TWI666011B - 下肢按摩系統與裝置、以及用於控制下肢按摩系統與裝置的方法 - Google Patents

下肢按摩系統與裝置、以及用於控制下肢按摩系統與裝置的方法 Download PDF

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Abstract

實施例係關於下肢按摩系統，其具有形成一L形內部之部分。管狀部分包括第一端部、與上左及右壁。細長部分包括第二端部、與前頂及底壁。隅角部分形成於管狀部分與細長部分之間。隅角部分包括下左及右壁、與後頂及底壁。第一可膨脹構件形成該前頂壁部分，且係朝向該細長部分的內部可膨脹。第二可膨脹構件形成該後頂壁部分，且係朝向該隅角部分的內部可膨脹。突出構件係可定位在該後底壁的下方，且可致動以朝向該隅角部分的內部突出。第二可膨脹構件與突出構件可協作以施加壓力於該腳部的該底部上。突出構件繞著垂直於一線的一軸旋轉，該線係繪製於第二端部與該隅角部分的彎曲部之間。

Description

下肢按摩系統與裝置、以及用於控制下肢按摩系統與裝置的方法
本揭露大致上係關於按摩系統與裝置，且更具體地，尤其係關於用於執行某些身體部位（包括下肢的穴位點）的有目的地、針對性的按摩之系統、裝置、與方法。
最近在按摩技術中的幾個進步與改進已經令使用者能夠經由按摩裝置來按摩一或多個身體部位。按摩裝置包括用於按摩使用者的脖子及/或背部之部分或全部的按摩椅。一些按摩裝置還令使用者能夠按摩腿的上部，諸如大腿的一或多個部分。
目前的按摩裝置藉由經由一或多個機械突出物施加壓力或力至一或多個身體部位來操作，以模擬按摩師或按摩治療師（下文稱為「按摩師」）的按摩及/或揉捏動作。
本揭露中體認到，儘管具有機械突出物的目前的按摩裝置可適用於某些身體部位，例如使用者的背部及/或頸部部分，但是僅模擬按摩及/或揉捏動作的機械突出物可能不適於及/或未提供某些其他身體部位的適當按摩及/或舒緩緊張及/或疼痛，某些其他身體部位包括但不限於膝蓋周圍及/或下方的身體的一或多個部分（例如，小腿、腳踝、腳跟、腳的上及/或下背側部分、腳跟、腳趾、與腳趾的周圍區域等；以下稱為「下肢」）。具體地，僅模擬按摩及/或揉捏動作的習知機械突出物可能不適於及/或未提供某些壓力點的針對性及/或集中的按壓，諸如下肢的穴位點。
本實例實施例大致上係關於下肢按摩系統與裝置、以及用於控制下肢按摩系統與裝置的方法。此類系統與裝置尤其可執行某些身體部位（包括下肢的穴位點）的針對性按摩。
在例示性實施例中，描述了下肢按摩系統。該系統可包括主殼體、複數個可膨脹構件、以及一或多個突出構件。主殼體可包括協作地或相鄰地定位、形成、錨定、固定、彼此連通、及/或連接（或不連接）的複數個部分，以形成L形的內部空腔。形成主殼體的部分可包括管狀部分、細長部分、與隅角部分。管狀部分可包括在該主殼體的一端處的至少一第一端部、一上左壁、與相對於該上左壁的一上右壁。細長部分可包括在該主殼體的另一端處的至少一第二端部、一前頂壁、與相對於該前頂壁的一前底壁。隅角部分可形成在管狀部分與細長部分之間。隅角部分可包括至少一下左壁、相對於該下左壁的下右壁、後頂壁、與相對於該後頂壁的後底壁。該複數個可膨脹構件可包括第一可膨脹構件與第二可膨脹構件。第一可膨脹構件可設置在該細長部分中，並且形成與該第二端部鄰近之該前頂壁部分的至少一部分。該第一可膨脹構件可係可組態以朝向該細長部分的一內部膨脹。第二可膨脹構件可設置在該隅角部分中，並且形成該後頂壁部分的至少一部分，該第二可膨脹構件可組態以朝向該隅角部分的一內部膨脹。該複數個可膨脹構件還可包括第三可膨脹構件、第四可膨脹構件、第五可膨脹構件、第六可膨脹構件、第七可膨脹構件、與第八可膨脹構件。第三可膨脹構件可設置在該隅角部分中，並且可形成該下左壁的至少一部分。第四可膨脹構件可設置在該管狀部分中，並且可形成該上左壁的至少一部分。第五可膨脹構件可設置在該管狀部分中，並且可形成該上左壁的至少一部分。第六可膨脹構件可設置在該隅角部分中，並且可形成該下右壁的至少一部分。第七可膨脹構件可設置在該隅角部分中，並且可形成該下右壁的至少一部分。第八可膨脹構件可設置在該管狀部分中，並且可形成該上右壁的至少一部分。關於該一或多個突出構件，該一或多個突出構件可係可組態以與該底壁接觸。該一或多個突出構件可定位在至少該後底壁的下方，且可致動以朝向至少該隅角部分的該內部突出。該第二可膨脹構件與該一或多個突出構件可係可組態以協作，以施加一壓力於該下肢部分的該腳趾部分與該腳跟部分之間之該腳部的該底部的至少一部分上。該一或多個突出構件可係可組態以繞著垂直於一線的一軸旋轉，該線係繪製於該第二端部與該隅角部分的該彎曲部之間。該一或多個突出構件朝向該細長部分的該內部之該突出可經由該旋轉來控制。
在又另一例示性實施例中，描述了一種處理系統，其用於控制下肢按摩系統（例如，以上與本揭露中描述的一或多個系統）。該處理系統可包括一處理器。該處理器可係可組態以移動（例如，旋轉）一或多個突出構件，以朝向主殼體的內部（例如，細長部分及/或隅角部分）突出。該處理器可係進一步可組態以施加一逐漸增加的正壓力（例如，氣體及/或液體的插入）至一可膨脹構件中（例如，以上與本揭露中所描述的第二可膨脹構件）。該處理器可係進一步可組態以當該正壓力正在施加時，以一第一方向移動（例如，旋轉）該一或多個突出構件達一第一時間期間。該處理器可係進一步可組態以當該正壓力正在施加時，停止該一或多個突出構件之移動（例如，停止旋轉）達一第二時間期間。該處理器可係進一步可組態以當該正壓力正在施加時，以與該第一方向相對的一第二方向移動（例如，旋轉）該一或多個突出構件達一第三時間期間。該處理器可係進一步可組態以當該正壓力正在施加時，停止該一或多個突出構件之移動（例如，停止旋轉）達一第四時間期間。
本揭露中體認到，按摩技術的習知方法已令使用者能夠享受按摩及/或減輕緊張及/或肌肉的疼痛，而不需要雇請按摩師。通常，此類按摩裝置藉由經由一或多個機械突出物施加壓力及/或力（以下稱為「壓力」）來操作，以模擬按摩師的按摩及/或揉捏動作。但是，雖然此類習知的按摩裝置可適合於某些身體部位，僅機械突出物可能不適合於及/或可能不允許或提供某些其他身體部位（諸如下肢的一或多個部分）的適當按摩及/或舒緩緊張及/或疼痛。
本實例實施例大致上係關於下肢按摩系統、以及用於控制下肢按摩系統的方法。此類系統尤其可執行某些身體部位（包括下肢的穴位點）的針對性按摩。此等系統與其元件現在將參照附圖描述。
系統（例如，系統 10 ）。
圖1A與圖1D繪示用於執行使用者的下肢按摩的系統10的實例實施例的透視圖與前視圖。系統10可包括左子系統（例如，系統10a）及/或右子系統（例如，系統10b）。儘管圖式可將系統10繪示為包括左子系統10a與右子系統10b兩者，但是應理解到，系統10也可僅包括一子系統（例如，系統10a或10b），而不背離本揭露的教示。
關於左子系統10a，圖1B與圖1C分別繪示左與右側視圖。左子系統10a的一部分的實例實施例的分解或展開後視圖繪示在圖2中。
儘管圖1A繪示系統10經定向以允許當使用者的左及/或右下肢分別插入至左及/或右子系統10及/或10b中時，使用者坐著，但是應理解到，系統10的實例實施例還可當操作系統10時，允許使用者在其他位置中（例如，站著），而不脫離本揭露的教示。此外，左子系統10a及/或右子系統也可定向在一或多個其他位置中，例如，從圖1A中所繪示的位置旋轉+/-90度或更多或更少，以令使用者能夠在操作系統10時躺下，而不脫離本揭露的教示。
系統10還可包括一或多個正壓力源（未圖示），用於提供正壓力至系統10的一或多個可膨脹構件的一或多個輸入埠（例如，開口、埠、或柵門）中。例如，正壓力源可包括氣體及/或液體泵，其用於將氣體及/或液體引入系統10的一或多個可膨脹構件中（例如，以膨脹可膨脹構件），及/或從系統10的一或多個可膨脹構件移除氣體及/或液體（例如，以收縮或減小可膨脹構件的體積）。在一些實例實施例中，本揭露中描述的系統10的一或多個可膨脹構件可係可組態以用其他方式膨脹（或收縮或減少體積），諸如，經由應用（或不應用）電流、溫度（例如，熱及/或冷）、磁場、氣體、及/或水至一或多個可膨脹構件的一部分（例如，表面或接觸件）。
系統10還可包括一或多個處理器、控制器、或類似者（未圖示），其等尤其可組態或經組態以控制、管理、及/或操作系統10的一或多個元件。系統10還可包括一或多個資料庫（未圖示），一或多個數據庫尤其可組態以儲存按摩序列、系統10的一或多個元件要執行的動作、系統10的一或多個元件要執行（或不執行）的一或多個動作的持續時間、使用者概況與偏好、一或多個使用者的按摩的歷史、要按摩的下肢或其他身體部位的部分、要集中及/或施加壓力的穴位點、施加的壓力的量等。
此等與其他實例實施例現在將參照附圖描述。
左子系統（例如，系統 10a ）。
如至少圖1A至D與圖2A所繪示，系統10可包含左子系統10a。左子系統10a可係可組態或經組態以經由左子系統10a的主殼體接收左下肢。例如，主殼體及/或由主殼體形成的內部空腔可類似於鞋子、靴子、下肢的外部及/或內部、及/或L形本體、或其部分。左子系統10a可係可組態或經組態以接收腳、踝、及/或下肢的小腿的一部分。在一些實例實施例中，左子系統10a的主殼體與右子系統10b的主殼體可視為、稱為、及/或形成為單個主殼體，在這種情況下，單個主殼體可係或可不係可分離的或分離成分開的主殼體，及/或明顯區分為具有分離的主殼體。在一實例實施例中，左子系統10a是右子系統10b的鏡像。因此，以上與本揭露中描述的左子系統10a的元件及/或元件的功能的任何描述也同樣地或實質上適用於右子系統10b的對應元件的元件及/或功能。
左子系統10a可包含主殼體10a，主殼體包括相鄰地定位、配置、形成、錨定、固定、彼此連通、及/或連接的細長部分（例如，細長部分100）、管狀部分（例如，管狀部分120）、與隅角部分（例如，隅角部分110），以形成L形的內部空腔。左子系統10a還可包括一或多個可膨脹構件（例如，第一可膨脹構件102、第二可膨脹構件104、第三可膨脹構件112、第四可膨脹構件124、第五可膨脹構件122、第六可膨脹構件132、第七可膨脹構件134、第八可膨脹構件142、及/或其他可膨脹構件（未圖示））。左子系統10a還可包含一或多個第一突出構件（例如，第一突出構件302）、一或多個第二突出構件（例如，第二突出構件322）、一或多個第三突出構件（例如，第三突出構件312）、一或多個其他突出構件（未圖示）、及/或一或多個正壓力源。左子系統10a的此等元件現在將參照附圖描述。
細長部分（例如，細長部分100）。
在一實例實施例中，左子系統10a可包括細長部分100。細長部分100可包括端部（例如，第二端部101）、頂壁部分（例如，前頂壁部分103）、與底壁部分（例如，前底壁部分105）。細長部分100還可包括側壁。如至少圖1A與1B所繪示，第二端部101可係可組態或經組態以當下肢插入細長部分100中時，容納下肢的至少一腳趾部分（即，腳的腳趾）。
在實例實施例中，細長部分100還可包括後頂壁部分（例如，後頂壁部分113）、後底壁部分（例如，後底壁部分115及/或117）、下左壁部分（例如，下左壁部分110a）、及/或下右壁部分（例如，下右壁部分110b）的一些或全部。
隅角部分（例如，隅角部分110）。
左子系統10a還可包括隅角部分110。隅角部分110可包括彎曲部、頂壁部分（例如，後頂壁部分113）、底壁部分（例如，後底壁部分115及/或117）、左壁部分（例如，下左壁部分110a）、與右壁部分（例如，下右壁部分110b）。如至少圖1A所繪示，彎曲部分可係可組態或經組態以當下肢插入隅角部分110中時，容納下肢的至少一腳跟部分。
在實例實施例中，隅角部分110的一或多個部分可稱為及/或視為細長部分100的一部分。例如，頂壁部分113的一些或全部可稱為及/或視為細長部分100的一部分。此外，底壁部分115及/或117的一些或全部可稱為及/或視為細長部分100的一部分。
在實例實施例中，隅角部分110的一些其他部分可稱為及/或視為管狀部分120的一部分。例如，左壁部分110a的一些或全部可稱為及/或視為管狀部分120的一部分。此外，右壁部分110b的一些或全部可稱為及/或視為管狀部分120的一部分。
管狀部分（例如，管狀部分120）。
左子系統10a還可包括管狀部分120。管狀部分120可包括端部（例如，第一端部121）、左壁部分（例如，上左壁部分120a）、與右壁部分（例如，上右壁部分120b）。如至少圖1A所繪示，端部（例如，第一端部121）可係可組態或經組態以當下肢插入管狀部分120中時，容納下肢的至少一小腿部分。
在實例實施例中，管狀部分120還可包括後底壁部分115及/或117、下左壁部分110a、及/或下右壁部分110b的一些或全部。
可膨脹構件（例如，可膨脹構件102、104、112、122、124、132、134、142）。
左子系統10a還可包括一或多個可膨脹構件（例如，第一可膨脹構件102、第二可膨脹構件104、第三可膨脹構件112、第四可膨脹構件124、第五可膨脹構件122、第六可膨脹構件132、第七可膨脹構件134、第八可膨脹構件142、及/或其他可膨脹構件（未圖示））。各可膨脹構件可類似於袋子、布袋、或類似者，其當處於正常狀態中時，實質上係平的、平坦的、或收縮的，諸如，當沒有正壓力（例如，空氣、流體等）存在、引入、或正在引入可膨脹構件的內部中時，且當處於正在膨脹或膨脹狀態中時，體積、厚度、突出物、紋理、結構、及/或大小可膨脹，諸如，當正壓力（例如，空氣、流體等）存在、引入、或正在引入可膨脹構件的內部中時。
各可膨脹構件可形成為一或多種形狀與大小，並且可具有由一或多種材料製成的一或多個壁或薄膜。例如，各可膨脹構件的一或多個壁可包括任何形式的塑料材料，例如TPU（熱塑性聚胺甲酸酯）。
(i)第一可膨脹構件102。
在一實例實施例中，左子系統10a可包括第一可膨脹構件102，其鄰近或相鄰於第二端部101。例如，第一可膨脹構件102可係可定位或經定位成在下肢的腳趾部分上方及/或在相鄰於下肢的腳趾部分之腳的一部分上方。第一可膨脹構件102可形成前頂壁部分103的至少一部分。例如，第一可膨脹構件102可形成前頂壁部分103的內部表面的一部分。作為另一實例，第一可膨脹構件102可埋置於前頂壁部分103內。在此實例中，前頂壁部分103可包括用於與下肢接觸的可撓內部層與外部層，且第一可膨脹構件102（位於可撓內部層與外部層之間）可在第一可膨脹構件102膨脹或正在膨脹時推動或促使此類可撓內部層朝向細長部分100的內部。在又另一實例中，第一可膨脹構件102可形成前頂壁部分103的外部表面的一部分。
第一可膨脹構件102可係可組態或經組態以朝向細長部分100的內部膨脹。例如，第一可膨脹構件102可包括輸入埠（例如，圖3中所繪示的第一輸入埠102a），其用於從正壓力源接收正壓力（例如，空氣、流體等）之施加至第一可膨脹構件102的內部中。處理器（未圖示）可係可組態或經組態以控制正壓力源在第一可膨脹構件102中施加的正壓力（及/或移除正壓力或引入負壓力）的量、速率、及/或持續時間，且此類正壓力可獨立於其他可膨脹構件的一或多者（例如，可膨脹構件104、112、122、124、132、134、及/或142、以及系統10b的可膨脹構件的一或多者）控制及/或與其他可膨脹構件的一或多者一起控制。
在一實例實施例中，第一可膨脹構件102的一或多個部分可係可組態或經組態以有目的地膨脹多於（或少於）其他部分，以提供更有針對性或集中的壓力施加至下肢的一或多個特定區域（例如，在一或多個穴位點處）。例如，經施加至第一可膨脹構件102的正壓力可係有選擇性地可控制的，以使第一可膨脹構件102膨脹而將壓力施加至一或多個穴位點，諸如內庭穴位點702及/或俠谿穴位點704，如至少圖7A與圖7C所繪示。除此之外或代替地，第一可膨脹構件102的一或多個部分可係可組態或經組態以包括一或多個突出物、紋理、或類似者，以提供更有針對性或集中的壓力施加至下肢的一或多個特定區域（例如，在一或多個穴位點處），諸如至內庭穴位點702及/或俠谿穴位點704。
第一可膨脹構件102可形成為複數個形狀、大小、與構形的一或多者。例如，如圖3所繪示，第一可膨脹構件102可包括實質上梯形體形狀的本體（當膨脹及/或不膨脹時）。也可設想到第一可膨脹構件102的其他形狀，而不脫離本揭露的教示，只要當膨脹或正在膨脹時第一可膨脹構件102的形狀、大小、與構形提供施加壓力至一或多個穴位點，諸如內庭穴位點702及/或俠谿穴位點704。例如，第一可膨脹構件102可係實質上三角形的形狀、實質上矩形的形狀、實質上六角形的形狀、半圓形的形狀、半橢圓形的形狀、T形、此等或其他形狀的一或多者的組合等。
(ii)第二可膨脹構件104。
在一實例實施例中，左子系統10a可包括第二可膨脹構件104。第二可膨脹構件104可係可定位或經定位相鄰於第一可膨脹構件102及/或在腳的背側（或中間部分）的上方。第二可膨脹構件104可形成後頂壁部分113的至少一部分。例如，第二可膨脹構件104可形成後頂壁部分113的內部表面的一部分。作為另一實例，第二可膨脹構件104可埋置於後頂壁部分113內。在此實例中，後頂壁部分113可包括用於與下肢接觸的可撓內部層與外部層，且第二可膨脹構件104（位於可撓內部層與外部層之間）可在第二可膨脹構件104膨脹或正在膨脹時推動或促使此類可撓內部層朝向隅角部分110的內部。在又另一實例中，第二可膨脹構件104可形成後頂壁部分113的外部表面的一部分。
第二可膨脹構件104可係可組態或經組態以朝向隅角部分110的內部膨脹。例如，第二可膨脹構件104可包括輸入埠（例如，圖3中所繪示的第二輸入埠104a），其用於從正壓力源接收正壓力（例如，空氣、流體等）之施加至第二可膨脹構件104的內部中。處理器（未圖示）可係可組態或經組態以控制正壓力源在第二可膨脹構件104中施加的正壓力（及/或移除正壓力或引入負壓力）的量、速率、及/或持續時間，且此類正壓力可獨立於其他可膨脹構件的一或多者（例如，可膨脹構件102、112、122、124、132、134、及/或142、以及系統10b的可膨脹構件的一或多者）控制及/或與其他可膨脹構件的一或多者一起控制。
在一例示性實施例中，第二可膨脹構件104的一或多個部分可係可組態或經組態以有目的地膨脹多於（或少於）其他部分，以提供更有針對性或集中的壓力施加至下肢的一或多個特定區域（例如，在一或多個穴位點處）。例如，經施加至第二可膨脹構件104的正壓力可係有選擇性地可控制的，以使第二可膨脹構件104膨脹而將壓力施加至一或多個穴位點，諸如衝陽穴位點706及/或解谿穴位點708，如至少圖7A與圖7C所繪示。除此之外或代替地，第二可膨脹構件104的一或多個部分可係可組態或經組態以包括一或多個突出物、紋理、或類似者，以提供更有針對性或集中的壓力施加至下肢的一或多個特定區域（例如，在一或多個穴位點處），諸如衝陽穴位點706及/或解谿穴位點708。
第二可膨脹構件104可形成為複數個形狀、大小、與構形的一或多者。例如，如圖3所繪示，第二可膨脹構件104可包括實質上六角形形狀的本體（當膨脹及/或不膨脹時）。也可設想到第二可膨脹構件104的其他形狀，而不脫離本揭露的教示，只要當膨脹或正在膨脹時第二可膨脹構件104的形狀、大小、與構形提供施加壓力至一或多個穴位點，諸如衝陽穴位點706及/或解谿穴位點708。例如，第二可膨脹構件104可係實質上三角形的形狀、方形的形狀、實質上矩形的形狀、實質上六角形的形狀、圓形的形狀、橢圓形的形狀、此等或其他形狀的一或多者的組合等。
(iii)第三可膨脹構件112。
在一實例實施例中，左子系統10a可包括第三可膨脹構件112。第三可膨脹構件112可係可定位或經定位成覆蓋腳的腳跟與腳踝之間的下肢的至少一部分，並且也可覆蓋腳跟的一部分及/或腳踝上方的一部分。第三可膨脹構件112可形成下左壁部分110a的至少一部分。例如，第三可膨脹構件112可形成下左壁部分110a的內部表面的一部分。作為另一實例，第三可膨脹構件112可埋置於下左壁部分110a內。在此實例中，下左壁部分110a可包括用於與下肢接觸的可撓內部層與外部層，且第三可膨脹構件112（位於可撓內部層與外部層之間）可在第三可膨脹構件112膨脹或正在膨脹時推動或促使此類可撓內部層朝向隅角部分110的內部。在又另一實例中，第三可膨脹構件112可形成下左壁部分110a的外部表面的一部分。
第三可膨脹構件112可係可組態或經組態以朝向隅角部分110的內部膨脹。例如，第三可膨脹構件112可包括輸入埠（例如，圖4中所繪示的第三輸入埠112a），其用於從正壓力源接收正壓力（例如，空氣、流體等）之施加至第三可膨脹構件112的內部中。處理器（未圖示）可係可組態或經組態以控制正壓力源在第三可膨脹構件112中施加的正壓力（及/或移除正壓力或引入負壓力）的量、速率、及/或持續時間，且此類正壓力可獨立於其他可膨脹構件的一或多者（例如，可膨脹構件102、104、122、124、132、134、及/或142、以及系統10b的可膨脹構件的一或多者）控制及/或與其他可膨脹構件的一或多者一起控制。
在一例示性實施例中，第三可膨脹構件112的一或多個部分可係可組態或經組態以有目的地膨脹多於（或少於）其他部分，以提供更有針對性或集中的壓力施加至下肢的一或多個特定區域（例如，在一或多個穴位點處）。例如，經施加至第三可膨脹構件112的正壓力可係有選擇性地可控制的，以使第三可膨脹構件112膨脹而將壓力施加至一或多個穴位點，諸如僕參穴位點710、申脈穴位點712、及/或金門穴位點714，如至少圖7A所繪示。除此之外或代替地，第三可膨脹構件112的一或多個部分可係可組態或經組態以包括一或多個突出物、紋理、或類似者，以提供更有針對性或集中的壓力施加至下肢的一或多個特定區域（例如，在一或多個穴位點處），諸如僕參穴位點710、申脈穴位點712、及/或金門穴位點714。
第三可膨脹構件112可形成為複數個形狀、大小、與構形的一或多者。例如，如圖4所繪示，第三可膨脹構件112可包括實質上L形的本體（當膨脹及/或不膨脹時）。也可設想到第三可膨脹構件112的其他形狀，而不脫離本揭露的教示，只要當膨脹或正在膨脹時第三可膨脹構件112的形狀、大小、與構形提供施加壓力至一或多個穴位點，諸如僕參穴位點710、申脈穴位點712、及/或金門穴位點714。例如，第三可膨脹構件112可係實質上三角形的形狀、方形的形狀、實質上矩形的形狀、實質上六角形的形狀、圓形的形狀、橢圓形的形狀、此等或其他形狀的一或多者的組合等。
(iv)第四可膨脹構件124。
在一實例實施例中，左子系統10a可包括第四可膨脹構件124。第四可膨脹構件124可係可定位或經定位成覆蓋小腿的至少一部分。第四可膨脹構件124可形成左壁部分120a的至少一部分。例如，第四可膨脹構件124可形成上左壁部分120a的內部表面的一部分。作為另一實例，第四可膨脹構件124可埋置於上左壁部分120a內。在此實例中，上左壁部分120a可包括用於與下肢接觸的可撓內部層與外部層，且第四可膨脹構件124（位於可撓內部層與外部層之間）可在第四可膨脹構件124膨脹或正在膨脹時推動或促使此類可撓內部層朝向管狀部分120的內部。在又另一實例中，第四可膨脹構件124可形成上左壁部分120a的外部表面的一部分。
第四可膨脹構件124可係可組態或經組態以朝向管狀部分120的內部膨脹。例如，第四可膨脹構件124可包括輸入埠（例如，圖4中所繪示的第四輸入埠124a），其用於從正壓力源接收正壓力（例如，空氣、流體等）之施加至第四可膨脹構件124的內部中。處理器（未圖示）可係可組態或經組態以控制正壓力源在第四可膨脹構件124中施加的正壓力（及/或移除正壓力或引入負壓力）的量、速率、及/或持續時間，且此類正壓力可獨立於其他可膨脹構件的一或多者（例如，可膨脹構件102、104、112、122、132、134、及/或142、以及系統10b的可膨脹構件的一或多者）控制及/或與其他可膨脹構件的一或多者一起控制。
在一例示性實施例中，第四可膨脹構件124的一或多個部分可係可組態或經組態以有目的地膨脹多於（或少於）其他部分，以提供更有針對性或集中的壓力施加至下肢的一或多個特定區域（例如，在一或多個穴位點處）。例如，經施加至第四可膨脹構件124的正壓力可係有選擇性地可控制的，以使第四可膨脹構件124膨脹而將壓力施加至一或多個穴位點，諸如飛揚穴位點720及/或外丘穴位點722，如至少圖7A與圖7D所繪示。除此之外或代替地，第四可膨脹構件124的一或多個部分可係可組態或經組態以包括一或多個突出物、紋理、或類似者，以提供更有針對性或集中的壓力施加至下肢的一或多個特定區域（例如，在一或多個穴位點處），諸如飛揚穴位點720及/或外丘穴位點722。
第四可膨脹構件124可形成為複數個形狀、大小、與構形的一或多者。例如，如圖4所繪示，第四可膨脹構件124可包括實質上L形的本體（當膨脹及/或不膨脹時）。也可設想到第四可膨脹構件124的其他形狀，而不脫離本揭露的教示，只要當膨脹或正在膨脹時第四可膨脹構件124的形狀、大小、與構形提供施加壓力至一或多個穴位點，諸如飛揚穴位點720及/或外丘穴位點722。例如，第四可膨脹構件124可係實質上三角形的形狀、方形的形狀、實質上矩形的形狀、實質上六角形的形狀、圓形的形狀、橢圓形的形狀、此等或其他形狀的一或多者的組合等。
(v)第五可膨脹構件122。
在一實例實施例中，左子系統10a可包括第五可膨脹構件122。第五可膨脹構件122可係可定位或經定位成覆蓋小腿的至少一部分。第五可膨脹構件122可形成上左壁部分120a的至少一部分。例如，第五可膨脹構件122可形成上左壁部分120a的內部表面的一部分。作為另一實例，第五可膨脹構件122可埋置於上左壁部分120a內。在此實例中，上左壁部分120a可包括用於與下肢接觸的可撓內部層與外部層，且第五可膨脹構件122（位於可撓內部層與外部層之間）可在第五可膨脹構件122膨脹或正在膨脹時推動或促使此等可撓內部層朝向管狀部分120的內部。在又另一實例中，第五可膨脹構件122可形成上左壁部分的外部表面的一部分。
第五可膨脹構件122可係可組態或經組態以朝向管狀部分120的內部膨脹。例如，第五可膨脹構件122可包括輸入埠（例如，圖4中所繪示的第五輸入埠122a），其用於從正壓力源接收正壓力（例如，空氣、流體等）之施加至第五可膨脹構件122的內部中。處理器（未圖示）可係可組態或經組態以控制正壓力源在第五可膨脹構件122中施加的正壓力（及/或移除正壓力或引入負壓力）的量、速率、及/或持續時間，且此類正壓力可獨立於其他可膨脹構件的一或多者（例如，可膨脹構件102、104、112、124、132、134、及/或142、以及系統10b的可膨脹構件的一或多者）控制及/或與其他可膨脹構件的一或多者一起控制。
在一例示性實施例中，第五可膨脹構件122的一或多個部分可係可組態或經組態以有目的地膨脹多於（或少於）其他部分，以提供更有針對性或集中的壓力施加至下肢的一或多個特定區域（例如，在一或多個穴位點處）。例如，經施加至第五可膨脹構件122的正壓力可係有選擇性地可控制的，以使第五可膨脹構件122膨脹而將壓力施加至一或多個穴位點，諸如上巨虛穴位點716及/或豐隆穴位點718，如至少圖7A與圖7C所繪示。除此之外或代替地，第五可膨脹構件122的一或多個部分可係可組態或經組態以包括一或多個突出物、紋理、或類似者，以提供更有針對性或集中的壓力施加至下肢的一或多個特定區域（例如，在一或多個穴位點處），諸如上巨虛穴位點716及/或豐隆穴位點718。
第五可膨脹構件122可形成為複數個形狀、大小、與構形的一或多者。例如，如圖4所繪示，第五可膨脹構件122可包括實質上L形的本體（當膨脹及/或不膨脹時）。也可設想到第五可膨脹構件122的其他形狀，而不脫離本揭露的教示，只要當膨脹或正在膨脹時第五可膨脹構件122的形狀、大小、與構形提供施加壓力至一或多個穴位點，諸如上巨虛穴位點716及/或豐隆穴位點718。例如，第五可膨脹構件122可係實質上三角形的形狀、方形的形狀、實質上矩形的形狀、實質上六角形的形狀、圓形的形狀、橢圓形的形狀、此等或其他形狀的一或多者的組合等。在一實例實施例中，第四可膨脹構件124與第五可膨脹構件122可以第四可膨脹構件124與第五可膨脹構件122的集體形狀類似於四邊形的方式相鄰地定位。替代地或額外地，第四可膨脹構件124與第五可膨脹構件122以第四可膨脹構件124與第五可膨脹構件122的集體形狀類似於第八可膨脹構件142的形狀的方式相鄰地定位。
(vi)第六可膨脹構件132。
在一實例實施例中，左子系統10a可包括第六可膨脹構件132。第六可膨脹構件132可係可定位或經定位成覆蓋腳的腳跟與腳踝之間的下肢的至少一部分，並且也可覆蓋腳跟的一部分及/或腳踝上方的一部分。第六可膨脹構件132可形成下右壁部分110b的至少一部分。例如，第六可膨脹構件132可形成下右壁部分110b的內部表面的一部分。作為另一實例，第六可膨脹構件132可埋置於下右壁部分110b內。在此實例中，下右壁部分110b可包括用於與下肢接觸的可撓內部層與外部層，且第六可膨脹構件132（位於可撓內部層與外部層之間）可在第六可膨脹構件132膨脹或正在膨脹時推動或促使此類可撓內部層朝向隅角部分110的內部。在又另一實例中，第六可膨脹構件132可形成下右壁部分110b的外部表面的一部分。
第六可膨脹構件132可係可組態或經組態以朝向隅角部分110的內部膨脹。例如，第六可膨脹構件132可包括輸入埠（例如，圖5中所繪示的第六輸入埠132a），其用於從正壓力源接收正壓力（例如，空氣、流體等）之施加至第六可膨脹構件132的內部中。處理器（未圖示）可係可組態或經組態以控制正壓力源在第六可膨脹構件132中施加的正壓力（及/或移除正壓力或引入負壓力）的量、速率、及/或持續時間，且此類正壓力可獨立於其他可膨脹構件的一或多者（例如，可膨脹構件102、104、112、122、124、134、及/或142、以及系統10b的可膨脹構件的一或多者）控制及/或與其他可膨脹構件的一或多者一起控制。
在一實例實施例中，第六可膨脹構件132的一或多個部分可係可組態或經組態以有目的地膨脹多於（或少於）其他部分，以提供更有針對性或集中的壓力施加至下肢的一或多個特定區域（例如，在一或多個穴位點處）。例如，經施加至第六可膨脹構件132的正壓力可係有選擇性地可控制的，以使第六可膨脹構件132膨脹而將壓力施加至一或多個穴位點，諸如水泉穴位點724及/或照海穴位點726，如至少圖7B所繪示。除此之外或代替地，第六可膨脹構件132的一或多個部分可係可組態或經組態以包括一或多個突出物、紋理、或類似者，以提供更有針對性或集中的壓力施加至下肢的一或多個特定區域（例如，在一或多個穴位點處），諸如水泉穴位點724及/或照海穴位點726。
第六可膨脹構件132可形成為複數個形狀、大小、與構形的一或多者。例如，如圖5所繪示，第六可膨脹構件132可包括實質上四邊形形狀的本體（當膨脹及/或不膨脹時）。也可設想到第六可膨脹構件132的其他形狀，而不脫離本揭露的教示，只要當膨脹或正在膨脹時第六可膨脹構件132的形狀、大小、與構形提供施加壓力至一或多個穴位點，諸如水泉穴位點724及/或照海穴位點726。例如，第六可膨脹構件132可係實質上三角形的形狀、方形的形狀、實質上矩形的形狀、實質上六角形的形狀、圓形的形狀、橢圓形的形狀、此等或其他形狀的一或多者的組合等。
(vii)第七可膨脹構件134。
在一實例實施例中，左子系統10a可包括第七可膨脹構件134。第七可膨脹構件134可係可定位或經定位成覆蓋腳踝的一部分及/或腳踝上方的一部分。第七可膨脹構件134可形成下右壁部分110b的至少一部分。例如，第七可膨脹構件134可形成下右壁部分110b的內部表面的一部分。作為另一實例，第七可膨脹構件134可埋置於下右壁部分110b內。在此實例中，下右壁部分110b可包括用於與下肢接觸的可撓內部層與外部層，且第七可膨脹構件134（位於可撓內部層與外部層之間）可在第七可膨脹構件134膨脹或正在膨脹時推動或促使此類可撓內部層朝向隅角部分110的內部。在又另一實例中，第七可膨脹構件134可形成下右壁部分110b的外部表面的一部分。
第七可膨脹構件134可係可組態或經組態以朝向隅角部分110的內部膨脹。例如，第七可膨脹構件134可包括輸入埠（例如，圖5中所繪示的第七輸入埠134a），其用於從正壓力源接收正壓力（例如，空氣、流體等）之施加至第七可膨脹構件134的內部中。處理器（未圖示）可係可組態或經組態以控制正壓力源在第七可膨脹構件134中施加的正壓力（及/或移除正壓力或引入負壓力）的量、速率、及/或持續時間，且此類正壓力可獨立於其他可膨脹構件的一或多者（例如，可膨脹構件102、104、112、122、124、132、及/或142、以及系統10b的可膨脹構件的一或多者）控制及/或與其他可膨脹構件的一或多者一起控制。
在一實例實施例中，第七可膨脹構件134的一或多個部分可係可組態或經組態以有目的地膨脹多於（或少於）其他部分，以提供更有針對性或集中的壓力施加至下肢的一或多個特定區域（例如，在一或多個穴位點處）。例如，經施加至第七可膨脹構件134的正壓力可係有選擇性地可控制的，以使第七可膨脹構件134膨脹而將壓力施加至一或多個穴位點，諸如交信穴位點728及/或復溜穴位點730，如至少圖7B所繪示）。除此之外或代替地，第七可膨脹構件134的一或多個部分可係可組態或經組態以包括一或多個突出物、紋理、或類似者，以提供更有針對性或集中的壓力施加至下肢的一或多個特定區域（例如，在一或多個穴位點處），諸如交信穴位點728及/或復溜穴位點730。
第七可膨脹構件134可形成為複數個形狀、大小、與構形的一或多者。例如，如圖5所繪示，第七可膨脹構件134可包括實質上四邊形形狀的本體（當膨脹及/或不膨脹時）。也可設想到第七可膨脹構件134的其他形狀，而不脫離本揭露的教示，只要當膨脹或正在膨脹時第七可膨脹構件134的形狀、大小、與構形提供施加壓力至一或多個穴位點，諸如交信穴位點728及/或復溜穴位點730。例如，第七可膨脹構件134可係實質上三角形的形狀、方形的形狀、實質上矩形的形狀、實質上六角形的形狀、圓形的形狀、橢圓形的形狀、此等或其他形狀的一或多者的組合等。
(viii)第八可膨脹構件142。
在一實例實施例中，左子系統10a可包括第八可膨脹構件142。第八可膨脹構件142可係可定位或經定位成覆蓋小腿的至少一部分。第八可膨脹構件142可形成上右壁部分120b的至少一部分。例如，第八可膨脹構件142可形成上右壁部分120b的內部表面的一部分。作為另一實例，第八可膨脹構件142可埋置於上右壁部分120b內。在此實例中，上右壁部分120b可包括用於與下肢接觸的可撓內部層與外部層，且第八可膨脹構件142（位於可撓內部層與外部層之間）可在第八可膨脹構件142膨脹或正在膨脹時推動或促使此等可撓內部層朝向管狀部分120的內部。在又另一實例中，第八可膨脹構件142可形成上右壁部分120b的外部表面的一部分。
第八可膨脹構件142可係可組態或經組態以朝向管狀部分120的內部膨脹。例如，第八可膨脹構件142可包括輸入埠（例如，圖5中所繪示的第八輸入埠142a），其用於從正壓力源接收正壓力（例如，空氣、流體等）之施加至第八可膨脹構件142的內部中。處理器（未圖示）可係可組態或經組態以控制正壓力源在第八可膨脹構件142中施加的正壓力（及/或移除正壓力或引入負壓力）的量、速率、及/或持續時間，且此類正壓力可獨立於其他可膨脹構件的一或多者（例如，可膨脹構件102、104、112、122、124、132、及/或134、以及系統10b的可膨脹構件的一或多者）控制及/或與其他可膨脹構件的一或多者一起控制。
在一實例實施例中，第八可膨脹構件142的一或多個部分可係可組態或經組態以有目的地膨脹多於（或少於）其他部分，以提供更有針對性或集中的壓力施加至下肢的一或多個特定區域（例如，在一或多個穴位點處）。例如，經施加至第八可膨脹構件142的正壓力可係有選擇性地可控制的，以使第八可膨脹構件142膨脹而將壓力施加至一或多個穴位點，諸如築賓穴位點732、漏谷穴位點734、及/或承山穴位點736，如至少圖7B至D所繪示）。除此之外或代替地，第八可膨脹構件142的一或多個部分可係可組態或經組態以包括一或多個突出物、紋理、或類似者，以提供更有針對性或集中的壓力施加至下肢的一或多個特定區域（例如，在一或多個穴位點處），諸如築賓穴位點732、漏谷穴位點734、及/或承山穴位點736。
第八可膨脹構件142可形成為複數個形狀、大小、與構形的一或多者。例如，如圖5所繪示，第八可膨脹構件142可包括實質上四邊形形狀的本體（當膨脹及/或不膨脹時）。也可設想到第八可膨脹構件142的其他形狀，而不脫離本揭露的教示，只要當膨脹或正在膨脹時第八可膨脹構件142的形狀、大小、與構形提供施加壓力至一或多個穴位點，諸如築賓穴位點732、漏谷穴位點734、及/或承山穴位點736。例如，第八可膨脹構件142可係實質上三角形的形狀、方形的形狀、實質上矩形的形狀、實質上六角形的形狀、圓形的形狀、橢圓形的形狀、此等或其他形狀的一或多者的組合等。
第一突出構件（例如，第一突出構件302）。
如圖1B至C、圖6A、圖6B、與圖6C中所繪示，左子系統10a還可包括一或多個第一突出構件（例如，第一突出構件302），其鄰近或相鄰於第二端部101。一或多個第一突出構件（例如，第一突出構件302）可係可定位或經定位成在下肢的腳趾部分下方及/或在相鄰於下肢的腳趾部分之腳的一部分下方。一或多個第一突出構件302可與底壁部分的至少一部分接觸或可移動以與底壁部分105的至少一部分接觸。
一或多個第一突出構件302可係可組態或經組態以朝向細長部分100的內部突出。處理器（未圖示）可係可組態或經組態以控制一或多個第一突出構件302的運動，且此類運動可獨立於一或多個其他的突出構件（例如，突出構件312及/或322）控制及/或與一或多個其他的突出構件一起控制。在一實例實施例中，藉由一或多個第一突出構件302施加的壓力可係有選擇性地可控制的，以將壓力施加至一或多個穴位點，諸如里內庭穴位點738，如至少圖7E所繪示。
一或多個第一突出構件302可形成為複數個形狀、大小、與構形的一或多者。例如，如圖6A至C中所繪示，一或多個第一突出構件302可包括具有圓形端部之實質上細長的本體。也可設想到一或多個第一突出構件302的其他形狀，而不脫離本揭露的教示，只要當膨脹或正在膨脹時一或多個第一突出構件302的形狀、大小、與構形提供施加壓力至一或多個穴位點，諸如里內庭穴位點738。
第二突出構件（例如，第二突出構件322）。
如圖1B至C與圖6A至C中所繪示，左子系統10a還可包括一或多個第二突出構件（例如，第二突出構件322），其鄰近於隅角部分110的彎曲部。一或多個第二突出構件322可係可定位或經定位在下肢的腳跟部分的下方。一或多個第二突出構件322可與底壁部分的至少一部分接觸或可移動以與底壁部分117的至少一部分接觸。
一或多個第二突出構件322可係可組態或經組態以朝向隅角部分110的內部突出。處理器（未圖示）可係可組態或經組態以控制一或多個第二突出構件322的運動，且此類運動可獨立於一或多個其他的突出構件（例如，突出構件322及/或312）控制及/或與一或多個其他的突出構件一起控制。在一實例實施例中，藉由一或多個第二突出構件322施加的壓力可係有選擇性地可控制的，以將壓力施加至一或多個穴位點，諸如失眠穴位點740，如至少圖7E所繪示。
一或多個第二突出構件322可形成為複數個形狀、大小、與構形的一或多者。例如，如圖6A至C中所繪示，一或多個第二突出構件322可包括具有一或多個突出物之實質上細長的本體。也可設想到一或多個第二突出構件322的其他形狀，而不脫離本揭露的教示，只要當膨脹或正在膨脹時一或多個第二突出構件322的形狀、大小、與構形提供施加壓力至一或多個穴位點，諸如失眠穴位點740。
第三突出構件（例如，第三突出構件312）。
如圖1B至C與圖6A至C中所繪示，左子系統10a還可包括在一或多個第一突出構件302與一或多個第二突出構件322之間的一或多個第三突出構件（例如，第三突出構件312）。一或多個第三突出構件312可與底壁部分的至少一部分接觸或可移動以與底壁部分115的至少一部分接觸。
一或多個第三突出構件312可係可組態或經組態以朝向隅角部分110的內部突出。處理器（未圖示）可係可組態或經組態以控制一或多個第三突出構件312的運動，且此類運動可獨立於一或多個其他的突出構件（例如，突出構件302及/或322）控制及/或與一或多個其他的突出構件一起控制。在一實例實施例中，藉由一或多個第三突出構件312施加的壓力可係有選擇性地可控制的，以將壓力施加至一或多個穴位點，諸如湧泉穴位點742，如至少圖7E所繪示。
一或多個第三突出構件312可形成為複數個形狀、大小、與構形的一或多者。例如，如圖6A至C中所繪示，一或多個第三突出構件312可係繞著垂直於一軸（例如，圖6A至C中所繪示的軸Y）或一線（該線係繪製於第二端部101與隅角部分110的彎曲部之間）的一軸（例如，圖6A至C中所繪示的軸X）可旋轉。也可設想到一或多個第三突出構件312的其他構形及/或形狀，而不脫離本揭露的教示，只要當膨脹或正在膨脹時一或多個第三突出構件312的形狀、大小、與構形提供施加壓力至一或多個穴位點，諸如湧泉穴位點742。
處理器。
在一實例實施例中，系統10還可包含一或多個處理器（未圖示）。處理器可以是單個或一體式元件及/或實體上分離的元件。處理器可以是任何處理器、微處理器、控制器、微控制器、微晶片、行動裝置、半導體裝置、或類似者，其可組態以執行資訊的處理及/或其他預定動作。在一實例實施例中，藉由處理器所處理或可處理的資訊可以是任何資訊，包括用來偵測、測量、確認、致動或移動、防止或停止致動或移動、控制、及/或管理系統10、10a、系統10、10a的一或多個元件、及/或系統10、10a的使用者的特定運動（或不運動）之資訊。作為非限制性的實例，藉由處理器所處理或可處理的資訊可包括關於由可膨脹構件的一或多者執行及/或在可膨脹構件的一或多者上執行的動作（或不動作）之資訊。作為另一非限制性的實例，藉由處理器所處理或可處理的資訊可包括關於由一或多個突出構件執行及/或在一或多個突出構件上執行的動作（或不動作）之資訊。作為另一非限制性的實例，藉由處理器所處理或可處理的資訊可包括關於一或多個正壓力源的操作（或不操作）之資訊。作為另一非限制性的實例，藉由處理器所處理或可處理的資訊可包括關於一或多個感測器（未圖示）之資訊，一或多個感測器使用以致動或移動、防止致動或移動、控制、及/或管理系統10、10a的一或多個元件。作為另一非限制性的實例，藉由處理器所處理或可處理的資訊可包括關於由可膨脹構件的一或多者在使用者的下肢的至少一部分上施加的壓力或力之資訊。作為另一非限制性的實例，藉由處理器所處理或可處理的資訊可包括關於系統10、10a、系統10、10a的一或多個元件、及/或系統10、10a的使用者的單一移動及/或移動序列（例如，按摩動作的序列）之資訊。
處理器可係可組態或經組態以驅動、致動、控制、及/或管理左系統10a（獨立地或一起），以執行一或多個動作序列。此類動作可包括（或不包括）上面與本揭露中所描述的左系統10a的元件的一或多者，可包括額外的元件，可用與下面與在本揭露中描述的動作不同之序列、動作、組合、及/或組態來執行及/或使用，及/或元件的一或多者（及/或多個元件的多個元件）可組合成單個元件或分成兩個或更多個元件。
在一實例實施例中，處理器可係可組態或經組態以旋轉一或多個第三突出構件312，以朝向主殼體的內部突出（例如，朝向隅角部分110的內部突出）。例如，按摩序列的開始點可係當一或多個第三突出構件312旋轉並定位至其最高位置時（例如，最突出至隅角部分110中，如圖6B中所繪示）。處理器可進一步可組態或經組態以使一或多個正壓力源施加正壓力至第二可膨脹構件104中。例如，所施加的正壓力可係逐漸增加的正壓力（或逐漸減小的負壓力）。處理器可進一步可組態或經組態以以第一方向（例如，圖6B中繪示的順時針或方向A）旋轉一或多個第三突出構件312達一第一時間期間（例如，0.1至5秒之間，或較佳地，0.1至0.9秒）。例如，該旋轉可在正在施加（及/或增加或減少）正壓力時執行。處理器可進一步可組態或經組態以停止一或多個第三突出構件312的旋轉達一第二時間期間（例如，0.1至5秒之間，或較佳地，0.2至0.8秒）。例如，停止該旋轉可在正在施加（及/或增加或減少）正壓力時執行。處理器可進一步可組態或經組態以以與第一方向相對的第二方向旋轉一或多個第三突出構件312達一第三時間期間（例如，0.1至5秒之間，或較佳地，0.2至0.9秒）。例如，該旋轉可在正在施加（及/或增加或減少）正壓力時執行。處理器可進一步可組態或經組態以停止一或多個第三突出構件312的旋轉達一第四時間期間（例如，0.1至5秒之間，或較佳地，0.2至0.8秒）。例如，停止該旋轉可在正在施加（及/或增加或減少）正壓力時執行。處理器可進一步可組態或經組態以移動一或多個第一突出構件302，以朝向主殼體的內部突出（例如，朝向隅角部分110的內部突出）。例如，第一突出構件的該移動可在正在施加（及/或增加或減少）正壓力時執行。處理器可進一步可組態或經組態以移動一或多個第二突出構件322，以朝向主殼體的內部突出（例如，朝向隅角部分110的內部突出）。例如，第二突出構件的該移動可在正在施加（及/或增加或減少）正壓力時執行。處理器可進一步可組態或經組態以施加正壓力至第一可膨脹構件102中。例如，經施加至第一可膨脹構件中的正壓力可係逐漸增加的正壓力。另外，施加正壓力至第一可膨脹構件中可在正在施加（及/或增加或減少）正壓力時執行。
關於以上與本揭露中描述的動作，處理器可係可組態或經組態以協作地旋轉一或多個第三突出構件312，並且使第二可膨脹構件104及/或第一可膨脹構件102膨脹，以施加壓力至一或多個穴位點，包括湧泉穴位點742。在以上與本揭露中描述的一或多個動作期間、之間、或之後，處理器可可組態或經組態以使可膨脹構件的一或多者膨脹，諸如第三可膨脹構件112、第四可膨脹構件124、第五可膨脹構件122、第六可膨脹構件132、第七可膨脹構件134、及/或第八可膨脹構件142。一或多個可膨脹構件的此類膨脹可藉由逐漸增加施加至一或多個可膨脹構件的正壓力來執行。
在一實例實施例中，處理器可係可組態或經組態以用相同的順序、相反的順序、及/或不同的順序、及/或添加或省略一或多個動作來重複左系統10a的元件的動作，且此類重複可執行多次，諸如1至10次之間，或較佳地，2至6次。
雖然根據所揭示的原理的各種實施例已經在上面描述，但應理解到，其等僅藉由實例的方式呈現，而不是限制性的。因此，本揭露中描述的實例實施例的廣度與範圍不應受限於上述的例示性實施例之任何者，而是應當僅根據申請專利範圍及本揭露所得出的其均等物來界定。此外，在描述的實施例中提供了上述優點與特徵，但不應限制此類公佈的申請專利範圍的應用至實現任何或所有上述優點的程序與結構。
例如，如本文所提及，控制器、處理器、及/或裝置可係任何計算裝置或通訊裝置，並且可包括在連網計算環境中的虛擬機、電腦、節點、例項、主機、或機器。
10‧‧‧系統
10a‧‧‧左子系統
10b‧‧‧右子系統
100‧‧‧細長部分
101‧‧‧第二端部
102‧‧‧第一可膨脹構件
102a‧‧‧第一輸入埠
103‧‧‧前頂壁部分
104‧‧‧第二可膨脹構件
104a‧‧‧第二輸入埠
105‧‧‧前底壁部分
110‧‧‧隅角部分
110a‧‧‧下左壁部分
110b‧‧‧下右壁部分
112‧‧‧第三可膨脹構件
112a‧‧‧第三輸入埠
113‧‧‧後頂壁部分
115、117‧‧‧後底壁部分
120‧‧‧管狀部分
120a‧‧‧上左壁部分
120b‧‧‧上右壁部分
121‧‧‧第一端部
122‧‧‧第五可膨脹構件
122a‧‧‧第五輸入埠
124‧‧‧第四可膨脹構件
124a‧‧‧第四輸入埠
132‧‧‧第六可膨脹構件
132a‧‧‧第六輸入埠
134‧‧‧第七可膨脹構件
134a‧‧‧第七輸入埠
142‧‧‧第八可膨脹構件
142a‧‧‧第八輸入埠
302‧‧‧第一突出構件
312‧‧‧第三突出構件
322‧‧‧第二突出構件
702‧‧‧內庭穴位點
704‧‧‧俠谿穴位點
706‧‧‧衝陽穴位點
708‧‧‧解谿穴位點
710‧‧‧僕參穴位點
712‧‧‧申脈穴位點
714‧‧‧金門穴位點
716‧‧‧上巨虛穴位點
718‧‧‧豐隆穴位點
720‧‧‧飛揚穴位點
722‧‧‧外丘穴位點
724‧‧‧水泉穴位點
726‧‧‧照海穴位點
728‧‧‧交信穴位點
730‧‧‧復溜穴位點
732‧‧‧築賓穴位點
734‧‧‧漏谷穴位點
736‧‧‧承山穴位點
738‧‧‧里內庭穴位點
740‧‧‧失眠穴位點
742‧‧‧湧泉穴位點
為了更完整理解本揭露、實例實施例、與其優點，現在參考以下的描述並且結合附圖，在附圖中，類似的元件符號指示類似的特徵，且：
圖1A是下肢按摩系統的實例實施例的透視圖；
圖1B至圖1C分別是左下肢按摩系統的實例實施例的左與右側視圖；
圖1D是下肢按摩系統的實例實施例的前視圖；
圖2是左下肢按摩系統的實例實施例的分解後側視圖；
圖3是第一可膨脹構件與第二可膨脹構件的實例實施例的實例圖示；
圖4是第三可膨脹構件、第四可膨脹構件、與第五可膨脹構件的實例實施例的實例圖示；
圖5是第六可膨脹構件、第七可膨脹構件、與第八可膨脹構件的實例實施例的實例圖示；
圖6A是第一突出構件、第二突出構件、與第三突出構件的實例實施例的透視圖；
圖6B至圖6C是第一突出構件、第二突出構件、與第三突出構件的實例實施例的側視圖；
圖7A至圖7E是下肢的穴位點的實例圖示；及
圖8是使用處理器控制下肢按摩系統的實例實施例的實例圖示。
雖然為了方便起見，類似的元件符號可用於指示圖式中的類似元件，可理解到，各種實例實施例的各者可視為是不同的變化。
現在將參照附圖來描述實例實施例，附圖形成本揭露的一部分且繪示可實施的實例實施例。如在本揭露與所附申請專利範圍中所使用的，用語「實例(example)」、「例示性(exemplary)」、「實施例(embodiment)」、「實例實施例(example embodiment)」、「例示性實施例(exemplary embodiment)」、與「本實施例(present embodiment)」不一定指的是單個實施例，儘管它們可能如此，且各種實施例可容易地組合及/或互換，而不脫離本揭露的範圍、精神、或教示。此外，在本揭露與所附申請專利範圍中使用的用語僅是為了描述實例實施例的目的，而不是意在限制。在這方面，如在本揭露中與所附申請專利範圍中使用的，用語「在...中(in)」可包括「在...中」與「在...上(on)」，且用語「一(a)」、「一(an)」、與「該(the)」可包括單數與複數參照。此外，如在本揭露與所附申請專利範圍中所使用的，取決於上下文，用語「藉由(by)」也可表示「來自(from)」。此外，如在本揭露與所附申請專利範圍中所使用的，取決於上下文，用語「若(if)」還可表示「何時(when)」或「之後(upon)」。此外，如在本揭露與所附申請專利範圍中所使用的，詞語「及/或(and/or)」可指代並涵蓋一或多個相關所列項目的任何與所有可能的組合。

Claims (32)

  1. 一種下肢按摩系統，該下肢按摩系統包含：一主殼體，其具有複數個部分，該複數個部分相鄰地配置，以形成一L形的內部空腔，該複數個部分包括：一管狀部分，其具有在該主殼體的一端處的至少一第一端部、一上左壁、與相對於該上左壁的一上右壁；一細長部分，其具有在該主殼體的另一端處的至少一第二端部、一前頂壁、與相對於該前頂壁的一前底壁；及一隅角部分，其形成於該管狀部分與細長部分之間，該隅角部分具有至少一下左壁、相對於該下左壁的下右壁、後頂壁、與相對於該後頂壁的後底壁；複數個可膨脹構件，其等包括：一第一可膨脹構件，其設置在該細長部分中，並且形成鄰近於該第二端部之該前頂壁的至少一部分，該第一可膨脹構件可組態以朝向該細長部分的一內部膨脹；及一第二可膨脹構件，其設置在該隅角部分中，並且形成該後頂壁的至少一部分，該第二可膨脹構件可組態以朝向該隅角部分的一內部膨脹；及一或多個突出構件，其可組態以與該底壁接觸，該一或多個突出構件可定位在至少該後底壁的下方，且可致動以朝向至少該隅角部分的該內部突出；其中該第二可膨脹構件與該一或多個突出構件係可組態以協作，以施加一壓力於下肢部分的腳趾部分與腳跟部分之間之腳部的底部的至少一部分上；其中該一或多個突出構件係可組態以繞著垂直於一線的一軸旋轉，該線係繪製於該第二端部與該隅角部分的彎曲部之間；且其中該一或多個突出構件朝向該細長部分的該內部之該突出係可經由該旋轉而控制。
  2. 如請求項1之下肢按摩系統，其中該下左壁、下右壁、後頂壁、與後底壁係分別與該上左壁、上右壁、前頂壁、與前底壁連通。
  3. 如請求項1之下肢按摩系統，其中：該第一可膨脹構件包含一第一輸入埠，且該第一可膨脹構件係可組態以在經由該第一輸入埠的一正壓力的一施加後朝向該細長部分的該內部膨脹；且該第二可膨脹構件包含一第二輸入埠，且該第二可膨脹構件係可組態以在經由該第二輸入埠的一正壓力的一施加後朝向該隅角部分的該內部膨脹。
  4. 如請求項3之下肢按摩系統，其進一步包含：一第三可膨脹構件，其設置在該隅角部分中，並且形成該下左壁的至少一部分，該第三可膨脹構件具有一第三輸入埠，並且可組態以在經由該第三輸入埠的一正壓力的一施加後朝向該隅角部分的該內部膨脹；一第四可膨脹構件，其設置在該管狀部分中，並且形成該上左壁的至少一部分，該第四可膨脹構件具有一第四輸入埠，並且可組態以在經由該第四輸入埠的一正壓力的一施加後朝向該管狀部分的一內部膨脹；一第五可膨脹構件，其設置在該管狀部分中，並且形成該上左壁的至少一部分，該第五可膨脹構件具有一第五輸入埠，並且可組態以在經由該第五輸入埠的一正壓力的一施加後朝向該管狀部分的該內部膨脹；一第六可膨脹構件，其設置在該隅角部分中，並且形成該下右壁的至少一部分，該第六可膨脹構件具有一第六輸入埠，並且可組態以在經由該第六輸入埠的一正壓力的一施加後朝向該隅角部分的該內部膨脹；一第七可膨脹構件，其設置在該隅角部分中，並且形成該下右壁的至少一部分，該第七可膨脹構件具有一第七輸入埠，並且可組態以在經由該第七輸入埠的一正壓力的一施加後朝向該隅角部分的該內部膨脹；及一第八可膨脹構件，其設置在該管狀部分中，並且形成該上右壁的至少一部分，該第八可膨脹構件具有一第八輸入埠，並且可組態以在經由該第八輸入埠的一正壓力的一施加後朝向該管狀部分的該內部膨脹。
  5. 如請求項1之下肢按摩系統，其中當一下肢插入至該主殼體中時，該第一端部係可組態以容納該下肢的至少一小腿部分，該第二端部係可組態以容納該下肢的至少一腳趾部分，且該隅角部分係可組態以容納該下肢的至少一腳踝與腳跟部分。
  6. 如請求項4之下肢按摩系統，其中該第三可膨脹構件、該第四可膨脹構件和該第五可膨脹構件包括一實質上L形的本體。
  7. 如請求項4之下肢按摩系統，其中該第六可膨脹構件、該第七可膨脹構件和該第八可膨脹構件包括一實質上四方形形狀的本體。
  8. 如請求項4之下肢按摩系統，其中該第四可膨脹構件與該第五可膨脹構件係以該第四可膨脹構件與該第五可膨脹構件的集體形狀類似於一四邊形的方式相鄰地定位。
  9. 如請求項4之下肢按摩系統，其中該第四可膨脹構件與該第五可膨脹構件係以該第四可膨脹構件與該第五可膨脹構件的集體形狀類似於該第八可膨脹構件的形狀的方式相鄰地定位。
  10. 如請求項4之下肢按摩系統，其中該第六可膨脹構件與該第七可膨脹構件係以該第六可膨脹構件與該第七可膨脹構件的集體形狀類似於一L形的方式相鄰地定位。
  11. 如請求項4之下肢按摩系統，其中該第六可膨脹構件與該第七可膨脹構件係以該第六可膨脹構件與該第七可膨脹構件的集體形狀類似於該第三可膨脹構件的形狀的方式相鄰地定位。
  12. 如請求項1之下肢按摩系統，其中該第一可膨脹構件包括一實質上梯形形狀的本體。
  13. 如請求項1之下肢按摩系統，其中該第二可膨脹構件包括一實質上六角形形狀的本體。
  14. 如請求項1之下肢按摩系統，其中該第一可膨脹構件與該第二可膨脹構件係以該第一可膨脹構件的至少一部分係相鄰於該第二可膨脹構件、且該第一可膨脹構件係定位在該第二端部與該第二可膨脹構件之間的方式定位。
  15. 如請求項4之下肢按摩系統，其進一步包含一或多個正壓力源，該一或多個正壓力源可操作以提供正壓力至該等可膨脹構件的一或多者。
  16. 如請求項4之下肢按摩系統，其中該等可膨脹構件的一或多者係獨立地可膨脹。
  17. 如請求項4之下肢按摩系統，其中：經施加至該第一可膨脹構件的該正壓力係有選擇性地可控制的，以控制該第一可膨脹構件朝向該細長部分的該內部之該膨脹；經施加至該第二可膨脹構件的該正壓力係有選擇性地可控制的，以控制該第二可膨脹構件朝向該隅角部分的該內部之該膨脹；經施加至該第三可膨脹構件的該正壓力係有選擇性地可控制的，以控制該第三可膨脹構件朝向該隅角部分的該內部之該膨脹；經施加至該第四可膨脹構件的該正壓力係有選擇性地可控制的，以控制該第四可膨脹構件朝向該管狀部分的該內部之該膨脹；經施加至該第五可膨脹構件的該正壓力係有選擇性地可控制的，以控制該第五可膨脹構件朝向該管狀部分的該內部之該膨脹；經施加至該第六可膨脹構件的該正壓力係有選擇性地可控制的，以控制該第六可膨脹構件朝向該隅角部分的該內部之該膨脹；經施加至該第七可膨脹構件的該正壓力係有選擇性地可控制的，以控制該第七可膨脹構件朝向該隅角部分的該內部之該膨脹；及經施加至該第八可膨脹構件的該正壓力係有選擇性地可控制的，以控制該第八可膨脹構件朝向該管狀部分的該內部之該膨脹。
  18. 如請求項4之下肢按摩系統，其中：該第一可膨脹構件係有目的地可膨脹，以施加壓力至一或多個穴位點，該一或多個穴位點包括一內庭穴位點及/或一俠谿穴位點；該第二可膨脹構件係有目的地可膨脹，以施加壓力至一或多個穴位點，該一或多個穴位點包括一衝陽穴位點及/或一解谿穴位點；該第三可膨脹構件係有目的地可膨脹，以施加壓力至一或多個穴位點，該一或多個穴位點包括一僕參穴位點、一申脈穴位點、及/或一金門穴位點；該第四可膨脹構件係有目的地可膨脹，以施加壓力至一或多個穴位點，該一或多個穴位點包括一飛揚穴位點及/或一外丘穴位點；該第五可膨脹構件係有目的地可膨脹，以施加壓力至一或多個穴位點，該一或多個穴位點包括一上巨虛穴位點及/或一豐隆穴位點；該第六可膨脹構件係有目的地可膨脹，以施加壓力至一或多個穴位點，該一或多個穴位點包括一水泉穴位點及/或一照海穴位點；該第七可膨脹構件係有目的地可膨脹，以施加壓力至一或多個穴位點，該一或多個穴位點包括一交信穴位點及/或一復溜穴位點；及該第八可膨脹構件係有目的地可膨脹，以施加壓力至一或多個穴位點，該一或多個穴位點包括一築賓穴位點、一承山穴位點、及/或一漏谷穴位點。
  19. 如請求項1之下肢按摩系統，其進一步包含：一或多個第二突出構件，其可組態以與該前底壁接觸，該一或多個第二突出構件鄰近於該第二端部，且可致動以朝向該細長部分的該內部突出；及一或多個第三突出構件，其可組態以與該後底壁接觸，該一或多個第三突出構件鄰近於該隅角部分的一彎曲部，且可致動以朝向該隅角部分的該內部突出；其中該第一可膨脹構件與該一或多個第一突出構件係可組態以協作，以施加一壓力於鄰近於下肢的腳趾部分之腳部的底部的至少一部分上，該至少一部分包括一里內庭穴位點；其中該一或多個第二突出構件係可組態以施加一壓力於腳部的至少一腳跟部分上，該至少一腳跟部分包括一失眠穴位點；其中該第二可膨脹構件與該一或多個第三突出構件係可組態以協作，以施加一壓力於一湧泉穴位點上。
  20. 一種處理系統，其用於控制如請求項1之下肢按摩系統，該處理系統包含：一處理器，該處理器可組態以：旋轉該一或多個突出構件，以朝向該主殼體的該內部突出；施加一逐漸增加的正壓力至該第二可膨脹構件中；當該正壓力正在施加時，以一第一方向旋轉該一或多個突出構件達一第一時間期間；當該正壓力正在施加時，停止該一或多個突出構件之旋轉達一第二時間期間；當該正壓力正在施加時，以與該第一方向相對的一第二方向旋轉該一或多個突出構件達一第三時間期間；及當該正壓力正在施加時，停止該一或多個突出構件之旋轉達一第四時間期間。
  21. 如請求項20之處理系統，其中該處理器係可組態以：致動該一或多個第二突出構件，以朝向該主殼體的該內部突出；致動該一或多個第三突出構件，以朝向該主殼體的該內部突出；及施加一逐漸增加的正壓力至該第一可膨脹構件中。
  22. 如請求項20之處理系統，其中該處理器係可組態以協作地旋轉該一或多個突出構件且使該第二可膨脹構件及/或第一可膨脹構件膨脹，以施加壓力至一或多個穴位點，該一或多個穴位點包括湧泉穴位點。
  23. 如請求項20之處理系統，其中該處理器係可組態以重複該等動作。
  24. 如請求項20之處理系統，其中：該第一方向係一順時針方向；該第一時間期間係介於約0.1至5秒之間；該第二時間期間係介於約0.1至5秒之間；該第三時間期間係介於約0.1至5秒之間；及該第四時間期間係介於約0.1至5秒之間。
  25. 如請求項20之處理系統，其中：該第一方向係一順時針方向；該第一時間期間係介於約0.1至0.9秒之間；該第二時間期間係介於約0.2至0.8秒之間；該第三時間期間係介於約0.2至0.9秒之間；及該第四時間期間係介於約0.2至0.8秒之間。
  26. 一種下肢按摩系統，該下肢按摩系統包含：一主殼體，其可組態以接收一下肢，該主殼體包括在該主殼體的一第一端處的至少一第一端部、在主殼體的另一端處的第二端部、左壁、以及相對於該左壁的右壁；及複數個可膨脹構件，其等包括：一第一左可膨脹構件，其形成鄰近於該第一端部之該左壁的至少一部分，該第一左可膨脹構件具有一第一輸入埠，且可組態以在經由該第一輸入埠的一正壓力的一施加後朝向該主殼體的一內部膨脹；一第二左可膨脹構件，其形成鄰近於該第一端部之該左壁的至少一部分，該第二左可膨脹構件具有一第二輸入埠，且可組態以在經由該第二輸入埠的一正壓力的一施加後朝向該主殼體的該內部膨脹；及一第一右可膨脹構件，其形成鄰近於該第一端部之該右壁的至少一部分，該第一右可膨脹構件具有一第三輸入埠，且可組態以在經由該第三輸入埠的一正壓力的一施加後朝向該主殼體的該內部膨脹；其中該第一左可膨脹構件包括一實質上L形的本體，且該第二左可膨脹構件包括一實質上L形的本體。
  27. 如請求項26之下肢按摩系統，其中該第一左可膨脹構件、第二左可膨脹構件、以及第一右可膨脹構件的各者係可組態以彼此獨立地膨脹；其中當一下肢插入至該主殼體中時：該第一左可膨脹構件係可組態以膨脹，以施加一壓力至該下肢的小腿的一第一部分，該第一部分包括一飛揚穴位點及/或一外丘穴位點；該第二左可膨脹構件係可組態以膨脹，以施加一壓力至該下肢的該小腿的一第二部分，該第二部分包括一上巨虛穴位點及/或一豐隆穴位點；且該第一右可膨脹構件係可組態以膨脹，以施加一壓力至該下肢的該小腿的一第三部分，該第三部分包括一築賓穴位點、一承山穴位點、及/或一漏谷穴位點。
  28. 如請求項26之下肢按摩系統，其進一步包含：一第三左可膨脹構件，其形成鄰近於該第二端部之該左壁的至少一部分，該第三左可膨脹構件具有一第四輸入埠，且可組態以在經由該第四輸入埠的一正壓力的一施加後朝向該主殼體的該內部膨脹；一第二右可膨脹構件，其形成鄰近於該第二端部之該右壁的至少一部分，該第二右可膨脹構件具有一第五輸入埠，且可組態以在經由該第五輸入埠的一正壓力的一施加後朝向該主殼體的該內部膨脹；及一第三右可膨脹構件，其形成該第一右可膨脹構件與第二右可膨脹構件之間的該右壁的至少一部分，該第三右可膨脹構件具有一第六輸入埠，且可組態以在經由該第六輸入埠的一正壓力的一施加後朝向該主殼體的該內部膨脹；其中該第三左可膨脹構件包括一實質上L形的本體；其中該第二右可膨脹構件與第三右可膨脹構件集體形成一實質上L形的本體。
  29. 如請求項26之下肢按摩系統，其進一步包含一或多個正壓力源，該一或多個正壓力源可操作以提供正壓力至該等可膨脹構件的一或多者。
  30. 如請求項26之下肢按摩系統，其中該等可膨脹構件的一或多者係獨立地可膨脹。
  31. 如請求項26之下肢按摩系統，其中經施加至該等可膨脹構件的一或多者的該正壓力係有選擇性地可控制的，以控制該一或多個可膨脹構件的該膨脹。
  32. 如請求項28之下肢按摩系統，其中：該第三左可膨脹構件係可組態以膨脹，以施加壓力至一或多個穴位點，該一或多個穴位點包括一僕參穴位點、一申脈穴位點、及/或一金門穴位點；該第二右可膨脹構件係可組態以膨脹，以施加壓力至一或多個穴位點，該一或多個穴位點包括一水泉穴位點及/或一照海穴位點；及該第三右可膨脹構件係可組態以膨脹，以施加壓力至一或多個穴位點，該一或多個穴位點包括一交信穴位點及/或一復溜穴位點。
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