KR20190123295A

KR20190123295A - 하지 마사지 시스템 및 장치, 및 하지 마사지 시스템 및 장치를 제어하는 방법

Info

Publication number: KR20190123295A
Application number: KR1020197027583A
Authority: KR
Inventors: 키아 통 탄; 켄 타마키; 츠요시 사토
Original assignee: 오심 인터내셔널 피티이 엘티디
Priority date: 2017-03-15
Filing date: 2017-03-15
Publication date: 2019-10-31
Also published as: US20210128403A1; WO2018169484A1; CN110402130B; AU2017404400B2; TWI666011B; AU2017404400A1; TW201834625A; CN113143714B; CN113143714A; SG11201908286YA; JP2020509920A; CN110402130A; KR102420608B1

Abstract

실시예들은 L형 내부를 형성하는 부분들을 갖는 하지 마사지 시스템들에 관한 것이다. 관형 부분은 제1 단부 섹션 및 상부 좌측 및 우측 벽들을 포함한다. 연장 부분은 제2 단부 섹션 및 전방 상부 및 하부 벽들을 포함한다. 코너 부분은 관형 및 연장 부분 사이에 형성된다. 코너 부분은 하부 좌측 및 우측 벽들 및 후방 상부 및 하부 벽들을 포함한다. 제1 팽창 가능 부재는 전방 상부 벽 부분을 형성하고, 연장 부분 내부를 향해 팽창 가능하다. 제2 팽창 가능 부재는 후방 상부 벽 부분을 형성하고, 코너 부분 내부를 향해 팽창 가능하다. 돌출 부재들은 후방 하부 벽 아래에 위치 가능하고 코너 부분 내부를 향해 돌출하도록 구동 가능하다. 제2 팽창 가능 부재 및 돌출 부재들은 발바닥에 압력을 인가하도록 협력한다. 돌출 부재들은 코너 부분의 굽힘 섹션 및 제2 단부 섹션 사이에 그려진 선에 수직인 축을 중심으로 회전한다.

Description

하지 마사지 시스템 및 장치, 및 하지 마사지 시스템 및 장치를 제어하는 방법

본 개시는 일반적으로 마사지 시스템 및 장치에 관한 것이며, 보다 상세하게는, 그 중에서도 하지의 지압점들(acupressure points)을 포함하여, 특정 신체 부위의 의도적으로 겨냥된 마사지를 수행하는 시스템, 장치 및 방법에 관한 것이다.

최근 마사지 기술의 진보와 개선은 사용자들이 마사지 장치들을 통해 하나 이상의 신체 부위들을 마사지하는 것을 가능하게 하였다. 마사지 장치들은 사용자의 목 및/또는 등을 마사지하기 위한 부분 또는 전체 마사지 의자를 포함한다. 일부 마사지 장치들은 또한 사용자가 허벅지의 하나 이상의 부분들과 같은 다리의 상부 부분을 마사지할 수 있게 한다.

본 마사지 장치들은 마사지사(masseuse) 또는 마사지 치료사(이하 "마사지사")의 문지르는(rubbing) 및/또는 주무르는(kneading) 동작을 시뮬레이션하기 위해 하나 이상의 기계적 돌출부들을 통해 하나 이상의 신체 부위들에 압력 또는 힘을 인가함으로써 작동한다.

기계적 돌출부들을 구비한 본 마사지 장치들이 사용자의 등 및/또는 목 부분과 같은 특정 신체 부위들에 적절할 수 있지만, 문지르는 및/또는 주무르는 동작만을 시뮬레이션하는 기계적 돌출부들은 무릎 주변 및/또는 아래(예를 들어, 종아리, 발목, 발뒤꿈치, 발등의 상부 및/또는 하부 부분들, 발뒤꿈치 및 발가락 주변 영역 등; 이하 "하지"로 지칭됨)의 신체의 하나 이상의 부분들을 포함하지만 이에 제한되지는 않는 다른 특정 신체 부위들에 대한 긴장 및/또는 통증의 적절한 마사지 및/또는 완화에 적합하지 않을 수 있고/있거나 제공하지 않을 수 있음이 본 개시에서 인식된다. 특히, 문지르는 및/또는 주무르는 동작만을 시뮬레이션하는 종래의 기계적 돌출부들은 하지의 지압점들과 같은 특정 압력점들의 겨냥된 및/또는 집중된 가압에 적합하지 않거나 제공할 수 없다.

본 실시예들은 일반적으로 하지 마사지 시스템들 및 장치들 및 하지 마사지 시스템들 및 장치들을 제어하는 방법 관한 것이다. 이러한 시스템들 및 장치들은 그 중에서도 하지의 지압점들을 포함하여 특정 신체 부위들의 겨냥된 마사지를 수행할 수 있다.

예시적인 실시예에서, 하지 마사지 시스템이 설명된다. 시스템은 메인 하우징, 복수의 팽창 가능한 부재들 및 하나 이상의 돌출 부재들을 포함할 수 있다. 메인 하우징은 L형 내부 공동을 형성하기 위해 협조적으로 또는 인접하게 위치된, 형성된, 고정된, 고정된, 서로 연통된 및/또는 연결된(또는 연결되지 않은) 복수의 부분들을 포함할 수 있다. 메인 하우징을 형성하는 부분들은 관형 부분(tubular portion), 연장 부분(elongated portion) 및 코너 부분(corner portion)을 포함할 수 있다. 관형 부분은 메인 하우징의 일 단부에서 적어도 제1 단부 섹션, 상부 좌측 벽 및 상부 좌측 벽에 대향하는 상부 우측 벽을 포함할 수 있다. 연장 부분은 메인 하우징의 다른 단부에서 적어도 제2 단부 섹션, 전방 상부 벽 및 전방 상부 벽에 대향하는 전방 하부 벽을 포함할 수 있다. 코너 부분은 적어도 하부 좌측 벽, 하부 좌측 벽에 대향하는 하부 우측 벽, 후방 상부 벽 및 후방 상부 벽에 대향하는 후방 하부 벽을 포함할 수 있다. 복수의 팽창 가능한 부재들은 제1 팽창 가능한 부재 및 제2 팽창 가능 부재를 포함할 수 있다. 제1 팽창 가능 부재는 연장 부분에 제공될 수 있고 제2 단부 섹션에 근접한 전방 상부 벽 부분의 적어도 일부를 형성할 수 있다. 제1 팽창 가능 부재는 연장 부분의 내부를 향해 팽창하도록 구성 가능할 수 있다. 제2 팽창 가능 부재는 코너 부분에 제공될 수 있고 후방 상부 벽 부분의 적어도 일부를 형성할 수 있으며, 제2 팽창 가능 부재는 코너 부분의 내부를 향해 팽창하도록 구성 가능하다. 복수의 팽창 가능 부재들은 또한 제3 팽창 가능 부재, 제4 팽창 가능 부재, 제5 팽창 가능 부재, 제6 팽창 가능 부재, 제7 팽창 가능 부재 및 제8 팽창 가능 부재를 포함할 수 있다. 제3 팽창 가능 부재는 코너 부분에 제공될 수 있고 하부 좌측 벽의 적어도 일부를 형성할 수 있다. 제4 팽창 가능 부재는 관형 부분에 제공될 수 있고 상부 좌측 벽의 적어도 일부를 형성할 수 있다. 제5 팽창 가능 부재는 관형 부분에 제공될 수 있고, 상부 좌측 벽의 적어도 일부를 형성할 수 있다. 제6 팽창 가능 부재는 코너 부분에 제공될 수 있고, 하부 우측 벽의 적어도 일부를 형성할 수 있다. 제7 팽창 가능 부재는 코너 부분에 제공될 수 있고, 하부 우측 벽의 적어도 일부를 형성할 수 있다. 제8 팽창 가능 부재는 관형 부재에 제공될 수 있고, 상부 우측 벽의 적어도 일부를 형성할 수 있다. 하나 이상의 돌출 부재들과 관련하여, 하나 이상의 돌출 부재들은 하부 벽과 접촉하도록 구성 가능할 수 있다. 하나 이상의 돌출 부재들은 적어도 후방 하부 벽 아래에 위치 가능할 수 있고 적어도 코너 부분의 내부를 향해 돌출하도록 작동 가능할 수 있다. 제2 팽창 가능 부재 및 하나 이상의 돌출 부재들은 하지 부분의 발가락 부분 및 발뒤꿈치 부분 사이의 발바닥의 적어도 일부에 압력을 인가하기 위해 협력하도록 구성 가능할 수 있다. 하나 이상의 돌출 부재들은 코너 부분의 제2 단부 섹션 및 굽힘 섹션(bend section) 사이에 그려진 선에 수직인 축을 중심으로 회전하도록 구성 가능할 수 있다. 연장 부분의 내부를 향한 하나 이상의 돌출 부재들의 돌출은 회전을 통해 제어 가능할 수 있다.

다른 예시적인 실시예에서, 프로세싱 시스템은 하지 마사지 시스템을 제어하기 위해 설명된다(예를 들어, 전술된 및 본 개시에서의 시스템들 중 하나 이상). 프로세싱 시스템은 프로세서를 포함할 수 있다. 프로세서는 메인 하우징(예를 들어, 연장 부분 및/또는 코너 부분)의 내부를 향해 돌출시키기 위해 하나 이상의 돌출 부재들을 이동(예를 들어, 회전)시키도록 구성 가능할 수 있다. 프로세서는 팽창 가능 부재(예를 들어, 전술된 및 본 개시에서의 제2 팽창 가능 부재) 내로 점진적으로 증가하는 양압(positive pressure, 예를 들어, 가스 및/또는 액체의 삽입)을 인가하도록 더 구성 가능할 수 있다. 프로세서는 양압이 인가될 때, 제1 시간 동안 제1 방향으로 하나 이상의 돌출 부재들을 이동(예를 들어, 회전)시키도록 더 구성 가능할 수 있다. 프로세서는 양압이 인가될 때, 제2 시간 동안 하나 이상의 돌출 부재들의 이동을 정지(예를 들어, 회전을 정지)시키도록 더 구성 가능할 수 있다. 프로세서는 양압이 인가될 때, 제3 시간 동안 제1 방향에 대향하는 제2 방향으로 하나 이상의 돌출 부재들을 이동(예를 들어, 회전)시키도록 더 구성 가능할 수 있다. 프로세서는 양압이 인가될 때, 제4 시간 동안 하나 이상의 돌출 부재들의 이동을 정지(예를 들어, 회전을 정지)시키도록 더 구성 가능할 수 있다.

본 명세서에 개시되어 있다.

본 개시, 실시예들 및 그 이점들의 더 완전한 이해를 위해, 참조는 이제 동일한 참조 번호가 동일한 피쳐를 가리키는 첨부 도면들과 함께 취해진 다음의 설명으로 이루어진다.
도 1a는 하지 마사지 시스템의 실시예의 사시도이다.
도 1b-c는 각각 좌측 하지 마사지 시스템의 실시예의 좌측 및 우측면도이다.
도 1d는 하지 마사지 시스템의 실시예의 정면도이다.
도 2는 좌측 하지 마사지의 실시예의 분해 배면도이다.
도 3은 제1 팽창 가능 부재 및 제2 팽창 가능 부재의 실시예의 예시도이다.
도 4는 제3 팽창 가능 부재, 제4 팽창 가능 부재 및 제5 팽창 가능 부재의 실시예의 예시도이다.
도 5는 제6 팽창 가능 부재, 제7 팽창 가능 부재 및 제8 팽창 가능 부재의 실시예의 예시도이다.
도 6a는 제1 돌출 부재들, 제2 돌출 부재들 및 제3 돌출 부재들의 실시예의 사시도이다.
도 6b-c는 제1 돌출 부재들, 제2 돌출 부재들 및 제3 돌출 부재들의 실시예의 측면도들이다.
도 7a-e는 하지의 지압점들의 예시도들이다.
도 8은 프로세서를 사용하는 하지 마사지 시스템을 제어하는 실시예의 예시도이다.
유사한 참조 번호들은 편의를 위해 도면에서 유사한 요소들을 지칭하는데 사용될 수 있지만, 다양한 실시예들의 각각은 별개의 변형들로 간주될 수 있음이 이해될 것이다.
실시예들은 이제 본 개시의 일부를 형성하고 실시될 수 있는 실시예들을 도시하는 첨부 도면들을 참조하여 설명될 것이다. 본 개시 및 첨부된 청구 범위에 사용된 바와 같이, 용어들 "예시", "예시적인", "실시예", "예시 실시예", "예시적인 실시예" 및 "본 실시예"는 그럴 수도 있지만 반드시 단일 실시예만을 지칭하지 않으며, 다양한 실시예들은 본 개시의 범위, 사상 또는 교시를 벗어나지 않고 쉽게 조합 및/또는 상호 교환될 수 있다. 또한, 본 개시 및 첨부된 청구 범위에 사용된 바와 같은 용어는 실시예들만을 설명하기 위한 목적이며 제한으로 의도되지 않는다. 이와 관련하여, 본 개시 및 첨부된 청구 범위에 사용된 바와 같이, 용어 "에"는 "내에" 및 "상에"를 포함할 수 있고, 용어 "일", "하나" 및 "그"는 단일 및 복수의 참조를 포함할 수 있다. 또한, 본 개시 및 첨부된 청구 범위에 사용된 바와 같이, 용어 "에 의해"는 문맥에 따라 "로부터"를 의미할 수도 있다. 또한, 본 개시 및 첨부된 청구 범위에 사용된 바와 같이, 용어 "경우"는 문맥에 따라 "때" 또는 "시"를 의미할 수도 있다. 또한, 본 개시 및 첨부된 청구 범위에 사용된 바와 같이, 단어 "및/또는"은 관련된 열거된 항목들 중 하나 이상의 임의 및 모든 가능한 조합들을 지칭하고 포함할 수 있다.

마사지 기술에 대한 종래의 접근법들은 사용자들이 마사지를 즐기고/즐기거나 마사지사를 고용할 필요 없이 근육들의 긴장 및/또는 통증을 완화하는 것을 가능하게 해왔음이 본 개시에서 인식된다. 일반적으로, 이러한 마사지 장치들은 마사지사의 문지르는 및/또는 주무르는 동작을 시뮬레이션하기 위해 하나 이상의 기계적 돌출부들을 통해 압력 및/또는 힘(이후 “압력”)을 인가함으로써 작동한다. 그러나, 이러한 종래의 마사지 장치들이 특정 신체 부위들에 적절할 수 있지만, 기계적 돌출부들만으로는 하지의 하나 이상의 부분들과 같은 다른 특정 신체 부위들에 대한 긴장 및/또는 고통의 적절한 마사지 및/또는 완화에 적합하지 않고/않거나 허용하거나 제공하지 않을 수 있다.

본 실시예들은 일반적으로 하지 마사지 시스템들 및 하지 마사지 시스템들을 제어하는 방법들에 관한 것이다. 이러한 시스템들은 그 중에서도 지압점들을 포함하여 하지의 특정 신체 부위들의 겨냥된 마사지를 수행할 수 있다. 이 시스템들 및 그 요소들은 이제 첨부 도면들을 참조하여 설명될 것이다.

시스템(예를 들어, 시스템(10)).

도 1a 및 도 1d는 각각 사용자를 위한 하지 마사지를 수행하기 위한 시스템(10)의 실시예의 사시도 및 정면도를 도시한다. 시스템(10)은 좌측 서브시스템(예를 들어, 시스템(10a)) 및/또는 우측 서브시스템(예를 들어, 시스템(10b))을 포함할 수 있다. 도면들이 좌측 시스템(10a) 및 우측 서브시스템(10b)을 포함하는 것으로 시스템(10)을 도시할 수 있지만, 시스템(10)은 또한 본 개시의 교시로부터 벗어나지 않고 하나의 서브시스템(예를 들어, 시스템들(10a 또는 10b))만을 포함할 수 있음이 이해될 것이다.

좌측 서브시스템(10a)과 관련하여, 도 1b 및 도 1c는 각각 좌측 및 우측면도를 도시한다. 좌측 서브 시스템(10a)의 일부의 실시예의 분해 또는 확산 개방 배면도는 도 2에 도시된다.

도 1a는 사용자의 좌측 및/또는 우측 하지가 좌측 및/또는 우측 서브시스템(10 및/또는 10b) 내로 각각 삽입될 때 사용자가 앉는 것을 허용하는 이러한 방식으로 배향되는 것으로 시스템(10)을 도시하지만, 시스템(10)의 실시예는 또한 본 개시의 교시로부터 벗어나지 않고 시스템(10)을 작동시키는 동안 사용자가 다른 위치(예를 들어, 서있는)에 있는 것을 허용할 수 있음이 이해될 것이다. 또한, 좌측 서브시스템(10a) 및/또는 우측 서브시스템은 또한 본 개시의 교시로부터 벗어나지 않고, 시스템(10)을 작동시키는 동안 사용자가 누울 수 있도록 도 1a에 도시된 위치로부터 +/-90도 이상 또는 이하의 회전과 같이 하나 이상의 다른 위치들에 배향될 수 있다.

시스템(10)은 또한 시스템(10)의 하나 이상의 팽창 가능 요소들의 하나 이상의 입력 포트들(예를 들어, 개구, 포트 또는 게이트) 내로 양압을 제공하기 위해 하나 이상의 양압원(positive pressure sources, 미도시)을 포함할 수 있다. 예를 들어, 양압원은 가스 및/또는 액체를 시스템(10)의 하나 이상의 팽창 가능 부재들 내로 가스 및/또는 액체를 도입하기 위해(예를 들어, 팽창 가능 부재를 팽창시키도록) 및/또는 시스템(10)의 하나 이상의 팽창 가능 부재들 밖으로 가스 및/또는 액체를 제거하기 위해(예를 들어, 팽창 가능 부재의 체적을 수축시키거나 감소시키도록) 가스 및/또는 액체 펌프를 포함할 수 있다. 일부 예시 실시예들에서, 본 개시에 설명된 시스템(10)의 팽창 가능 부재들 중 하나 이상은 하나 이상의 팽창 가능 부재들의 일부(예를 들어, 표면 또는 접촉)에 대한 전류, 온도(예를 들어, 열 및/또는 냉), 자기장, 가스 및/또는 물의 인가를 통하는 것과 같은 다른 방법으로 팽창하도록 (또는 체적이 수축 또는 감소하도록) 구성 가능할 수 있다.

시스템(10)은 또한 그 중에서도 시스템(10)의 하나 이상의 요소들을 제어, 관리 및/또는 작동하도록 구성 가능한 또는 구성된 하나 이상의 프로세서, 제어기 등을 포함할 수 있다. 시스템(10)은 또한 그 중에서도 마사지 순서(sequences), 시스템(10)의 하나 이상의 요소들에 의해 수행될 동작, 시스템(10)의 하나 이상의 요소들에 의해 수행될(또는 수행되지 않을) 동작들 중 하나 이상에 대한 지속 시간, 사용자 프로파일 및 선호도, 하나 이상의 사용자의 마사지의 이력, 마사지할 다른 신체 부위 또는 하지의 섹션, 집중 및/또는 압력을 인가할 지압점들, 인가할 압력의 양 등을 저장하도록 구성 가능한 하나 이상의 데이터베이스(미도시)를 포함할 수 있다.

이러한 및 다른 예시 실시예들은 이제 첨부 도면들을 참조하여 설명될 것이다.

좌측 서브시스템(예를 들어, 시스템(10a)).

적어도 도 1a-d 및 도 2a에 도시된 바와 같이 시스템(10)은 좌측 서브시스템(10a)을 포함할 수 있다. 좌측 서브시스템(10a)은 좌측 서브시스템(10a)의 메인 하우징을 통해 좌측 하지를 수용하도록 구성 가능하거나 구성될 수 있다. 예를 들어, 메인 하우징 및/또는 메인 하우징에 의해 형성된 내부 공동은 구두, 부츠, 하지 및/또는 L형 몸체의 외부 및 내부 또는 그 일부들을 닮을 수 있다. 좌측 서브시스템(10a)은 발, 발목 및/또는 하지의 종아리의 일부를 수용하도록 구성 가능하거나 구성될 수 있다. 일부 예시 실시예들에서, 좌측 서브시스템(10a)의 메인 하우징 및 우측 서브시스템(10b)의 메인 하우징은 단일 메인 하우징으로 간주, 지칭 및/또는 형성될 수 있으며, 이 경우에 단일 메인 하우징은 별도의 메인 하우징으로 분리 가능하지 않거나 분리되지 않을 수 있고/있거나 별도의 메인 하우징을 갖는 것으로 명확하게 구별되지 않을 수 있다. 예시 실시예에서, 좌측 서브시스템(10a)은 우측 서브시스템(10b)의 거울상(mirror image)이다. 따라서, 전술된 및 본 개시의 좌측 서브시스템(10a)의 기능성 및/또는 요소에 대한 임의의 설명은 또한 우측 서브시스템(10b)의 대응하는 요소의 기능성 및/또는 요소에 동일하게 또는 실질적으로 적용된다.

좌측 서브시스템(10a)은 L형 내부 공동을 형성하기 위해 인접하게 위치, 배열, 형성, 고정(anchored), 고정(secured), 서로 연통된 및/또는 연장 부분(예를 들어 연장 부분(100), 관형 부분(예를 들어, 관형 부분(120)) 및 코너 부분(예를 들어 코너 부분(110))을 포함하는 메인 하우징(10a)을 포함할 수 있다. 좌측 서브시스템(10a)은 또한 하나 이상의 팽창 가능 부재들(예를 들어, 제1 팽창 가능 부재(102), 제2 팽창 가능 부재(104), 제3 팽창 가능 부재(112), 제4 팽창 가능 부재(124), 제5 팽창 가능 부재(122), 제6 팽창 가능 부재(132), 제7 팽창 가능 부재(134), 제8 팽창 가능 부재(142) 및/또는 다른 팽창 가능 부재들(미도시))을 포함할 수 있다. 좌측 서브시스템(10a)은 또한 하나 이상의 제1 돌출 부재들(예를 들어, 제1 돌출 부재들(302)), 하나 이상의 제2 돌출 부재들(예를 들어, 제2 돌출 부재들(322)), 하나 이상의 제3 돌출 부재들(예를 들어, 제3 돌출 부재들(312)), 하나 이상의 다른 돌출 부재들(미도시) 및/또는 하나 이상의 양압원들을 포함할 수 있다. 좌측 서브시스템(10a)의 이 요소들은 이제 첨부 도면들을 참조하여 설명될 것이다.

연장 부분(예를 들어, 연장 부분(100)).

예시 실시예에서, 좌측 서브시스템(10a)은 연장 부분(100)을 포함할 수 있다. 연장 부분(100)은 단부 섹션(예를 들어, 제2 단부 섹션(101)), 상부 벽 부분(예를 들어, 전방 상부 벽 부분(103)) 및 하부 벽 부분(예를 들어, 전방 하부 벽 부분(105))을 포함할 수 있다. 연장 부분(100)은 또한 측벽들을 포함할 수 있다. 적어도 도 1a 및 1b에 도시된 바와 같이, 제2 단부 섹션(101)은 하지가 연장 부분(100) 내로 삽입될 때 하지의 적어도 발가락 부분(즉, 발의 발가락)을 수용하도록 구성 가능하거나 구성될 수 있다.

예시 실시예들에서, 연장 부분(100)은 또한 후방 상부 벽 부분(예를 들어, 후방 상부 벽 부분(113)), 후방 하부 벽 부분(예를 들어, 후방 하부 벽 부분(115 및/또는 117)), 하부 좌측 벽 부분(예를 들어, 하부 좌측 벽 부분(110a)) 및/또는 하부 우측 벽 부분(예를 들어, 하부 우측 벽 부분(110b)) 중 일부 또는 전부를 포함할 수 있다.

코너 부분(예를 들어, 코너 부분(110)).

좌측 서브시스템(10a)은 또한 코너 부분(110)을 포함할 수 있다. 코너 부분(110)은 굽힘 섹션, 상부 벽 부분(예를 들어, 후방 상부 벽 부분(113)), 하부 벽 부분(예를 들어, 후방 하부 벽 부분(115 및/또는 117)), 좌측 벽 부분(예를 들어, 하부 좌측 벽 부분(110a)) 및 우측 벽 부분(예를 들어, 하부 우측 벽 부분(110b))을 포함할 수 있다. 적어도 도 1a에 도시된 바와 같이, 굽힘 부분은 하지가 코너 부분(110) 내로 삽입될 때 하지의 적어도 발뒤꿈치 부분을 수용하도록 구성 가능하거나 구성될 수 있다.

예시 실시예들에서, 코너 부분(110)의 하나 이상의 부분들은 연장 부분(100)의 일부로 지칭 및/또는 간주될 수 있다. 예를 들어, 상부 벽 부분(113)의 일부 또는 전부는 연장 부분(100)의 일부로 지칭 및/또는 간주될 수 있다. 또한, 하부 벽 부분(115 및/또는 117)의 일부 또는 전부는 연장 부분(100)의 일부로 지칭 및/또는 간주될 수 있다.

예시 실시예들에서, 코너 부분(110)의 일부 다른 부분들은 관형 부분(120)의 일부로 지칭 및/또는 간주될 수 있다. 예를 들어, 좌측 벽 부분(110a)의 일부 또는 전부는 관형 부분(120)의 일부로 지칭 및/또는 간주될 수 있다. 또한, 우측 벽 부분(110b)의 일부 또는 전부는 관형 부분(120)의 일부로 지칭 및/또는 간주될 수 있다.

관형 부분(예를 들어, 관형 부분(120)).

좌측 서브시스템(10a)은 또한 관형 부분(120)을 포함할 수 있다. 관형 부분(120)은 단부 섹션(예를 들어, 제1 단부 섹션(121)), 좌측 벽 부분(예를 들어, 상부 좌측 벽 부분(120a)) 및 우측 벽 부분(예를 들어, 상부 우측 벽 부분(120b))을 포함할 수 있다. 적어도 도 1a에 도시된 바와 같이, 단부 섹션(예를 들어, 제1 단부 섹션(121))은 하지가 관형 부분(120) 내에 삽입될 때 하지의 적어도 종아리 부분을 수용하도록 구성 가능하거나 구성될 수 있다.

예시 실시예들에서, 관형 부분(120)은 또한 후방 하부 벽 부분(115 및/또는 117), 하부 좌측 벽 부분(110a) 및/또는 하부 우측 벽 부분(110b) 중 일부 또는 전부를 포함할 수 있다.

팽창 가능 부재들(예를 들어, 팽창 가능 부재들(102, 112, 122, 124, 132, 134, 142)).

좌측 서브시스템(10a)은 또한 하나 이상의 팽창 가능 부재들(예를 들어, 제1 팽창 가능 부재(102), 제2 팽창 가능 부재(104), 제3 팽창 가능 부재(112), 제4 팽창 가능 부재(124), 제5 팽창 가능 부재(122), 제6 팽창 가능 부재(132), 제7 팽창 가능 부재(134), 제8 팽창 가능 부재(142) 및/또는 다른 팽창 가능 부재들(미도시))을 포함할 수 있다. 각 팽창 가능 부재는 양압(예를 들어, 공기, 유체, 등)이 팽창 가능 부재의 내부에 존재하지 않거나, 도입되지 않거나, 도입되는 중이 아닐 때와 같이 정상 상태일 때 실질적으로 편평한, 평면인 또는 수축되며, 양압(예를 들어, 공기, 유체, 등)이 팽창 가능 부재의 내부에 존재하거나, 도입되거나, 도입되는 중일 때와 같이 팽창하는 또는 팽창된 상태일 때 체적, 두께, 돌출, 텍스쳐, 구조 및/또는 크기가 팽창 가능한 가방, 자루 등과 닮을 수 있다.

각 팽창 가능 부재는 하나 이상의 형상 및 크기로 형성될 수 있고 하나 이상의 재료로 만들어진 하나 이상의 벽 또는 막을 가질 수 있다. 예를 들어, 각 팽창 가능 부재의 벽들 중 하나 이상은 TPU(열가소성 폴리우레탄, Thermal Plastic Polyurethane)와 같은 임의의 형태의 플라스틱 재료를 포함할 수 있다.

(i) 제1 팽창 가능 부재(102).

예시 실시예에서, 좌측 서브시스템(10a)은 제2 단부 섹션(101) 내에 있거나, 제2 단부 섹션(101)에 근접한 또는 인접한 제1 팽창 가능 부재(102)를 포함할 수 있다. 예를 들어, 제1 팽창 가능 부재(102)는 하지의 발가락 부분 위에 및/또는 하지의 발가락 부분에 인접한 발의 부분 위에 위치 가능하거나 위치될 수 있다. 제1 팽창 가능 부재(102)는 전방 상부 벽 부분(103)의 적어도 일부에 형성될 수 있다. 예를 들어, 제1 팽창 가능 부재(102)는 전방 상부 벽 부분(103)의 내부 표면의 일부를 형성할 수 있다. 또 다른 예시로, 제1 팽창 가능 부재(102)는 전방 상부 벽 부분(103) 내에 내장될 수 있다. 이 예시에서, 전방 상부 벽 부분(103)은 외부 층 및 하지와 접촉하기 위한 가요성 내부 층을 포함할 수 있고, (가요성 내부 층 및 외부 층 사이에 위치된) 제1 팽창 가능 부재(102)는 제1 팽창 가능 부재(102)가 팽창되거나 팽창할 때 연장 부분(100)의 내부를 향해 이러한 가요성 내부 층을 밀거나 추진시킬 수 있다. 또 다른 예시에서, 제1 팽창 가능 부재(102)는 전방 상부 벽 부분(103)의 외부 표면의 일부를 형성할 수 있다.

제1 팽창 가능 부재(102)는 연장 부분(100)의 내부를 향해 팽창하도록 구성 가능하거나 구성될 수 있다. 예를 들어, 제1 팽창 가능 부재(102)는 양압원으로부터 제1 팽창 가능 부재(102)의 내부로 양압(예를 들어, 공기, 유체 등)의 인가를 수용하기 위한 입력 포트(예를 들어, 도 3에 도시된 제1 입력 포트(102a))를 포함할 수 있다. 프로세서(미도시)는 양압원에 의해 제1 팽창 가능 부재(102) 내에 양압의 인가 (및/또는 양압의 제거 또는 음압의 도입) 양, 속도 및/또는 지속 시간을 제어하도록 구성 가능하거나 구성될 수 있으며, 이러한 양압은 다른 팽창 가능 부재들(예를 들어, 시스템(10b)의 팽창 가능 부재들 중 하나 이상뿐만 아니라 팽창 가능 부재들(104, 112, 122, 124, 132, 134, 및/또는 142)) 중 하나 이상으로부터 및/또는 하나 이상과 함께 독립적으로 제어될 수 있다.

예시 실시예에서, 제1 팽창 가능 부재(102)의 하나 이상의 섹션들은 하지의 하나 이상의 특정 영역들로 (예를 들어, 하나 이상의 지압점들에서) 압력의 더 겨냥된 또는 집중된 인가를 제공하기 위해 다른 섹션들보다 더 (또는 덜) 분명하게 팽창하도록 구성 가능하거나 구성될 수 있다. 예를 들어, 제1 팽창 가능 부재(102)에 인가된 양압은 적어도 도 7a 및 도 7c에 도시된 바와 같이, 네이팅(Neiting) 지압점(702) 및/또는 샤시(Xiaxi) 지압점(704)과 같은 하나 이상의 지압점들에 압력을 인가하는 것과 같은 방법으로 제1 팽창 가능 부재(102)를 팽창시키도록 선택적으로 제어 가능할 수 있다. 추가로 또는 그 대신에, 제1 팽창 가능 부재(102)의 하나 이상의 섹션들은 네이팅 지압점(702) 및/또는 샤시 지압점(704)과 같은 하지의 하나 이상의 특정 영역들로 (예를 들어, 하나 이상의 지압점들에서) 압력의 더 겨냥된 또는 집중된 인가를 제공하기 위해, 하나 이상의 돌출부, 텍스쳐 등을 포함하도록 구성 가능하거나 구성될 수 있다.

제1 팽창 가능 부재(102)는 복수의 형상, 크기 및 구성 중 하나 이상으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 도 3에 도시된 바와 같이, 제1 팽창 가능 부재(102)는 (팽창될 때 및/또는 팽창되지 않을 때) 실질적으로 사다리꼴 형상의 몸체를 포함할 수 있다. 팽창될 때 또는 팽창되는 중일 때, 제1 팽창 가능 부재(102)의 형상, 크기 및 구성이 네이팅 지압점(702) 및/또는 샤시 지압점(704)과 같은 하나 이상의 지압점들로 압력의 인가를 제공하는 한, 다른 형상의 제1 팽창 가능 부재(102)는 또한 본 개시의 교시로부터 벗어나지 않으면서 고려된다. 예를 들어, 제1 팽창 가능 부재(102)는 실질적으로 삼각형, 실질적으로 직사각형, 실질적으로 육각형, 반원형, 반타원형, T형, 이들 또는 다른 형상들 중 하나 이상의 조합 등일 수 있다.

(ii) 제2 팽창 가능 부재(104).

예시 실시예에서, 좌측 서브시스템(10a)은 제2 팽창 가능 부재(104)를 포함할 수 있다. 제2 팽창 가능 부재(104)는 제1 팽창 가능 부재(102)에 인접하게 및/또는 발의 등(또는 중간 섹션) 위에 위치 가능하거나 위치될 수 있다. 제2 팽창 가능 부재(104)는 후방 상부 벽 부분(113)의 적어도 부분을 형성할 수 있다. 예를 들어, 제2 팽창 가능 부재(104)는 후방 상부 벽 부분(113)의 내부 표면의 부분을 형성할 수 있다. 또 다른 예시로, 제2 팽창 가능 부재(104)는 후방 상부 벽 부분(113) 내에 내장될 수 있다. 이 예시에서, 후방 상부 벽 부분(113)은 외부 층 및 하지와 접촉하기 위한 가요성 내부 층을 포함할 수 있으며, (가요성 내부 층 및 외부 층 사이에 위치된) 제2 팽창 가능 부재(104)는 제2 팽창 가능 부재(104)가 팽창되거나 팽창할 때 코너 부분(110)의 내부를 향해 이러한 가요성 내부 층을 밀거나 추진시킬 수 있다. 또 다른 예시에서, 제2 팽창 가능 부재(104)는 후방 상부 벽 부분(113)의 외부 표면의 일부를 형성할 수 있다.

제2 팽창 가능 부재(104)는 코너 부분(110)의 내부를 향해 팽창하도록 구성 가능하거나 구성될 수 있다. 예를 들어, 제2 팽창 가능 부재(104)는 양압원으로부터 제2 팽창 가능 부재(104)의 내부로 양압(예를 들어, 공기, 유체 등)의 인가를 수용하기 위한 입력 포트(예를 들어, 도 3에 도시된 제2 입력 포트(104a))를 포함할 수 있다. 프로세서(미도시)는 양압원에 의해 제2 팽창 가능 부재(104) 내에 양압의 인가 (및/또는 양압의 제거 또는 음압의 도입) 양, 속도 및/또는 지속 시간을 제어하도록 구성 가능하거나 구성될 수 있으며, 이러한 양압은 다른 팽창 가능 부재들(예를 들어, 시스템(10b)의 팽창 가능 부재들 중 하나 이상뿐만 아니라 팽창 가능 부재들(102, 112, 122, 124, 132, 134, 및/또는 142)) 중 하나 이상으로부터 및/또는 하나 이상과 함께 독립적으로 제어될 수 있다.

예시 실시예에서, 제2 팽창 가능 부재(104)의 하나 이상의 섹션들은 하지의 하나 이상의 특정 영역들로 (예를 들어, 하나 이상의 지압점들에서) 압력의 더 겨냥된 또는 집중된 인가를 제공하기 위해 다른 섹션들보다 더 (또는 덜) 분명하게 팽창하도록 구성 가능하거나 구성될 수 있다. 예를 들어, 제2 팽창 가능 부재(104)에 인가된 양압은 적어도 도 7a 및 도 7c에 도시된 바와 같이, 충양(Chongyang) 지압점(706) 및/또는 지에시(Jiexi) 지압점(708)과 같은 하나 이상의 지압점들에 압력을 인가하는 것과 같은 방법으로 제2 팽창 가능 부재(104)를 팽창시키도록 선택적으로 제어 가능할 수 있다. 추가로 또는 그 대신에, 제2 팽창 가능 부재(104)의 하나 이상의 섹션들은 충양 지압점(762) 및/또는 지에시 지압점(708)과 같은 하지의 하나 이상의 특정 영역들로 (예를 들어, 하나 이상의 지압점들에서) 압력의 더 겨냥된 또는 집중된 인가를 제공하기 위해, 하나 이상의 돌출부, 텍스쳐 등을 포함하도록 구성 가능하거나 구성될 수 있다.

제2 팽창 가능 부재(104)는 복수의 형상, 크기 및 구성 중 하나 이상으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 도 3에 도시된 바와 같이, 제2 팽창 가능 부재(104)는 (팽창될 때 및/또는 팽창되지 않을 때) 실질적으로 육각형의 몸체를 포함할 수 있다. 팽창될 때 또는 팽창되는 중일 때, 제2 팽창 가능 부재(104)의 형상, 크기 및 구성이 충양 지압점(706) 및/또는 지에시 지압점(708)과 같은 하나 이상의 지압점들로 압력의 인가를 제공하는 한, 다른 형상의 제2 팽창 가능 부재(104)는 또한 본 개시의 교시로부터 벗어나지 않으면서 고려된다. 예를 들어, 제2 팽창 가능 부재(104)는 실질적으로 삼각형, 정사각형, 실질적으로 직사각형, 실질적으로 육각형, 원형, 타원형, 이들 또는 다른 형상들 중 하나 이상의 조합 등일 수 있다.

(iii) 제3 팽창 가능 부재(112).

예시 실시예에서, 좌측 서브시스템(10a)은 제3 팽창 가능 부재(112)를 포함할 수 있다. 제3 팽창 가능 부재(112)는 발의 뒤꿈치 및 발목 사이의 하지의 적어도 일부를 덮도록 위치 가능하거나 위치될 수 있고, 발뒤꿈치의 일부 및/또는 발목 위의 일부를 덮을 수도 있다. 제3 팽창 가능 부재(112)는 하부 좌측 벽 부분(110a)의 적어도 부분을 형성할 수 있다. 예를 들어, 제3 팽창 가능 부재(112)는 하부 좌측 벽 부분(110a)의 내부 표면의 부분을 형성할 수 있다. 또 다른 예시로, 제3 팽창 가능 부재(112)는 하부 좌측 벽 부분(110a) 내에 내장될 수 있다. 이 예시에서, 하부 좌측 벽 부분(110a)은 외부 층 및 하지와 접촉하기 위한 가요성 내부 층을 포함할 수 있으며, (가요성 내부 층 및 외부 층 사이에 위치된) 제3 팽창 가능 부재(112)는 제3 팽창 가능 부재(112)가 팽창되거나 팽창할 때 코너 부분(110)의 내부를 향해 이러한 가요성 내부 층을 밀거나 추진시킬 수 있다. 또 다른 예시에서, 제3 팽창 가능 부재(112)는 하부 좌측 벽 부분(110a)의 외부 표면의 일부를 형성할 수 있다.

제3 팽창 가능 부재(112)는 코너 부분(110)의 내부를 향해 팽창하도록 구성 가능하거나 구성될 수 있다. 예를 들어, 제3 팽창 가능 부재(112)는 양압원으로부터 제3 팽창 가능 부재(112)의 내부로 양압(예를 들어, 공기, 유체 등)의 인가를 수용하기 위한 입력 포트(예를 들어, 도 4에 도시된 제3 입력 포트(112a))를 포함할 수 있다. 프로세서(미도시)는 양압원에 의해 제3 팽창 가능 부재(112) 내에 양압의 인가 (및/또는 양압의 제거 또는 음압의 도입) 양, 속도 및/또는 지속 시간을 제어하도록 구성 가능하거나 구성될 수 있으며, 이러한 양압은 다른 팽창 가능 부재들(예를 들어, 시스템(10b)의 팽창 가능 부재들 중 하나 이상뿐만 아니라 팽창 가능 부재들(102, 104, 122, 124, 132, 134, 및/또는 142)) 중 하나 이상으로부터 및/또는 하나 이상과 함께 독립적으로 제어될 수 있다.

예시 실시예에서, 제3 팽창 가능 부재(112)의 하나 이상의 섹션들은 하지의 하나 이상의 특정 영역들로 (예를 들어, 하나 이상의 지압점들에서) 압력의 더 겨냥된 또는 집중된 인가를 제공하기 위해 다른 섹션들보다 더 (또는 덜) 분명하게 팽창하도록 구성 가능하거나 구성될 수 있다. 예를 들어, 제3 팽창 가능 부재(112)에 인가된 양압은 적어도 도 7a에 도시된 바와 같이, 푸쉔(Pushen) 지압점(710), 쉔마이(Shenmai) 지압점(712) 및/또는 진먼(Jinmen) 지압점(714)과 같은 하나 이상의 지압점들에 압력을 인가하는 것과 같은 방법으로 제3 팽창 가능 부재(112)를 팽창시키도록 선택적으로 제어 가능할 수 있다. 추가로 또는 그 대신에, 제3 팽창 가능 부재(112)의 하나 이상의 섹션들은 푸쉔 지압점(710), 쉔마이 지압점(712) 및/또는 진먼 지압점(714)과 같은 하지의 하나 이상의 특정 영역들로 (예를 들어, 하나 이상의 지압점들에서) 압력의 더 겨냥된 또는 집중된 인가를 제공하기 위해, 하나 이상의 돌출부, 텍스쳐 등을 포함하도록 구성 가능하거나 구성될 수 있다.

제3 팽창 가능 부재(112)는 복수의 형상, 크기 및 구성 중 하나 이상으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 도 4에 도시된 바와 같이, 제3 팽창 가능 부재(112)는 (팽창될 때 및/또는 팽창되지 않을 때) 실질적으로 L형의 몸체를 포함할 수 있다. 팽창될 때 또는 팽창되는 중일 때, 제3 팽창 가능 부재(112)의 형상, 크기 및 구성이 푸쉔 지압점(710), 쉔마이 지압점(712) 및/또는 진먼 지압점(714)과 같은 하나 이상의 지압점들로 압력의 인가를 제공하는 한, 다른 형상의 제3 팽창 가능 부재(112)는 또한 본 개시의 교시로부터 벗어나지 않으면서 고려된다. 예를 들어, 제3 팽창 가능 부재(112)는 실질적으로 삼각형, 정사각형, 실질적으로 직사각형, 실질적으로 육각형, 원형, 타원형, 이들 또는 다른 형상들 중 하나 이상의 조합 등일 수 있다.

(iv) 제4 팽창 가능 부재(124).

예시 실시예에서, 좌측 서브시스템(10a)은 제4 팽창 가능 부재(124)를 포함할 수 있다. 제4 팽창 가능 부재(124)는 종아리의 적어도 일부를 덮도록 위치 가능하거나 위치될 수 있다. 제4 팽창 가능 부재(124)는 좌측 벽 부분(120a)의 적어도 부분을 형성할 수 있다. 예를 들어, 제4 팽창 가능 부재(124)는 상부 좌측 벽 부분(120a)의 내부 표면의 부분을 형성할 수 있다. 또 다른 예시로, 제4 팽창 가능 부재(124)는 상부 좌측 벽 부분(120a) 내에 내장될 수 있다. 이 예시에서, 상부 좌측 벽 부분(120a)은 외부 층 및 하지와 접촉하기 위한 가요성 내부 층을 포함할 수 있으며, (가요성 내부 층 및 외부 층 사이에 위치된) 제4 팽창 가능 부재(124)는 제4 팽창 가능 부재(124)가 팽창되거나 팽창할 때 관형 부분(120)의 내부를 향해 이러한 가요성 내부 층을 밀거나 추진시킬 수 있다. 또 다른 예시에서, 제4 팽창 가능 부재(124)는 상부 좌측 벽 부분(120a)의 외부 표면의 일부를 형성할 수 있다.

제4 팽창 가능 부재(124)는 관형 부분(120)의 내부를 향해 팽창하도록 구성 가능하거나 구성될 수 있다. 예를 들어, 제4 팽창 가능 부재(124)는 양압원으로부터 제4 팽창 가능 부재(124)의 내부로 양압(예를 들어, 공기, 유체 등)의 인가를 수용하기 위한 입력 포트(예를 들어, 도 4에 도시된 제4 입력 포트(124a))를 포함할 수 있다. 프로세서(미도시)는 양압원에 의해 제4 팽창 가능 부재(124) 내에 양압의 인가 (및/또는 양압의 제거 또는 음압의 도입) 양, 속도 및/또는 지속 시간을 제어하도록 구성 가능하거나 구성될 수 있으며, 이러한 양압은 다른 팽창 가능 부재들(예를 들어, 시스템(10b)의 팽창 가능 부재들 중 하나 이상뿐만 아니라 팽창 가능 부재들(102, 104, 112, 122, 132, 134, 및/또는 142)) 중 하나 이상으로부터 및/또는 하나 이상과 함께 독립적으로 제어될 수 있다.

예시 실시예에서, 제4 팽창 가능 부재(124)의 하나 이상의 섹션들은 하지의 하나 이상의 특정 영역들로 (예를 들어, 하나 이상의 지압점들에서) 압력의 더 겨냥된 또는 집중된 인가를 제공하기 위해 다른 섹션들보다 더 (또는 덜) 분명하게 팽창하도록 구성 가능하거나 구성될 수 있다. 예를 들어, 제4 팽창 가능 부재(124)에 인가된 양압은 적어도 도 7a 및 도 7d에 도시된 바와 같이, 페이양(Feiyang) 지압점(720) 및/또는 와이취(Waiqu) 지압점(722)과 같은 하나 이상의 지압점들에 압력을 인가하는 것과 같은 방법으로 제4 팽창 가능 부재(124)를 팽창시키도록 선택적으로 제어 가능할 수 있다. 추가로 또는 그 대신에, 제4 팽창 가능 부재(124)의 하나 이상의 섹션들은 페이양 지압점(720) 및/또는 와이취 지압점(722)과 같은 하지의 하나 이상의 특정 영역들로 (예를 들어, 하나 이상의 지압점들에서) 압력의 더 겨냥된 또는 집중된 인가를 제공하기 위해, 하나 이상의 돌출부, 텍스쳐 등을 포함하도록 구성 가능하거나 구성될 수 있다.

제4 팽창 가능 부재(124)는 복수의 형상, 크기 및 구성 중 하나 이상으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 도 4에 도시된 바와 같이, 제4 팽창 가능 부재(124)는 (팽창될 때 및/또는 팽창되지 않을 때) 실질적으로 L형의 몸체를 포함할 수 있다. 팽창될 때 또는 팽창되는 중일 때, 제4 팽창 가능 부재(124)의 형상, 크기 및 구성이 페이양 지압점(720) 및/또는 와이취 지압점(722)과 같은 하나 이상의 지압점들로 압력의 인가를 제공하는 한, 다른 형상의 제4 팽창 가능 부재(124)는 또한 본 개시의 교시로부터 벗어나지 않으면서 고려된다. 예를 들어, 제4 팽창 가능 부재(124)는 실질적으로 삼각형, 정사각형, 실질적으로 직사각형, 실질적으로 육각형, 원형, 타원형, 이들 또는 다른 형상들 중 하나 이상의 조합 등일 수 있다.

(v) 제5 팽창 가능 부재(122).

예시 실시예에서, 좌측 서브시스템(10a)은 제5 팽창 가능 부재(122)를 포함할 수 있다. 제5 팽창 가능 부재(122)는 종아리의 적어도 일부를 덮도록 위치 가능하거나 위치될 수 있다. 제5 팽창 가능 부재(122)는 상부 좌측 벽 부분(120a)의 적어도 부분을 형성할 수 있다. 예를 들어, 제5 팽창 가능 부재(122)는 상부 좌측 벽 부분(120a)의 내부 표면의 부분을 형성할 수 있다. 또 다른 예시로, 제5 팽창 가능 부재(122)는 상부 좌측 벽 부분(120a) 내에 내장될 수 있다. 이 예시에서, 상부 좌측 벽 부분(120a)은 외부 층 및 하지와 접촉하기 위한 가요성 내부 층을 포함할 수 있으며, (가요성 내부 층 및 외부 층 사이에 위치된) 제5 팽창 가능 부재(122)는 제5 팽창 가능 부재(122)가 팽창되거나 팽창할 때 관형 부분(120)의 내부를 향해 이러한 가요성 내부 층을 밀거나 추진시킬 수 있다. 또 다른 예시에서, 제5 팽창 가능 부재(122)는 상부 좌측 벽 부분의 외부 표면의 일부를 형성할 수 있다.

제5 팽창 가능 부재(122)는 관형 부분(120)의 내부를 향해 팽창하도록 구성 가능하거나 구성될 수 있다. 예를 들어, 제5 팽창 가능 부재(122)는 양압원으로부터 제5 팽창 가능 부재(122)의 내부로 양압(예를 들어, 공기, 유체 등)의 인가를 수용하기 위한 입력 포트(예를 들어, 도 4에 도시된 제5 입력 포트(122a))를 포함할 수 있다. 프로세서(미도시)는 양압원에 의해 제5 팽창 가능 부재(122) 내에 양압의 인가 (및/또는 양압의 제거 또는 음압의 도입) 양, 속도 및/또는 지속 시간을 제어하도록 구성 가능하거나 구성될 수 있으며, 이러한 양압은 다른 팽창 가능 부재들(예를 들어, 시스템(10b)의 팽창 가능 부재들 중 하나 이상뿐만 아니라 팽창 가능 부재들(102, 104, 112, 124, 132, 134, 및/또는 142)) 중 하나 이상으로부터 및/또는 하나 이상과 함께 독립적으로 제어될 수 있다.

예시 실시예에서, 제5 팽창 가능 부재(122)의 하나 이상의 섹션들은 하지의 하나 이상의 특정 영역들로 (예를 들어, 하나 이상의 지압점들에서) 압력의 더 겨냥된 또는 집중된 인가를 제공하기 위해 다른 섹션들보다 더 (또는 덜) 분명하게 팽창하도록 구성 가능하거나 구성될 수 있다. 예를 들어, 제5 팽창 가능 부재(122)에 인가된 양압은 적어도 도 7a 및 7c에 도시된 바와 같이, 샹쥐쉬(Shangjuxu) 지압점(716) 및/또는 펑룽(Fenglong) 지압점(718)과 같은 하나 이상의 지압점들에 압력을 인가하는 것과 같은 방법으로 제5 팽창 가능 부재(122)를 팽창시키도록 선택적으로 제어 가능할 수 있다. 추가로 또는 그 대신에, 제5 팽창 가능 부재(122)의 하나 이상의 섹션들은 샹쥐쉬 지압점(716) 및/또는 펑룽 지압점(718)과 같은 하지의 하나 이상의 특정 영역들로 (예를 들어, 하나 이상의 지압점들에서) 압력의 더 겨냥된 또는 집중된 인가를 제공하기 위해, 하나 이상의 돌출부, 텍스쳐 등을 포함하도록 구성 가능하거나 구성될 수 있다.

제5 팽창 가능 부재(122)는 복수의 형상, 크기 및 구성 중 하나 이상으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 도 4에 도시된 바와 같이, 제5 팽창 가능 부재(122)는 (팽창될 때 및/또는 팽창되지 않을 때) 실질적으로 L형의 몸체를 포함할 수 있다. 팽창될 때 또는 팽창되는 중일 때, 제5 팽창 가능 부재(122)의 형상, 크기 및 구성이 샹쥐쉬 지압점(716) 및/또는 펑룽 지압점(718)과 같은 하나 이상의 지압점들로 압력의 인가를 제공하는 한, 다른 형상의 제5 팽창 가능 부재(122)는 또한 본 개시의 교시로부터 벗어나지 않으면서 고려된다. 예를 들어, 제5 팽창 가능 부재(122)는 실질적으로 삼각형, 정사각형, 실질적으로 직사각형, 실질적으로 육각형, 원형, 타원형, 이들 또는 다른 형상들 중 하나 이상의 조합 등일 수 있다. 예시 실시예에서, 제4 팽창 가능 부재(124) 및 제5 팽창 가능 부재(122)는 제4 팽창 가능 부재(124) 및 제5 팽창 가능 부재(122)의 집합적인 형상이 사각형(tetragon)과 닮은 이러한 방법으로 인접하게 위치될 수 있다. 대안적으로 또는 추가로, 제4 팽창 가능 부재(124) 및 제5 팽창 가능 부재(122)는 제4 팽창 가능 부재(124) 및 제5 팽창 가능 부재(122)의 집합적인 형상이 제8 팽창 가능 부재(142)의 형상과 닮은 이러한 방법으로 인접하게 위치될 수 있다.

(vi) 제6 팽창 가능 부재(132).

예시 실시예에서, 좌측 서브시스템(10a)은 제6 팽창 가능 부재(132)를 포함할 수 있다. 제6 팽창 가능 부재(132)는 발의 뒤꿈치 및 발목 사이의 하지의 적어도 일부를 덮도록 위치 가능하거나 위치될 수 있고, 발뒤꿈치의 일부 및/또는 발목 위의 일부를 덮을 수도 있다. 제6 팽창 가능 부재(132)는 하부 우측 벽 부분(110b)의 적어도 부분을 형성할 수 있다. 예를 들어, 제6 팽창 가능 부재(132)는 하부 우측 벽 부분(110b)의 내부 표면의 부분을 형성할 수 있다. 또 다른 예시로, 제6 팽창 가능 부재(132)는 하부 우측 벽 부분(110b) 내에 내장될 수 있다. 이 예시에서, 하부 우측 벽 부분(110b)은 외부 층 및 하지와 접촉하기 위한 가요성 내부 층을 포함할 수 있으며, (가요성 내부 층 및 외부 층 사이에 위치된) 제6 팽창 가능 부재(132)는 제6 팽창 가능 부재(132)가 팽창되거나 팽창할 때 코너 부분(110)의 내부를 향해 이러한 가요성 내부 층을 밀거나 추진시킬 수 있다. 또 다른 예시에서, 제6 팽창 가능 부재(132)는 하부 우측 벽 부분(110b)의 외부 표면의 일부를 형성할 수 있다.

제6 팽창 가능 부재(132)는 코너 부분(110)의 내부를 향해 팽창하도록 구성 가능하거나 구성될 수 있다. 예를 들어, 제6 팽창 가능 부재(132)는 양압원으로부터 제6 팽창 가능 부재(132)의 내부로 양압(예를 들어, 공기, 유체 등)의 인가를 수용하기 위한 입력 포트(예를 들어, 도 5에 도시된 제6 입력 포트(132a))를 포함할 수 있다. 프로세서(미도시)는 양압원에 의해 제6 팽창 가능 부재(132) 내에 양압의 인가 (및/또는 양압의 제거 또는 음압의 도입) 양, 속도 및/또는 지속 시간을 제어하도록 구성 가능하거나 구성될 수 있으며, 이러한 양압은 다른 팽창 가능 부재들(예를 들어, 시스템(10b)의 팽창 가능 부재들 중 하나 이상뿐만 아니라 팽창 가능 부재들(102, 104, 112, 122, 124, 134, 및/또는 142)) 중 하나 이상으로부터 및/또는 하나 이상과 함께 독립적으로 제어될 수 있다.

예시 실시예에서, 제6 팽창 가능 부재(132)의 하나 이상의 섹션들은 하지의 하나 이상의 특정 영역들로 (예를 들어, 하나 이상의 지압점들에서) 압력의 더 겨냥된 또는 집중된 인가를 제공하기 위해 다른 섹션들보다 더 (또는 덜) 분명하게 팽창하도록 구성 가능하거나 구성될 수 있다. 예를 들어, 제6 팽창 가능 부재(132)에 인가된 양압은 적어도 도 7b에 도시된 바와 같이, 슈이취안(Shuiquan) 지압점(724) 및/또는 자오하이(Zhaohai) 지압점(726)과 같은 하나 이상의 지압점들에 압력을 인가하는 것과 같은 방법으로 제6 팽창 가능 부재(132)를 팽창시키도록 선택적으로 제어 가능할 수 있다. 추가로 또는 그 대신에, 제6 팽창 가능 부재(132)의 하나 이상의 섹션들은 슈이취안 지압점(724) 및/또는 자오하이 지압점(726)과 같은 하지의 하나 이상의 특정 영역들로 (예를 들어, 하나 이상의 지압점들에서) 압력의 더 겨냥된 또는 집중된 인가를 제공하기 위해, 하나 이상의 돌출부, 텍스쳐 등을 포함하도록 구성 가능하거나 구성될 수 있다.

제6 팽창 가능 부재(132)는 복수의 형상, 크기 및 구성 중 하나 이상으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 도 5에 도시된 바와 같이, 제6 팽창 가능 부재(132)는 (팽창될 때 및/또는 팽창되지 않을 때) 실질적으로 사각형(tetragonal-shaped)의 몸체를 포함할 수 있다. 팽창될 때 또는 팽창되는 중일 때, 제6 팽창 가능 부재(132)의 형상, 크기 및 구성이 슈이취안 지압점(724) 및/또는 자오하이 지압점(726)과 같은 하나 이상의 지압점들로 압력의 인가를 제공하는 한, 다른 형상의 제6 팽창 가능 부재(132)는 또한 본 개시의 교시로부터 벗어나지 않으면서 고려된다. 예를 들어, 제6 팽창 가능 부재(132)는 실질적으로 삼각형, 정사각형, 실질적으로 직사각형, 실질적으로 육각형, 원형, 타원형, 이들 또는 다른 형상들 중 하나 이상의 조합 등일 수 있다.

(vii) 제7 팽창 가능 부재(134).

예시 실시예에서, 좌측 서브시스템(10a)은 제7 팽창 가능 부재(134)를 포함할 수 있다. 제7 팽창 가능 부재(134)는 발목의 일부 및/또는 발목 위의 일부를 덮도록 위치 가능하거나 위치될 수 있다. 제7 팽창 가능 부재(134)는 하부 우측 벽 부분(110b)의 적어도 부분을 형성할 수 있다. 예를 들어, 제7 팽창 가능 부재(134)는 하부 우측 벽 부분(110b)의 내부 표면의 부분을 형성할 수 있다. 또 다른 예시로, 제7 팽창 가능 부재(134)는 하부 우측 벽 부분(110b) 내에 내장될 수 있다. 이 예시에서, 하부 우측 벽 부분(110b)은 외부 층 및 하지와 접촉하기 위한 가요성 내부 층을 포함할 수 있으며, (가요성 내부 층 및 외부 층 사이에 위치된) 제7 팽창 가능 부재(134)는 제7 팽창 가능 부재(134)가 팽창되거나 팽창할 때 코너 부분(110)의 내부를 향해 이러한 가요성 내부 층을 밀거나 추진시킬 수 있다. 또 다른 예시에서, 제7 팽창 가능 부재(134)는 하부 우측 벽 부분(110b)의 외부 표면의 일부를 형성할 수 있다.

제7 팽창 가능 부재(134)는 코너 부분(110)의 내부를 향해 팽창하도록 구성 가능하거나 구성될 수 있다. 예를 들어, 제7 팽창 가능 부재(134)는 양압원으로부터 제7 팽창 가능 부재(134)의 내부로 양압(예를 들어, 공기, 유체 등)의 인가를 수용하기 위한 입력 포트(예를 들어, 도 5에 도시된 제7 입력 포트(134a))를 포함할 수 있다. 프로세서(미도시)는 양압원에 의해 제7 팽창 가능 부재(134) 내에 양압의 인가 (및/또는 양압의 제거 또는 음압의 도입) 양, 속도 및/또는 지속 시간을 제어하도록 구성 가능하거나 구성될 수 있으며, 이러한 양압은 다른 팽창 가능 부재들(예를 들어, 시스템(10b)의 팽창 가능 부재들 중 하나 이상뿐만 아니라 팽창 가능 부재들(102, 104, 112, 122, 124, 132, 및/또는 142)) 중 하나 이상으로부터 및/또는 하나 이상과 함께 독립적으로 제어될 수 있다.

예시 실시예에서, 제7 팽창 가능 부재(134)의 하나 이상의 섹션들은 하지의 하나 이상의 특정 영역들로 (예를 들어, 하나 이상의 지압점들에서) 압력의 더 겨냥된 또는 집중된 인가를 제공하기 위해 다른 섹션들보다 더 (또는 덜) 분명하게 팽창하도록 구성 가능하거나 구성될 수 있다. 예를 들어, 제7 팽창 가능 부재(134)에 인가된 양압은 적어도 도 7b에 도시된 바와 같이, 지아오신(Jiaoxin) 지압점(728) 및/또는 푸리우(Fuliu) 지압점(730)과 같은 하나 이상의 지압점들에 압력을 인가하는 것과 같은 방법으로 제7 팽창 가능 부재(134)를 팽창시키도록 선택적으로 제어 가능할 수 있다. 추가로 또는 그 대신에, 제7 팽창 가능 부재(134)의 하나 이상의 섹션들은 지아오신 지압점(728) 및/또는 푸리우 지압점(730)과 같은 하지의 하나 이상의 특정 영역들로 (예를 들어, 하나 이상의 지압점들에서) 압력의 더 겨냥된 또는 집중된 인가를 제공하기 위해, 하나 이상의 돌출부, 텍스쳐 등을 포함하도록 구성 가능하거나 구성될 수 있다.

제7 팽창 가능 부재(134)는 복수의 형상, 크기 및 구성 중 하나 이상으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 도 5에 도시된 바와 같이, 제7 팽창 가능 부재(134)는 (팽창될 때 및/또는 팽창되지 않을 때) 실질적으로 사격형의 몸체를 포함할 수 있다. 팽창될 때 또는 팽창되는 중일 때, 제7 팽창 가능 부재(134)의 형상, 크기 및 구성이 지아오신 지압점(728) 및/또는 푸리우 지압점(730)과 같은 하나 이상의 지압점들로 압력의 인가를 제공하는 한, 다른 형상의 제7 팽창 가능 부재(134)는 또한 본 개시의 교시로부터 벗어나지 않으면서 고려된다. 예를 들어, 제7 팽창 가능 부재(134)는 실질적으로 삼각형, 정사각형, 실질적으로 직사각형, 실질적으로 육각형, 원형, 타원형, 이들 또는 다른 형상들 중 하나 이상의 조합 등일 수 있다.

(viii) 제8 팽창 가능 부재(142).

예시 실시예에서, 좌측 서브시스템(10a)은 제8 팽창 가능 부재(142)를 포함할 수 있다. 제8 팽창 가능 부재(142)는 종아리의 적어도 일부를 덮도록 위치 가능하거나 위치될 수 있다. 제8 팽창 가능 부재(142)는 상부 우측 벽 부분(120b)의 적어도 부분을 형성할 수 있다. 예를 들어, 제8 팽창 가능 부재(142)는 상부 우측 벽 부분(120b)의 내부 표면의 부분을 형성할 수 있다. 또 다른 예시로, 제8 팽창 가능 부재(142)는 상부 우측 벽 부분(120b) 내에 내장될 수 있다. 이 예시에서, 상부 우측 벽 부분(120b)은 외부 층 및 하지와 접촉하기 위한 가요성 내부 층을 포함할 수 있으며, (가요성 내부 층 및 외부 층 사이에 위치된) 제8 팽창 가능 부재(142)는 제8 팽창 가능 부재(142)가 팽창되거나 팽창할 때 관형 부분(120)의 내부를 향해 이러한 가요성 내부 층을 밀거나 추진시킬 수 있다. 또 다른 예시에서, 제8 팽창 가능 부재(142)는 상부 우측 벽 부분(120b)의 외부 표면의 일부를 형성할 수 있다.

제8 팽창 가능 부재(142)는 관형 부분(120)의 내부를 향해 팽창하도록 구성 가능하거나 구성될 수 있다. 예를 들어, 제8 팽창 가능 부재(142)는 양압원으로부터 제8 팽창 가능 부재(142)의 내부로 양압(예를 들어, 공기, 유체 등)의 인가를 수용하기 위한 입력 포트(예를 들어, 도 5에 도시된 제8 입력 포트(142a))를 포함할 수 있다. 프로세서(미도시)는 양압원에 의해 제8 팽창 가능 부재(142) 내에 양압의 인가 (및/또는 양압의 제거 또는 음압의 도입) 양, 속도 및/또는 지속 시간을 제어하도록 구성 가능하거나 구성될 수 있으며, 이러한 양압은 다른 팽창 가능 부재들(예를 들어, 시스템(10b)의 팽창 가능 부재들 중 하나 이상뿐만 아니라 팽창 가능 부재들(102, 104, 112, 122, 124, 132, 및/또는 134)) 중 하나 이상으로부터 및/또는 하나 이상과 함께 독립적으로 제어될 수 있다.

예시 실시예에서, 제8 팽창 가능 부재(142)의 하나 이상의 섹션들은 하지의 하나 이상의 특정 영역들로 (예를 들어, 하나 이상의 지압점들에서) 압력의 더 겨냥된 또는 집중된 인가를 제공하기 위해 다른 섹션들보다 더 (또는 덜) 분명하게 팽창하도록 구성 가능하거나 구성될 수 있다. 예를 들어, 제8 팽창 가능 부재(142)에 인가된 양압은 적어도 도 7b-d에 도시된 바와 같이, 주빈(Zhubin) 지압점(732), 로우구(Lougu) 지압점(734) 및/또는 청샨(Chengshan) 지압점(736)과 같은 하나 이상의 지압점들에 압력을 인가하는 것과 같은 방법으로 제8 팽창 가능 부재(142)를 팽창시키도록 선택적으로 제어 가능할 수 있다. 추가로 또는 그 대신에, 제8 팽창 가능 부재(142)의 하나 이상의 섹션들은 주빈 지압점(732), 로우구 지압점(734) 및/또는 청샨 지압점(736)과 같은 하지의 하나 이상의 특정 영역들로 (예를 들어, 하나 이상의 지압점들에서) 압력의 더 겨냥된 또는 집중된 인가를 제공하기 위해, 하나 이상의 돌출부, 텍스쳐 등을 포함하도록 구성 가능하거나 구성될 수 있다.

제8 팽창 가능 부재(142)는 복수의 형상, 크기 및 구성 중 하나 이상으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 도 5에 도시된 바와 같이, 제8 팽창 가능 부재(142)는 (팽창될 때 및/또는 팽창되지 않을 때) 실질적으로 사각형의 몸체를 포함할 수 있다. 팽창될 때 또는 팽창되는 중일 때, 제8 팽창 가능 부재(142)의 형상, 크기 및 구성이 주빈 지압점(732), 로우구 지압점(734) 및/또는 청샨 지압점(736)과 같은 하나 이상의 지압점들로 압력의 인가를 제공하는 한, 다른 형상의 제8 팽창 가능 부재(142)는 또한 본 개시의 교시로부터 벗어나지 않으면서 고려된다. 예를 들어, 제8 팽창 가능 부재(142)는 실질적으로 삼각형, 정사각형, 실질적으로 직사각형, 실질적으로 육각형, 원형, 타원형, 이들 또는 다른 형상들 중 하나 이상의 조합 등일 수 있다.

제1 돌출 부재(예를 들어, 제1 돌출 부재(302)).

도 1b-c, 도 6a, 도 6b 및 도 6c에 도시된 바와 같이, 좌측 서브시스템(10a)은 또한 제2 단부 섹션(101)에 근접한 또는 인접한 하나 이상의 제1 돌출 부재들(예를 들어, 제1 돌출 부재(302))을 포함할 수 있다. 하나 이상의 제1 돌출 부재들(예를 들어, 제1 돌출 부재(302))은 하지의 발가락 부분에 인접한 발의 부분 아래에 및/또는 하지의 발가락 부분 아래에 있도록 위치 가능하거나 위치될 수 있다. 하나 이상의 제1 돌출 부재들(302)은 하부 벽 부분(105)의 적어도 부분과 접촉하거나 접촉하도록 이동 가능할 수 있다.

하나 이상의 제1 돌출 부재들(302)은 연장 부분(100)의 내부를 향해 돌출되도록 구성 가능하거나 구성될 수 있다. 프로세서(미도시)는 하나 이상의 제1 돌출 부재들(302)의 이동을 제어하도록 구성 가능하거나 구성될 수 있으며, 이러한 이동은 다른 돌출 부재들(예를 들어, 돌출 부재들(312 및/또는 322)) 중 하나 이상으로부터 및/또는 하나 이상과 함께 독립적으로 제어될 수 있다. 예시 실시예에서, 하나 이상의 제1 돌출 부재들(302)에 의해 인가된 압력은 적어도 도 7e에 도시된 바와 같이 리네이팅(Lineiting) 지압점(738)과 같은 하나 이상의 지압점들에 압력을 인가하는 것과 같은 방법으로 선택적으로 제어 가능할 수 있다.

하나 이상의 제1 돌출 부재들(302)은 복수의 형상, 크기 및 구성들 중 하나 이상으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 도 6a-c에 도시된 바와 같이, 하나 이상의 제1 돌출 부재들(302)은 둥근 단부를 갖는 실질적으로 연장 몸체들을 포함할 수 있다. 팽창될 때 또는 팽창되는 중일 때, 하나 이상의 제1 돌출 부재들(302)의 형상, 크기 및 구성이 리네이팅 지압점(738)과 같은 하나 이상의 지압점들로 압력의 인가를 제공하는 한, 하나 이상의 제1 돌출 부재들(302)의 다른 형상들 또한 본 개시의 교시를 벗어나지 않고 고려된다.

제2 돌출 부재(예를 들어, 제2 돌출 부재(322)).

도 1b-c 및 도 6a-6c에 도시된 바와 같이, 좌측 서브시스템(10a)은 또한 코너 부분(110)의 굽힘 섹션에 근접한 하나 이상의 제2 돌출 부재들(예를 들어, 제2 돌출 부재(322))을 포함할 수 있다. 하나 이상의 제2 돌출 부재들(322)은 하지의 발뒤꿈치 부분 아래에 있도록 위치 가능하거나 위치될 수 있다. 하나 이상의 제2 돌출 부재들(322)은 하부 벽 부분(117)의 적어도 부분과 접촉하거나 접촉하도록 이동 가능할 수 있다.

하나 이상의 제2 돌출 부재들(322)은 코너 부분(110)의 내부를 향해 돌출되도록 구성 가능하거나 구성될 수 있다. 프로세서(미도시)는 하나 이상의 제2 돌출 부재들(322)의 이동을 제어하도록 구성 가능하거나 구성될 수 있으며, 이러한 이동은 다른 돌출 부재들(예를 들어, 돌출 부재들(322 및/또는 312)) 중 하나 이상으로부터 및/또는 하나 이상과 함께 독립적으로 제어될 수 있다. 예시 실시예에서, 하나 이상의 제2 돌출 부재들(322)에 의해 인가된 압력은 적어도 도 7e에 도시된 바와 같이 쉬미안(Shimian) 지압점(740)과 같은 하나 이상의 지압점들에 압력을 인가하는 것과 같은 방법으로 선택적으로 제어 가능할 수 있다.

하나 이상의 제2 돌출 부재들(322)은 복수의 형상, 크기 및 구성들 중 하나 이상으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 도 6a-c에 도시된 바와 같이, 하나 이상의 제2 돌출 부재들(322)은 하나 이상의 돌출부들을 갖는 실질적으로 연장 몸체들을 포함할 수 있다. 팽창될 때 또는 팽창되는 중일 때, 하나 이상의 제2 돌출 부재들(322)의 형상, 크기 및 구성이 쉬미안 지압점(740)과 같은 하나 이상의 지압점들로 압력의 인가를 제공하는 한, 하나 이상의 제2 돌출 부재들(322)의 다른 형상들 또한 본 개시의 교시를 벗어나지 않고 고려된다.

제3 돌출 부재(예를 들어, 제3 돌출 부재(312)).

도 1b-c 및 도 6a-6c에 도시된 바와 같이, 좌측 서브시스템(10a)은 또한 하나 이상의 제1 돌출 부재들(302) 및 하나 이상의 제2 돌출 부재들(322) 사이에 하나 이상의 제3 돌출 부재들(예를 들어, 제3 돌출 부재(312))을 포함할 수 있다. 하나 이상의 제3 돌출 부재들(312)은 하부 벽 부분(115)의 적어도 부분과 접촉하거나 접촉하도록 이동 가능할 수 있다.

하나 이상의 제3 돌출 부재들(312)은 코너 부분(110)의 내부를 향해 돌출되도록 구성 가능하거나 구성될 수 있다. 프로세서(미도시)는 하나 이상의 제3 돌출 부재들(312)의 이동을 제어하도록 구성 가능하거나 구성될 수 있으며, 이러한 이동은 다른 돌출 부재들(예를 들어, 돌출 부재들(302 및/또는 322)) 중 하나 이상으로부터 및/또는 하나 이상과 함께 독립적으로 제어될 수 있다. 예시 실시예에서, 하나 이상의 제3 돌출 부재들(312)에 의해 인가된 압력은 적어도 도 7e에 도시된 바와 같이 용취안(Yongquan) 지압점(742)과 같은 하나 이상의 지압점들에 압력을 인가하는 것과 같은 방법으로 선택적으로 제어 가능할 수 있다.

하나 이상의 제3 돌출 부재들(312)은 복수의 형상, 크기 및 구성들 중 하나 이상으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 도 6a-c에 도시된 바와 같이, 하나 이상의 제3 돌출 부재들(312)은 축(예를 들어, 도 6a-c에 도시된 축(Y)) 또는 코너 부분의 굽힘 섹션 및 제2 단부 섹션 사이에 그려진 선에 수직인 축(예를 들어, 도 6a-c에 도시된 축(X))을 중심으로 회전 가능할 수 있다. 팽창될 때 또는 팽창되는 중일 때, 하나 이상의 제3 돌출 부재들(312)의 형상, 크기 및 구성이 용취안 지압점(742)과 같은 하나 이상의 지압점들로 압력의 인가를 제공하는 한, 하나 이상의 제3 돌출 부재들(312)의 다른 구성 및/또는 형상들 또한 본 개시의 교시를 벗어나지 않고 고려된다.

프로세서.

예시 실시예에서, 시스템(10)은 도한 하나 이상의 프로세서들(미도시)을 포함할 수 있다. 프로세서는 단일 또는 일원화된 요소 및/또는 물리적으로 분리된 요소들일 수 있다. 프로세서는 예정된 동작 및/또는 정보의 처리를 수행하도록 구성 가능한 임의의 프로세서, 마이크로프로세서, 컨트롤러, 마이크로 컨트롤러, 마이크로 칩, 모바일 장치, 반도체 장치 등일 수 있다. 예시 실시예에서, 프로세서에 의해 처리된 또는 처리 가능한 정보는 감지, 측정, 확인, 구동 또는 이동시키기 위한, 구동 또는 이동을 방지하거나 멈추기 위한, 시스템(10, 10a)의 특정 이동(또는 비 이동), 시스템(10, 10a)의 하나 이상의 요소들 및/또는 시스템(10, 10a)의 사용자를 제어 및/또는 관리하기 위한 정보를 포함하는 임의의 정보일 수 있다. 비 제한적인 예시로, 프로세서에 의해 처리된 또는 처리 가능한 정보는 팽창 가능 부재들 중 하나 이상에 의해 및/또는 하나 이상 상에 수행된 동작(또는 비 동작)에 관한 정보를 포함할 수 있다. 다른 비 제한적인 예시로, 프로세서에 의해 처리된 또는 처리 가능한 정보는 돌출 부재들 중 하나 이상 상에 및/또는 하나 이상에 의해 수행된 동작(또는 비 동작)에 관한 정보를 포함할 수 있다. 다른 비 제한적인 예시로, 프로세서에 의해 처리된 또는 처리 가능한 정보는 하나 이상의 양압원들의 작동(또는 비 작동)에 관한 정보를 포함할 수 있다. 다른 비 제한적인 예시로, 프로세서에 의해 처리된 또는 처리 가능한 정보는 시스템(10, 10a)의 하나 이상의 요소들을 관리하고, 제어하고, 구동 또는 이동시키는 것을 방지하고 및/또는 구동시키거나 이동시키도록 사용된 하나 이상의 센서들(미도시)에 관한 정보를 포함할 수 있다. 다른 비 제한적인 예시로, 프로세서에 의해 처리된 또는 처리 가능한 정보는 팽창 가능 부재들 중 하나 이상에 의해 사용자의 하지의 적어도 일부 상에 인가된 압력 또는 힘에 관한 정보를 포함할 수 있다. 다른 비 제한적인 예시로, 프로세서에 의해 처리된 또는 처리 가능한 정보는 시스템(10, 10a)의 단일 이동 및/또는 일련의 이동들(예를 들어, 일련의 마사지 동작들), 시스템(10, 10a)의 하나 이상의 요소들 및/또는 시스템(10, 10a)의 사용자에 관한 정보를 포함할 수 있다.

프로세서는 하나 이상의 일련의 동작들을 수행하기 위해 좌측 시스템(10a)을 독립적으로 또는 함께 구동, 작동, 제어 및/또는 관리하도록 구성 가능하거나 구성될 수 있다. 이러한 동작들은 전술한 및 본 개시의 좌측 시스템(10a)의 요소들 중 하나 이상을 포함할(또는 포함하지 않을) 수 있고, 추가 요소들을 포함할 수 있고, 후술된 및 본 개시의 동작들과 다른 순서, 동작, 조합 및/또는 구성들로 수행 및/또는 사용될 수 있고/있거나 요소들 중 하나 이상(및/또는 요소들의 요소들)은 단일 요소로 조합 가능하거나 2개 이상의 요소들로 분할될 수 있다.

예시 실시예에서, 프로세서는 메인 하우징의 내부를 향해 돌출(예를 들어, 코너 부분(110)의 내부를 향해 돌출)하기 위해 하나 이상의 제3 돌출 부재들(312)을 회전시키도록 구성 가능하거나 구성될 수 있다. 예를 들어, 마사지 순서를 위한 시작점은 하나 이상의 제3 돌출 부재들(312)이 회전되어 가장 높은 위치(예를 들어, 도 6b에 도시된 바와 같이 코너 부분(110) 내로의 대부분의 돌출부)로 위치될 때일 수 있다. 프로세서는 하나 이상의 양압원들이 제2 팽창 가능 부재(104) 내로 양압을 인가하는 것을 야기하도록 더 구성 가능하거나 구성될 수 있다. 예를 들어, 인가된 양압은 점진적으로 증가하는 양압(또는 점진적으로 감소하는 음압)일 수 있다. 프로세서는 제1 시간(예를 들어, 0.1 내지 5초 또는 바람직하게는 0.1 내지 0.9초) 동안 제1 방향(예를 들어, 시계 방향 또는 도 6b에 도시된 방향(A))으로 하나 이상의 제3 돌출 부재들(312)을 회전시키도록 더 구성 가능하거나 구성될 수 있다. 예를 들어, 회전은 양압이 인가(및/또는 증가 또는 감소)되고 있는 동안 수행될 수 있다. 프로세서는 제2 시간(예를 들어, 0.1 내지 5초, 또는 바람직하게는 0.2 내지 0.8초) 동안 하나 이상의 제3 돌출 부재들(312)의 회전을 정지하도록 더 구성 가능 또는 구성될 수 있다. 예를 들어, 회전의 정지는 양압이 인가(및/또는 증가 또는 감소)되고 있는 동안 수행될 수 있다. 프로세서는 제3 시간(예를 들어, 0.1 내지 5초 또는 바람직하게는 0.2 내지 0.9초) 동안 제1 방향에 대향하는 제2 방향으로 하나 이상의 제3 돌출 부재들(312)을 회전시키도록 더 구성 가능하거나 구성될 수 있다. 예를 들어, 회전은 양압이 인가(및/또는 증가 또는 감소)되고 있는 동안 수행될 수 있다. 프로세서는 제4 시간(예를 들어, 0.1 내지 5초 또는 바람직하게는 0.2 내지 0.8초) 동안 하나 이상의 제3 돌출 부재들(312)의 회전을 정지하도록 더 구성 가능하거나 구성될 수 있다. 예를 들어, 회전의 정지는 양압이 인가(및/또는 증가 또는 감소)되고 있는 동안 수행될 수 있다. 프로세서는 메인 하우징의 내부를 향해 돌출(예를 들어, 코너 부분(110)의 내부를 향해 돌출)하기 위해 하나 이상의 제1 돌출 부재들(302)을 이동시키도록 더 구성 가능하거나 구성될 수 있다. 예를 들어, 제1 돌출 부재들의 이동은 양압이 인가(및/또는 증가 또는 감소)되고 있는 동안 수행될 수 있다. 프로세서는 메인 하우징의 내부를 향해 돌출(예를 들어, 코너 부분(110)의 내부를 향해 돌출)하기 위해 하나 이상의 제2 돌출 부재들(322)을 이동시키도록 더 구성 가능하거나 구성될 수 있다. 예를 들어, 제2 돌출 부재들의 이동은 양압이 인가(및/또는 증가 또는 감소)되고 있는 동안 수행될 수 있다. 프로세서는 제1 팽창 가능 부재(102) 내로 양압을 인가하도록 더 구성 가능하거나 구성될 수 있다. 예를 들어, 제1 팽창 가능 부재 내로 인가된 양압은 점진적으로 증가하는 양압일 수 있다. 또한, 제1 팽창 가능 부재 내로의 양압의 인가는 양압이 인가(및/또는 증가 또는 감소)되고 있는 동안 수행될 수 있다.

전술한 및 본 개시의 동작들과 관련하여, 프로세서는 하나 이상의 제3 돌출 부재들(312)을 협력적으로 회전시키고 용취안 지압점(742)을 포함하여, 하나 이상의 지압점들에 압력을 가하는 이러한 방식으로 제2 팽창 가능 부재(104) 및/또는 제1 팽창 가능 부재(102)를 팽창시키도록 구성 가능하거나 구성될 수 있다. 전술한 및 본 개시의 동작들 중 하나 이상 동안, 그 사이에 또는 그 이후에, 프로세서는 제3 팽창 가능 부재(112), 제4 팽창 가능 부재(124), 제5 팽창 가능 부재(122), 제6 팽창 가능 부재(132), 제7 팽창 가능 부재(134) 및/또는 제8 팽창 가능 부재(142)와 같은 팽창 가능 부재들 중 하나 이상을 팽창시키도록 구성 가능하거나 구성될 수 있다. 하나 이상의 팽창 가능 부재들의 이러한 팽창은 하나 이상의 팽창 가능 부재들 내로 인가된 양압을 전진적으로 증가시킴으로써 수행될 수 있다.

예시 실시예에서, 프로세서는 좌측 시스템의 요소들에 대한 동작들을 동일한 순서, 역 순서 및/또는 상이한 순서로 반복하고/하거나 하나 이상의 동작들을 추가 또는 생략하도록 구성 가능하거나 구성될 수 있으며, 이러한 반복은 1-10회 또는 바람직하게는 2-6회와 같이 여러 번 수행될 수 있다.

개시된 원리에 따른 다양한 실시예들이 전술되었지만, 그것들은 단지 예시로써 제시되었으며, 제한적이지 않음이 이해되어야 한다. 따라서, 본 개시에 설명된 예시 실시예들의 폭 및 범위는 전술된 예시적인 실시예들 중 어느 것에 의해서도 제한되지 않아야 하지만, 본 개시로부터 발행된 청구 범위 및 그 등가물에 따라서만 정의되어야 한다. 또한, 상기 이점 및 특징들은 설명된 실시예들에 제공되지만, 상기 이점들 중 임의의 것 또는 전부를 달성하는 프로세스 및 구조로 발생된 청구 범위의 적용을 제한하지 않아야 한다.

예를 들어, 본 명세서에 언급된 바와 같이, 제어기, 프로세서 및/또는 장치는 임의의 컴퓨팅 장치 또는 통신 장치일 수 있고, 네크워크 컴퓨팅 환경에서 가상 머신, 컴퓨터, 노드, 인스턴스, 호스트 또는 머신을 포함할 수 있다.

Claims

L형 내부 공동을 형성하도록 인접하게 배열된 복수의 부분들을 갖는 메인 하우징 -상기 메인 하우징은 상기 메인 하우징의 일 단부에서 적어도 제1 단부 섹션, 상부 좌측 벽 및 상기 상부 좌측 벽에 대향하는 상부 우측 벽을 갖는 관형 부분; 상기 메인 하우징의 다른 단부에서 적어도 제2 단부 섹션, 전방 상부 벽 및 상기 전방 상부 벽에 대향하는 전방 하부 벽을 갖는 연장 부분; 및 상기 관형 부분 및 연장 부분 사이에 형성된 코너 부분 -상기 코너 부분은 적어도 하부 좌측 벽, 상기 하부 좌측 벽에 대향하는 하부 우측 벽 및 상기 후방 상부 벽에 대향하는 후방 하부 벽을 가짐-;을 포함함-;
복수의 팽창 가능 부재들 -상기 복수의 팽창 가능 부재들은 연장 부분에 제공되어 상기 제2 단부 섹션에 근접한 상기 전방 상부 벽의 적어도 일부를 형성하는 제1 팽창 가능 부재 -상기 제1 팽창 가능 부재는 상기 연장 부분의 내부를 향해 팽창하도록 구성 가능함-; 및 상기 코너 부분에 제공되어 상기 후방 상부 벽의 적어도 일부를 형성하는 제2 팽창 가능 부재 -상기 제2 팽창 가능 부재는 상기 코너 부분의 내부를 향해 팽창하도록 구성 가능함-;를 포함함-; 및
상기 하부 벽과 접촉하도록 구성 가능한 하나 이상의 돌출 부재들 -상기 하나 이상의 돌출 부재들은 적어도 상기 코너 부분의 내부를 향해 돌출하도록 구동 가능하고 적어도 상기 후방 하부 벽 아래에 위치 가능함-;
을 포함하고,
상기 제2 팽창 가능 부재 및 하나 이상의 돌출 부재들은 하지 부분의 발뒤꿈치 부분 및 발가락 부분 사이에 있는 발바닥의 적어도 일부 상에 압력을 인가하기 위해 협력하도록 구성 가능하며,
상기 하나 이상의 돌출 부재들은 상기 코너 부분의 상기 굽힘 섹션 및 상기 제2 단부 섹션 사이에 그려진 선에 수직인 축을 중심으로 회전하도록 구성 가능하고,
상기 연장 부분의 내부를 향하는 상기 하나 이상의 돌출 부재들의 돌출은 회전을 통해 제어 가능한, 하지 마사지 시스템.
제1항에 있어서,
상기 하부 좌측 벽, 하부 우측 벽, 후방 상부 벽 및 후방 하부 벽은 각각 상기 상부 좌측 벽, 상부 우측 벽, 전방 상부 벽 및 전방 하부 벽과 연통되는, 하지 마사지 시스템.
제1항에 있어서,
상기 제1 팽창 가능 부재는 제1 입력 포트를 포함하고, 상기 제1 팽창 가능 부재는 상기 제1 입력 포트를 통한 양압의 인가 시 상기 연장 부분의 내부를 향해 팽창하도록 구성 가능하며,
상기 제2 팽창 가능 부재는 제2 입력 포트를 포함하고, 상기 제2 팽창 가능 부재는 상기 제2 입력 포트를 통한 양압의 인가 시 상기 코너 부분의 내부를 향해 팽창하도록 구성 가능한, 하지 마사지 시스템.
제3항에 있어서,
상기 코너 부분에 제공되어 상기 하부 좌측 벽의 적어도 일부를 형성하는 제3 팽창 가능 부재 -상기 제3 팽창 가능 부재는 제3 입력 포트를 가지며 상기 제3 입력 포트를 통한 양압의 인가 시 상기 코너 부분의 내부를 향해 팽창하도록 구성 가능함-;
상기 관형 부분에 제공되어 상기 상부 좌측 벽의 적어도 일부를 형성하는 제4 팽창 가능 부재 -상기 제4 팽창 가능 부재는 제4 입력 포트를 가지며 상기 제4 입력 포트를 통한 양압의 인가 시 상기 관형 부분의 내부를 향해 팽창하도록 구성 가능함-;
상기 관형 부분에 제공되어 상기 상부 좌측 벽의 적어도 일부를 형성하는 제5 팽창 가능 부재 -상기 제5 팽창 가능 부재는 제5 입력 포트를 가지며 상기 제5 입력 포트를 통한 양압의 인가 시 상기 관형 부분의 내부를 향해 팽창하도록 구성 가능함-;
상기 코너 부분에 제공되어 상기 하부 우측 벽의 적어도 일부를 형성하는 제6 팽창 가능 부재 -상기 제6 팽창 가능 부재는 제6 입력 포트를 가지며 상기 제6 입력 포트를 통한 양압의 인가 시 상기 코너 부분의 내부를 향해 팽창하도록 구성 가능함-;
상기 코너 부분에 제공되어 상기 하부 우측 벽의 적어도 일부를 형성하는 제7 팽창 가능 부재 -상기 제7 팽창 가능 부재는 제7 입력 포트를 가지며 상기 제7 입력 포트를 통한 양압의 인가 시 상기 코너 부분의 내부를 향해 팽창하도록 구성 가능함-; 및
상기 관형 부분에 제공되어 상기 상부 우측 벽의 적어도 일부를 형성하는 제8 팽창 가능 부재 -상기 제8 팽창 가능 부재는 제8 입력 포트를 가지며 상기 제8 입력 포트를 통한 양압의 인가 시 상기 코너 부분의 내부를 향해 팽창하도록 구성 가능함-;
를 더 포함하는, 하지 마사지 시스템.
제1항에 있어서,
하지가 상기 메인 하우징 내에 삽입될 때, 상기 제1 단부 섹션은 상기 하지의 적어도 종아리 부분을 수용하도록 구성 가능하고, 상기 제2 단부 섹션은 상기 하지의 적어도 발가락 부분을 수용하도록 구성 가능하며, 상기 코너 부분은 상기 하지의 적어도 발목 및 발뒤꿈치를 수용하도록 구성 가능한, 하지 마사지 시스템.
제4항에 있어서,
상기 제3 팽창 가능 부재는 실질적으로 L형 몸체를 포함함;
상기 제4 팽창 가능 부재는 실질적으로 L형 몸체를 포함함;
상기 제5 팽창 가능 부재는 실질적으로 L형 몸체를 포함함;
상기 제6 팽창 가능 부재는 실질적으로 정방형 몸체를 포함함;
상기 제7 팽창 가능 부재는 실질적으로 정방형 몸체를 포함함;
상기 제8 팽창 가능 부재는 실질적으로 정방형 몸체를 포함함;
상기 제4 팽창 가능 부재 및 제5 팽창 가능 부재는 상기 제4 팽창 가능 부재 및 제5 팽창 가능 부재의 집합적인 형상이 정방형과 유사한 방식으로 인접하게 위치됨;
상기 제4 팽창 가능 부재 및 제5 팽창 가능 부재는 상기 제4 팽창 가능 부재 및 제5 팽창 가능 부재의 집합적인 형상이 상기 제8 팽창 가능 부재의 형상과 유사한 방식으로 인접하게 위치됨;
상기 제6 팽창 가능 부재 및 제7 팽창 가능 부재는 상기 제6 팽창 가능 부재 및 제7 팽창 가능 부재의 집합적인 형상이 L형과 유사한 방식으로 인접하게 위치됨; 및/또는
상기 제6 팽창 가능 부재 및 제7 팽창 가능 부재는 상기 제6 팽창 가능 부재 및 제7 팽창 가능 부재의 집합적인 형상이 상기 제3 팽창 가능 부재의 형상과 유사한 방식으로 인접하게 위치됨;
중 하나 이상이 적용되는, 하지 마사지 시스템.
제1항에 있어서,
상기 제1 팽창 가능 부재는 실질적으로 사다리꼴 형상의 몸체를 포함함;
상기 제2 팽창 가능 부재는 실질적으로 육각형 몸체를 포함함; 및/또는
상기 제1 팽창 가능 부재 및 제2 팽창 가능 부재는 상기 제1 팽창 가능 부재의 적어도 일부가 상기 제2 팽창 가능 부재에 인접하고 상기 제1 팽창 가능 부재가 상기 제2 팽창 가능 부재 및 상기 제2 단부 사이에 위치되도록 위치됨;
중 하나 이상이 적용되는, 하지 마사지 시스템.
제4항에 있어서,
상기 팽창 가능 부재들 중 하나 이상으로 양압을 제공하도록 작동 가능한 하나 이상의 양압 원을 더 포함하는, 하지 마사지 시스템.
제4항에 있어서,
상기 팽창 가능 부재들 중 하나 이상은 독립적으로 팽창 가능한, 하지 마사지 시스템.
제4항에 있어서,
상기 제1 팽창 가능 부재에 인가된 양압은 상기 연장 부분의 내부를 향하는 상기 제1 팽창 가능 부재의 팽창을 제어하도록 선택적으로 제어 가능함;
상기 제2 팽창 가능 부재에 인가된 양압은 상기 코너 부분의 내부를 향하는 상기 제2 팽창 가능 부재의 팽창을 제어하도록 선택적으로 제어 가능함;
상기 제3 팽창 가능 부재에 인가된 양압은 상기 코너 부분의 내부를 향하는 상기 제3 팽창 가능 부재의 팽창을 제어하도록 선택적으로 제어 가능함;
상기 제4 팽창 가능 부재에 인가된 양압은 상기 관형 부분의 내부를 향하는 상기 제4 팽창 가능 부재의 팽창을 제어하도록 선택적으로 제어 가능함;
상기 제5 팽창 가능 부재에 인가된 양압은 상기 관형 부분의 내부를 향하는 상기 제5 팽창 가능 부재의 팽창을 제어하도록 선택적으로 제어 가능함;
상기 제6 팽창 가능 부재에 인가된 양압은 상기 코너 부분의 내부를 향하는 상기 제6 팽창 가능 부재의 팽창을 제어하도록 선택적으로 제어 가능함;
상기 제7 팽창 가능 부재에 인가된 양압은 상기 코너 부분의 내부를 향하는 상기 제7 팽창 가능 부재의 팽창을 제어하도록 선택적으로 제어 가능함; 및
상기 제8 팽창 가능 부재에 인가된 양압은 상기 관형 부분의 내부를 향하는 상기 제8 팽창 가능 부재의 팽창을 제어하도록 선택적으로 제어 가능함;
중 하나 이상이 적용되는, 하지 마사지 시스템.
제4항에 있어서,
상기 제1 팽창 가능 부재는 네이팅(Neiting) 지압점 및/또는 샤시(Xiaxi) 지압점을 포함하여, 하나 이상의 지압점들에 압력을 인가하는 방식으로 의도적으로 팽창 가능함;
상기 제2 팽창 가능 부재는 충양(Chongyang) 지압점 및/또는 지에시(Jiexi) 지압점을 포함하여, 하나 이상의 지압점들에 압력을 인가하는 방식으로 의도적으로 팽창 가능함;
상기 제3 팽창 가능 부재는 푸쉔(Pushen) 지압점, 쉔마이(Shenmai) 지압점 및/또는 진먼(Jinmen) 지압점을 포함하여, 하나 이상의 지압점들에 압력을 인가하는 방식으로 의도적으로 팽창 가능함;
상기 제4 팽창 가능 부재는 페이양(Feiyang) 지압점 및/또는 와이취(Waiqu) 지압점을 포함하여, 하나 이상의 지압점들에 압력을 인가하는 방식으로 의도적으로 팽창 가능함;
상기 제5 팽창 가능 부재는 샹쥐쉬(Shangjuxu) 지압점 및/또는 펑룽(Fenglong) 지압점을 포함하여, 하나 이상의 지압점들에 압력을 인가하는 방식으로 의도적으로 팽창 가능함;
상기 제6 팽창 가능 부재는 슈이취안(Shuiquan) 지압점 및/또는 자오하이(Zhaohai) 지압점을 포함하여, 하나 이상의 지압점들에 압력을 인가하는 방식으로 의도적으로 팽창 가능함;
상기 제7 팽창 가능 부재는 지아오신(Jiaoxin) 지압점 및/또는 푸리우(Fuliu) 지압점을 포함하여, 하나 이상의 지압점들에 압력을 인가하는 방식으로 의도적으로 팽창 가능함; 및
상기 제8 팽창 가능 부재는 주빈(Zhubin) 지압점, 청샨(Chengshan) 지압점 및/또는 로우구(Lougu) 지압점을 포함하여, 하나 이상의 지압점들에 압력을 인가하는 방식으로 의도적으로 팽창 가능함;
중 하나 이상이 적용되는, 하지 마사지 시스템.
제1항에 있어서,
상기 전방 하부 벽과 접촉하도록 구성 가능한 하나 이상의 제2 돌출 부재들 -상기 하나 이상의 제2 돌출 부재들은 상기 연장 부분의 내부를 향해 돌출하도록 구동 가능하고 상기 제2 단부 섹션에 근접함-; 및
상기 후방 하부 벽과 접촉하도록 구성 가능한 하나 이상의 제3 돌출 부재들 -상기 하나 이상의 제3 돌출 부재들은 상기 코너 부분의 내부를 향해 돌출하도록 구동 가능하고 상기 코너 부분의 굽힘 섹션에 근접함 -;
을 더 포함하고,
상기 제1 팽창 가능 부재 및 상기 하나 이상의 제1 돌출 부재들은 리네이팅(Lineiting) 지압점을 포함하여, 상기 하지의 발가락 부분에 근접한 상기 발바닥의 적어도 일부에 압력을 인가하기 위해 협력하도록 구성 가능하며,
상기 하나 이상의 제2 돌출 부재들은 쉬미안(Shimian) 지압점을 포함하여, 상기 발의 적어도 발뒤꿈치 부분에 압력을 인가하도록 구성 가능하고,
상기 제2 팽창 가능 부재 및 상기 하나 이상의 제3 돌출 부재들은 용취안(Yongquan) 지압점에 압력을 인가하기 위해 협력하도록 구성 가능한, 하지 마사지 시스템.
제1항의 상기 하지 마사지 시스템을 제어하기 위한 프로세싱 시스템에 있어서,
프로세서를 포함하고,
상기 프로세서는
상기 메인 하우징의 내부를 향해 돌출하도록 상기 하나 이상의 돌출 부재들을 회전시키는 단계;
상기 제2 팽창 가능 부재 내에 점진적으로 증가하는 양압을 인가하는 단계;
상기 양압이 인가되는 동안, 상기 하나 이상의 돌출 부재들을 제1 시간 동안 제1 방향으로 회전시키는 단계;
상기 양압이 인가되는 동안, 상기 하나 이상의 돌출 부재들의 회전을 제2 시간 동안 정지시키는 단계;
상기 양압이 인가되는 동안, 상기 하나 이상의 돌출 부재들을 제3 시간 동안 제1 방향에 대향하는 제2 방향으로 회전시키는 단계; 및
상기 양압이 인가되는 동안, 상기 하나 이상의 돌출 부재들의 회전을 제4 시간 동안 정지시키는 단계;
로 구성 가능한, 프로세싱 시스템.
제13항에 있어서,
상기 프로세서는,
상기 메인 하우징의 내부를 향해 돌출하도록 상기 하나 이상의 제2 돌출 부재들을 구동시키는 단계;
상기 메인 하우징의 내부를 향해 돌출하도록 상기 하나 이상의 제3 돌출 부재들을 구동시키는 단계; 및
상기 제1 팽창 가능 부재 내에 점진적으로 증가하는 양압을 인가하는 단계;
로 구성 가능한, 프로세싱 시스템.
제13항에 있어서,
상기 프로세서는 용취안(Yongquan) 지압점(742)을 포함하여, 하나 이상의 지압점들에 압력을 인가하는 방식으로 상기 하나 이상의 제3 돌출 부재들을 협력적으로 회전시키고 상기 제2 팽창 가능 부재 및/또는 제1 팽창 가능 부재를 팽창시키도록 구성 가능한, 프로세싱 시스템.
제13항에 있어서,
상기 프로세서는 상기 동작들을 반복하도록 구성 가능한, 프로세싱 시스템.
제13항에 있어서,
제1 방향은 시계 방향임;
제1 시간은 약 0.1-5초임;
제2 시간은 약 0.1-5초임;
제3 시간은 약 0.1-5초임; 및/또는
제2 시간은 약 0.1-5초임;
중 하나 이상이 적용되는, 프로세싱 시스템.
제13항에 있어서,
제1 방향은 시계 방향임;
제1 시간은 약 0.1-0.9초임;
제2 시간은 약 0.2-0.8초임;
제3 시간은 약 0.2-0.9초임; 및/또는
제2 시간은 약 0.2-0.8초임;
중 하나 이상이 적용되는, 프로세싱 시스템.
하지를 수용하도록 구성 가능한 메인 하우징 -상기 메인 하우징은 상기 메인 하우징의 제1 단부에서 적어도 제1 단부 섹션, 메인 하우징의 다른 단부에서의 제2 단부 섹션, 좌측 벽 및 상기 좌측 벽에 대향하는 우측 벽을 포함함-; 및
복수의 팽창 가능 부재들 -상기 복수의 팽창 가능 부재들은 제1 단부 섹션에 근접한 상기 좌측 벽의 적어도 일부를 형성하는 제1 좌측 팽창 가능 부재 -상기 제1 좌측 팽창 가능 부재는 제1 입력 포트를 가지고 상기 제1 입력 포트를 통한 양압의 인가 시 상기 메인 하우징의 내부를 향해 팽창하도록 구성 가능함-; 제1 단부 섹션에 근접한 상기 좌측 벽의 적어도 일부를 형성하는 제2 좌측 팽창 가능 부재 -상기 제2 좌측 팽창 가능 부재는 제2 입력 포트를 가지고 상기 제2 입력 포트를 통한 양압의 인가 시 상기 메인 하우징의 내부를 향해 팽창하도록 구성 가능함-; 및 제1 단부 섹션에 근접한 상기 우측 벽의 적어도 일부를 형성하는 제1 우측 팽창 가능 부재 -상기 제1 우측 팽창 가능 부재는 제3 입력 포트를 가지고 상기 제3 입력 포트를 통한 양압의 인가 시 상기 메인 하우징의 내부를 향해 팽창하도록 구성 가능함-;을 포함함-;
을 포함하고,
상기 제1 좌측 팽창 가능 부재는 실질적으로 L형 몸체를 포함하며 상기 제2 좌측 팽창 가능 부재는 실질적으로 L형 몸체를 포함하는, 하지 마사지 시스템.
제19항에 있어서,
상기 제1 좌측 팽창 가능 부재, 제2 좌측 팽창 가능 부재 및 제1 우측 팽창 가능 부재 각각은 서로 독립적으로 팽창하도록 구성 가능하고,
하지가 상기 메인 하우징에 삽입될 때:
상기 제1 좌측 팽창 가능 부재는 페이양(Feiyang) 지압점 및/또는 와이취(Waiqu) 지압점을 포함하여, 상기 하지의 종아리의 제1 부분에 압력을 인가하는 방식으로 팽창하도록 구성 가능하며,
상기 제2 좌측 팽창 가능 부재는 샹쥐쉬(Shangjuxu) 지압점 및/또는 펑룽(Fenglong) 지압점을 포함하여, 상기 하지의 종아리의 제2 부분에 압력을 인가하는 방식으로 팽창하도록 구성 가능하고,
상기 제1 우측 팽창 가능 부재는 주빈(Zhubin) 지압점, 청샨(Chengshan) 지압점 및/또는 로우구(Lougu) 지압점을 포함하여, 상기 하지의 종아리의 제3 부분에 압력을 인가하는 방식으로 팽창하도록 구성 가능한, 하지 마사지 시스템.
제19항에 있어서,
상기 제2 단부 섹션에 근접한 상기 좌측 벽의 적어도 일부를 형성하는 제3 좌측 팽창 가능 부재 -상기 제3 좌측 팽창 가능 부재는 제4 입력 포트를 가지고 상기 제4 입력 포트를 통한 양압의 인가 시 상기 메인 하우징의 내부를 향해 팽창하도록 구성 가능함-;
상기 제2 단부 섹션에 근접한 상기 우측 벽의 적어도 일부를 형성하는 제2 우측 팽창 가능 부재 -상기 제2 우측 팽창 가능 부재는 제5 입력 포트를 가지고 상기 제5 입력 포트를 통한 양압의 인가 시 상기 메인 하우징의 내부를 향해 팽창하도록 구성 가능함-; 및
상기 제1 우측 팽창 가능 부재 및 제2 우측 팽창 가능 부재 사이에서 상기 우측 벽의 적어도 일부를 형성하는 제3 우측 팽창 가능 부재 -상기 제3 우측 팽창 가능 부재는 제6 입력 포트를 가지고 상기 제6 입력 포트를 통한 양압의 인가 시 상기 메인 하우징의 내부를 향해 팽창하도록 구성 가능함-;
를 더 포함하고,
상기 제3 좌측 팽창 가능 부재는 실질적으로 L형 몸체를 포함하며,
상기 제2 우측 팽창 가능 부재 및 제3 우측 팽창 가능 부재는 실질적으로 L형 몸체를 집합적으로 형성하는, 하지 마사지 시스템.
제19항에 있어서,
상기 팽창 가능 부재들 중 하나 이상에 양압을 제공하도록 작동 가능한 하나 이상의 양압원을 더 포함하는, 하지 마사지 시스템.
제19항에 있어서,
상기 팽창 가능 부재들 중 하나 이상은 독립적으로 팽창 가능한, 하지 마사지 시스템.
제19항에 있어서,
상기 팽창 가능 부재들 중 하나 이상에 인가된 양압은 하나 이상의 팽창 가능 부재들의 팽창을 제어하도록 선택적으로 제어 가능한, 하지 마사지 시스템.
제21항에 있어서,
상기 제3 좌측 팽창 가능 부재는 푸쉔(Pushen) 지압점, 쉔마이(Shenmai) 지압점 및/또는 진먼(Jinmen) 지압점을 포함하여, 하나 이상의 지압점들에 압력을 인가하는 방식으로 팽창하도록 구성 가능함;
상기 제2 우측 팽창 가능 부재는 슈이취안(Shuiquan) 지압점 및/또는 자오하이(Zhaohai) 지압점을 포함하여, 하나 이상의 지압점들에 압력을 인가하는 방식으로 팽창하도록 구성 가능함; 및/또는
상기 제3 우측 팽창 가능 부재는 지아오신(Jiaoxin) 지압점 및/또는 푸리우(Fuliu) 지압점을 포함하여, 하나 이상의 지압점들에 압력을 인가하는 방식으로 팽창하도록 구성 가능함;
중 하나 이상이 적용되는, 하지 마사지 시스템.