마스크 어셈블리를 포함하고,
    상기 마스크 어셈블리는,
    제1 방향의 제1 길이를 갖고, 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향의 제2 길이를 갖고, 제1 길이는 제2 길이보다 길며, 제1 개구부가 정의된 프레임;
    상기 제1 개구부에 중첩하도록 상기 프레임에 결합되고, 상기 제1 방향으로 연장되며 상기 제2 방향으로 나열된 복수 개의 제1 스틱들; 및
    상기 프레임과 상기 제1 스틱들 상에 배치되며, 상기 제2 방향으로 연장되고 상기 제1 방향으로 나열되며, 각각에 복수 개의 제2 개구부들이 정의된 복수 개의 마스크들을 포함하고,
    상기 제1 스틱들 각각은 상기 제2 방향에서 마주하는 제1 엣지와 제2 엣지를 갖고, 상기 제1 방향과 상기 제2 방향이 정의하는 평면상에서 상기 제1 스틱들 중 최외측에 배치된 최외측 스틱의 상기 제1 엣지와 상기 제2 엣지의 형상은 상이하고,
    상기 최외측 스틱의 상기 제1 엣지와 상기 제2 엣지의 펼쳐진 상태의 직선상 길이는 실질적으로 동일한 증착 설비.
  15. 챔버 내부에 제1 마스크 어셈블리에 의해 지지된 작업기판을 배치하는 단계; 및
    제1 증착 소스로부터 상기 작업기판에 제1 증착물질을 증착하는 단계를 포함하고,
    상기 제1 마스크 어셈블리는,
    제1 방향의 제1 길이를 갖고, 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향의 제2 길이를 갖고, 제1 길이는 제2 길이보다 길며, 제1 개구부가 정의된 프레임;
    상기 제1 개구부에 중첩하도록 상기 프레임에 결합되고, 상기 제1 방향으로 연장되며 상기 제2 방향으로 나열된 복수 개의 스틱들; 및
    상기 프레임과 상기 스틱들 상에 배치되며, 상기 제2 방향으로 연장되고 상기 제1 방향으로 나열되며, 각각에 복수 개의 제2 개구부들이 정의된 복수 개의 제1 마스크들을 포함하고,
    상기 스틱들 각각은 상기 제2 방향에서 마주하는 제1 엣지와 제2 엣지를 포함하고, 상기 제1 방향과 상기 제2 방향이 정의하는 평면상에서 상기 스틱들 중 최외측에 배치된 최외측 스틱의 상기 제1 엣지와 상기 제2 엣지의 형상은 상이하고,
    상기 최외측 스틱의 상기 제1 엣지와 상기 제2 엣지의 펼쳐진 상태의 직선상 길이는 실질적으로 동일한 표시장치의 제조방법.
  16. 제15 항에 있어서,
    상기 복수 개의 마스크들 각각은, 상기 복수 개의 제2 개구부들이 정의된 개구영역과 상기 개구영역을 에워싸는 비개구영역을 포함하고,
    상기 작업기판은 복수 개의 유닛셀 영역을 포함하고, 상기 복수 개의 유닛셀 영역들 각각은 상기 개구영역에 중첩하는 표시영역 및 상기 표시영역에 인접하며 상기 비개구영역에 중첩하는 비표시영역을 포함하는 표시장치의 제조방법.
  17. 제16 항에 있어서,
    상기 개구영역 중 상기 스틱들 중 인접한 2개의 스틱들의 내측에 배치된 유닛셀 개구영역은 상기 표시영역과 실질적으로 동일한 표시장치의 제조방법.
  18. 제16 항에 있어서,
    상기 작업기판으로부터 상기 복수 개의 유닛셀 영역들을 분리하는 단계를 더 포함하는 표시장치의 제조방법.
  19. 제16 항에 있어서,
    상기 제1 증착물질은 상기 표시영역에 배치되어 유기발광 다이오드의 제1 발광층을 구성하는 표시장치의 제조방법.
  20. 제15 항에 있어서,
    상기 작업기판을 상기 제1 마스크 어셈블리로부터 분리하는 단계;
    상기 작업기판을 제2 마스크 어셈블리에 실장하는 단계; 및
    제2 증착 소스로부터 상기 작업기판에 상기 제1 증착물질과 다른 제2 증착물질을 증착하는 단계를 더 포함하고,
    상기 제2 마스크 어셈블리는 상기 제1 마스크 어셈블리의 상기 제1 마스크들의 상기 제2 개구부들과 다른 배열의 제2 개구부들을 포함하는 복수 개의 제2 마스크들을 포함하는 표시장치의 제조방법.
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