KR20190082650A - 수분 제어 장치, 수분 제어 방법, 프로그램, 기억 매체, 생성된 물질, 제품, 장치 및 설비 - Google Patents

수분 제어 장치, 수분 제어 방법, 프로그램, 기억 매체, 생성된 물질, 제품, 장치 및 설비 Download PDF

Info

Publication number
KR20190082650A
KR20190082650A KR1020180016338A KR20180016338A KR20190082650A KR 20190082650 A KR20190082650 A KR 20190082650A KR 1020180016338 A KR1020180016338 A KR 1020180016338A KR 20180016338 A KR20180016338 A KR 20180016338A KR 20190082650 A KR20190082650 A KR 20190082650A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
electrodes
equipments
refrigerator
water
voltage
Prior art date
Application number
KR1020180016338A
Other languages
English (en)
Other versions
KR102599239B1 (ko
Inventor
히사오 다나카
Original Assignee
에버트론 홀딩스 피티이 리미티드
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 에버트론 홀딩스 피티이 리미티드 filed Critical 에버트론 홀딩스 피티이 리미티드
Publication of KR20190082650A publication Critical patent/KR20190082650A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102599239B1 publication Critical patent/KR102599239B1/ko

Links

Images

Classifications

    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F26—DRYING
    • F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
    • F26B5/00—Drying solid materials or objects by processes not involving the application of heat
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A23—FOODS OR FOODSTUFFS; TREATMENT THEREOF, NOT COVERED BY OTHER CLASSES
    • A23L—FOODS, FOODSTUFFS, OR NON-ALCOHOLIC BEVERAGES, NOT COVERED BY SUBCLASSES A21D OR A23B-A23J; THEIR PREPARATION OR TREATMENT, e.g. COOKING, MODIFICATION OF NUTRITIVE QUALITIES, PHYSICAL TREATMENT; PRESERVATION OF FOODS OR FOODSTUFFS, IN GENERAL
    • A23L3/00—Preservation of foods or foodstuffs, in general, e.g. pasteurising, sterilising, specially adapted for foods or foodstuffs
    • A23L3/26—Preservation of foods or foodstuffs, in general, e.g. pasteurising, sterilising, specially adapted for foods or foodstuffs by irradiation without heating
    • A23L3/30—Preservation of foods or foodstuffs, in general, e.g. pasteurising, sterilising, specially adapted for foods or foodstuffs by irradiation without heating by treatment with ultrasonic waves
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A47—FURNITURE; DOMESTIC ARTICLES OR APPLIANCES; COFFEE MILLS; SPICE MILLS; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
    • A47J—KITCHEN EQUIPMENT; COFFEE MILLS; SPICE MILLS; APPARATUS FOR MAKING BEVERAGES
    • A47J37/00—Baking; Roasting; Grilling; Frying
    • A47J37/12—Deep fat fryers, e.g. for frying fish or chips
    • A47J37/1266—Control devices, e.g. to control temperature, level or quality of the frying liquid
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A23—FOODS OR FOODSTUFFS; TREATMENT THEREOF, NOT COVERED BY OTHER CLASSES
    • A23L—FOODS, FOODSTUFFS, OR NON-ALCOHOLIC BEVERAGES, NOT COVERED BY SUBCLASSES A21D OR A23B-A23J; THEIR PREPARATION OR TREATMENT, e.g. COOKING, MODIFICATION OF NUTRITIVE QUALITIES, PHYSICAL TREATMENT; PRESERVATION OF FOODS OR FOODSTUFFS, IN GENERAL
    • A23L3/00—Preservation of foods or foodstuffs, in general, e.g. pasteurising, sterilising, specially adapted for foods or foodstuffs
    • A23L3/001—Details of apparatus, e.g. for transport, for loading or unloading manipulation, pressure feed valves
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A23—FOODS OR FOODSTUFFS; TREATMENT THEREOF, NOT COVERED BY OTHER CLASSES
    • A23L—FOODS, FOODSTUFFS, OR NON-ALCOHOLIC BEVERAGES, NOT COVERED BY SUBCLASSES A21D OR A23B-A23J; THEIR PREPARATION OR TREATMENT, e.g. COOKING, MODIFICATION OF NUTRITIVE QUALITIES, PHYSICAL TREATMENT; PRESERVATION OF FOODS OR FOODSTUFFS, IN GENERAL
    • A23L3/00—Preservation of foods or foodstuffs, in general, e.g. pasteurising, sterilising, specially adapted for foods or foodstuffs
    • A23L3/26—Preservation of foods or foodstuffs, in general, e.g. pasteurising, sterilising, specially adapted for foods or foodstuffs by irradiation without heating
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A47—FURNITURE; DOMESTIC ARTICLES OR APPLIANCES; COFFEE MILLS; SPICE MILLS; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
    • A47J—KITCHEN EQUIPMENT; COFFEE MILLS; SPICE MILLS; APPARATUS FOR MAKING BEVERAGES
    • A47J37/00—Baking; Roasting; Grilling; Frying
    • A47J37/12—Deep fat fryers, e.g. for frying fish or chips
    • A47J37/1271—Accessories
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
    • B01J19/087—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
    • B01J19/10—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing sonic or ultrasonic vibrations
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F26—DRYING
    • F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
    • F26B25/00—Details of general application not covered by group F26B21/00 or F26B23/00
    • F26B25/06—Chambers, containers, or receptacles
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A23—FOODS OR FOODSTUFFS; TREATMENT THEREOF, NOT COVERED BY OTHER CLASSES
    • A23V—INDEXING SCHEME RELATING TO FOODS, FOODSTUFFS OR NON-ALCOHOLIC BEVERAGES AND LACTIC OR PROPIONIC ACID BACTERIA USED IN FOODSTUFFS OR FOOD PREPARATION
    • A23V2002/00—Food compositions, function of food ingredients or processes for food or foodstuffs
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J2219/00274—Sequential or parallel reactions; Apparatus and devices for combinatorial chemistry or for making arrays; Chemical library technology
    • B01J2219/0068—Means for controlling the apparatus of the process
    • B01J2219/00695—Synthesis control routines, e.g. using computer programs

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Food Science & Technology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Nutrition Science (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
  • Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)

Abstract

[과제] 수분을 제어함으로써, 물질의 특성을 향상시킬 수 있는 수분 제어 장치, 수분 제어 방법, 프로그램, 기억 매체, 생성된 물질, 제품, 장치 및 설비를 제공한다.
[해결수단] 본 발명의 일 양태의 수분 제어 장치는 전기장, 자기장, 전자기장, 전자기파, 음파 및 초음파 중 적어도 하나를 발생시키는 적어도 하나의 전극에 대해서 직류 성분 및 교류 성분 중 적어도 하나를 갖는 소정의 전압을 인가함으로써, 상기 전극에 대향하여 배치된 물질의 내부에 존재하는 수분끼리를 결합 상태로 하여, 상기 물질이 갖는 성질을 향상시키는 것이 가능한 것을 특징으로 한다.

Description

수분 제어 장치, 수분 제어 방법, 프로그램, 기억 매체, 생성된 물질, 제품, 장치 및 설비{MOISTURE CONTROL DEVICE, MOISTURE CONTROL METHOD, PROGRAM, STORAGE MEDIUM, GENERATED SUBSTANCE, PRODUCT, APPARATUS, AND FACILITY}
본 발명은 물질에 포함되는 수분을 제어하는 수분 제어 장치, 수분 제어 방법, 프로그램, 기억 매체, 생성된 물질, 제품, 장치 및 설비에 관한 것이다.
소정의 범위의 주파수의 전자기파가 발생하고 있는 공간 내에서 음식의 가열 조리를 실시함으로써, 조리된 음식의 맛이 매우 뛰어난 플라이어(flier)가 알려져 있다(특허 문헌 1 참조). 또한, 본 명세서 중에 특허 문헌 1의 명세서, 특허 청구 범위, 도면 전체를 참고로서 가져오는 것으로 한다. 소정의 범위의 주파수의 전자기파가 발생하고 있는 공간 내에서 음식의 조리를 실시함으로써, 식용유의 산화·열화 방지, 조리된 음식의 맛 향상 등의 뛰어난 효과를 얻을 수 있다고 되어 있다.
(특허 문헌 1) 특개 2016－129672호 공보
그러나, 특허 문헌 1에 기재된 플라이어 및 가열 조리 방법에서는 맛 향상의 원리에 대해 충분히 고려되지 않고, 맛 향상의 효과를 얻기 위한 기술을 모든 음식에 적용하거나, 다른 조리 방법에 적용하거나, 또는 음식 이외의 것에 적용하는 것은 어려웠다.
본 발명자 등은 소정의 범위의 주파수의 전자기파가 음식에 미치는 영향에 대해 다양한 관점에서 분석을 거듭해왔다. 그 결과, 음식 중에 포함되는 수분(자유수(自由水) 등을 포함함)의 제어가 중요하며, 이 수분을 제어하는 방법을 발견하고, 또한 수분의 제어는 음식 이외의 것에 대해서도 중요하다는 것을 발견하여, 본 발명의 수분 제어 장치 및 수분 제어 방법을 완성하기에 이르렀다.
즉, 본 발명의 목적은, 수분을 제어함으로써, 물질의 특성을 향상시킬 수 있는 수분 제어 장치, 수분 제어 방법, 프로그램, 기억 매체, 생성된 물질, 제품, 장치 및 설비를 제공하는 것에 있다.
상기 본 발명의 목적은 전기장, 자기장, 전자기장, 전자기파, 음파 및 초음파 중 적어도 하나를 발생시키는 적어도 하나의 전극에 대하여 직류 성분 및 교류 성분 중 적어도 하나를 갖는 소정의 전압을 인가함으로써, 상기 전극에 대향하여 배치된 물질의 내부에 존재하는 수분끼리를 결합 상태로 하고, 상기 물질이 갖는 성질을 향상시킬 수 있는 것을 특징으로 하는 수분 제어 장치,
전기장, 자기장, 전자기장, 전자기파, 음파 및 초음파 중 적어도 하나를 발생시키는 적어도 하나의 전극에 대하여 직류 성분 및 교류 성분 중 적어도 하나를 갖는 소정의 전압을 인가함으로써, 상기 전극에 대향하여 배치된 물질의 내부에 존재하는 수분 끼리를 결합 상태로 하고, 상기 물질이 갖는 성질을 향상시킬 수 있는 것을 특징으로 하는 수분 제어 방법,
상기 수분 제어 방법을 실행하는 것을 특징으로 하는 프로그램,
상기 프로그램을 기록한 것을 특징으로 하는 기억 매체,
상기 수분 제어 장치에 의해 내부에 존재하는 수분끼리가 결합 상태가 된 것을 특징으로 하는 물질, 또는
상기 수분 제어 장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 제품, 장치 또는 설비
에 의해 달성된다.
또한, 수분으로서의 자유수는 화학적으로는 여러 가지 정도는 있지만, 결합하고 있는 상태에 있는 물을 결합수라고 하는 반면, 그 이외의 자유롭게 이동할 수 있는 통상 상태의 물이다. 또한, 자유수는 식품에서는 조직 사이에 있고 기계적으로 유지되는 물로서 보통의 물의 성질을 나타내는 물이다(참고 자료：일본대백과 전서(닛포니카), 디지털 大辭泉, 영양·생화학 사전).
본 발명에 따른 수분 제어 장치, 수분 제어 방법, 프로그램, 기억 매체, 생성된 물질, 제품, 장치 및 설비에 의하면, 수분을 제어함으로써 물질의 특성을 향상시킬 수 있다.
도 1은 실시 형태 1에 따른 전극의 개념도이다.
도 2는 물 분자의 모식도이며, 도 2a는 자유롭게 활동하고 있는 상태의 물 분자이고, 도 2b는 연주(連珠) 배열의 물 분자다.
도 3은 자유수의 현미경 사진이며, 도 3a는 전기장을 인가하기 전의 자유수의 상태를 나타내고, 도 3b는 전기장을 인가했을 때의 자유수의 상태를 나타낸다.
도 4는 물 입자의 전위의 시뮬레이션 결과이고, 도 4a는 시뮬레이션 모델의 설명도이며, 도 4b는 전위 시뮬레이션의 결과이다.
도 5는 도미를 5일간 보장(保藏)한 결과의 사진이다.
도 6은 콩나물을 10일간 보장한 결과의 사진이다.
도 7은 두묘(豆苗)를 35일간 보장한 결과의 사진이다.
도 8은 식용유 안에서 조리된 음식의 상태를 나타낸 사진이다.
도 9는 수경 재배의 비교 결과이다.
도 10은 실시 형태 2에 따른 전극의 개념도이다.
도 11은 실시 형태 2의 변형예에 따른 전극의 개념도이며, 도 11a는 하나의 전극을 이용하는 예이고, 도 11b는 하나의 전극과 당해 전극에 대향하는 2개의 전극을 이용하는 예이다.
도 12는 실시 형태 3에 따른 상이한 주파수의 전압을 이용한 경우의 파형도이다.
도 13은 실시 형태 3에 따른 상이한 위상의 전압을 이용한 경우의 파형도이다.
도 14는 실시예 4에 따른 전극(13, 14)을 기존의 냉장고에 설치한 예이다.
도 15는 실시예 4에 따른 전극(13, 14)을 기존의 컨테이너에 설치한 예이다.
도 16은 실시예 4에 따른 전극(13, 14)을 기존의 플라이어에 설치한 예이다.
도 17은 실시예 5에 따른 수분 제어 장치(1)의 블록도이다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시 형태에 따른 수분 제어 장치, 수분 제어 방법, 프로그램, 기억 매체 및 생성된 물질에 대해 설명한다. 다만, 이하에 나타내는 실시 형태는 본 발명의 기술 사상을 구체화하기 위한 수분 제어 장치, 수분 제어 방법, 프로그램, 기억 매체 및 생성된 물질을 예시하는 것으로서, 본 발명을 이들에 특정하는 것이 아니고, 특허 청구의 범위에 포함되는 다른 실시 형태의 것에도 동일하게 적용할 수 있을 것이다. 또한, 실시 형태에서는 물질에 포함되는 수분으로서의 자유수를 예로 들어 설명하고 있지만, 본 발명은 물질에 포함되는 수분으로서는 자유수에 한정되는 것이 아니고, 예를 들면 수용액, 물, 에멀젼(emulsion)에 포함되는 미세 물방울 등에 넓게 적용 가능하다.
［실시 형태 1］
도 1 내지 도 9를 참조하여, 실시 형태 1에 따른 수분 제어 장치, 수분 제어 방법, 프로그램, 기억 매체, 생성된 물질, 제품, 장치 및 설비에 대해 설명한다.
도 1은 수분 제어 장치(1)의 개념도이다. 수분 제어 장치(1)는 컨트롤러(10)와 한 쌍의 전극(13, 14)을 구비하고 있다. 컨트롤러(10)는 교류 성분 전압 발생부(11) 및 직류 성분 전압 발생부(12)를 구비하고 있다. 컨트롤러(10)의 실제 회로 구성에 대해서는 교류 성분 전압 발생부(11) 및 직류 성분 전압 발생부(12)를 별도로 마련할 필요는 없고, 양자의 기능을 겸하는 회로 구성으로 할 수도 있다.
컨트롤러(10)에는 통신부(35), CPU(36) 및 기억부(37)가 마련되어 있다. 통신부(35)는 서버(40)와 통신함으로써, 제어 파라미터나 제어치를 서버(40)로부터 수신한다. 기억부(37)에는 프로그램이 기억되어 있으며, CPU(36)는 기억부(37)에 기억되어 있는 프로그램에 의해 서버로부터 수신한 제어 파라미터나 제어치에 기초하여 컨트롤러(10)에 내장된 교류 성분 전압 발생부(11) 및 직류 성분 전압 발생부(12)를 제어함으로써, 출력 전압 및/또는 출력 전류를 제어한다. 이 프로그램은 통신부(35)를 통해 서버(40)로부터 다시 작성 가능하다. 또한, 프로그램을 플래시 메모리 등의 이동식 메모리에 기억시켜 두고, 이동식 메모리를 사용하여 컨트롤러(10)의 프로그램을 다시 작성하는 것도 가능하다.
또한, 컨트롤러(10)에는 전극 사이에 배치되는 물질의 종류 및/또는 상태를 검출하기 위한 물질 검출 센서(32)가 접속되어 있으며, 컨트롤러(10)는 물질의 종류 및/또는 상태를 파악함으로써 물질의 종류 및/또는 상태에 따라 적절한 출력 전압 및/또는 출력 전류가 되도록 내장된 교류 성분 전압 발생부(11) 및 직류 성분 전압 발생부(12)를 제어한다. 또한, 컨트롤러(10)에 내장된 교류 성분 전압 발생부(11) 및 직류 성분 전압 발생부(12)는 후술하는 바와 같이, 직류-직류 변환, 직류-교류 변환, 교류-직류 변환 및 교류-교류 변환 중 적어도 하나의 기능을 가지고 있다.
또한, 컨트롤러(10)에는 맨-머신 인터페이스(31)가 접속되어 있으며, 운영자에 의한 조작이 가능하다. 맨-머신 인터페이스(31)로는, 예를 들면 디스플레이, 터치 패널, 키보드 및 마우스 등이 포함된다. 또한, 스마트 폰, 태블릿 단말 또는 노트북 컴퓨터 등 개인용 컴퓨터(이하, PC라 함) 등에 의해 컨트롤러(10)를 조작하는 경우, 스마트 폰 등이 맨-머신 인터페이스(31) 및 통신부(35) 등의 기능을 겸할 수 있다.
또한, 컨트롤러(10)는 외부 전원(39)에 접속되어 있다. 외부 전원(39)으로는 교류 전원으로 할 수도, 직류 전원으로 할 수도 있으며, 또한 직류 전원으로는 1차 전지 및 2차 전지 등을 포함하는 전지로 할 수도 있다. 수분 제어 장치(1)가 이동, 반송 또는 휴대가 가능한 경우에는 외부 전원(39)을 전지로 하면 전원을 확보하는데 있어 편리하다.
또한, 컨트롤러(10)는 후술하는 검출기(38)로부터의 검출 신호에 기초하여 전극에 인가되는 전류치, 전압치, 주파수 및 위상 중 적어도 하나를 피드백 제어한다.
전극(13, 14)의 사이에는 처리 대상으로 하는 물질이 배치되도록 한다. 처리 대상으로 하는 물질로는 고체, 액체 및 기체 중 적어도 하나의 것이면, 특별히 한정되는 것이 아니며, 후술하는 바와 같이 다양한 물질을 대상으로 할 수 있다.
［전극에 대해］
도 1에서는 한 쌍의 전극(13, 14)으로서 판상 전극이 예시되고 있지만, 전극(13, 14)의 형태는 판상으로 한정되는 것이 아니고, 박상, 막상 또는 층상으로 할 수도 있고, 또한 막대형, 구형, 반구형, 대략 L자 형상 등 다양한 형상을 적용 가능하다. 또한, 전극(13, 14)이 박상 및 막상의 경우에는, 전극의 두께를 매우 얇게 할 수 있으므로, 전극의 설치 공간을 줄일 수 있는 동시에, 경량화할 수도 있으며, 또한 전극의 설치가 용이하다. 층상의 경우에는, 예를 들면 소정의 기체(基體)에 대해 겹치도록 박막 형태의 전극을 마련하고 있는 것 등도 포함된다.
전극(13, 14)의 형상은 평판 형상에 한정되는 것이 아니며, 어떠한 형상이라도 상관없다. 박상의 전극(13, 14)을 이용하는 경우에는 설치 장소의 형상에 따라, 전극을 임의의 형상으로 성형할 수 있으므로, 예를 들면 전극을 곡면 형상으로 하는 것도 가능하다.
전극(13, 14)에는 복수의 관통공을 마련할 수도 있다. 전극에 복수의 관통공을 마련하면 전극에서 전자기파를 발생시킬 때의 특성을 개선하는 것이 가능한 것과 함께, 통기성을 가지며, 또한 전극을 통해 시인성을 확보할 수도 있다. 구멍의 형상은, 원형, 타원형, 다각형 등 다양한 것을 채용할 수 있고, 예를 들면 6각형의 구멍을 마련할 수도 있다.
전극(13, 14)의 재질은 전도성을 갖는 재질이면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면 동, 철, 스테인레스, 알루미늄, 티타늄, 금, 은, 백금 등의 전도성 금속 등, 이러한 금속의 합금 등, 또는 전도성 산화물, 전도성 유리 등의 전도성 재료 등이 적용된다. 또한, 전극(13, 14)의 표면을 절연재에 의해 피복할 수도 있다. 한 쌍의 전극(13, 14)의 한 쪽과 다른 쪽을 서로 다른 재질로 하는 것도 가능하다. 예를 들면, 전극(13)의 재질을 스테인레스로 하고, 전극(14)의 재질을 티타늄으로 할 수 있으며, 이 밖에 스테인레스와 알루미늄, 스테인레스와 동과의 조합 등도 가능하다. 전극(13, 14)의 재질을 변경함으로써, 그 전극에서 발생시키는 전자기파의 특성을 조정하는 것이 가능하다. 이 경우, 전극(13)과 전극(14)의 재질을 바꾸는 것에 의해서도 전자기파의 특성을 조정하는 것이 가능하다. 후술하는 바와 같이, 전극의 수는 한 쌍에 한정하지 않고, 1개인 경우, 3개 이상인 경우, 두 쌍 이상인 경우 등 적절하게 설정하는 것이 가능하고, 이 경우에도 각 전극의 재질을 적절하게 선택함으로써, 그 전극에서 발생시키는 전자기파의 특성을 조정하는 것이 가능하다. 예를 들면, 두 쌍의 전극을 이용하는 경우에 한 쌍의 전극의 재질을 스테인레스로 하고, 또 한 쌍의 전극의 재질을 동으로 함으로써 이러한 전극에서 발생시키는 전자기파의 특성을 조정하는 것이 가능하다. 전극(13, 14)은 전기장, 자기장, 전자기장, 전자기파, 음파 및 초음파 중 적어도 하나를 발생시키는 것이지만, 음파 또는 초음파만을 발생시키는 경우에는 전극(13, 14)의 재질은 전도성 재료에 한정되는 것이 아니라, 예를 들면 수지 등의 전도성이 없는 재료를 사용할 수 있다.
수분 제어 장치(1)를 설치하기 위해 전용의 케이스를 마련할 수도 있지만, 이에 한정되는 것이 아니며, 예를 들면 기존의 케이스에 설치하는 것도 가능하다. 수분 제어 장치(1)를 설치할 수 있는 기존의 케이스로는, 냉장고, 냉동고, 냉장 창고, 냉동 창고, 저장고, 창고, 냉장차, 냉동차, 쿨러 박스, 반송용 컨테이너, 보관용 컨테이너, 진열장, 선반, 서랍, 플라이어, 재배 용기(수경 재배용 등), 연료 탱크, PC, 휴대 전화, 의자 침대, 가구, 침구, 가전 기기, 공장 내의 각종 제조 기기, 가공 기기, 의료 기기, 건강 기기, 미용 기기, 조리 기기, 연마 기기, 교통 수단, 반도체의 세정 기기, 제련 공정, 인화 공정, 건조 공정에서 냉각 시에 나오는 수증기의 제어 기기 등 다양한 케이스를 선택할 수 있다.
냉장고의 경우에는 한 쌍의 전극(13, 14)을, 예를 들면 냉장고 내의 대향하는 측벽면을 따라, 천정면이나 선반이나 바닥을 따라, 천정면이나 바닥과 측면을 따라, 또는, 문 측 내면과 안쪽 측면을 따라 배치할 수 있다. 플라이어의 경우에는, 예를 들면 기름 용기의 내부의 양측면을 따라 배치된다. 즉, 한 쌍의 전극(13, 14)이 대향하도록 배치되어 있으면, 어떻게 배치해도 상관없다. 또한, 한 쌍의 전극이 평행이 되도록 배치할 필요는 없고, 예를 들면 양 전극이 수직이 되는 위치 관계로 할 수도 있으며, 양 전극 사이에 처리 대상이 되는 물질을 배치할 수 있는 공간을 마련할 수 있다면 양 전극은 어떻게 배치해도 상관없다.
수분 제어 장치(1)를 설치하는 대상으로는 케이스일 필요는 없고, 한 쌍의 전극(13, 14)을 배치할 수 있는 장소라면, 어떠한 장소에나 배치할 수 있다. 예를 들면, 선반이나 벽 등, 한 쌍의 전극(13, 14)이 대향하여 배치할 수 있으면, 어떠한 장소에도 설치 가능하며, 또한 전극(13, 14)을 고정하기 위해, 예를 들면 칸막이 형태의 부재를 이용하는 것도 가능하다.
［전극에 인가되는 전압에 대해］
컨트롤러(10)로부터 한 쌍의 전극(13, 14)에는 적어도 직류 성분 전압이 인가되고, 이에 더하여 교류 성분 전압을 인가하는 것도 가능하다. 직류 성분 전압은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면 0V에서 2000V의 사이에서 조정이 가능하고, 예를 들면 0V~100V의 사이에서 조정하는 것도 가능하며, 또한, 예를 들면 5V~20V의 사이에서 조정하는 것도 가능하고, 그리고, 예를 들면 10V~15V의 사이에서 조정하는 것도 가능하다.
한 쌍의 전극(13, 14)에는 적어도 직류 성분 전압이 인가되기 때문에, 예를 들면 교류 성분 전압을 0V로 하고, 직류 성분 전압만을 인가하는 것도 가능하다.
직류 성분 전압의 방향은 플러스(＋)로 할 수도, 마이너스(－)로 할 수도 있다. 본 실시 형태에서는 전극(14)의 전위가 전극(13)(접지 전위)의 전위보다 높을 때의 직류 성분 전압의 방향을 플러스로 하고, 반대로 전극(14)의 전위가 전극(13)의 전위보다 낮을 때의 직류 전압의 방향을 마이너스로 한다. 직류 성분 전압이 플러스인 경우에도, 마이너스인 경우에도, 물질의 성질을 향상시키는 효과를 달성한다.
또한, 한 쌍의 전극(13, 14)에는 직류 성분 전압에 더하여, 교류 성분 전압을 인가할 수 있다. 교류 성분 전압의 주파수는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면 0~1MHz 사이에서 조정이 가능하고, 예를 들면 50Hz~500kHz 사이에서 조정이 가능하며, 예를 들면 5kHz~200kHz 사이에서 조정이 가능하고, 또한, 예를 들면 50kHz~100kHz 사이에서 조정이 가능하다.
또한, 교류 성분 전압의 전압은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 1cm당 공간 전기장이 피크 사이에서, 예를 들면 0~2000Vpp/cm 사이에서 조정이 가능하고, 또한, 예를 들면 50~500Vpp/cm 사이에서 조정하는 것도 가능하며, 추가로, 예를 들면 100V~250Vpp/cm 사이에서 조정하는 것도 가능하다.
또한, 직류 성분 전압을 인가하면 물질의 성질을 향상시키는 효과가 높지만, 교류 성분 전압만을 인가했을 경우에도 효과는 얻을 수 있으며, 이 경우 직류 성분 전압은 0V가 된다.
상술한 바와 같이, 외부 전원의 전압은 직류 전압이어도, 교류 전압이어도, 외부 전원으로는, 교류 전원으로 할 수도, 직류 전원으로 할 수도 있다. 교류 전원으로는, 예를 들면 상용 전원을 이용할 수 있다. 또한, 직류 전원으로는, 예를 들면 1차 전지 및 2차 전지 등을 포함하는 전지로 할 수 있으며, 예를 들면 12V 배터리나 건전지 등, 다양한 전지를 이용할 수 있다.
컨트롤러(10)에서 직류 성분 전압의 전압치를 조정하기 위해서는, 직류 전원을 DC－DC 컨버터에 의해 전압을 제어하는 방법, 교류 전원을 AC－DC 컨버터에 의해 정류할 때, 또는 정류 후에 DC－DC 컨버터에 의해 전압을 제어하는 방법 등이 있다. 또한, 컨트롤러(10)에서 교류 성분 전압의 전압치 및 주파수를 조정하기 위해서는, 직류 전원을 DC－AC 컨버터(인버터)에 의해 제어하는 방법, 교류 전원을 AC－DC 컨버터에 의해 정류한 후에 DC－AC 컨버터(인버터)에 의해 제어하는 방법, 교류 전원을 AC－AC 컨버터에 의해 제어하는 방법 등이 있다.
또한, 직류 성분 전압의 목표 전압치가 직류 전원의 전원 전압과 동일한 경우에는, 직류 성분 전압으로서 직류 전원의 전원 전압을 그대로 이용하는 것도 가능하다. 마찬가지로, 교류 성분 전압의 목표 전압 및 목표 주파수가 교류 전원의 전원 전압과 동일한 경우에는, 교류 성분 전압으로서 교류 전원의 전원 전압을 그대로 이용하는 것도 가능하다.
또한, 직류 성분 전압과 교류 성분 전압이 가산되고, 즉, 교류 성분 전압에 대해 오프셋 전압으로서 직류 성분 전압이 가산되고, 이 가산된 전압이 한 쌍의 전극(13, 14)사이에 인가된다. 그리고, 예를 들면 DC－AC 컨버터로의 전력 변환에 있어 교류 성분 전압을 제어할 때에, 직류 성분 전압을 함께 제어하는 것도 가능하다.
［컨트롤러의 제어에 대해］
수분 제어 장치(1)는 컨트롤러(10)에 의해 구동되어 한 쌍의 전극(13, 14) 사이에 전기장이 발생한다. 이 때, 전극(13, 14)은 안테나로서 기능하고, 양 전극(13, 14) 사이에 전자기파가 방사됨으로써, 전자기장이 발생한다. 또한, 전극(13, 14)에 대해서 전기적, 자기적 또는 기계적 수단에 의해 진동을 줌으로써, 전극 사이에 음파 및/또는 초음파를 발생시킬 수도 있다. 전극 사이에 음파 및/또는 초음파를 발생시키는 수단으로서는, 예를 들면 피에조(piezo) 소자 등의 압전 소자를 이용할 수 있다. 따라서, 양 전극(13, 14) 사이에는 전기장, 자기장, 전자기장, 전자기파, 음파 및 초음파 중 적어도 하나가 발생한다. 전기장, 자기장, 전자기장 또는 전자기파 이외에 음파 및/또는 초음파를 이용함으로써 물질의 특성을 향상하는 효과가 증가한다.
컨트롤러(10)는 검출기(38)로부터의 검출 신호에 기초하여 전극에 인가되는 전류치, 전압치, 주파수 및 위상 중 적어도 하나를 피드백 제어한다. 검출기(38)는 전극에 인가되는 전압을 검출하는 전압 센서, 전극에 인가되는 전류를 검출하는 전류 센서, 전극에 인가되는 전압 및/또는 전류의 주파수를 검출하는 주파수 센서, 전극에 인가되는 전압 및/또는 전류의 위상을 검출하는 위상 센서, 양 전극(13, 14) 사이의 자기장을 검출하는 자기장 센서, 양 전극(13, 14) 사이의 전기장을 검출하는 전기장 센서, 양 전극(13, 14) 사이의 음파의 크기 또는 주파수를 검출하는 음파 센서, 및 양 전극(13, 14) 사이의 초음파의 크기 또는 주파수를 검출하는 초음파 센서 중 적어도 하나를 포함한다.
컨트롤러(10)에서의 전류치, 전압치, 주파수 및 위상 중 적어도 하나의 제어 목표치는 대상으로 하는 물질의 종류나 상태에 따라 설정된다. 이러한 제어 목표치의 설정은 도시되지 않은 통신기를 통해 원격으로 설정하는 것이 가능하다. 또한, 컨트롤러(10)의 제어 파라미터나 제어량을 원격 제어하는 것도 가능하다. 이에 의해, 복수의 수분 제어 장치(1)의 컨트롤러(10)를 원격지에 있는 서버(40)에서 집중 관리하고, 각 컨트롤러(10)를 적절하게 제어하는 것이 가능하다. 다만, 컨트롤러(10)의 제어의 양태는 서버(40)로부터의 원격 제어에 한정되는 것은 아니고, 예를 들면 각 컨트롤러(10)에 직접 제어 목표치를 설정하거나 제어 파라미터를 설정함으로써, 각 수분 제어 장치(1)의 컨트롤러(10)를 개별적으로 제어하는 것도 가능하다.
또한, 컨트롤러(10)에는 기억부(37)가 설치되어 있으며, 당해 기억부(37)에는 제어 프로그램이 기억되어 있다. 컨트롤러(10)는 이 제어 프로그램에 기초하여 제어된다. 이 제어 프로그램은 통신 또는 기억 매체를 통해 재기록 가능하기 때문에, 적시(適時) 프로그램을 갱신하고, 버전업 하는 것이 가능하다. 또한, 컨트롤러(10)와 서버(40)는 통신 가능하며, 서버(40)에서 송신되어 오는 제어 파라미터, 제어량, 제어 프로그램 내지 각종 설정치는 기억부(37)에 기억된다. 또한, 제어 프로그램은 적절한 기억 매체에 기억하는 것이 가능하다.
도 2는 물 분자의 모식도이며, 도 2a는 자유롭게 활동하고 있는 상태의 물 분자이며, 도 2b는 연주 배열 시의 물 분자다.
대상이 되는 물질, 예를 들면 고기, 생선, 야채 등의 식품 등, 음료, 동식물 세포, 및 기름 등은 자유수 등의 수분으로서의 물 분자를 포함하고 있다.
통상, 물 분자(H2O)는 도 2a에 나타낸 바와 같이, 불규칙하게 배열되어 있다. 그 때문에, 수소 원자 H가 활성 산소(30)를 가져오거나, 수소 결합을 발생시키거나 하여, 물 분자의 사이즈가 커지며, 물 분자의 움직임이 둔해진다. 그리고 물 분자의 산화가 시작된다.
이에 대해, 한 쌍의 전극(13, 14) 사이에 전기장이 발생하면, 물 분자는 일정한 방향으로 배열하려고 한다. 왜냐하면, 물 분자는 전자를 당기는 힘이 강한 산소 원자 O가 약간 마이너스로, 전자를 내기 쉬운 수소 원자 H가 약간 플러스가 되어, 각각 한 쌍의 전극(13, 14) 사이의 전기장의 방향으로 향하려고 하기 때문이다.
컨트롤러(10)에 의해 교류 성분 전압을 발생시키면, 물 분자는 교대로 방향을 바꾼다. 이 때, 물 분자는 교류 성분 전압과 같은 주파수로 방향을 바꾸어 진동하고 있는 상태가 된다. 그리고 이 진동을 반복하는 동안, 물 분자는 도 2b에 나타낸 바와 같이, 활성 산소(30) 또는 다른 성분과의 수소 결합이 분리되고, 서서히 물 분자가 각각 규칙적으로 세립화하여 배열하게 된다.
물질 내에 존재하는 자유수 등의 수분으로서의 물 입자(미세한 물방울) 사이에서도 마찬가지 작용이 있기 때문에, 한 쌍의 전극(13, 14) 사이의 전기장에 의해, 물 입자끼리 서로 당기도록 하여 연주 배열을 형성한다.
한 쌍의 전극(13, 14) 사이에 직류 성분 전압이 인가되는 경우에는, 이 직류 성분 전압에 의한 전기장의 방향에 따라 물 분자가 배열하려고 하는 힘의 성분이 존재한다. 따라서, 직류 성분 전압만을 한 쌍의 전극(13, 14) 사이에 인가했을 경우에도, 물 분자는 규칙적으로 배열하게 된다. 또한, 직류 성분 전압에 대해 교류 성분 전압이 인가되면, 물 분자는 교류 성분 전압과 같은 주파수로 방향을 바꾸고, 한 방향으로 물 분자가 배열하려고 하는 힘의 성분도 존재하기 때문에, 물 분자가 더욱 규칙적으로 배열하기 쉬워진다. 물 입자의 상태에 대해서도, 이와 마찬가지로 한 쌍의 전극(13, 14) 사이의 전기장에 의해 자유수 등의 수분으로서 물 입자끼리가 서로 당기도록 하여 연주 배열을 형성한다.
또한, 한 쌍의 전극(13, 14) 사이에 인가하는 전압에 직류 성분 전압이 포함되지 않은 경우에도, 교류 성분 전압에 의해 물 분자는 교류 성분 전압과 같은 주파수로 방향을 바꾸어 진동하고 있는 상태가 된다. 그리고 이 진동을 반복하는 동안, 물 분자는 활성 산소(30) 또는 다른 성분과의 수소 결합이 분리되어, 서서히 물 분자가 각각 규칙적으로 세립화하여 배열하게 된다. 또한, 한 쌍의 전극(13, 14) 사이에 인가하는 전압에 직류 성분 전압이 포함되지 않은 경우, 교류 성분 전압에 의한 작용은 물 입자의 상태에 대해서도 마찬가지로 한 쌍의 전극(13, 14) 사이의 전기장에 의해 자유수 등의 수분으로서의 물 입자끼리가 서로 당기도록 하여 연주 배열을 형성한다.
또한, 음파 또는 초음파에는 물 분자를 진동시키는 작용이 있기 때문에, 한 쌍의 전극(13, 14) 사이에 직류 성분 전압 및/또는 교류 성분 전압을 인가할 때, 추가로 소정의 주파수 및 강도의 음파 및/또는 초음파를 전극 사이에 발생시킴으로써, 물 분자의 배열을 촉진하는 효과를 달성한다. 또한, 소정의 음파 및/또는 초음파에 의해 물 분자를 진동시킨 경우에는, 전극 사이에 전압을 인가하지 않는 경우에도 물 분자를 정렬시키는 것이 가능하다.
물은 「결합수」와「자유수」로 나눌 수 있다. 결합수는 다른 성분과 수소 결합에 의해 결합되어 안정된 상태이다. 이에 대해, 자유수는 자유롭게 활동하고 있는 상태이며, 물질이 식품인 경우에는 식품이 신선하고 싱싱한 상태이다. 그러나, 자유수는 분자가 다른 성분과 결합하기 쉽고, 자유수를 포함한 식품은 부패하기 쉽다. 즉, 잡균, 바이러스, 미생물 또는 활성 효소가 자유수와 결합함으로써 부식이 진행되기 쉽다. 또한, 결합수의 상태에 있어서도 시간 경과나 온도 상승, 건조 환경 속에서는 결합수가 자유수가 되고, 그 때 수소 결합하고 있던 세포의 성분의 일부를 떼어냄으로써 부패하기 쉬워진다. 여기서, 자유수를 연주 배열한 결합 상태(상기 「결합수 의 상태」와는 구별된다) 또는 다른 세포 등에 결합한 상태로 함으로써 신선도 유지를 가능하게 한다.
본 실시 형태의 수분 제어 장치(1)에 의해 연주 배열된 물 분자는 자유수끼리 결합하여 결합수와 같이 안정된 상태가 되는 구조를 형성하는 것으로 생각될 수 있다. 즉, 본 실시 형태의 수분 제어 장치(1)에 의해 규칙적으로 배열된 물 분자는 물질 내에 유지 되면서 다른 성분과 결합하지 않기 때문에 식품을 신선하고 싱싱한 상태로 유지할 수 있다.
따라서, 본 실시 형태의 수분 제어 장치(1)를 용기에 설치해두면, 용기 내의 물질의 자유수의 배열을 제어할 수 있어, 물질이 식품, 약품, 세포인 경우에는 식품, 약품, 세포의 신선도를 유지하는 것이 가능해진다. 예를 들면, 수분 제어 장치(1)를 수송 용기로서 사용함으로써, 종래보다 장거리의 수송에서도 신선도를 유지한 채로 식품을 수송할 수 있다. 또한, 용기는, 예를 들면 발포 스티로폼 등이어도 좋고, 본 실시 형태의 수분 제어 장치(1)를 기존의 발포 스티로폼 등에 설치함으로써 수송 용기를 구성할 수 있다.
또한, 본 실시 형태의 수분 제어 장치(1)에 의해 한 번 규칙적으로 배열된 물 분자는 며칠동안 규칙적으로 배열된 상태로 유지된다. 따라서, 대상이 되는 물질이 식품, 약품, 세포인 경우, 본 실시 형태의 수분 제어 장치(1)에 의해 자유수를 연주 배열의 상태로 한 후, 다른 용기로 옮겨 보존해도 식품, 약품, 세포의 신선도를 유지하는 것이 가능해진다.
또한, 전극(13, 14)에 소정의 전압이 인가되면, 물질의 수분 중의 물 분자는 전기적으로 정렬하고, 대략 일정 방향(전기장의 방향)으로 배향한다. 이 때, 물 분자가 정렬하는 것에 의해 물질의 도전율이 증가한다. 물질이 액체의 경우에도 물 분자를 정렬시키는 것이 가능하고, 이에 의해, 예를 들면 순수한 물의 경우에도 도전율을 상승시킬 수 있다. 또한, 물 분자는 전기장 내에서는 일정한 주파수로 미세 진동하기 때문에, 0℃ 부근에서는 결정화하지 않는다.
또한, 전극(13, 14)에 소정의 전압이 인가되면, 물질 중의 물 분자의 수소 결합이 억제되기 때문에 수소 결합이 적어지므로, 예를 들면 생리적인 물을 얻는 것이 가능하다. 추가로 이 물에 대해 마이크로 버블, 마이크로 나노 버블 또는 나노 버블 등의 미세 기포를 첨가함으로써, 더욱 고기능의 물을 얻을 수 있다. 이러한 전기장 및 미세 기포에 의한 액체의 고기능화는 물에만 한정되는 것이 아니고, 예를 들면 수용액, 에멀젼, 기름 등에도 적용 가능하다.
또한, 전극(13, 14)에 소정의 전압이 인가되면, 물질의 수분 중의 물 분자의 수화(水和)가 촉진된다. 예를 들면, 물질에 포함된 단백질 등이 수화되어 물 분자와 결합하여 단백질 등이 물 분자로 둘러싸인 상태가 되면 물질의 열화를 억제할 수 있다.
도 3은 자유수의 현미경 사진이고, 도 3a는 전기장을 인가하기 전 자유수의 상태를 나타내며, 도 3 b는 전기장을 인가했을 때의 자유수의 상태를 나타낸다. 도 3b에 나타낸 바와 같이, 전기장을 인가했을 때의 자유 전자에서는 백색의 밑줄로 표시한 부분에서 물 입자의 연주 배열을 확인할 수 있다. 이에 대해, 도 3a에 나타낸 바와 같이, 전기장을 인가하기 전의 자유수에서는 물 입자의 연주 배열은 확인할 수 없다. 도 3에서, 본 실시 형태의 수분 제어 장치(1)에 의해 자유수를 연주 배열 상태로 할 수 있는 것을 확인할 수 있었다.
도 4는 물 입자의 전위의 시뮬레이션 결과이고, 도 4a는 시뮬레이션 모델의 설명도이며, 도 4b는 전위 시뮬레이션의 결과이다. 도 4a에 나타낸 바와 같이, 시뮬레이션 모델은 자유수로서 중앙부에 4개의 연주 배열의 물 입자가 존재하고, 그 좌측에는 독립한 2개의 물 입자가 존재하는 것이다.
도 4b에서는 물 입자의 세로 방향에 따른 연직 방향 단면에서의 등전위의 영역이 3지점 나타나 있다. 가장 우측 단면에서 물 입자가 연주 배열하고 있는 지점에서는 연주 배열 내의 물 입자 내에는 등전위인 것이 나타나 있다. 또한, 도면의 중앙부에 존재하는 4개의 연주 배열의 물 입자의 영역은 대략 동일한 색에 의해 착색되어 있기 때문에, 4개의 연주 배열의 물 입자의 영역의 전위는 대략 동일한 것을 알 수 있다.
연주 배열하는 4개의 물 입자에는 전기력선이 달려 있기 때문에, 이 4개의 물 입자가 서로 끌어당기고 있는 지 알 수 있다. 또한, 연주 배열하고 있는 4개의 물 입자로부터 좌측으로 떨어져 존재하는 2개의 독립적인 물 입자에 대해서도 연주 배열하고 있는 4개의 물 입자로부터의 전기력선이 달려 있는 것으로부터 이러한 2개의 독립적인 물 입자에 대해서도 연주 배열하고 있는 4개의 물 입자에 끌어당기는 방향의 힘이 작용하고 있는 것으로 생각할 수 있으며, 2개의 독립적인 물 입자가 연주 배열하고 있는 4개의 물 입자의 배열에 참가할 가능성을 생각할 수 있다.
도 5는 도미를 5일간 보장한 결과의 사진이다. 왼쪽의 사진은 보통 냉장고에서 보장한 결과의 사진이며, 오른쪽의 사진은 본 실시 형태의 수분 제어 장치(1)에 의해 전자기장을 가했을 경우의 사진이다. 왼쪽의 사진에서는 잡균, 바이러스, 또는 활성 효소가 자유수와 결합함으로써 부패하고 있다. 한편, 오른쪽의 사진에서는 자유수로서의 물 입자가 연주 배열하기 때문에, 잡균, 바이러스, 또는 활성 효소가 자유수와 분리되어 있으므로 부패가 진행되기 어렵다.
또한, 도미를 보통 냉장고로 48시간 보장한 것과, 본 실시 형태의 수분 제어 장치(1)에 의해 전자기장을 1시간 가한 후에 47시간 보장한 것을 비교하면, 후자가 부식이 진행되기 어려웠다. 이로부터, 본 실시 형태의 수분 제어 장치(1)에 의해 물질에 전자기장을 가함으로써, 물질 내의 자유수로서의 물 입자가 일단 연주 배열하면 전자기장으로부터 꺼낸 후에도 소정의 시간에 걸쳐 물 입자의 연주 배열이 유지되는 효과를 달성한다.
도 6은 콩나물을 10일간 보장한 결과의 사진이다. 왼쪽의 사진은 보통 냉장고에서 보장한 결과의 사진이며, 오른쪽의 사진은 본 실시 형태의 수분 제어 장치(1)에 의해 전자기장을 가한 경우의 사진이다. 왼쪽의 사진에서는 콩나물 안에 포함되는 자유수가 샐 수 있으며, 수분의 드립(drip)량이 27g였다. 이에 대해, 오른쪽의 사진에서는 콩나물 안에 포함되는 자유수로서의 물 입자가 연주 배열하기 때문에 콩나물의 내부에 유지된 상태가 되기 때문에, 수분의 드립량이 1g였다.
도 7은 두묘를 35일간 보장한 결과의 사진이다. 왼쪽의 사진은 보통 냉장고에서 보장한 결과의 사진이며, 오른쪽의 사진은 본 실시 형태의 수분 제어 장치(1)에 의해 전자기장을 가한 경우의 사진이다. 왼쪽의 사진에서는 두묘 안에 포함된 자유수가 빠져 나가 신선도가 떨어져 있으며, 수분의 증발에 의해 중량이 15% 감소해 있다. 오른쪽의 사진에서는 두묘 안에 포함된 자유수로서의 물 입자가 연주 배열하여 서로 결합 상태가 되기 때문에, 자유수가 증발하기 어려워져 신선도를 유지할 수 있다. 오른쪽의 사진에서는 중량의 감소는 8%로 억제되어 있다.
［계면 장력의 저하에 대해］
W/O 에멀젼(예를 들면, 식용유 중의 미세 물방울)에서, 본 실시 형태의 수분 제어 장치(1)에 의해 전자기장을 인가한 경우, 계면 장력을 감소시킬 수 있다. 이 경우, 계면 장력의 감소는, 예를 들면 10% 이상을 실현할 수 있으며, 또한 전자기장의 조건에 따라서는 20% 이상을 실현할 수 있으며, 또한, 예를 들면 직류 성분 전압 및 교류 성분 전압을 적절히 제어하면, 계면 장력을 60% 이상 감소시킬 수 있다. 이것은 전자기장의 인가에 의해 형성되는 계면 분극의 증가에 의한 것이라고 생각할 수 있다.
예를 들면, 식용유 안에서 음식을 조리할 때, 음식에 포함된 수분이 식용유 안에서 수증기가 될 때, 음식으로부터 식용유 안으로 이탈하는 물방울은 미세 물방울이다. 이러한 미세 물방울에 계면 장력을 감소시키는데 충분한 계면 분극이 생기면, 쌍극자 간 인력에 의한 미세 물방울의 연주 배열이 형성된다.
플라이어를 이용하여 식용유로 음식을 튀기는 경우, 플라이어에 대해 본 실시 형태의 수분 제어 장치(1)의 한 쌍의 전극(13, 14)을 설치해두면, 유(油)/수(水)계면의 계면 장력을 감소시킬 수 있다. 일반적으로, 음식의 가열 조리를 실시하면, 음식에 내포되는 수분은 식용유 안에서 수증기가 되고, 돌비(突沸)가 발생한다. 본 실시 형태의 수분 제어 장치(1)에 의하면, 소정의 전자기장을 발생시킴으로써, 유/수계면의 표면 장력을 감소시킬 수 있다. 이에 의해, 음식에 내포되는 수분이 이탈할 때, 식용유 안에서 입경이 작은 미세 물방울이 되어 분산하기 쉬워지기 때문에, 가열되고 있는 식용유 안에서 수증기가 되어 기화해도 발생하는 돌비는 작아진다. 또한, 음식에 내포된 자유수는 인가되는 전자기장에 의해 연주 배열됨으로써, 식재료로부터 수분이 이탈하기 어려워진다. 이와 같이, 음식에 내포된 수분을 제어하여 돌비를 억제함으로써 음식 내로의 유분의 침투를 억제하는 효과를 달성한다. 그리고, 이를 통해, 조리된 음식의 식감과 맛이 매우 뛰어난 것이 된다.
도 8은 식용유 안에서 조리된 음식의 유분의 상태를 나타낸 사진이다. 왼쪽의 사진은 종래의 플라이어에 의해 조리된 음식의 모습이며, 오른쪽의 사진은 플라이어에 대해서 본 실시 형태의 수분 제어 장치(1)의 한 쌍의 전극(13, 14)을 설치한 경우의 조리된 음식의 모습이다. 아래의 사진은 조리된 음식 아래에 깔려 있던 기름 종이의 모습이며, 오른쪽 아래의 사진의 기름의 흔적은 왼쪽 아래의 사진의 기름의 흔적보다 작게 되어 있는 것으로부터, 오른쪽 위의 본 실시 형태의 수분 제어 장치(1)를 이용하여 조리된 음식이 왼쪽 위의 종래의 플라이어에 의해 조리된 음식보다 기름의 흡수량이 적은 것을 알 수 있다. 본 실시 형태의 수분 제어 장치(1)를 이용하여 조리된 음식의 기름 흡수량은 종래의 플라이어에 의해 조리된 음식의 기름 흡수량보다 약 50% 적었다. 이에 의해, 실시 형태의 수분 제어 장치(1)를 이용하면, 식용유 안에서 조리된 음식을 조리 후 장시간에 걸쳐 식감을 양호하게 할 수 있으며, 또한 기름의 양을 줄일 수 있으며, 그리고 건강의 관점에서 기름의 섭취량을 절제할 수도 있다.
［적용 대상에 대해］
자유수의 배열을 제어하는 작용은 식품에 한정된 것이 아니라, 대상이 되는 물질로서, 예를 들면,
(1) 농산물, 생화, 축산물, 수산물, 가공 식품, 건강 식품, 음료, 주류, 건어물, 국물 또는 조미료를 포함한 식료품,
(2) 수지, 고무, 유리, 렌즈, 도자기, 목재, 시멘트, 콘크리트, 종이, 잉크, 염료, 섬유, 세라믹, 연마제, 세정제, 첨가물, 프린트 기판, 도금, 정련, 도료, 먹물, 발수 가공, 화학 제품, 비료, 사료, 미생물, 물, 옷감 또는 화약을 포함한 제품,
(3) 가솔린, 경유, 중유, 등유 또는 석유를 포함한 연료,
(4) 혈액, 백신, 약품, 장기, 세포, 연고, 투석 또는 치료기를 포함한 의료품,
(5) 화장품, 세제, 비누, 샴푸 또는 헤어-케어-용품을 포함한 일용품
등으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 하나를 채용 가능하지만, 특별히 한정되는 것은 아니고 자유수를 포함하는 한 임의의 물질에 대해 적용 가능하다.
예를 들면, 도자기 내에 포함되는 자유수를 전자기장에 의해서 연주 배열함으로써, 자유수가 도자기 내에 보존되어 도자기의 균열을 저감할 수 있다. 또한, 마찬가지로 전자기장을 가하여 물질 내에 포함된 자유수를 연주 배열함으로써, 시멘트나 콘크리트의 강도를 높여 균열을 저감할 수 있다.
예를 들면, 가솔린이나 경유 등의 연료에 전자기장을 가하면, W/O 에멀젼의 표면 장력을 감소시킬 수 있기 때문에, 물 입자는 입경이 작은 미세 물방울이 되어 분산하기 쉬워지고, 또한 물 입자끼리 연주 배열함으로써 연료의 개질 효과가 향상되고, 그리고 연비가 향상된다.
예를 들면, 혈액, 백신, 약품, 장기, 세포 등에 전자기장을 가하고, 내부에 포함된 자유수를 연주 배열함으로써 양호한 보존 상태로 할 수 있어, 보존 기간을 향상시킬 수 있다.
또한, 예를 들면 화장품 등에 대해 전자기장을 가함으로써 내부에 포함된 물 입자가 입경이 작은 미세 물방울이 되어 분산하기 쉽고, 또한 이러한 미세 물방울을 연주 배열로 함으로써, 화장품 등의 특성을 양호하게 할 수 있다.
또한, 수분 제어 장치(1)는, 예를 들면, 제조 분야, 유통 분야, 물류 분야, 보관 분야, 판매 분야, 공업 분야, 건축 분야, 토목 분야, 기계 분야, 전기 분야, 전자 분야, 통신 분야, 광학 분야, 화학 분야, 석유 화학 분야, 농업 분야, 상업 분야, 수산 분야, 식품 분야, 음식 분야, 조리 분야, 서비스 분야, 의료 분야, 건강 분야, 복지 분야, 및, 간호 분야 등의 적어도 하나의 분야에 적용할 수 있지만, 이에 한정되는 것은 아니고, 더욱 넓게 대상이 되는 물질을 취급하는 모든 분야에 적용 가능하다.
도 9는 수경 재배의 비교 결과이다. 위 3장의 사진은 종래의 재배 방법이며, 아래 3장의 사진은 본 실시 형태의 수분 제어 장치(1)에 의해 물을 처리한 재배 방법이다. 왼쪽부터 순서대로, 1일째, 7일째, 12일째의 사진이다. 종래의 재배 방법(도 9 위 3장의 사진)에서는 잎 채소의 육성 상황이 장소에 따라 다르며, 또한 조류(藻)가 발생하고 있다. 이에 대해, 본 실시 형태의 수분 제어 장치(1)에 의해 물을 처리한 재배 방법(아래 3장의 사진)이 잎 채소의 육성 상황이 양호하고, 성장의 정도는 장소에 관계없이 고르며 육성도 빠르고, 또한 조류의 발생도 저감할 수 있다.
예를 들면, 본 실시 형태의 수분 제어 장치(1)를 의료 분야에 적용했을 경우, 예를 들면 인공 투석, 당뇨병 치료, 욕창 방지, 괴사 방지, 및 순환기 장애의 방지 등에도 효과를 나타낸다.
［실시 형태 2］
도 10을 참조하면, 실시형태 2에 따른 수분 제어 장치, 수분 제어 방법, 프로그램, 기억 매체, 생성된 물질, 제품, 장치 및 설비에 대해 설명한다. 도 10은 실시 형태 2에 따른 전극의 개념도이다. 도 1 내지 도 9와 마찬가지의 구성에 대해서는 동일한 부호를 이용함과 함께, 그 설명을 생략한다. 실시형태 2에 따른 수분 제어 장치는 전극을 2쌍으로 하였다는 점에서 실시 형태 1에 따른 수분 제어 장치와 다르다.
수분 제어 장치(1A)는 컨트롤러(10A, 10B)와 2쌍의 전극으로서 제1 전극(13, 14) 및 제2 전극(15, 16)을 구비하고 있다. 컨트롤러(10A, 10B)는 각각 교류 성분 전압 발생부 및 직류 성분 전압 발생부를 구비하고 있다. 컨트롤러(10)의 실제의 회로 구성에 대해서는 교류 성분 전압 발생부 및 직류 성분 전압 발생부를 별도로 마련할 필요는 없고, 양자의 기능을 겸하는 회로 구성으로 할 수도 있다. 또한, 2개의 컨트롤러(10A, 10B)를 1개의 컨트롤러로 구성하는 것도 가능하다. 그리고, 제1 전극(13, 14) 및 제2 전극(15, 16)으로부터 동일한 전자기파를 발생시키는 경우라면, 1개의 컨트롤러로부터 제1 전극(13, 14) 및 제2 전극(15, 16)의 양쪽 모두에 전압을 인가하도록 해도 괜찮다.
수분 제어 장치(1A)는 컨트롤러(10A 및 10B)에 의해 구동되어 제1 전극의 한 쌍의 전극(13, 14) 사이 및 제2 전극의 한 쌍의 전극(15, 16) 사이에 전기장이 발생한다. 이 때, 전극(13 내지 16)은 각각 안테나로서 기능하고, 제1 전극의 양 전극(13, 14) 사이 및 제2 전극의 양 전극(15, 16) 사이에 각각 전자기파가 방사됨으로써 전자기장이 발생한다. 따라서, 양 전극(13-14, 15-16) 사이에는 전기장, 자기장, 전자기장 및 전자기파 중 적어도 하나가 발생한다. 또한, 실시 형태 1과 마찬가지로, 전극(13, 14)에 대해, 전기적, 자기적 또는 기계적 수단에 의해 진동을 줌으로써, 전극 사이에 음파 및/또는 초음파를 발생시킬 수도 있고, 또한 소정의 음파 및/또는 초음파에 의해 물 분자를 진동시켰을 경우에는 전극 사이에 전압을 인가하지 않는 경우에도 물 분자를 정렬시키는 것이 가능하다.
제1 전극(13, 14) 사이 및 제2 전극(15, 16)사이에는 처리 대상이 되는 물질이 배치되도록 한다. 처리 대상이 되는 물질로는, 실시 형태 1과 같이, 고체, 액체 및 기체 중 적어도 하나의 것이면 특별히 한정되는 것은 아니다. 본 실시 형태의 수분 제어 장치(1A)를 냉장고에 설치하는 경우에는, 예를 들면 제1 전극(13, 14)을 냉장고 내의 측면에 설치하고, 제2 전극(15, 16)을 냉장고의 천정면, 바닥 또는 선반에 설치할 수 있다. 도 10에서는 제1 전극(13, 14)과 제2 전극(15, 16)이 직교 하도록 배치되는 예가 나타나고 있지만, 본 발명은 이에 특정되는 것은 아니고 제1 전극(13, 14)에 의해 발생하는 전자기장과 제2 전극(15, 16)에 의해 발생하는 전자기장의 적어도 일부가 처리 대상으로 하는 물질에 작용한다면, 제1 전극(13, 14)과 제2 전극(15, 16)은 어떠한 배치라도 상관없다.
컨트롤러(10A, 10B)는 도시되지 않는 검출기로부터의 검출 신호에 기초하여 전극에 인가되는 전류치, 전압치, 주파수 및 위상 중 적어도 하나를 피드백 제어한다. 검출기는 전극에 인가되는 전압을 검출하는 전압 센서, 전극에 인가되는 전류를 검출하는 전류 센서, 전극에 인가되는 전압 및/또는 전류의 주파수를 검출하는 주파수 센서, 양 전극(13-14, 15-16) 사이의 자기장을 검출하는 자기장 센서, 및 양 전극(13-14, 15-16) 사이의 전기장을 검출하는 전기장 센서, 전압의 위상 검출 센서, 전류의 위상 검출 센서, 및 전압과 전류의 위상 검출 센서 중 적어도 하나를 포함한다.
컨트롤러(10A, 10B)에서의 전류치, 전압치, 주파수 및 위상 중 적어도 하나의 제어 목표치는 처리 대상으로 하는 물질의 종류나 상태에 따라 설정된다. 그리고, 컨트롤러(10A)로부터 제1 전극(13, 14)에 인가하는 전류, 전압, 주파수 및 위상은 각각 컨트롤러(10B)로부터 제2 전극(15, 16)에 인가하는 전류, 전압, 주파수 및 위상과 동일해도, 차이가 나도 상관없다. 예를 들면, 양자의 전압과 주파수를 다른 것으로 하는 것, 양자의 주파수만을 다른 것으로 하는 것, 양자의 주파수로 위상을 다른 것으로 하는 것 등 여러 조합이 가능하다.
이러한 제어 목표치의 설정은 도시되지 않는 통신기를 통해 원격으로 설정하는 것이 가능하다. 또한, 컨트롤러(10A, 10B)의 제어 파라미터나 제어량을 원격 제어하는 것도 가능하다. 이에 의해, 복수의 수분 제어 장치(1A)의 컨트롤러(10A, 10B)를 원격지에 있는 서버(40)에서 집중 관리하고, 각각의 컨트롤러(10A, 10B)를 적절하게 제어하는 것이 가능하다. 다만, 컨트롤러(10A, 10B)의 제어 형태는 서버(40)로부터의 원격 제어로 한정되는 것은 아니고, 예를 들면 각 컨트롤러(10A, 10B)에 직접 제어 목표치를 설정하거나, 제어 파라미터를 설정하거나 함으로써 각 수분 제어 장치(1A)의 컨트롤러(10A, 10B)를 개별적으로 제어하는 것도 가능하다.
또한, 도 11은 실시 형태 2의 변형예에 따른 전극의 개념도이고, 도 11a는 1개의 전극을 이용하는 예이며, 도 11b는 1개의 전극과 당해 전극에 대향하는 2개의 전극을 이용하는 예이다. 실시 형태 1에서는 한 쌍의 전극을 이용하는 예를, 실시 형태 2에서는 두 쌍의 전극을 이용하는 예를 설명했지만, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니고, 예를 들면 1개의 전극을 이용하는 것, 3개 등의 홀수의 전극을 이용하는 것 등도 가능하다. 예를 들면, 도 11a에 나타낸 바와 같이, 1개의 전극(17)에 의해서도 전자기파를 발생시킬 수 있다. 또한, 예를 들면, 3개의 전극을 이용하는 경우에는 도 11b에 나타낸 바와 같이, 1개의 전극(18)에 대해 2개의 전극(19, 20)을 대향시키는 것이나, 또는 3개의 전극으로부터 상이한 전자기파를 발생시키는 것도 가능하다. 따라서, 전극의 개수나 배치는 임의로 설정할 수 있으며 한정되는 것은 아니다.
［실시 형태 3］
도 12 및 도 13을 참조하여, 본 발명의 실시형태 3에 따른 수분 제어 장치, 수분 제어 방법, 프로그램, 기억 매체, 생성된 물질, 제품, 장치 및 설비에 대해 설명한다. 도 12는 실시 형태 3에 따른 상이한 주파수의 전압을 이용한 경우의 파형도이고, 도 13은 실시 형태 3에 따른 상이한 위상의 전압을 이용한 경우의 파형도이다. 도 1 내지 도 11과 마찬가지의 구성에 대해서는 동일한 부호를 이용함과 함께, 그 설명을 생략한다. 실시형태 3에 따른 수분 제어 장치(1B)는 한 쌍의 전극으로부터 각각 상이한 전자기파를 발생시킨 점에서 실시 형태 1 및 실시 형태 2에 따른 수분 제어 장치와 다르다.
도 12에서는 한 쌍의 전극(21A, 21B)의 한 쪽의 전극(21A)에서 50kHz의 주파수의 전자기파(P파)를 발생시키고, 다른 쪽의 전극(21B)에서 47kHz의 주파수의 전자기파(Q파)를 발생시키고 있다. 여기서, 전자기파의 진폭을 A라고 하면, P파 및 Q파는 각각 다음의 식으로 표현된다. 또한, 시각 t=0에서 함께 V(t)=0이 되는 위치(예를 들면, 양 전극(21A, 21B)의 정확히 중간 위치)에서의 식으로 나타낸다.
P파: V(t) = A sin(2πf1t), f1 = 50kHz
Q파: V(t) = A sin(2πf2t), f2 = 47kHz
이에 의해, 한 쌍의 전극(21A, 21B) 사이에는 도 12c와 같이, P파＋Q파의 전자기파가 인가되게 된다.
도 13a 및 도 13b에서는 한 쌍의 전극(22A, 22B)의 한 쪽의 전극(22A)에서 50kHz의 주파수의 전자기파(P파)를 발생시키고, 다른 쪽의 전극(22B)에서 30kHz의 주파수의 전자기파(Q파)를 발생시키고 있다. 양 파형의 위상 α는 양자 모두 α=0으로 일치하고 있다. 여기서, 전자기파의 진폭을 A라고 하면, P파 및 Q파는 각각 다음의 식으로 표현된다. 또한, 시각 t=0에서 함께 V(t)=0이 되는 위치(예를 들면, 양 전극(21A, 21B)의 정확히 중간 위치)에서의 식으로 나타낸다.
P파: V(t) = A sin(2πf1t), f1 = 50kHz
Q파: V(t) = A sin(2πf2t), f2 = 30kHz
이에 의해, 한 쌍의 전극(22A, 22B) 사이에는 도 13b와 같이 P파＋Q파의 전자기파가 인가되게 된다.
도 13c 및 도 13d에서는 한 쌍의 전극(23A, 23B)의 한 쪽의 전극(23A)으로부터 주파수 50kHz, 위상α=0의 주파수의 전자기파(P파)를 발생시키고, 다른 쪽의 전극(23B)으로부터 주파수 30kHz, 위상 α=π／2의 전자기파(Q파)를 발생시키고 있다. 즉, 양 파형의 위상은 π／2로 설정되어 있다. 여기서, 전자기파의 진폭을 A라고하면, P파 및 Q파는 각각 다음의 식으로 표현된다. 또한, 시각 t=0에서 P파 V(t)=0, Q파 V(t)=A로 되는 위치(예를 들면, 양 전극(21A, 21B)의 정확히 중간 위치)에서의 식으로 나타낸다.
P파: V(t) = A sin(2πf1t), f1 = 50kHz
Q파: V(t) = A sin(2πf2t + π/2), f2 = 30kHz
이에 의해, 한 쌍의 전극(23A, 23 B) 사이에는 도 13d와 같이 P파＋Q파의 전자기파가 인가된다.
도 12, 도 13a, 도 13b에서는 양 전극으로부터 각각 주파수가 다른 전자기파를 발생시키고, 도 13c, 도 13d에서는 양 전극으로부터 주파수 및 위상이 다른 전자기파를 발생시켰지만, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니고, 예를 들면 양 전극에 인가하는 교류 성분 전압을 조정하여 전자기파의 피크간 전압을 제어하는 것이나, 양 전극에 인가되는 직류 성분 전압을 조정하여 교류 성분 전압에 대해 오프셋 전압으로서 직류 성분 전압을 인가하는 것이나, 양 전극에 인가하는 직류 성분 전압을 다르게 하는 것이나, 양 전극에 인가되는 교류 성분 전압의 피크간 전압치, 주파수 및 위상을 다르게 하는 것 등도 가능하다.
［실시 형태 4］
도 14 내지 도 16을 참조하여, 본 발명의 실시형태 4에 따른 수분 제어 장치, 수분 제어 방법, 프로그램, 기억 매체, 생성된 물질, 제품, 장치 및 설비에 대해 설명한다. 도 14는 전극(13A, 14A)을 기존의 냉장고에 설치한 예이고, 도 15는 전극(13B, 14B)을 기존의 컨테이너에 설치한 예이며, 도 16은 전극(13C, 14C)을 기존의 플라이어에 설치한 예이다. 도 1 내지 도 13과 마찬가지의 구성에 대해서는 동일한 부호를 이용함과 함께, 그 설명을 생략한다. 실시형태 4에 따른 수분 제어 장치에서는 전극(13, 14)의 구체적인 배치가 예시되고 있으며, 전극(13, 14)의 형태는 실시 형태 1 내지 3과 같다.
도 14에서는 전극(13A, 14A)은 기존의 냉장고에 설치되어 있다. 케이스(50A)로서 냉장고에 설치되는 전극(13A, 14A)은 단면이 대략 L자 형상의 전도성(예를 들면 동, 철, 스테인레스, 알루미늄 등)의 판상 부재로 구성되고, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 바닥판에는 복수의 구멍(예를 들면, 6각형 등의 다각형이나 원형의 구멍)이 마련되어 있다. 양 전극(13A, 14A) 사이는 연결 도구(41)에 의해 연결되어 있다. 연결 도구(41)는, 예를 들면 폴리 테트라 플루오르 에틸렌(예를 들면, 테플론(등록 상표)) 등의 불소 수지 등의 절연성 재료로 이루어지는 대략 직사각형 형태의 얇은 판이다. 또한, 케이스(50A)로서 냉장고로는 가정용 냉장고나 업무용 대형 냉장고 등 다양한 형태의 냉장고를 포함한다.
전극의 형상은 대략 L자 형상으로 한정되는 것은 아니고, 예를 들면 평판 형태나 박막 형태여도 좋다. 이 경우, 각 전극(13A, 14A)을 케이스(50A)로서의 냉장고의 내벽에 대향하여 설치할 수도 있다. 또는, 각 전극(13A, 14A)을 냉장고의 천정면, 바닥면, 또는 선반에 대향하여 설치할 수 있다. 또는, 각 전극(13A, 14A)을 도어측 면과 안측 면에 대향하여 마련할 수도 있다. 또한, 전극의 수는 적어도 하나이면 좋고, 예를 들면 2개라도, 4개라도, 6개라도 상관없다.
케이스(50A)로서의 냉장고에 설치되는 전극(13A, 14A)으로부터 냉장고 내의 음식에 전자기장이 인가되면, 음식 내에 포함된 자유수 등의 수분으로서의 물 입자끼리가 서로 당기도록 하여 연주 배열을 형성한다. 이와 같이, 규칙적으로 배열된 물 분자는 물질 내에 유지되면서 다른 성분과 결합하지 않기 때문에, 식품을 신선하고 싱싱한 상태로 유지할 수 있다.
도 15에서는 전극(13B, 14B)은 기존의 컨테이너에 설치되어 있다. 케이스(50B)로서의 컨테이너에 설치되는 전극은 단면이 대략 L자 형상 또는 단면이 대략 コ자 형상의 전도성(예를 들면, 동, 철, 스테인레스, 알루미늄 등)의 판상 부재로 구성되고, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 바닥판에는 복수의 구멍(예를 들면, 6각형 등의 다각형이나 원형의 구멍)이 마련되어 있다. 양 전극(13B, 14B)의 사이는, 필요에 따라 연결 도구(41B)에 의해 연결되어 있다. 연결 도구(41B)는, 예를 들면 폴리 테트라 플루오르 에틸렌(예를 들면, 테플론(등록 상표)) 등의 불소 수지 등 절연성 재료로 이루어지는 대략 직사각형 형태의 박판이다. 또한, 도 15에는 비교적 대형 컨테이너가 도시되어 있지만, 케이스(50B)로서의 컨테이너에는 휴대 가능한 소형 컨테이너나, 대형 화물용 컨테이너 등, 다양한 형태의 컨테이너가 포함된다.
전극의 형상은 대략 L자형 모양으로 한정되는 것이 아니고, 예를 들면 평판 모양이나 박막 형태도 좋다. 이 경우, 각 전극(13B, 14B)을 케이스(50B)로서의 컨테이너의 내벽에 대향하여 설치할 수도 있다. 또는, 각 전극(13B, 14B)을 컨테이너의 천정면 및 바닥면에 대향하여 설치할 수 있다. 또는, 각 전극(13B, 14B)을 도어측 면과 안측 면에 대향하여 마련할 수 있다. 또한, 전극의 수는 적어도 1개이면 좋고, 예를 들면 2개도, 4개도, 6개도 상관없다.
케이스(50B)로서의 컨테이너에 설치되는 전극(13B, 14B)으로부터, 예를 들면 컨테이너 내의 음식에 전자기장이 인가되면, 음식 내에 포함된 자유수 등의 수분으로서의 물 입자끼리가 서로 당기도록 하여 연주 배열을 형성한다. 이와 같이, 규칙적으로 배열된 물 분자는, 물질 내에 유지되면서 다른 성분과 결합하지 않기 때문에, 식품을 신선하고 싱싱한 상태로 유지할 수 있다. 또한, 전극(13B, 14B)이 설치된 컨테이너는 냉장 창고나 냉동 창고나 신선도 유지 창고 등에 배치하고, 원하는 보장 온도 범위에서 관리되어도 괜찮지만, 특별한 신선도 유지 기능을 구비하지 않은 창고에 배치한 경우에도, 전극(13B, 14B)이 설치된 컨테이너는 식품의 신선도를 유지하는 것이 가능하다.
도 16에서는 전극(13C, 14C)은 기존의 플라이어(케이스(50C))의 유조 내에 설치되어 있다. 케이스(50C)로서의 플라이어에 설치된 전극(13C, 14C)은 단면이 대략 L자 형상의 전도성(예를 들면, 동, 철, 스테인레스, 알루미늄 등)의 판상 부재로 구성되고, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 바닥판에는 복수의 구멍(예를 들면, 6각형 등의 다각형이나 원형의 구멍)이 마련되어 있다. 또한, 전극(13C, 14C)의 바닥면은 플라이어의 유조 내의 바닥면에 따라 설치된다. 플라이어의 유조의 외측, 도 16의 예에서는 유조의 바닥면의 외측에는 가열부(51)가 마련되어 있다. 전극(13C, 14C)은 각각 컨트롤러(10)와 전기적으로 접속되어 있어, 컨트롤러(10)의 출력 전압은 각 전극(13C, 14C)에 인가된다.
전극(13C, 14C)으로부터 플라이어의 유조 내에 전자기장이 인가되면, 유/수계면의 계면 장력은 감소하고, 또한 음식에 내포된 자유수는 인가되는 전자기장에 의해 연주 배열됨으로써, 식재료로부터 수분이 이탈하기 어려워진다. 이와 같이, 음식에 내포된 수분을 제어하고 돌비를 억제함으로써, 음식 내의 유분의 침투를 억제하는 효과를 달성한다. 또한, 이에 의해, 조리된 음식의 식감과 맛이 매우 뛰어난 것이 된다.
실시 형태 4에서는 양 전극(13, 14)에 항상 전압 및/또는 전류를 인가하는 예를 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되는 것도 아니고, 물질이 적재되어 있는 케이스(50) 내의 양 전극(13, 14)에 대하여 항상 전압 및/또는 전류를 인가하는 것이 아니라, 소정의 타이밍 내지 소정의 시간만큼 전압 및/또는 전류를 인가하도록 해도 좋다. 예를 들면, 케이스(50A)가 냉장고인 경우, 전극(13A, 14A)에 의해 냉장고 내부의 음식에 전자기장을 1시간 인가하고, 그 후 47시간은 전극(13A, 14A)에 전압 및/또는 전류를 인가하지 않고, 그 후 또한 냉장고 내부의 음식에 전자기장을 1시간 인가하는 것과 같은 전자기장의 인가 패턴에 의해, 냉장고 내부의 음식의 신선도를 항상 유지하는 것이 가능하며, 또한 이에 따라 전력 소비를 줄일 수 있다. 이것은 전극(13A, 14A)에 의해 냉장고 내부의 음식에 전자기장을 1시간 정도 인가함으로써 음식에 포함되는 자유수 등의 수분으로서 물 입자끼리 서로 당기도록 하여 연주 배열을 형성하고, 그 후에는 전자기장이 없는 상태에서도 소정의 시간은 물 분자의 연주 배열이 유지되기 때문이라고 생각된다. 전극(13A, 14A)에 의해 냉장고 내부의 음식에 전자기장을 인가하는 시간 및 그 후 전극(13A, 14A)에 전압 및/또는 전류를 인가하지 않은 시간은 냉장고 내부의 음식의 종류나 상태, 보장 온도·습도 등에 따라 적절하게 설정할 수 있다. 또한, 냉장고 내부에 새로운 식품이 입고된 시점에서 냉장고 내부의 음식에 전자기장을 인가하는 기간을 마련하도록 하면 좋다. 또한, 냉장고 내부에 새로운 식품이 입고된 것은, 예를 들면 냉장고 내부 카메라나 도어의 개폐에 의해 검지할 수 있다.
예를 들면, 케이스(50B)가 컨테이너인 경우에도 전극(13B, 14B)에 의해 컨테이너의 음식에 전자기장이 1시간 정도 인가되면 음식에 포함된 자유수 등의 수분으로서 물 입자끼리 서로 당기도록 하여 연주 배열을 형성하고, 일단 물 분자가 연주 배열되면, 그 상태는 전자기장이 없는 상태에서도 소정의 시간은 유지된다. 따라서, 전극(13B, 14B)에 의해 컨테이너의 음식에 전자기장을 인가하는 기간 후에, 소정 시간의 전자기장을 인가하지 않은 기간을 마련하고, 또한 전자기장을 인가하는 기간을 마련함으로써, 전력 소비를 저감하고 신선도 유지가 가능해진다. 특히, 전원이 배터리인 경우에는 소비 전력이 감소됨으로써, 한 번의 충전당 신선도 유지 기간을 길게하는 것이 가능하다. 전자기장을 인가하는 기간은 1시간에 한정되는 것이 아니고, 또한 전자기장을 인가하지 않는 기간도 적절하게 설정할 수 있으며, 이 기간은 컨테이너 내의 물질의 종류나 상태, 컨테이너를 보관하는 온도나 습도 등에 따라 적절히 조정할 수 있다. 또한, 컨테이너에 새로운 물질이 적재된 타이밍에서, 컨테이너 내의 물질에 전자기장을 인가하는 기간을 마련하도록 하면 좋다. 또한, 컨테이너에 새로운 물질이 입고된 것은, 예를 들면 컨테이너 내부 카메라, 맨-머신 인터페이스(31)로부터의 신호나, 컨테이너가 입고된 창고의 관리 데이터베이스의 정보 등에 의해 검지할 수 있다 .
또한, 예를 들면 케이스(50C)가 플라이어인 경우에도 전극(13C, 14C)으로부터 플라이어의 유조 내에 전자기장을 상시 인가할 필요는 없고, 전극(13C, 14C)에 의해 플라이어의 유조 내에 전자기장을 인가한 기간 후에, 소정 시간의 전자기장을 인가하지 않는 기간을 마련하고, 또한 전자기장을 인가하는 기간을 마련할 수 있다. 이 경우에도 음식에 내포된 수분을 제어하고 돌비를 억제하여 음식 내에 유분의 침투를 억제하고, 또한, 이에 의해, 조리된 음식의 식감과 맛이 매우 뛰어난 것이 된다고 하는 효과를 지속할 수 있다. 플라이어의 유조 내에 전자기장을 인가하는 기간 및 전자기장을 인가하지 않는 기간은 조리 음식, 기름의 종류 및 기름의 온도 등에 따라 적절하게 결정할 수 있다.
［실시 형태 5］
도 17을 참조하여, 본 발명의 실시 형태 5에 따른 수분 제어 장치, 수분 제어 방법, 프로그램, 기억 매체, 생성된 물질, 제품, 장치 및 설비에 대해 설명한다. 도 17은 수분 제어 장치(1)의 블록도이다. 도 1 내지 도 16과 마찬가지의 구성에 대해서는 동일한 부호를 이용함과 함께, 그 설명을 생략한다.
도 17은 도 1에 대응하는 블록도이다. 다만, 통신부(35), 기억부(37) 및 외부 전원(39) 등은 생략되어 있다. 즉, 실제로는 CPU(36)는 통신부(35)를 통해 서버 등과 통신을 수행하고, 기억부(37)와의 사이에서 데이터의 입출력을 수행하고, 외부 전원(39)으로부터 전력이 공급되고 있지만, 그러한 동작은 도 17에서는 생략되어 있다. 또한, 도 1에서는 컨트롤러(10)는 케이스(50)의 외부에 표시되어 있지만, 이에 한정되는 것은 아니고, 예를 들면 컨트롤러(10)를 케이스(50)의 내부에 마련하는 것도 할 수 있다.
도 17의 플로우 (a)-(h)에 대해, 순서대로 설명한다. 플로우 (a)에서는 맨-머신 인터페이스(31)로부터의 입력에 따라, 컨트롤러(10)의 온·오프, 동작 모드, 물질의 종류나 상태, 교류 성분 전압 발생부(11) 및 직류 성분 전압 발생부(12)의 출력 전압 및/또는 출력 전류의 설정 등 컨트롤러(10)의 설정이 입력된다. 동작 모드로서는, 예를 들면 자동 모드, 물질 입력 모드, 및 수동 설정 모드 등이 있다. 자동 모드에서는, 예를 들면, 후술하는 바와 같이 물질 검출 센서(32)로부터의 검출 신호, 검출기(38)로부터의 검출 신호 및 서버(40)로부터의 제어 파라미터나 제어치에 따라 물질이 적절한 상태가 되도록 컨트롤러(10)가 자동적으로 제어된다. 물질 입력 모드에서는, 예를 들면 맨-머신 인터페이스(31)에서 물질의 종류나 상태를 입력함으로써, 물질에 따라 컨트롤러가 적절히 제어된다. 수동 설정 모드에서는, 예를 들면 교류 성분 전압 발생부(11) 및 직류 성분 전압 발생부(12)의 출력 전압 및/또는 출력 전류를 수동으로 설정한다. 이하에서는, 특별한 설명이 없는 한, 자동 모드의 경우를 예로 들어 설명한다. 또한, 플로우 (a)에서는, 추가로 케이스(50)가 자동 조정 기능을 갖는 경우에는, 맨-머신 인터페이스(31)로부터 케이스(50)에 대한 설정치를 입력할 수 있도록 해도 괜찮다.
플로우 (b)에서는, CPU(36)로부터의 지령에 의해, 물질 검출 센서(32)로부터 물질에 관한 정보가 수집된다. 예를 들면, 케이스(50)가 냉장고인 경우, 물질 검출 센서(32)에 의해 수집되는 물질에 관한 정보로는, 창고 내 카메라의 영상, 수분량 센서에 의한 식품의 수분에 관한 검출 신호, 및 온도 센서나 습도 센서의 검출 신호(냉장고에 내장된 센서로부터의 검출 신호도 포함함) 등이 포함된다. 또한, 예를 들면, 케이스(50)가 컨테이너인 경우, 물질 검출 센서(32)에 의해 수집되는 물질에 관한 정보로는, 컨테이너 내 카메라의 영상, 컨테이너 내의 온도 센서나 습도 센서의 검출 신호, 및 컨테이너에 마련된 GPS로부터의 신호(또한, GPS를 컨트롤러(10)에 마련하는 것도 가능하다) 등이 포함된다. 또한, 예를 들면 케이스(50)가 플라이어인 경우, 물질 검출 센서(32)에 의해 수집되는 물질에 관한 정보로서는, 조리되는 식품을 촬영한 카메라의 영상, 수분량 센서에 의한 식품의 수분에 관한 검출 신호, 식품의 온도의 검출 신호, 플라이어의 기름의 온도의 검출 신호, 플라이어의 기름의 종류에 대한 정보, 플라이어의 기름의 교환 시기에 대한 정보 등이 포함된다.
플로우 (c)에서는 CPU(36)로부터의 지령에 의해 물질 검출 센서(32)로부터 수집된 물질에 관한 정보는 통신부(35)를 통해 서버(40)에 송신된다. 또한, 플로우 (a)에서의 설정이 물질 입력 모드인 경우에는, 예를 들면 맨-머신 인터페이스(31)로부터 입력된 물질의 종류나 상태의 정보가 서버(40)에 송신된다.
또한, 플로우 (a)에서의 설정이 수동 설정 모드인 경우에는, 예를 들면, 서버(40)에 교류 성분 전압 발생부(11) 및 직류 성분 전압 발생부(12)의 출력 전압 및/또는 출력 전류에 대한 정보를 송신하고, 서버(40)에 있어서 소정의 보정을 행한 후, 소정의 제어 파라미터나 제어치를 서버(40)로부터 CPU(36)에 대해 송신하도록 해도 괜찮다. 또한, 예를 들면, 서버(40)에서의 정보 수집을 위해, 수동으로 설정된 교류 성분 전압 발생부(11) 및 직류 성분 전압 발생부(12)의 출력 전압 및/또는 출력 전류를 서버(40)에 송신하고, 제어치는 CPU(36)에서 계산하도록 해도 괜찮다. 또한, 예를 들면, 서버(40)에 있어서 상술한 제어치의 보정이나 정보 수집이 불필요한 경우에는 플로우 (c)에 있어서 서버(40)에 출력 전압 및/또는 출력 전류의 정보를 송신할 필요는 없다.
서버(40)에 있어서는, 물질의 종류 및 상태에 대해서 적절한 제어 파라미터나 제어치가 계산된다. 또한, 서버(40)는 제어 파라미터나 제어치를 계산할 때 물질의 종류 및 상태 이외에도 계절, 기후, 기상 예보, 일시, 장소, 수급 예상, 냉장고의 입출고나 수납 상황, 컨테이너의 수송 경로와 교통 상황, 당해 컨테이너와 관련된 일군의 컨테이너의 상황, 재고 관리 정보, 점포의 혼잡 상황, 경제 지표, 웹상의 정보 등의 정보를 외부 서버 및 데이터 베이스(45)와 통신함으로써 참조할 수 있다.
물질 검출 센서(32)에 의해 수집되는 물질에 관한 정보 중 카메라의 영상으로부터는, 서버(40)에 있어서 물질의 종류나 상태를 화상 인식에 의해 판별할 수 있다. 이 화상 인식 시에는, 예를 들면 딥 러닝을 이용한 AI를 사용함으로써, 물질의 종류나 상태를 정확하게 인식할 수 있다. 즉, 식품의 카메라 영상과 그 식품의 실제 종류나 상태의 데이터에 의해 훈련된 신경망(neural network)을 이용하여, 카메라의 영상으로부터 물질의 종류나 상태를 정확하게 인식할 수 있다. 서버는 다른 컨트롤러(10)와도 통신을 수행함으로써, 많은 화상 인식 데이터를 축적할 수 있고, 그에 의해, 다양한 물질에 대해 화상 인식의 정밀도를 더욱 높이는 것이 가능해진다. 또한, 컨트롤러(10)가 AI의 프로그램을 구비하고 있는 경우에는, CPU(36)에 있어서 화상 인식을 행하고, 플로우 (c)에서는 화상 인식의 결과를 서버(40)에 송신할 수도 있다. 이와 같이, 컨트롤러(10)에서 화상 인식을 수행했을 경우에는 플로우(c)에서의 데이터 송신의 통신량을 감소시킬 수 있다.
플로우 (d)에서는, 서버(40)에서 계산된 제어 파라미터나 제어치가 컨트롤러(10)의 CPU(36)에 송신된다.
플로우 (e)에서는, CPU(36)는 서버(40)로부터 송신된 제어 파라미터나 제어치를 이용하여, 교류 성분 전압 발생부(11) 및 직류 성분 전압 발생부(12)의 출력 전압 및/또는 출력 전류를 제어한다.
플로우 (f)에서는, CPU(36)는 검출기(38)에 의해 검출된 검출 신호에 기초하여 각 전극(13, 14)에 인가되는 전류치, 전압치, 주파수 및 위상 중 적어도 하나를 피드백 제어한다. 또한, 검출기(38)에 의해 검출된 검출 신호에는 전극에 인가되는 전압, 전극에 인가되는 전류, 전극에 인가되는 전압 및/또는 전류의 주파수 및/또는 위상, 양 전극(13, 14) 간의 자기장, 양 전극(13, 14) 간의 전기장, 및 양 전극(13, 14) 간의 음파 및/또는 초음파 중 적어도 하나를 포함한다. 이 때, 피드백되는 제어치는 CPU(36)에서 계산된 제어치여도 되지만, 서버(40)에서 계산된 제어치여도 된다.
여기서, 피드백되는 제어치가 CPU(36)에서 계산된 제어치인 경우에는, 플로우 (d)에서 서버(40)로부터 CPU(36)에는 제어 목표치가 송신되고 있다. 또는, 수동 모드인 경우에는 플로우 (a)에서 제어 목표치로서의 설정치가 입력된다. 또한, 제어 목표치는 물질 검출 센서(32)에 의해 수집되는 물질에 관한 정보에 따라 시간에 대해 가변으로 설정될 수 있다. 또한, 피드백되는 제어치가 서버(40)에서 계산된 제어치인 경우에는 서버(40)에서 피드백되는 제어치를 계산하기 위해, 플로우 (c)에서 검출기(38)에 의해 검출된 검출 신호를 서버(40)에 송신하고, 서버(40)에서 피드백되는 제어치가 계산되어 플로우 (d)에 의해 서버(40)로부터 CPU(36)에 제어치가 송신된다.
본 실시 형태에서는 검출기(38)를 이용하는 예를 설명했지만, 검출기(38)를 이용하지 않는 제어도 가능하다. 이 경우, 플로우 (f)는 생략되고, 플로우 (e)에 의해 교류 성분 전압 발생부(11) 및 직류 성분 전압 발생부(12)의 출력 전압 및/또는 출력 전류가 제어된다. 또한, 이 경우의 제어에는 센서리스 제어나 오픈 루프 제어 등의 여러 제어가 적용 가능하다.
플로우 (g)는 케이스(50)가 자동 조정 기능을 갖는 경우에는 CPU(36)로부터의 제어 지령이 케이스(50)에 송신되도록 해도 괜찮다. 케이스(50)가 냉장고인 경우에는 제어 지령은, 예를 들면 제어 지령은 냉장고 내의 온도나 습도의 설정치이다. 또한, 케이스(50)가 컨테이너로서 컨테이너에 온도나 습도를 조정하는 기능이 있는 경우에는, 제어 지령은, 예를 들면 컨테이너에 대한 온도나 습도의 설정치이다. 또한, 케이스(50)가 컨테이너로서, 컨테이너가 온도나 습도를 조정 가능한 창고에 격납되어 있는 경우에는, 후술하는 바와 같이 플로우 (i)에 의해 당해 컨테이너의 온도나 습도의 조정에 관한 정보가 외부 서버 및 데이터 베이스(45)로서의 당해 창고의 관리 서버에 대해서 송신되어 다른 컨테이너를 포함한 모든 컨테이너의 온도나 습도의 상태를 적절히 조정하기 위해 이용된다. 또한, 케이스(50)가 플라이어인 경우에는, 제어 지령은, 예를 들면 유조중의 기름의 온도 설정치이며, 또한 필요에 따라 기름의 교환 시기임을 알려도 괜찮다. 또한, 케이스(50)가 자동 조정 기능을 가지지 않는 경우에는, 플로우 (g)는 필수 구성이 아니고, 이 경우, 예를 들면 후술하는 플로우 (h)에서 맨-머신 인터페이스(31)에, CPU(36)로부터의 제어 지령에 관한 정보가 표시된다.
플로우(h)에서는, CPU(36)에서의 제어 상황으로서, 예를 들면 교류 성분 전압 발생부(11) 및 직류 성분 전압 발생부(12)의 출력 전압 및/또는 출력 전류의 제어 상황, 현재 취급하고 있는 물질의 종류 및 상태의 정보, 케이스(50)의 상황(물질 검출 센서(32)의 검출 정보), 케이스(50)가 자동 조정 기능을 가지지 않는 경우에는, CPU(36)로부터의 케이스(50)에 대한 제어 지령에 관한 정보가 맨-머신 인터페이스(31)에 표시된다. 또한, 이들 정보에 더하여, 맨-머신 인터페이스(31)에는 필요에 따라 또는 맨-머신 인터페이스(31)로부터의 조작에 따라, 플로우 (d)에서 서버(40)로부터 제어 파라미터나 제어치에 더하여 보내 오는 정보로서, 예를 들면, 계절, 기후, 기상 예보, 일시, 장소, 수급 예상, 냉장고의 입출고나 수납 상황, 컨테이너의 수송 경로와 교통 상황, 당해 컨테이너와 관련되는 일군의 컨테이너의 상황, 재고 관리 정보, 점포의 혼잡 상황, 경제 지표, 및 웹상의 정보 등의 정보를 표시할 수 있다. 이들 정보를 참작함으로써 조작자는 물질을 적절히 생산, 관리할 수 있다.
맨-머신 인터페이스(31)는 컨트롤러(10)와 일체로 할 수 있다. 또는, 맨-머신 인터페이스(31)는 컨트롤러(10)와 별체(別體)로 하는 것, 또는 컨트롤러(10)의 일부의 기능과 함께 별체로 할 수도 있고, 이 경우, 맨-머신 인터페이스(31)를 통신 기능을 갖는 휴대 단말, 예를 들면 스마트 폰, 휴대 전화, 태블릿 단말, PC로 구성할 수 있다. 맨-머신 인터페이스(31)를 컨트롤러(10)의 일부 기능과 함께 별체로 하는 경우에는, 컨트롤러(10) 내의 통신부(35)의 기능, 기억부(37)의 기능, 및 CPU(36)의 연산 기능 중 적어도 어느 하나 또는 그 일부의 기능을 맨-머신 인터페이스(31)와 함께 별체로 할 수 있다. 또한, 맨-머신 인터페이스(31)와 함께, 물질 검출 센서(32)의 기능이나 검출기(38)의 기능 또는 그러한 기능의 일부를 일체화하는 것도 가능하다. 예를 들면, 스마트 폰, 휴대 전화, 태블릿 단말, 또는 PC에 내장되어 있는 카메라 기능은 물질 검출 센서(32)로 이용하는 것이 가능하다.
플로우 (i)에서는, 서버(40)는 외부 서버 및 데이터 베이스(45)와 통신함으로써, 물질의 관리에 필요한 정보의 송수신이나 데이터 수집을 행하고 있다. 서버(40)는 인터넷을 통해, 필요한 외부 서버와의 사이에서 통신을 행할 수 있다. 이 때문에, 케이스(50)가 컨테이너인 경우에는, 예를 들면 당해 컨테이너를 관리하고 있는 창고의 관리 데이터 베이스나 관리 서버에 액세스 할 수 있다.
케이스(50)가 냉장고인 경우의 구성예로서, 맨-머신 인터페이스(31)로서 태블릿 단말을 이용하고, 냉장고가 냉장고 내 카메라, 온도·습도 센서, 및 온도·습도의 자동 조정 기능을 구비하는 예를 이용하여, 본 실시 형태의 작용을 설명한다. 일례로서, 태블릿 단말에 의해, 동작 모드로서 「자동 모드」가 냉장 온도로서 「약」이 선택되어 플로우 (a)에 의해 CPU에 송신된 경우를 설명한다.
물질 검출 센서(32)로서의 냉장고 내의 카메라에 의해 냉장고 내의 적어도 양 전극 사이에 보장(保藏)되어 있는 식품을 포함한 범위가 촬영되고, 그 정보는 플로우 (b) 및 플로우 (c)에 의해 서버(40)에 송신되어 서버(40)에서 대상이 되는 식품의 종류 및 상태를, 예를 들면 AI를 이용한 화상 인식에 의해 판정한다. 카메라에 의한 냉장고 내의 촬상 범위는 보장 식품의 전체를 촬상할 수 있는 것이 바람직하고, 필요에 따라 복수의 카메라를 배치할 수도 있다. 또한, 물질 검출 센서(32)로서의 냉장고 내의 온도 및 습도 센서에 의해 검출된 정보가 플로우 (b) 및 플로우 (c)에 의해 서버(40)에 송신된다. 서버(40)에서는 화상 인식에 의해 판별된 식품의 종류 및 상태와, 송신되어 온 냉장고 내의 온도 및 습도의 정보를 이용하여, 양 전극(13, 14)으로부터 발생하는 전자기장을 고려하여, 교류 성분 전압 발생부(11) 및 직류 성분 전압 발생부(12)의 출력 전압 및/또는 출력 전류에 관한 제어 파라미터나 제어치를 연산한다. 보장하는 식품의 종류 및 상태에 따라, 예를 들면 잎 채소를 보장하는 경우와, 생 도미를 보장하는 경우와, 조림으로서 조리가 끝난 도미를 보장하는 경우는 제어 파라미터나 제어치가 다르다.
플로우 (d)에서, 제어 파라미터나 제어치가 CPU(36)에 송신되고 그것에 기초하여, 교류 성분 전압 발생부(11) 및 직류 성분 전압 발생부(12)의 출력 전압 및/또는 출력 전류가 적절히 제어된다. 또한, 플로우 (f)에서, 검출기(38)의 검출치에 기초하여, 교류 성분 전압 발생부(11) 및 직류 성분 전압 발생부(12)의 출력 전압 및/또는 출력 전류는 피드백 제어된다. 또한, 플로우 (g)에서, 냉장고의 온도 및 습도가 플로우 (a)의 정보(냉장 온도 「약」) 및 서버(40)에 의해 연산된 정보 등에 기초하여 적절히 제어된다.
플로우 (h)에서는, 보장되어 있는 식품에 관한 다양한 정보를 서버(40)로부터 송신된 정보와 함께, 태블릿 단말에 표시 가능하다. 태블릿 단말에 표시 가능한 정보의 일례로서는, 보장되어 있는 식품의 종류, 상태, 입고일, 유효기한, 유효기한이 가까운 식품의 알림, 보장되어 있는 식품을 이용한 요리의 메뉴, 조리 방법, 및 쇼핑 리스트 등 중 적어도 하나를 들 수 있다. 또한, 플로우 (i)로서는, 서버(40)에서의 연산에 필요한 데이터의 취득을 들 수 있다. 그리고, 서버에서 입수한 것과 동일한 정보를 태블릿 단말의 통신 기능을 통해 입수할 수도 있기 때문에, 플로우 (d) 및 플로우 (h)에서는 URL 등을 송신하도록 하면, 플로우 (d) 및 플로우 (h)의 통신량을 감소시킬 수 있다.
다음으로, 케이스(50)가 컨테이너인 경우의 구성예로서, 맨-머신 인터페이스(31)로서 태블릿 단말을 이용하고 컨테이너가 GPS를 구비하며 컨테이너가 입고된 창고에 관리 데이터베이스 및 관리 서버를 구비하는 예를 이용하여, 본 실시 형태의 작용을 설명한다. 일례로서, 태블릿 단말에 의해, 동작 모드로서 「자동 모드」가 물질의 종류 및 상태로서 「X년 Y월 Z일에 수확(수확 직후)한 사과」라는 정보가 플로우 (a)에 의해 CPU에 송신된 경우를 설명한다.
물질 검출 센서(32)로서의 GPS는 컨테이너의 위치 정보를 물질의 종류 및 상태의 정보와 함께 플로우 (b) 및 플로우 (c)에 의해, 서버(40)에 송신하고, 서버(40)는 컨테이너의 위치를 파악하고 있으며, 예를 들면, 「X년 Y월 Z일에 수확한 사과」가 탑재된 컨테이너가 산지에서 육로로 수송되어 소정의 창고에 입고된 것을 기억하고 있다. 서버(40)는 인터넷 회선을 통해, 해당하는 창고의 관리 데이터베이스에도 액세스(상기 플로우 (i)) 할 수 있기 때문에, 컨테이너의 창고에서의 관리 상황의 데이터를 파악할 수 있다.
서버(40)에서는 컨테이너의 위치 정보, 물질의 종류 및 상태, 창고 내의 상태, 장소, 계절, 기후, 기상 예보, 및, 당해 컨테이너와 관련된 일군의 컨테이너의 상황 등의 플로우 (i)에 의해 취득한 정보를 포함한 각 정보를 이용하고, 양 전극(13, 14)으로부터 발생하는 전자기장을 고려하여, 교류 성분 전압 발생부(11) 및 직류 성분 전압 발생부(12)의 출력 전압 및/또는 출력 전류에 관한 제어 파라미터나 제어치를 연산한다. 이에 의해, 서버(40)에서는 「X년 Y월 Z일에 수확한 사과」를 소정의 창고에서 보관하는 경우에 적절한 제어 파라미터나 제어치를 산출할 수 있다.
플로우 (d)에서, 제어 파라미터나 제어치가 CPU(36)에 송신되고 그것에 기초하여, 교류 성분 전압 발생부(11) 및 직류 성분 전압 발생부(12)의 출력 전압 및/또는 출력 전류가 적절히 제어된다. 또한, 플로우 (f)에서, 검출기(38)의 검출치에 기초하여, 교류 성분 전압 발생부(11) 및 직류 성분 전압 발생부(12)의 출력 전압 및/또는 출력 전류는 피드백 제어된다. 여기에서는, 컨테이너가 온도 제어 기능 등을 갖지 않는 예로서 설명하고 있기 때문에 플로우 (g)는 생략된다.
플로우 (h)에서는, 컨테이너에 탑재되어 있는 물질에 관한 다양한 정보를 서버(40)로부터 송신된 정보와 함께 태블릿 단말에 표시 가능하다. 태블릿 단말에 표시 가능한 정보의 일례로서는, 컨테이너에 탑재되어 있는 식품의 종류, 상태, 수송 루트와 이력, 향후의 유통 예정, 현재 격납되어 있는 창고, 창고에서의 관리 상황, 먹기 적당한 시기, 유효기한, 및 다른 관련된 컨테이너의 정보 중 적어도 하나를 들 수 있다. 또한, 플로우 (i)로서는, 당해 컨테이너의 관리에 필요한 정보가 서버(40)로부터 직접, 당해 컨테이너가 격납되어 있는 창고의 관리 데이터 베이스의 관리용 서버에 보내져 창고의 관리에 이용된다.
다음으로, 케이스(50)가 플라이어인 경우의 구성예로서, 맨-머신 인터페이스(31)로서 태블릿 단말을 이용하고, 물질 검출 센서의 카메라 대신에 태블릿 단말의 카메라를 이용하고, 플라이어의 기름 온도의 자동 조정 기능을 갖는 예를 이용하여, 본 실시 형태의 작용을 설명한다. 일례로서 태블릿 단말에 의해 동작 모드로서 「자동 모드」가, 기름 온도로서 「자동」이 선택되어 플로우 (a)에 의해 CPU에 송신된 경우를 설명한다.
물질 검출 센서(32)의 카메라의 대신에, 태블릿 단말의 카메라를 이용하여, 플라이어로 조리하는 식품을 촬영하고, 플로우 (c)에 의해 그 정보를 서버(40)에 송신한다. 또한, 태블릿 단말의 카메라를 이용하는 것 대신에, 물질 검출 센서(32)로서의 플라이어에 배치해 둔 카메라를 이용할 수도 있다. 또한, 식품을 촬영하는 것은 조리하는 식재료가 변경된 처음만 하면 된다. 물질 검출 센서(32)로서의 플라이어로부터의 기름 온도의 정보도 플로우 (b) 및 플로우 (c)에 의해 서버(40)에 송신된다. 또한, 필요에 따라, 식품의 수분량을 측정하는 센서나 식품의 온도를 측정하는 센서 등을 마련하고, 이들 정보를 플로우 (b) 및 플로우 (c)에 의해 서버(40)에 송신할 수도 있다.
서버(40)에서 대상이 되는 식품의 종류 및 상태를, 예를 들면 AI를 이용한 화상 인식에 의해 판정한다. 서버(40)에서는, 화상 인식에 의해 판별된 식품의 종류 및 상태와, 플로우 (c)에 의해 송신된 각종 정보, 및 플로우 (i)에서 취득된 계절, 기후, 기상 예보, 일시, 장소, 및, 점포의 혼잡 상황 등의 정보를 이용하고, 플라이어의 기름의 온도를 설정함과 함께, 양 전극(13, 14)으로부터 발생하는 전자기장을 고려하여, 교류 성분 전압 발생부(11) 및 직류 성분 전압 발생부(12)의 출력 전압 및/또는 출력 전류에 관한 제어 파라미터나 제어치를 연산한다. 조리하는 식품의 종류 및 상태 등에 따라, 예를 들면 새우 후라이를 조리하는 경우와, 포테이토 후라이를 조리하는 경우와, 닭 튀김을 조리하는 경우는, 제어 파라미터나 제어치, 및 플라이어의 기름 온도가 다르다.
플로우 (d)에서, 제어 파라미터나 제어치가 CPU(36)에 송신되고 그것에 기초하여, 교류 성분 전압 발생부(11) 및 직류 성분 전압 발생부(12)의 출력 전압 및/또는 출력 전류가 적절히 제어된다. 또한, 플로우 (f)에서, 검출기(38)의 검출치에 기초하여, 교류 성분 전압 발생부(11) 및 직류 성분 전압 발생부(12)의 출력 전압 및/또는 출력 전류는 피드백 제어된다. 또한, 플로우 (g)에서 플라이어의 기름의 온도가 서버(40)에 의해 연산된 정보에 기초하여 적절히 제어된다.
플로우 (h)에서는, 조리하는 식품에 관한 다양한 정보를 서버(40)로부터 송신된 정보와 함께 태블릿 단말에 표시 가능하다. 태블릿 단말에 표시 가능한 정보의 일례로서는, 조리되는 식품의 종류, 상태, 플라이어의 기름의 온도, 요리하는 개수, 조리한 식품의 이력, 및 다음에 조리할 식품의 예정 중 적어도 하나를 들 수 있다. 또한, 플로우 (i)로서는, 서버(40)에서의 연산에 필요한 데이터의 취득을 들 수 있다. 그리고, 서버에서 입수한 것과 동일한 정보를 태블릿 단말의 통신 기능에 의해 입수할 수도 있기 때문에, 플로우 (d) 및 플로우 (h)에서는 URL 등을 송신하도록 하면, 플로우 (d) 및 플로우 (h)의 통신량을 감소시킬 수 있다.
본 출원은 2017년 5월 19일에 출원된 일본 특허 출원 2017－100354, 2017년 6월 28일에 출원된 일본 특허 출원 2017－126102, 2017년 8월 3일에 출원된 일본 특허 출원 2017－151155, 및, 2017년 8월 8일에 출원된 일본 특허 출원 2017－153591에 기초한다. 본 명세서 중에 일본 특허 출원 2017－100354, 일본 특허 출원 2017－126102, 일본 특허 출원 2017－151155, 및 일본 특허 출원 2017－153591의 명세서, 특허 청구 범위, 도면 전체를 참조로서 가져오는 것으로 한다.
1: 수분 제어 장치
10: 컨트롤러
11: 교류 성분 전압 발생부
12: 직류 성분 전압 발생부
13 - 23: 전극
30: 활성 산소
31: 맨-머신 인터페이스
32: 물질 검출 센서
35: 통신부
36: CPU
37: 기억부
38: 검출기
39: 외부 전원
40: 서버
41: 연결 도구
45: 데이터베이스
50: 케이스
51: 가열부

Claims (46)

  1. 전기장, 자기장, 전자기장, 전자기파, 음파 및 초음파 중 적어도 하나를 발생시키는 적어도 하나의 전극에 대해 직류 성분 및 교류 성분 중 적어도 하나를 갖는 소정의 전압을 인가함으로써, 상기 전극에 대향하여 배치된 물질의 내부에 존재하는 수분끼리를 결합 상태로 하고, 상기 물질이 갖는 성질을 향상시킬 수 있는 것을 특징으로 하는 수분 제어 장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 소정의 전압을 인가함으로써, 상기 물질의 도전율이 증가하는 것을 특징으로 하는 기재의 수분 제어 장치.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 소정의 전압을 인가함으로써, 상기 물질 내에 존재하는 수분 중의 물 분자를 일정 방향으로 배향시키는 것을 특징으로 하는 수분 제어 장치.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 수분은 결합 상태에서는 연주(連珠) 배열인 것을 특징으로 하는 수분 제어 장치.
  5. 청구항 1에 있어서,
    수분을 포함하는 물질에 대해 적용 가능한 것을 특징으로 하는 수분 제어 장치.
  6. 청구항 1에 있어서,
    상기 한 쌍의 전극 사이에 배치된 물질은 상기 한 쌍의 전극 사이에서 추출된 후에도 상기 물질이 갖는 성질을 향상시키는 효과가 소정 기간에 걸쳐 지속되는 것을 특징으로 하는 수분 제어 장치.
  7. 청구항 1에 있어서,
    상기 결합 상태가 된 물 분자 또는 입자의 집합에 있어서의 전위는 동일한 것을 특징으로 하는 수분 제어 장치.
  8. 청구항 1에 있어서,
    상기 전극에 인가되는 전압은 상기 직류 성분에 더하여 교류 성분을 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 수분 제어 장치.
  9. 청구항 1에 있어서,
    상기 적어도 하나의 전극이 복수의 전극인 경우, 상기 복수의 전극 중 적어도 하나에 인가되는 상기 전압은 전압치, 주파수 및 위상 중 적어도 하나가 상이한 것을 특징으로 하는 수분 제어 장치.
  10. 청구항 1에 있어서,
    상기 전극에 인가되는 상기 전압의 직류 성분은 100V 이하인 것을 특징으로 하는 수분 제어 장치.
  11. 청구항 1에 있어서,
    상기 물질은 고체, 액체 및 기체 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 수분 제어 장치.
  12. 청구항 1에 있어서,
    상기 물질의 계면 장력을 60% 이상 감소시키는 것이 가능한 것을 특징으로 하는 수분 제어 장치.
  13. 청구항 1에 있어서,
    상기 전극에 대해서 인가하는 전압, 전류, 주파수 및 위상 중 적어도 하나를 제어 가능한 컨트롤러를 구비하는 것을 특징으로 하는 수분 제어 장치.
  14. 청구항 13에 있어서,
    상기 컨트롤러는 상기 전극에 대해서 인가하는 전압, 전류, 주파수 및 위상 중 적어도 하나를 피드백 제어 가능한 것을 특징으로 하는 수분 제어 장치.
  15. 청구항 13에 있어서,
    상기 컨트롤러는 상기 물질의 종류 및 상태 중 적어도 하나에 따라 제어 목표로 하는 전압, 전류, 주파수 및 위상을 설정 가능한 것을 특징으로 하는 수분 제어 장치.
  16. 청구항 13에 있어서,
    상기 컨트롤러는 원격 조작 및 원격 제어 중 적어도 하나가 가능한 것을 특징으로 하는 수분 제어 장치.
  17. 청구항 13에 있어서,
    상기 컨트롤러는 직류-직류 변환, 직류-교류 변환, 교류-직류 변환, 및 교류-교류 변환 중 적어도 하나의 기능을 갖는 것을 특징으로 하는 수분 제어 장치.
  18. 청구항 13에 있어서,
    상기 컨트롤러는 전지에 의해 구동되는 것을 특징으로 하는 수분 제어 장치.
  19. 청구항 13에 있어서,
    상기 컨트롤러는 서버와 통신함으로써, 상기 서버로부터제어 파라미터 및 제어치 중 적어도 하나를 수신하는 것을 특징으로 하는 수분 제어 장치.
  20. 청구항 13에 있어서,
    상기 컨트롤러는 물질의 종류, 물질의 상태, 전기장의 상태, 자기장의 상태, 전자기장의 상태, 전자기파의 상태, 음파의 상태, 초음파의 상태, 전류의 상태 및 전압의 상태 중 적어도 하나를 검출하는 센서에 접속되어 있는 것을 특징으로 하는 수분 제어 장치.
  21. 청구항 13에 있어서,
    상기 컨트롤러는 맨-머신 인터페이스에 접속되어 있는 것을 특징으로 하는 수분 제어 장치.
  22. 청구항 1에 있어서,
    상기 전극은 판상, 막대상, 구상, 반구상, L자 형상, 박상(箔狀), 막상(膜狀) 또는 층상(層狀)인 것을 특징으로 하는 수분 제어 장치.
  23. 청구항 1에 있어서,
    상기 전극은 모두 동일한 재질의 전극 또는 적어도 하나의 재질이 다른 전극을 포함하고, 상기 전극의 재질을 선택함으로써 상기 전극에서 발생시키는 전자기파를 조정하는 것을 특징으로 하는 수분 제어 장치.
  24. 청구항 1에 있어서,
    기존의 설비에 대해 적용 가능한 것을 특징으로 하는 수분 제어 장치.
  25. 청구항 1에 있어서,
    이동, 반송 또는 휴대가 가능한 것을 특징으로 하는 수분 제어 장치.
  26. 청구항 1에 있어서,
    전극을 2개 이상 구비하고, 각 전극에 인가하는 전압, 전류, 주파수 및 위상 중 적어도 하나를 설정 가능한 것을 특징으로 하는 수분 제어 장치.
  27. 전기장, 자기장, 전자기장, 전자기파, 음파 및 초음파 중 적어도 하나를 발생시키는 적어도 하나의 전극에 대해서 직류 성분 및 교류 성분 중 적어도 하나를 갖는 소정의 전압을 인가함으로써, 상기 전극에 대향하여 배치된 물질의 내부에 존재하는 수분끼리를 결합 상태로 하여, 상기 물질이 갖는 성질을 향상시키는 것이 가능한 것을 특징으로 하는 수분 제어 방법.
  28. 청구항 27에 있어서,
    상기 소정의 전압을 인가함으로써, 상기 수분의 도전율이 증가하는 것을 특징으로 하는 수분 제어 방법.
  29. 청구항 27에 있어서,
    상기 소정의 전압을 인가함으로써, 상기 물질 내에 존재하는 수분 중의 물 분자를 일정 방향으로 배향시키는 것을 특징으로 하는 수분 제어 장치.
  30. 청구항 27에 있어서,
    상기 수분은 결합 상태에서는 연주 배열인 것을 특징으로 하는 수분 제어 방법.
  31. 청구항 27에 있어서,
    수분을 포함하는 물질에 대해 적용 가능한 것을 특징으로 하는 수분 제어 방법.
  32. 청구항 27에 있어서,
    상기 한 쌍의 전극 사이에 배치된 물질은 상기 한 쌍의 전극 사이에서 추출된 후에도 상기 물질이 갖는 성질을 향상시키는 효과가 소정 기간에 걸쳐 지속되는 것을 특징으로 하는 수분 제어 방법.
  33. 청구항 27에 있어서,
    상기 결합 상태가 된 물 분자의 집합에 있어서의 전위는 동일한 것을 특징으로 하는 수분 제어 방법.
  34. 청구항 27에 있어서,
    상기 전극에 인가되는 전압은 상기 직류 성분에 더하여, 교류 성분을 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 수분 제어 방법.
  35. 청구항 27에 기재된 수분 제어 방법을 실행하는 것을 특징으로 하는 기억 매체에 저장된 프로그램.
  36. 청구항 35에 기재된 프로그램을 기록한 것을 특징으로 하는 기억 매체.
  37. 청구항 1에 기재된 수분 제어 장치에 의해, 내부에 존재하는 수분끼리가 결합 상태가 된 것을 특징으로 하는 물질.
  38. 청구항 1에 있어서,
    상기 물질에 추가로 미세 기포를 첨가하는 것을 특징으로 하는 수분 제어 장치.
  39. 청구항 1에 있어서,
    제조 분야, 유통 분야, 물류 분야, 보관 분야, 판매 분야, 공업 분야, 건축 분야, 토목 분야, 기계 분야, 전기 분야, 전자 분야, 통신 분야, 광학 분야, 화학 분야, 석유 화학 분야, 농업 분야, 상업 분야, 수산 분야, 식품 분야, 음식 분야, 조리 분야, 서비스 분야, 의료 분야, 건강 분야, 복지 분야, 및, 간호 분야 중 적어도 하나의 분야에 적용되는 것을 특징으로 하는 수분 제어 장치.
  40. 청구항 1에 있어서,
    상기 물질은
    (1) 농산물, 생화, 축산물, 수산물, 가공 식품, 건강 식품, 음료, 주류, 건어물, 국물 또는 조미료를 포함한 식료품,
    (2) 수지, 고무, 유리, 렌즈, 도자기, 목재, 시멘트, 콘크리트, 종이, 잉크, 염료, 섬유, 세라믹, 연마제, 세정제, 첨가물, 프린트 기판, 도금, 정련, 도료, 먹물, 발수 가공, 화학 제품, 비료, 사료, 미생물, 물, 옷감 또는 화약을 포함한 제품,
    (3) 가솔린, 경유, 중유, 등유 또는 석유를 포함한 연료,
    (4) 혈액, 백신, 약품, 장기, 세포, 연고, 투석 또는 치료기를 포함한 의료품, 및,
    (5) 화장품, 세제, 비누, 샴푸 또는 헤어-케어-용품을 포함한 일용품
    으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 수분 제어 장치.
  41. 청구항 1에 기재된 수분 제어 장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 제품.
  42. 청구항 1에 기재된 수분 제어 장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 장치.
  43. 청구항 1에 기재된 수분 제어 장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 설비.
  44. 청구항 1에 기재된 수분 제어 장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 냉장고, 냉동고, 냉장 창고, 냉동 창고, 저장고, 창고, 냉장차, 냉동차, 쿨러 박스, 반송용 컨테이너, 보관용 컨테이너, 진열장, 선반, 서랍, 플라이어, 재배 용기, 연료 탱크, PC, 휴대 전화, 의자 침대, 가구, 침구, 가전 기기, 공장 내의 각종 제조 기기, 가공 기기, 의료 기기, 건강 기기, 미용 기기, 조리 기기, 연마 기기, 교통 수단, 반도체의 세정 기기, 제련 공정, 인화 공정, 및, 건조 공정에서 냉각 시에 나오는 수증기의 제어 기기 중 적어도 하나를 포함하는 제품.
  45. 청구항 1에 기재된 수분 제어 장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 냉장고, 냉동고, 냉장 창고, 냉동 창고, 저장고, 창고, 냉장차, 냉동차, 쿨러 박스, 반송용 컨테이너, 보관용 컨테이너, 진열장, 선반, 서랍, 플라이어, 재배 용기, 연료 탱크, PC, 휴대 전화, 의자 침대, 가구, 침구, 가전 기기, 공장 내의 각종 제조 기기, 가공 기기, 의료 기기, 건강 기기, 미용 기기, 조리 기기, 연마 기기, 교통 수단, 반도체의 세정 기기, 제련 공정, 인화 공정, 및, 건조 공정에서 냉각 시에 나오는 수증기의 제어 기기 중 적어도 하나를 포함하는 장치.
  46. 청구항 1에 기재된 수분 제어 장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 냉장고, 냉동고, 냉장 창고, 냉동 창고, 저장고, 창고, 냉장차, 냉동차, 쿨러 박스, 반송용 컨테이너, 보관용 컨테이너, 진열장, 선반, 서랍, 플라이어, 재배 용기, 연료 탱크, PC, 휴대 전화, 의자 침대, 가구, 침구, 가전 기기, 공장 내의 각종 제조 기기, 가공 기기, 의료 기기, 건강 기기, 미용 기기, 조리 기기, 연마 기기, 교통 수단, 반도체의 세정 기기, 제련 공정, 인화 공정, 및, 건조 공정에서 냉각 시에 나오는 수증기의 제어 기기 중 적어도 하나를 포함하는 설비.
KR1020180016338A 2017-12-31 2018-02-09 제어 장치, 제어 방법, 프로그램, 기억 매체, 생성된 물질, 제품, 장치 및 설비 KR102599239B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017255302 2017-12-31
JPJP-P-2017-255302 2017-12-31

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20190082650A true KR20190082650A (ko) 2019-07-10
KR102599239B1 KR102599239B1 (ko) 2023-11-08

Family

ID=67057541

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020180016338A KR102599239B1 (ko) 2017-12-31 2018-02-09 제어 장치, 제어 방법, 프로그램, 기억 매체, 생성된 물질, 제품, 장치 및 설비

Country Status (2)

Country Link
US (2) US11998035B2 (ko)
KR (1) KR102599239B1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210088255A (ko) * 2020-01-06 2021-07-14 김대성 튀김 대상물의 종류에 맞춰 방사되는 전하의 량을 조절할 수 있는 튀김기

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102015214711A1 (de) 2015-07-31 2017-02-02 Dürr Systems Ag Behandlungsanlage und Verfahren zum Behandeln von Werkstücken
DE102015214706A1 (de) 2015-07-31 2017-02-02 Dürr Systems Ag Behandlungsanlage und Verfahren zum Behandeln von Werkstücken
CN110545970A (zh) * 2017-03-14 2019-12-06 威廉·约翰·巴克斯特·赫弗南 木材加热系统和方法
AU2018348586A1 (en) * 2017-10-13 2020-05-21 Windsor Engineering Group Limited Moisture measurement of timber
KR102599239B1 (ko) 2017-12-31 2023-11-08 에버트론 홀딩스 피티이 리미티드 제어 장치, 제어 방법, 프로그램, 기억 매체, 생성된 물질, 제품, 장치 및 설비
JPWO2019132046A1 (ja) * 2017-12-31 2020-01-16 エバートロン ホールディングス ピーティーイー リミテッド 水分制御装置、水分制御方法、プログラム、記憶媒体、生成された物質、製品、装置及び設備
US20190345426A1 (en) * 2018-05-11 2019-11-14 Faraday, LLC Device, System, and Method for Applying High Voltage, High Frequency Electric Field to a Beverage

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016129672A (ja) 2015-01-13 2016-07-21 エバートロン ホールディングス ピーティーイー リミテッド フライヤー、加熱調理方法

Family Cites Families (67)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3019795A (en) * 1958-01-03 1962-02-06 Dallas D Weatherholt Method and apparatus for treating hair
US3540994A (en) * 1968-01-19 1970-11-17 Howe Baker Eng Apparatus for treating emulsions
JPS5137271B1 (ko) 1971-04-30 1976-10-14
US4029937A (en) * 1974-10-04 1977-06-14 Russell Robert G Control system for electrically conductive liquid heating apparatus
US4333521A (en) 1979-12-31 1982-06-08 General Electric Company Apparatus for thawing frozen food
US4731227A (en) * 1982-12-29 1988-03-15 Pulvari Charles F Polymerization process and apparatus
SU1324629A1 (ru) 1985-08-05 1987-07-23 Московский технологический институт мясной и молочной промышленности Способ подготовки пищевых продуктов к хранению
JPH01160472A (ja) 1987-12-16 1989-06-23 Zenichi Matsui 飲食物処理装置
JPH07112452B2 (ja) 1990-03-09 1995-12-06 寿男 増田 調理釜及び調理方法
JPH04260751A (ja) 1991-02-15 1992-09-16 Kobe Steel Ltd 電磁波による液体加熱装置
JPH06230325A (ja) 1993-01-29 1994-08-19 Canon Inc 光学部品の洗浄方法
JPH07155154A (ja) 1993-12-07 1995-06-20 Matsushita Refrig Co Ltd 冷蔵庫
DK174056B1 (da) 1994-08-17 2002-05-13 Apv Pasilac As Fremgangsmåde og apparat til opvarmning af medier ved hjælp af højfrekvente elektromagnetiske bølger
US6193878B1 (en) * 1995-01-25 2001-02-27 Zpm, Inc. Multi-modal method and apparatus for treating a solution
AU729352B2 (en) * 1997-03-17 2001-02-01 Ishikawa, Yasuo Method and equipment for treating electrostatic field and electrode used therein
JP3528538B2 (ja) 1997-10-09 2004-05-17 株式会社名宏 フライヤー
US6657173B2 (en) 1998-04-21 2003-12-02 State Board Of Higher Education On Behalf Of Oregon State University Variable frequency automated capacitive radio frequency (RF) dielectric heating system
KR20010024864A (ko) * 1998-11-20 2001-03-26 도시가주 모리 액체처리 방법 및 액체처리 장치 및 액체처리 시스템
CA2262033A1 (en) * 1999-02-16 2000-08-16 Ross S. Chow Chemical reactor enhanced by high frequency electric field
JP2001086967A (ja) 1999-09-22 2001-04-03 Airtech Japan Ltd 磁場，電場の変動を利用した冷凍方法及び冷凍庫
CN100495030C (zh) * 2000-09-30 2009-06-03 清华大学 多力操纵装置及其应用
JP2002136430A (ja) 2000-11-01 2002-05-14 Ksa:Kk 電極板及びこれを用いた高電圧微弱電流印加装置
US6638475B1 (en) * 2000-11-08 2003-10-28 The Regents Of The University Of California Method for inhibiting pathogenic and spoilage activity in products
JP3476776B2 (ja) 2001-01-10 2003-12-10 株式会社 ケイ・エス・エイ フライヤー
ATE432756T1 (de) * 2001-05-04 2009-06-15 Aibel As Vorrichtung zum koaleszieren eines fluids
JP3815297B2 (ja) 2001-11-05 2006-08-30 松下電器産業株式会社 高周波解凍装置
US7405382B2 (en) * 2002-04-08 2008-07-29 Wayne Openlander System for microwave enhanced chemistry
WO2003095911A1 (fr) 2002-05-10 2003-11-20 Glocal Co., Ltd. Dispositif frigorifique, procédé de surgélation, et objet surgelé
JP2003343961A (ja) 2002-05-29 2003-12-03 Glocal:Kk 冷凍装置
JP3854548B2 (ja) 2002-07-15 2006-12-06 テイク工業株式会社 静電場フライヤーの電極取付装置
MXPA06001587A (es) 2003-08-11 2006-08-25 Yugengaisha Sun World Kawamura Metodo y aparato para la conservacion de alimentos.
JP4345086B2 (ja) 2004-10-06 2009-10-14 株式会社イー・サイエンス フライヤー用電界形成装置
JP2006109816A (ja) 2004-10-12 2006-04-27 Takashi Kishioka 高周波併用超音波洗浄解凍機
WO2006054348A1 (ja) 2004-11-18 2006-05-26 Waseda University 電場処理装置及び電場処理方法
JP4044111B2 (ja) 2005-09-21 2008-02-06 豪祐 西村 油脂酸化抑制装置
US8054091B2 (en) * 2006-02-21 2011-11-08 The Governors Of The University Of Alberta Analysis of thin liquid films
US7973642B2 (en) * 2006-04-28 2011-07-05 Restaurant Technology, Inc. RFID food production, inventory and delivery management method for a restaurant
JP4424693B2 (ja) 2007-03-22 2010-03-03 株式会社菱豊フリーズシステムズ 冷凍装置用コアユニット及びこれを含む冷凍装置
US20090252842A1 (en) 2008-04-04 2009-10-08 3M Innovative Properties Company Apparatus, systems, and methods of extending useful life of food treating media by inhibiting degradation thereof
WO2010073435A1 (ja) 2008-12-26 2010-07-01 エスケーエイ株式会社 食用油又は工業用油の劣化防止方法と装置
US8357279B2 (en) * 2009-02-23 2013-01-22 Carnegie Mellon University Methods, apparatus and systems for concentration, separation and removal of particles at/from the surface of drops
EP2275805A1 (en) * 2009-07-16 2011-01-19 Acreo AB Moister sensor
TWM416753U (en) 2011-03-21 2011-11-21 Qing-Tong Guo Radio-frequency vacuum freeze-drier
JP2012223119A (ja) 2011-04-18 2012-11-15 Tlv Co Ltd 解凍装置
WO2012144129A1 (ja) 2011-04-19 2012-10-26 パナソニック株式会社 高周波加熱装置
UA116190C2 (uk) * 2011-05-04 2018-02-26 Океанос Корпорейшн Спосіб фізичної обробки середовищ та пристрій для його здійснення
WO2013161508A1 (ja) 2012-04-23 2013-10-31 株式会社川仙食品 冷凍設備、及び冷凍飲食物の製造方法
US20150291456A1 (en) * 2012-10-08 2015-10-15 Alp T. Findikoglu Electric field induced separation of components in an emulsion
GB2516174B (en) 2012-10-12 2016-06-29 Richards Morphy N I Ltd Determining a characteristic of a cooking appliance with a key
ITVI20120280A1 (it) 2012-10-22 2014-04-23 Cartigliano Off Spa Dispositivo generatore di un campo elettromagnetico alternato in radiofrequenza, metodo di controllo ed impianto utilizzante tale dispositivo
WO2014175980A2 (en) 2013-03-20 2014-10-30 Massachusetts Institute Of Technology Condensation on surfaces
JP6236656B2 (ja) 2013-06-27 2017-11-29 エバートロン ホールディングス ピーティーイー リミテッド フライヤー用電波発生装置、及びフライヤー用電波発生装置を用いた食材の調理方法
JP5727104B1 (ja) 2014-02-17 2015-06-03 新エネルギー産業株式会社 食用油の酸化防止方法
JP5683032B1 (ja) 2014-02-17 2015-03-11 錦隆 後藤 空間電位発生装置を利用した鮮度保持装置
KR101683978B1 (ko) 2014-09-17 2016-12-09 문미영 튀김기와 그의 품질 관리 장치 및 방법
JP6642928B2 (ja) 2014-12-15 2020-02-12 エバートロン ホールディングス ピーティーイー リミテッド 電波発生装置
US20160350715A1 (en) 2015-05-29 2016-12-01 Eugenio Minvielle Nutrition Based Food System and Method
CN204698314U (zh) * 2015-06-01 2015-10-14 阎卫中 一种智能厨房烹饪系统
JP6688020B2 (ja) 2015-07-06 2020-04-28 エバートロン ホールディングス ピーティーイー リミテッド フライヤー
US20170055774A1 (en) 2015-09-01 2017-03-02 Illinois Tool Works, Inc. Rf deep fat fryer
US20170181455A1 (en) * 2015-12-23 2017-06-29 Illinois Tool Works, Inc. Apparatus and method for heating food products
DK3199217T3 (da) * 2016-01-29 2020-10-26 Borealis Ag Fremgangsmåder til behandling af mindst én emulsion ved påtrykning af et elektrisk felt
KR101728803B1 (ko) * 2016-04-14 2017-05-02 (주)한빛이앤비 세포 수분 활성화 기반 보존성 향상 장치
JP6095087B1 (ja) 2016-04-19 2017-03-15 正明 坂口 超音波処理装置、及び超音波処理方法
KR102071529B1 (ko) 2017-08-03 2020-01-30 에버트론 홀딩스 피티이 리미티드 성분 제어방법 및 성분 제어장치
KR102599239B1 (ko) 2017-12-31 2023-11-08 에버트론 홀딩스 피티이 리미티드 제어 장치, 제어 방법, 프로그램, 기억 매체, 생성된 물질, 제품, 장치 및 설비
JPWO2019132046A1 (ja) 2017-12-31 2020-01-16 エバートロン ホールディングス ピーティーイー リミテッド 水分制御装置、水分制御方法、プログラム、記憶媒体、生成された物質、製品、装置及び設備

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016129672A (ja) 2015-01-13 2016-07-21 エバートロン ホールディングス ピーティーイー リミテッド フライヤー、加熱調理方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210088255A (ko) * 2020-01-06 2021-07-14 김대성 튀김 대상물의 종류에 맞춰 방사되는 전하의 량을 조절할 수 있는 튀김기

Also Published As

Publication number Publication date
US10757960B2 (en) 2020-09-01
US11998035B2 (en) 2024-06-04
US20190200648A1 (en) 2019-07-04
US20190200649A1 (en) 2019-07-04
KR102599239B1 (ko) 2023-11-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20190082650A (ko) 수분 제어 장치, 수분 제어 방법, 프로그램, 기억 매체, 생성된 물질, 제품, 장치 및 설비
TWI805671B (zh) 水分控制裝置、水分控制方法、程式、記錄媒體、生成之物質、製品、裝置及設備
Xu et al. Understanding the frying process of plant-based foods pretreated with pulsed electric fields using frying models
JP7175071B2 (ja) 成分制御装置、成分制御方法、輸送方法、調理方法、及びプログラム
Mohammed et al. Development and evaluation of an ultrasonic humidifier to control humidity in a cold storage room for postharvest quality management of dates
CN105816012A (zh) 一种烹饪设备
CN104304157B (zh) 具有远程无线控制功能的智能养殖箱及其控制方法
Uzsák et al. Social facilitation of insect reproduction with motor-driven tactile stimuli
JPWO2015121895A1 (ja) 電位変動式物質変性装置
Jain et al. Dynamics of mosquito swarms over a moving marker
Gimenez-Escalante et al. A methodology to assess the suitability of food processing technologies for distributed localised manufacturing
Sandi et al. Arduino Based Multipurpose Smart Irrigation With Incubation System
CN1185484A (zh) 调节细胞行为的方法
Mahboubi et al. Usage of microbial mats in depostional environment interpretation and sea level changes: A study of carbonate deposits of members 1 to 2 of the Mila Group (Deh-Sufiyan Formation) in Central Alborz
JP2010178731A (ja) 食品と飲料の味覚と糖度のアップ方法
TWM262017U (en) Electro-modulating and high voltage frequency-changing induction device

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
X091 Application refused [patent]
AMND Amendment
E90F Notification of reason for final refusal
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)