KR20190084871A - 연마장치 및 연마방법 - Google Patents

연마장치 및 연마방법 Download PDF

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신에쯔 한도타이 가부시키가이샤
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Abstract

[과제] 톱링에 연마제가 부착되어 고화(고착)되는 것을 억제하고, 더 나아가 연마 웨이퍼에 연마 흠집이 발생하는 것을 저감할 수 있는 배치식의 연마장치 및 연마방법을 제공한다.
[해결수단] 연마포가 첩부된 정반과, 센터롤러 및 가이드롤러와, 웨이퍼를 유지하고, 상기 2개의 롤러와 회전가능하게 접촉하고 있는 톱링을 구비하고, 정반의 회전으로 톱링을 회전시키면서 웨이퍼를 연마포에 갖다 대어 연마하는 배치식의 연마장치로서, 톱링은 웨이퍼를 유지하는 플레이트를 하방에서 유지하고, 상기 2개의 롤러와 대향하는 영역에 1개 이상의 외주홈이 마련되며, 외주홈 이외의 대향영역에서 접촉하고 있거나, 또는, 상기 2개의 롤러는, 톱링과 대향하는 영역에 1개 이상의 롤러홈이 마련되며, 롤러홈 이외의 대향영역에서 접촉하고 있는 것인 연마장치.

Description

연마장치 및 연마방법{POLISHING APPARATUS AND POLISHING METHOD}
본 발명은, 배치식의 연마장치 및 연마방법에 관한 것이다.
종래, 실리콘 웨이퍼 등의 웨이퍼를 연마하기 위해, 웨이퍼를 유지하기 위한 톱링(top ring), 이 톱링에 유지된 웨이퍼에 접촉하여 웨이퍼의 표면을 연마하는 연마포 등을 구비하는 배치식의 연마장치가 사용되고 있다. 연마장치를 이용하여, 흠집이 없이 평탄성이 높은 표면을 갖는 연마 웨이퍼가 요구되고 있다(특허문헌 1).
여기서, 종래의 일반적인 배치식의 연마장치에 대하여 설명한다.
연마장치에서는, 정반에 첩착된 연마포의 상방에 복수의 톱링이 상하동 가능하게 대향하여 마련되어 있다. 이 톱링의 하방에는, 연마 중에 1매 이상의 웨이퍼를 유지하는 플레이트가 배설(配設)되어 있으며, 이 플레이트를 톱링이 유지하고 있다.
또한, 정반 상에는, 그의 중심 및 외주에 각각 센터롤러 및 가이드롤러가 배설되어 있다. 톱링은, 정반 상에 있어서 센터롤러와 가이드롤러 사이에서, 회전가능하게 이들과 접촉하고 있다.
그리고, 연마시에는, 연마제를 공급하면서, 상기 정반의 회전운동에 의해 톱링에는 회전력이 부여되고, 센터롤러 및 가이드롤러에 접촉하여 회전운동(소위 동반회전)을 행한다. 이때, 연마포와 웨이퍼 간에 발생하는 접찰(摺擦)운동에 의해 웨이퍼가 연마된다.
일본특허공개 2000-135669호 공보
상기와 같은 일반적인 연마장치를 이용하여 얻어진 연마 웨이퍼에서는, 표면에 흠집(연마 흠집)이 발생하는 경우가 있다. 본 발명자들이 조사한 결과, 이 흠집이 발생하는 이유는 이하와 같다. 우선, 연마가공 중에 연마제가 톱링에 부착되고, 연마대기 중에 건조되어 고화된다. 그리고, 다음 연마가공 중에 센터롤러나 가이드롤러와의 접촉에 의해, 고화된 연마제가 연마포 상에 낙하하여, 연마 웨이퍼의 표면에 연마 흠집을 발생시킨다.
톱링의 정기적인 청소에 의해 고화된 연마제를 제거했었으나, 고화를 미연에 방지하지는 못했다.
본 발명은 이러한 상기의 과제를 해결하기 위해 이루어진 것으로, 톱링에 연마제가 부착되어 고화(고착)되는 것을 억제하고, 더 나아가 연마 웨이퍼에 연마 흠집이 발생하는 것을 저감할 수 있는 배치식의 연마장치 및 연마방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명은, 연마포가 첩부된 정반과, 이 정반 상의 중심 및 외주에 각각 배설된 센터롤러 및 가이드롤러와, 웨이퍼를 유지하고, 상기 센터롤러 및 상기 가이드롤러와 회전가능하게 접촉하고 있는 톱링을 구비하고, 상기 정반의 회전에 의해 상기 톱링을 회전시키면서, 이 톱링으로 유지된 상기 웨이퍼를 상기 연마포에 갖다 대어 연마하는 배치식의 연마장치로서,
상기 톱링은 상기 웨이퍼를 유지하는 플레이트를 하방에서 유지하고 있으며,
이 톱링은, 외주 측면 중, 상기 센터롤러 및 상기 가이드롤러와 대향하는 영역에 1개 이상의 외주홈이 마련되어 있으며, 이 외주홈 이외의 대향영역에서 접촉하고 있거나, 또는,
상기 센터롤러 및 상기 가이드롤러는, 각각의 롤러면 중, 상기 톱링과 대향하는 영역에 1개 이상의 롤러홈이 마련되어 있으며, 이 롤러홈 이외의 대향영역에서 접촉하고 있는 것을 특징으로 하는 연마장치를 제공한다.
본 발명자들의 조사에 의해, 톱링의, 센터롤러 및 가이드롤러와의 접촉개소에 연마제의 고착이 보이는 것을 알 수 있었다. 상기와 같은 연마장치이면, 톱링의 외주홈이나, 센터롤러 및 가이드롤러의 롤러홈이 마련되어 있으므로, 톱링과, 센터롤러 및 가이드롤러가 접촉하는 영역을 종래보다 적게 할 수 있다. 이에 따라, 톱링에 대한 연마제의 부착량, 그리고 고착량을 적게 할 수 있다. 그 결과, 연마포 상에 낙하하는 고착된 연마제를 원인으로, 연마 웨이퍼에 연마 흠집이 발생하는 것을 효과적으로 저감할 수 있다.
또한, 본 발명은, 연마포가 첩부된 정반 상의 중심 및 외주에 각각 센터롤러 및 가이드롤러를 배설하고, 이 센터롤러 및 가이드롤러와 회전가능하게 접촉하고 있는 톱링에 유지한 웨이퍼를, 상기 정반의 회전에 의해 상기 톱링을 회전시키면서, 상기 연마포에 갖다 대어 연마하는 배치식의 연마방법으로서,
상기 톱링에 의해 상기 센터롤러 및 상기 가이드롤러와 접촉시키고, 또한, 상기 톱링에 의해 상기 웨이퍼를 유지하는 플레이트를 하방에서 유지하면서, 상기 웨이퍼를 연마할 때,
상기 톱링의 외주 측면 중, 상기 센터롤러 및 상기 가이드롤러와 대향하는 영역에 1개 이상의 외주홈을 마련하고, 이 외주홈 이외의 대향영역에서 접촉시키거나, 또는,
상기 센터롤러 및 상기 가이드롤러의 각각의 롤러면 중, 상기 톱링과 대향하는 영역에 1개 이상의 롤러홈을 마련하고, 이 롤러홈 이외의 대향영역에서 접촉시키면서 연마하는 것을 특징으로 하는 연마방법을 제공한다.
이러한 연마방법에 의해, 톱링에 대한 연마제의 고착량을 저감할 수 있고, 이 고착을 원인으로 하는 연마 웨이퍼의 연마 흠집의 발생을 효과적으로 저감할 수 있다.
또한, 본 발명은, 연마포가 첩부된 정반과, 이 정반 상의 중심 및 외주에 각각 배설된 센터롤러 및 가이드롤러와, 웨이퍼를 유지하고, 상기 센터롤러 및 상기 가이드롤러와 회전가능하게 접촉하고 있는 톱링을 구비하고, 상기 정반의 회전에 의해 상기 톱링을 회전시키면서, 이 톱링으로 유지된 상기 웨이퍼를 상기 연마포에 갖다 대어 연마하는 배치식의 연마장치로서,
상기 톱링은 상기 웨이퍼를 유지하는 플레이트를 하방에서 유지하고 있으며,
상기 센터롤러 및 상기 가이드롤러와, 상기 톱링은, O링을 개재하여 접촉하고 있는 것을 특징으로 하는 연마장치를 제공한다.
이러한 연마장치이면, O링을 개재하여, 톱링과, 센터롤러 및 가이드롤러가 접촉하고 있으므로, 톱링과, 센터롤러 및 가이드롤러가 접촉하는 영역을 종래보다 적게 할 수 있다. 이에 따라, 톱링에 대한 연마제의 부착량, 그리고 고착량을 적게 하고, 연마 웨이퍼의 연마 흠집의 발생을 효과적으로 저감할 수 있다.
또한, 본 발명은, 연마포가 첩부된 정반 상의 중심 및 외주에 각각 센터롤러 및 가이드롤러를 배설하고, 이 센터롤러 및 가이드롤러와 회전가능하게 접촉하고 있는 톱링에 유지한 웨이퍼를, 상기 정반의 회전에 의해 상기 톱링을 회전시키면서, 상기 연마포에 갖다 대어 연마하는 배치식의 연마방법으로서,
상기 톱링에 의해 상기 센터롤러 및 상기 가이드롤러와 접촉시키고, 또한, 상기 톱링에 의해 상기 웨이퍼를 유지하는 플레이트를 하방에서 유지하면서, 상기 웨이퍼를 연마할 때,
상기 센터롤러 및 상기 가이드롤러와, 상기 톱링을, O링을 개재하여 접촉시키면서 연마하는 것을 특징으로 하는 연마방법을 제공한다.
이러한 연마방법에 의해, 톱링에 대한 연마제의 고착량을 저감할 수 있고, 이 고착을 원인으로 하는 연마 웨이퍼의 연마 흠집의 발생을 효과적으로 저감할 수 있다.
이상과 같이, 본 발명의 연마장치 및 연마방법이면, 톱링과, 센터롤러 및 가이드롤러가 접촉하는 영역을 적게 할 수 있어, 톱링에 대한 연마제의 고착량의 저감, 더 나아가 연마 웨이퍼의 연마 흠집의 발생의 저감을 도모할 수 있다.
도 1은 본 발명의 연마장치의 일 예를 나타내는 개략도이다.
도 2는 연마장치의 상면도의 일 예를 나타내는 개략도이다.
도 3은 본 발명의 연마장치의 다른 태양의 일 예를 나타내는 개략도이다.
도 4는 본 발명의 연마장치의 다른 태양의 일 예를 나타내는 개략도이다.
도 5는 연마 흠집의 일 예를 나타내는 관찰도이다.
도 6은 실시예 및 비교예에 있어서의 오염면적의 상대값과 연마 흠집에 의한 불량률의 상대값의 관계를 나타내는 그래프이다.
도 7은 종래의 연마장치의 일 예를 나타내는 개략도이다.
이하, 본 발명에 대하여 도면을 참조하여 실시의 형태를 설명하나, 본 발명은 이것으로 한정되는 것은 아니다.
우선, 본 발명의 연마장치에 대하여 설명한다. 도 1은 본 발명의 배치식의 연마장치의 일 예이다. 또한, 도 2는 연마장치(1)의 상면도이다. 이 연마장치(1)는, 주로 이하의 구성으로 이루어져 있다.
연마장치(1)는 먼저 회전가능한 정반(2)을 갖고 있으며, 이 정반(2)에는 연마포(3)가 첩부되어 있다. 이 정반(2)의 상방에는 톱링(4)이 상하동 가능하게 대향하여 마련되어 있다. 여기서는 4개의 톱링(4)이 배설되어 있는 예를 나타낸다. 또한, 정반(2)의 중심 및 외주에는, 센터롤러(5) 및 가이드롤러(6)가 각각 배설되어 있다. 또한, 연마제가 연마포(3) 상에 공급가능하게 되어 있다. 예를 들어 센터롤러(5) 부근에 미도시한 연마제 공급기구를 적당히 마련할 수 있다.
이들 정반(2) 상의 연마포(3), 톱링(4), 센터롤러(5), 가이드롤러(6)의 위치관계에 대하여, 추가로 도 2를 참조하여 설명한다. 도 2에 나타내는 바와 같이, 각각의 톱링(4)은, 연마포(3) 상에 있어서, 센터롤러(5)와 가이드롤러(6) 사이에 위치해 있으며, 이들 센터롤러(5) 및 가이드롤러(6)와 접촉하고 있다. 정반(2)이 회전함으로써, 톱링(4)은 센터롤러(5) 및 가이드롤러(6) 사이에서 회전하게 된다(따라돌기).
톱링(4)은 그 하방에서 플레이트(7)를 유지하고 있다. 그리고, 이 플레이트(7)는 그 하면측에서, 연마대상인 1매 혹은 복수매의 웨이퍼(W)를 왁스 등에 의해 접착고정하고 있다. 톱링(4)의 상기 따라돌기에 의해, 웨이퍼(W)의 표면이 연마포(3)로 연마되게 된다.
또한, 톱링(4)의 외주 측면(4a) 중, 센터롤러(5) 및 가이드롤러(6)와 대향하는 영역(대향영역)(8)에, 1개 이상의 외주홈(9)이 마련되어 있다. 이에 따라, 톱링(4)은, 센터롤러(5) 및 가이드롤러(6)와는, 외주홈(9) 이외의 대향영역에서 실제로 접촉하게 된다(접촉대향영역 8a). 이에 따라, 도 7에 나타내는 바와 같은, 대향영역(화살표의 범위)의 거의 전체(예를 들어, 높이방향의 길이가 10mm)에서 접촉하고, 광범위한 오염면적(도 7의 톱링에 있어서의 망점부분)이 발생하였던 종래 장치보다, 본 발명의 장치에서는 도 1에 나타내는 바와 같이 서로 접촉하는 영역을 적게 할 수 있어, 톱링(4)의 외주 측면(4a)을 따른 오염면적(도 1의 톱링(4)의 망점부분)을 작게 할 수 있다. 예를 들어, 접촉대향영역(8a)의 높이방향의 길이를 5mm 이하, 더 나아가 3mm 이하로 할 수 있다. 즉, 1/2 이하, 더 나아가 1/3 이하로 할 수 있다.
한편, 여기서는 2개의 외주홈(9)이 마련되어 있으나, 그 수나 형상은 특별히 한정되지 않는다. 연마시의 톱링(4)의 회전운동에 지장이 없도록, 적당히, 외주홈(9)의 수나 형상을 결정하여, 접촉하는 영역의 저감정도를 조정할 수 있다.
종래에는, 톱링은, 센터롤러 및 가이드롤러와 대향영역의 거의 전체에 걸쳐 접촉하고, 연마포 상에 공급된 연마제가 부착되어 고화되었다.
그러나, 상기와 같은 본 발명의 연마장치(1)이면, 외주홈(9)의 형성에 의해, 톱링(4)과, 센터롤러(5) 및 가이드롤러(6)가 접촉하는 영역을 종래 장치보다 작게 할 수 있다. 톱링에 있어서의, 부착된 연마제에 의한 오염면적은, (톱링의 직경)×π×(센터롤러 및 가이드롤러와의 접촉대향영역의 높이방향의 길이)로 표시된다. 상기 서술한 바와 같이 본 발명의 장치에 의해 접촉대향영역의 높이방향의 길이를 1/2 이하, 더 나아가 1/3 이하로 저감할 수 있으므로, 마찬가지로 그 오염면적을 저감할 수 있다.
그리고, 이와 같이 톱링(4)에 대한 연마제의 부착량을 억제할 수 있고, 그 고착량을 저감할 수 있다. 따라서, 이 고착된 연마제가 벗겨지고, 그것을 원인으로 하는 연마 웨이퍼의 연마 흠집의 발생을 저감하는 것이 가능하다.
한편, 도 1에 나타내는 예에서는 톱링(4)의 외주 측면(4a)에 외주홈(9)을 나타내는 예를 나타내었지만, 그 대신에 센터롤러(5) 및 가이드롤러(6)에 홈을 형성하는 것도 가능하다. 도 3에 그 다른 태양의 본 발명의 연마장치를 나타낸다. 한편, 간단히, 1개의 톱링 부근만 나타낸다.
도 3에 나타내는 바와 같이, 센터롤러(5)의 롤러면(5a) 중, 톱링(4)과 대향하는 영역(대향영역)(10)에, 1개 이상의 롤러홈(11)이 마련되어 있다. 이에 따라, 센터롤러(5)는, 톱링(4)과는, 롤러홈(11) 이외의 대향영역(실제로 접촉하고 있는 영역: 접촉대향영역 10a)에서 접촉하게 된다.
한편, 가이드롤러(6)의 롤러면(6a) 중, 톱링(4)과 대향하는 영역(대향영역)(12)에도, 1개 이상의 롤러홈(13)이 마련되어 있다. 이에 따라, 가이드롤러(6)는, 톱링(4)과는, 롤러홈(13) 이외의 대향영역(실제로 접촉하고 있는 영역: 접촉대향영역12a)에서 접촉하게 된다.
이러한 롤러홈(11, 13)의 형성에 의해서도, 톱링(4)과, 센터롤러(5) 및 가이드롤러(6)가 접촉하는 영역의 저감화, 연마제의 부착량이나 고착량의 저감화, 더 나아가서는 연마 웨이퍼(W)의 연마 흠집의 발생의 저감화를 도모하는 것이 가능하다.
도 4에 또다른 태양의 본 발명의 연마장치를 나타낸다. 이 예에서는, 톱링(4)과, 센터롤러(5) 및 가이드롤러(6)가, O링(14)을 개재하여 접촉하고 있다. 도 4에 나타내는 예에서는 센터롤러(5) 및 가이드롤러(6)에 O링(14)을 마련하고 있으나, 그 대신에, 톱링(4)에 대해 O링을 마련해도 된다. O링의 폭 등은 특별히 한정되지 않고, 적당히 결정할 수 있다.
상기와 같은 O링(14)을 개재시킴으로써도, 톱링(4)과, 센터롤러(5) 및 가이드롤러(6)가 접촉하는 영역을 작게 하고, 톱링(4)에 대한 연마제의 부착량, 고착량을 저감하고, 연마 웨이퍼의 연마 흠집의 발생의 억제를 도모할 수 있다.
다음에, 도 1에 나타내는 본 발명의 연마장치(1)를 이용한 본 발명의 배치식의 연마방법에 대하여 설명한다.
웨이퍼(W)를 플레이트(7)의 표면에 왁스 등으로 접착한 다음에, 웨이퍼(W)를 정반(2)에 첩부된 연마포(3)에 접하도록 배치한다. 톱링(4)을 하강하여 플레이트(7) 상에 재치하여 가압(押壓)한다. 이에 따라, 톱링(4)에 의해 플레이트(7)를 하방에서 유지하면서, 플레이트(7)에 유지된 웨이퍼(W)와 연마포 간에 연마압력을 발생시킬 수 있다.
또한 이때, 톱링(4)의 외주 측면(4a)은, 센터롤러(5)의 롤러면(5a) 및 가이드롤러(6)의 롤러면(6a)과 접촉한다. 보다 구체적으로는, 톱링(4)의 외주 측면(4a)에 외주홈(9)을 마련하고 있으므로, 센터롤러 및 가이드롤러와의 대향영역(8)의 전체에서 접촉하는 것이 아닌, 외주홈(9) 이외의 대향영역(접촉대향영역(8a))에서만 접촉시킬 수 있다.
이러한 상태에서, 연마제 공급기구로부터 연마제를 공급하면서 정반(2)을 회전구동시키면, 웨이퍼(W)와 연마포(3)간의 마찰력에 기인하여, 톱링(4)(및 플레이트(7))에는 회전운동(따라돌기)이 일어나고, 웨이퍼(W)와 연마포(3) 간에 상대운동이 발생하여, 웨이퍼(W)를 연마할 수 있다.
한편, 상기 예에서는 톱링(4)에 외주홈(9)을 마련한 장치를 사용하였으나, 이 밖에, 도 3에 나타내는 바와 같은, 센터롤러(5)의 롤러면(5a)이나 가이드롤러(6)의 롤러면(6a)에, 각각 롤러홈(11, 13)을 마련한 장치를 이용하여 연마하는 것도 가능하다.
혹은, 도 4에 나타내는 바와 같은, 톱링(4)과, 센터롤러(5) 및 가이드롤러(6)를, O링(14)을 개재하여 접촉시키면서 연마를 행하는 것도 가능하다.
어떠한 방법에 있어서도, 톱링(4)과, 센터롤러(5) 및 가이드롤러(6)와 접촉하는 영역을 종래의 연마방법에 비해 작게 할 수 있으므로, 톱링(4)에 대한 연마제의 부착량을 저감하고(즉, 연마제에 의한 오염면적을 작게 하고), 더 나아가서는 연마 웨이퍼의 연마 흠집의 발생을 억제할 수 있다.
실시예
이하, 본 발명의 실시예 및 비교예를 들어 본 발명을 보다 구체적으로 설명하나, 본 발명은 이것들로 한정되는 것은 아니다.
(실시예 1-4, 비교예)
웨이퍼를 준비하여 편면연마를 행하였다. 연마는 1차연마, 2차연마, 마무리연마의 3단계로 이루어지는 것으로 하였다.
연마장치로서, 종래의 연마장치와 본 발명의 연마장치를 준비하였다. 종래의 연마장치에서는, 톱링과, 센터롤러 및 가이드롤러와의 접촉대향영역의 높이방향의 길이는 10mm였다. 한편, 본 발명의 연마장치로는, 도 3에 나타내는 태양의 것을 준비하였다. 즉, 센터롤러 및 가이드롤러의 각 롤러면에 롤러홈이 1개씩 형성되어 있는 것이다. 접촉대향영역의 높이방향의 길이가 5mm인 것과, 3mm인 것의 2가지 타입을 준비하였다.
각 실시예에서는, 1차연마만, 혹은 1차연마와 2차연마의 양방에서, 상기 2가지 타입 중 어느 하나의 본 발명의 연마장치를 이용하였다. 마무리연마는 모두 종래의 연마장치를 이용하였다.
한편, 비교예에서는 1차연마, 2차연마, 마무리연마 모두 종래의 연마장치를 이용하였다.
그 밖에, 사용하는 연마제, 연마포 등의 조건은 동일한 조건으로 하고, 각각, 웨이퍼의 연마를 행하고, 연마 웨이퍼의 연마 흠집의 유무를 검사하였다. 한편, 연마 흠집의 일 예를 도 5에 나타낸다. 검사장치SP1(KLA-Tencor사제)에 의해 연마 웨이퍼의 표면을 검사하고, 도 5와 같은 연마 흠집(타원으로 둘러싼 개소의 흠집)이 관찰되는 경우에 불량품이라 판정하였다.
연마조건 및 연마결과를 정리하여, 톱링에 있어서의 높이방향의 접촉길이(1차연마, 2차연마, 마무리연마(3차연마)), 톱링에 있어서의 연마제에 의한 오염면적의 상대값(비교예의 값을 1.00으로 한다), 연마 흠집에 의한 불량률의 상대값(비교예의 값을 1.00으로 한다)을 표 1에 나타낸다.
또한, 오염면적의 상대값과 연마 흠집에 의한 불량률의 상대값과의 관계그래프를 도 6에 나타낸다.
Figure pat00001
표 1로부터 알 수 있는 바와 같이, 톱링에 있어서의 높이방향의 접촉길이가 짧아질수록(접촉하는 영역이 작아질수록), 또한, 본 발명의 연마장치를 사용하는 연마단계의 수가 증가할수록, 오염면적의 상대값을 낮출 수 있었다. 그리고 표 1, 도 6로부터 알 수 있는 바와 같이, 오염면적의 상대값이 낮아질수록 연마 흠집에 의한 불량률의 상대값도 낮출 수 있었다.
보다 구체적으로는, 예를 들어, 실시예 1과 비교예를 비교하여 알 수 있는 바와 같이, 1차연마에서 본 발명의 장치를 이용함으로써, 불량률을 44%로 저감할 수 있었다. 실시예 4에 이르러서는, 비교예의 13%까지 불량률을 저감할 수 있었다.
한편, 본 발명은, 상기 실시형태로 한정되는 것은 아니다. 상기 실시형태는, 예시이며, 본 발명의 특허청구의 범위에 기재된 기술적 사상과 실질적으로 동일한 구성을 가지며, 동일한 작용효과를 나타내는 것은, 어떠한 것이어도 본 발명의 기술적 범위에 포함된다.
1 본 발명의 연마장치
2 정반
3 연마포
4 톱링
4a 톱링의 외주 측면
5 센터롤러
5a 센터롤러의 롤러면
6 가이드롤러
6a 가이드롤러의 롤러면
7 플레이트
8 톱링의, 센터롤러 및 가이드롤러와 대향하는 영역
8a 톱링의 접촉대향영역
9 외주홈
10 센터롤러의 톱링과 대향하는 영역
10a 센터롤러의 접촉대향영역
11 센터롤러의 롤러홈,
12 가이드롤러의 톱링과 대향하는 영역,
12a 가이드롤러의 접촉대향영역
13 가이드롤러의 롤러홈,
14 O링
W 웨이퍼

Claims (4)

  1. 연마포가 첩부된 정반과, 이 정반 상의 중심 및 외주에 각각 배설된 센터롤러 및 가이드롤러와, 웨이퍼를 유지하고, 상기 센터롤러 및 상기 가이드롤러와 회전가능하게 접촉하고 있는 톱링을 구비하고, 상기 정반의 회전에 의해 상기 톱링을 회전시키면서, 이 톱링으로 유지된 상기 웨이퍼를 상기 연마포에 갖다 대어 연마하는 배치식의 연마장치로서,
    상기 톱링은 상기 웨이퍼를 유지하는 플레이트를 하방에서 유지하고 있으며,
    이 톱링은, 외주 측면 중, 상기 센터롤러 및 상기 가이드롤러와 대향하는 영역에 1개 이상의 외주홈이 마련되어 있으며, 이 외주홈 이외의 대향영역에서 접촉하고 있거나, 또는,
    상기 센터롤러 및 상기 가이드롤러는, 각각의 롤러면 중, 상기 톱링과 대향하는 영역에 1개 이상의 롤러홈이 마련되어 있으며, 이 롤러홈 이외의 대향영역에서 접촉하고 있는 것을 특징으로 하는,
    연마장치.
  2. 연마포가 첩부된 정반 상의 중심 및 외주에 각각 센터롤러 및 가이드롤러를 배설하고, 이 센터롤러 및 가이드롤러와 회전가능하게 접촉하고 있는 톱링에 유지한 웨이퍼를, 상기 정반의 회전에 의해 상기 톱링을 회전시키면서, 상기 연마포에 갖다 대어 연마하는 배치식의 연마방법으로서,
    상기 톱링에 의해 상기 센터롤러 및 상기 가이드롤러와 접촉시키고, 또한, 상기 톱링에 의해 상기 웨이퍼를 유지하는 플레이트를 하방에서 유지하면서, 상기 웨이퍼를 연마할 때,
    상기 톱링의 외주 측면 중, 상기 센터롤러 및 상기 가이드롤러와 대향하는 영역에 1개 이상의 외주홈을 마련하고, 이 외주홈 이외의 대향영역에서 접촉시키거나, 또는,
    상기 센터롤러 및 상기 가이드롤러의 각각의 롤러면 중, 상기 톱링과 대향하는 영역에 1개 이상의 롤러홈을 마련하고, 이 롤러홈 이외의 대향영역에서 접촉시키면서 연마하는 것을 특징으로 하는,
    연마방법.
  3. 연마포가 첩부된 정반과, 이 정반 상의 중심 및 외주에 각각 배설된 센터롤러 및 가이드롤러와, 웨이퍼를 유지하고, 상기 센터롤러 및 상기 가이드롤러와 회전가능하게 접촉하고 있는 톱링을 구비하고, 상기 정반의 회전에 의해 상기 톱링을 회전시키면서, 이 톱링으로 유지된 상기 웨이퍼를 상기 연마포에 갖다 대어 연마하는 배치식의 연마장치로서,
    상기 톱링은 상기 웨이퍼를 유지하는 플레이트를 하방에서 유지하고 있으며,
    상기 센터롤러 및 상기 가이드롤러와, 상기 톱링은, O링을 개재하여 접촉하고 있는 것을 특징으로 하는,
    연마장치.
  4. 연마포가 첩부된 정반 상의 중심 및 외주에 각각 센터롤러 및 가이드롤러를 배설하고, 이 센터롤러 및 가이드롤러와 회전가능하게 접촉하고 있는 톱링에 유지한 웨이퍼를, 상기 정반의 회전에 의해 상기 톱링을 회전시키면서, 상기 연마포에 갖다 대어 연마하는 배치식의 연마방법으로서,
    상기 톱링에 의해 상기 센터롤러 및 상기 가이드롤러와 접촉시키고, 또한, 상기 톱링에 의해 상기 웨이퍼를 유지하는 플레이트를 하방에서 유지하면서, 상기 웨이퍼를 연마할 때,
    상기 센터롤러 및 상기 가이드롤러와, 상기 톱링을, O링을 개재하여 접촉시키면서 연마하는 것을 특징으로 하는,
    연마방법.
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