KR20190068946A - 광학활성을 갖는 피페리딘 유도체의 중간체 및 이의 제조방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명의 제조방법을 통하여 광학활성을 갖는 터트-부틸 3-메틸-4-옥소피페리딘-1-카르복실레이트를 통상적으로 사용 가능한 시약과 용매를 사용하여, 산업적으로 대량생산이 가능한 방법으로 고순도의 광학활성을 가지면서 고수율로 제조할 수 있다. 또한, 본 발명의 신규 중간체를 통하여 광학활성을 갖는 터트-부틸 3-메틸-4-옥소피페리딘-1-카르복실레이트를 고순도 및 고수율로 제조할 수 있다.
Description
본 발명은 광학활성을 갖는 피페리딘 유도체의 중간체 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
피페리딘 유도체는 의약 및 화학 분야에서 중요한 약물특이 분자단으로 널리 쓰이고 있다. 특히, 국제공개공보 WO 2004/041777, WO 2009/106534, WO 2008/119718, WO 2010/051374, WO 2005/040169, WO 2013/021052, WO 2004/058709, WO 2016/120849, WO 2014/023815, WO 2013/181579, WO 2016/120850 등에는 여러 약물을 합성하기 위한 중간체로 터트-부틸 3-메틸-4-옥소피페리딘-1-카르복실레이트를 개시하고 있고, 이를 제조하는 방법으로 아래의 반응식 I 내지 III의 방법을 개시하고 있다.
[반응식 I]
[반응식 II]
[반응식 III]
다만, 상기 특허문헌에 개시된 중간체 화합물은 라세미체로서 그 제조방법 역시 라세미체 만을 제조할 수 있으며, 광학활성을 갖는 터트-부틸 3-메틸-4-옥소피페리딘-1-카르복실레이트를 제조하는 방법에 대해서는 어떠한 개시도 없다.
그러나, 의약품은 광학활성에 따라 약리활성이나 부작용이 크게 차이가 날 수 있으며 이 때문에 많은 의약품이 특정 이성질체로 개발되고 있는데, 특정 이성질체의 터트-부틸 3-메틸-4-옥소피페리딘-1-카르복실레이트를 중간체로 제조되는 의약품의 경우 라세미체의 터트-부틸 3-메틸-4-옥소피페리딘-1-카르복실레이트를 중간체로 사용하여 제조할 경우보다 시약의 낭비가 커서 경제적으로 비효율적이고 제조수율이 낮아 대량생산에 적합하지 않은 문제점이 있다.
이에 본 발명자들은, 의약 및 화학분야에서 중간체로 유용한 터트-부틸 3-메틸-4-옥소피페리딘-1-카르복실레이트를, 통상적으로 사용 가능한 시약과 용매를 사용하여, 산업적으로 대량생산이 가능한 방법으로 고순도의 광학활성을 가지면서 고수율로 제조하는 본 발명을 완성하였다.
본 발명은 의약 및 화학분야에서 중간체로 유용한 터트-부틸 3-메틸-4-옥소피페리딘-1-카르복실레이트를, 통상적으로 사용 가능한 시약과 용매를 사용하여, 산업적으로 대량생산이 가능한 방법으로 고순도의 광학활성을 가지면서 고수율로 제조할 수 있는 제조방법을 제공하고자 한다.
또한, 본 발명은 광학활성을 갖는 터트-부틸 3-메틸-4-옥소피페리딘-1-카르복실레이트를 제조하는데 유용하게 사용되는 신규한 중간체를 제공하고자 한다.
상기 과제를 해결하기 위하여, 본 발명은 하기 화학식 I 화합물을 광학분할 (optical resolution)시켜 하기 화학식 II 화합물을 제조하는 단계 (단계 1)를 포함하는 하기 화학식 IV의 화합물의 제조방법을 제공한다.
[화학식 I]
[화학식 II]
[화학식 IV]
본 발명의 구체예에 따르면, 본 발명의 제조방법은 상기 화학식 II의 화합물과 염기를 반응시켜 하기 화학식 III의 화합물을 제조하는 단계 (단계 2)를 더 포함할 수 있다.
[화학식 III]
또한 본 발명의 구체예에 따르면, 본 발명의 제조방법은 상기 화학식 III의 화합물과 디-터트-부틸-디카보네이트를 반응시켜 상기 화학식 IV의 화합물을 제조하는 단계 (단계 3)를 더 포함할 수 있다.
또한 본 발명의 다른 구체예에 따르면, 본 발명의 제조방법은 상기 단계 1에서 원하는 광학활성의 상기 화학식 II의 화합물을 제조한 후, 반대의 광학이성질체에 염기를 가하여 라세미화시켜 상기 화학식 I의 화합물을 다시 제조하고 이를 단계 1에서 재사용하는 단계 (단계 4)를 더 포함할 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 단계 1 내지 단계 4를 종합하여 도식화하면 다음 반응식 IV로 나타낼 수 있다.
[반응식 IV]
이하에서는 각 단계에 대하여 구체적으로 살핀다.
본 발명에 있어서, 상기 단계 1은 상기 화학식 I의 화합물을 하기 화학식 V-1 또는 V-2의 화합물과 결합시키는 것이다.
[화학식 V-1]
[화학식 V-2]
상기 화학식 V-1 또는 V-2의 화합물은 무수물 또는 수화물일 수 있다.
또한, 상기 단계 1에서 사용되는 용매는 단계 1의 반응을 수행할 수 있는 것이라면 제한 없이 사용될 수 있으며, 예컨대 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 아세톤, 아세토니트릴, 에틸아세테이트, 디클로로메탄, 테트라히드로푸란 또는 이의 혼합용매에서 수행될 수 있다.
또한, 상기 단계 1의 반응은 0 내지 50 ℃에서 수행될 수 있으며, 바람직하게는 35 내지 45 ℃에서 수행될 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 단계 2에 사용된 염기는 단계 2의 반응을 수행할 수 있는 것이라면 제한 없이 사용될 수 있으며, 예컨대 수산화암모늄, 수산화나트륨, 수산화칼륨 또는 수산화리튬을 사용할 수 있다. 또한, 상기 염기를 사용함으로써 pH를 9.8 ~ 10.5 로 조절하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 단계 2에서 사용되는 용매는 단계 2의 반응을 수행할 수 있는 것이라면 제한 없이 사용될 수 있으며, 예컨대 디클로로메탄, 에틸아세테이트, 메틸에틸케톤 또는 이의 혼합용매에서 수행될 수 있다.
또한, 상기 단계 2의 반응은 15 내지 30 ℃에서 수행될 수 있으며, 바람직하게는 23 내지 28 ℃에서 수행될 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 단계 3은 팔라듐 촉매를 가하여 수행할 수 있다. 상기 팔라듐 촉매는 Pd/C, Pd(OH)2 또는 Pd(OH)2/C 일 수 있다.
상기 단계 3에서, 화학식 III의 화합물, 팔라듐 촉매, 디-터트-부틸-디카보네이트의 반응 몰비는 1:0.03:1 내지 1:0.5:5 일 수 있다.
또한, 상기 단계 3에서 사용되는 용매는 단계 3의 반응을 수행할 수 있는 것이라면 제한 없이 사용될 수 있으며, 예컨대 메탄올, 에탄올, 에틸아세테이트, 테트라히드로푸란 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나의 용매에서 수행될 수 있다.
또한, 상기 단계 3의 반응은 20 내지 35 ℃에서 수행될 수 있으며, 바람직하게는 23 내지 28 ℃에서 수행될 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 단계 4에 사용된 염기는 단계 4의 반응을 수행할 수 있는 것이라면 제한 없이 사용될 수 있으며, 예컨대 수산화나트륨, 수산화암모늄, 수산화칼륨 또는 수산화리튬을 사용할 수 있다.
또한, 상기 단계 4에서 사용되는 용매는 단계 4의 반응을 수행할 수 있는 것이라면 제한 없이 사용될 수 있으며, 예컨대 정제수, 디클로로메탄, 톨루엔, 에틸아세테이트, 메틸에틸케톤 또는 이의 혼합용매에서 수행될 수 있다.
또한, 상기 단계 4의 반응은 20 내지 40 ℃에서 수행될 수 있으며, 바람직하게는 25 내지 35 ℃에서 수행될 수 있다.
본 발명의 제조방법에 따라, 광학활성을 갖는 터트-부틸 3-메틸-4-옥소피페리딘-1-카르복실레이트 (화학식 IV)를 제조할 수 있으며, 이를 중간체로 사용하여 광학 활성을 갖는 의약품을 제조할 수 있다.
본 발명의 제조방법은 고순도의 광학활성을 갖는 터트-부틸 3-메틸-4-옥소피페리딘-1-카르복실레이트를 고수율로 제조할 수 있다. 또한, 본 발명의 제조방법은 통상적으로 사용 가능한 시약과 용매를 사용함으로써 산업적으로 대량생산이 가능하다. 더 나아가, 본 발명의 제조방법은 화학식 II의 화합물을 제조한 후, 따로 분리된 반대의 광학이성질체를 라세미화시켜 화학식 I의 화합물로 다시 제조하는데 재활용할 수 있으므로, 수율을 더욱 높일 수 있으며 시약의 손실을 줄일 수 있어 경제적이다.
본 발명은 광학활성을 갖는 터트-부틸 3-메틸-4-옥소피페리딘-1-카르복실레이트의 제조에 사용되는 새로운 중간체인 하기 화학식 II의 화합물과 화학식 III의 화합물 및 이들의 제조방법을 제공한다.
[화학식 II]
[화학식 III]
본 발명의 화학식 II의 화합물은 하기 화학식 I의 화합물을 광학분할시키는 단계를 통하여 제조될 수 있다:
[화학식 I]
본 발명에 있어서, 상기 화학식 II의 화합물을 제조하는 방법은 위에서 설명한 단계 1과 동일한 공정으로 수행될 수 있다.
또한, 본 발명의 화학식 III의 화합물은 상기 화학식 II의 화합물과 염기를 반응시키는 단계를 통하여 제조될 수 있다. 본 발명에 있어서, 상기 화학식 III의 화합물을 제조하는 방법은 위에서 설명한 단계 2와 동일한 공정으로 수행될 수 있다.
본 발명의 화학식 II의 화합물 및 화학식 III의 화합물은 광학활성을 갖는 터트-부틸 3-메틸-4-옥소피페리딘-1-카르복실레이트의 제조에 중간체로서 유용하게 사용된다.
본 발명에 있어서, 상기 화학식 II의 화합물은 (R)-1-벤질-3-메틸피페리딘-4-온 (2S,3S)-2,3-비스((4-메틸벤조일)옥시)숙신산 염 또는 (S)-1-벤질-3-메틸피페리딘-4-온 (2R,3R)-2,3-비스((4-메틸벤조일)옥시)숙신산 염이다. 본 발명에서, 라세미체의 화학식 I의 화합물을 광학분할시키기 위하여 광학활성을 갖는 2,3-비스((4-메틸벤조일)옥시)숙신산을 사용하며, 화학식 II의 화합물을 99% ee 이상의 광학순도를 가지면서 고수율로 제조할 수 있다. 더불어, 상기 화학식 II의 화합물을 제조한 후 원하지 않는 반대 광학이성질체는 단계 4에서 언급한 바와 같이 염기를 가하여 간단하게 라세미체화시켜 화학식 I의 화합물을 다시 제조할 수 있으므로 재활용이 가능하며, 이를 통하여 전체 공정의 수율을 높이고 생산단가를 개선할 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 화학식 III의 화합물은 (R)-1-벤질-3-메틸피페리딘-4-온 또는 (S)-1-벤질-3-메틸피페리딘-4-온이다. 본 발명에서, 상기 화학식 III의 화합물은 화학식 II의 화합물과 마찬가지로 99% ee 이상의 광학순도를 가지면서 고수율로 제조할 수 있으며, 이를 통하여 최종 원하는 물질인 화학식 IV의 화합물 역시 99% ee 이상의 광학순도를 가지면서 고수율로 제조할 수 있다.
본 발명의 제조방법을 통하여 광학활성을 갖는 터트-부틸 3-메틸-4-옥소피페리딘-1-카르복실레이트를 통상적으로 사용 가능한 시약과 용매를 사용하여, 산업적으로 대량생산이 가능한 방법으로 고순도의 광학활성을 가지면서 고수율로 제조할 수 있다.
또한, 본 발명의 신규 중간체를 통하여 광학활성을 갖는 터트-부틸 3-메틸-4-옥소피페리딘-1-카르복실레이트를 고순도 및 고수율로 제조할 수 있다.
이하, 하기 실시예 및 실험예를 통하여 본 발명을 보다 상세히 설명하고자 한다. 그러나, 하기 실시예 및 실험예는 본 발명을 예시하기 위한 것으로 이들 실시예 및 실험예에 의하여 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.
실시예
1: (R)-1-벤질-3-
메틸피페리딘
-4-온 (2S,3S)-2,3-비스((4-
메틸벤조일
)
옥시
)숙신산 염 (화학식 II의 화합물)의 제조
반응기에 아세토니트릴 278.0 kg과 1-벤질-3-메틸피페리딘-4-온 58.9 kg을 투입하고 40±2 ℃로 승온하였다. (2S,3S)-2,3-비스((4-메틸벤조일)옥시)숙신산 수화물 129.0 kg을 투입하였다. 40±2 ℃에서 12±2 시간 동안 교반하였다. 여과 후 아세토니트릴 92.7 kg으로 세척하였다. 40 ℃에서 진공건조하여 표제 화합물 (70.7 kg, 83%, 99% ee)을 수득하였다.
1H-NMR (400MHz, DMSO-d6): δ = 0.84 (d, 3H), 2.16-2.40 (m, 2H), 2.45 (s, 6H), 2.58-2.71 (m, 3H), 3.08-3.11 (m, 2H), 3.74 (s, 2H), 5.79 (s, 2H), 7.27-7.40 (m, 9), 7.89 (d, 4H)
광학회전
: [α]
D
20
= 96.
0 °
([α]
D
20
:
20 ℃
, D
line
of
sodium
spectrum
(
589 nm
), 1%
solution
)
실시예
2: (S)-1-벤질-3-
메틸피페리딘
-4-온 (2R,3R)-2,3-비스((4-
메틸벤조일
)
옥시
)숙신산 염 (화학식 II의 화합물)의 제조
반응기에 아세토니트릴 18.7 kg과 1-벤질-3-메틸피페리딘-4-온 3.4 kg을 투입하고 40±2 ℃로 승온하였다. (2R,3R)-2,3-비스((4-메틸벤조일)옥시)숙신산 수화물 7.4 kg을 투입하였다. 40±2 ℃에서 12±2 시간 교반하였다. 여과 후 아세토니트릴 5.3 kg으로 세척하였다. 40 ℃에서 진공건조하여 표제 화합물 (4.0 kg, 81%, 99% ee)을 수득하였다.
1H-NMR (400MHz, DMSO-d6): δ = 0.83 (d, 3H), 2.18-2.27 (m, 2H), 2.40 (s, 6H), 2.56-2.72 (m, 3H), 3.09-3.13 (m, 2H), 3.74 (s, 2H), 5.79 (s, 2H), 7.28-7.40 (m, 9), 7.89 (d, 4H)
실시예
3: (R)-1-
벤질
-3-
메틸피페리딘
-4-온 (화학식 III의 화합물)의 제조
반응기에 디클로로메탄 469.1 kg, 실시예 1에서 제조된 (R)-1-벤질-3-메틸피페리딘-4-온 (2S,3S)-2,3-비스((4-메틸벤조일)옥시)숙신산 염 70.7 kg을 투입하고 정제수 353.5 kg을 투입하고 교반하였다. 수산화암모늄 26.2 L를 투입하여 pH 10으로 조절하였다. 유기층을 분리하고, 정제수 353.5 kg을 투입하고 교반하였다. 유기층을 분리하고, 40 ℃에서 진공농축하여 n-헵탄으로 결정화를 하여 표제 화합물 (22.4 kg, 92%, 99.8% ee)을 수득하였다.
1H-NMR (400MHz, DMSO-d6): δ = 0.85 (d, 3H), 2.03 (t, 1H), 2.16 (d, 1H), 2.33 (t, 1H), 2.53-2.66 (m, 2H), 2.99-3.05 (m, 2H), 3.59 (s, 2H), 7.25-7.35 (m, 5H)
광학회전
: [α]
D
20
= 18.
3 °
([α]
D
20
:
20 ℃
, D
line
of
sodium
spectrum
(
589 nm
), 1%
solution
)
실시예
4: (S)-1-
벤질
-3-
메틸피페리딘
-4-온 (화학식 III의 화합물)의 제조
반응기에 디클로로메탄 26.4 kg, 실시예 2에서 제조된 (S)-1-벤질-3-메틸피페리딘-4-온 (2R,3R)-2,3-비스((4-메틸벤조일)옥시)숙신산 염 4.0 kg을 투입하고 정제수 19.9 kg을 투입하고 교반하였다. 수산화암모늄 1.5 L를 투입하여 pH 10으로 조절하였다. 유기층을 분리하고, 정제수 19.9 kg을 투입하고 교반하였다. 유기층을 분리하고, 40 ℃에서 진공농축하였다. n-헵탄으로 결정화를 진행하여 표제 화합물 (1.2 kg, 89%, 99.5% ee)을 수득하였다.
1H-NMR (400MHz, CDCl3): δ = 1.04 (d, 3H), 2.08 (t, 1H), 2.32-2.54 (m, 2H), 2.60-2.78 (m, 2H), 3.03-3.24 (m, 2H), 3.64 (S, 2H), 7.46 (s, 5H)
실시예
5:
터트
-부틸 (R)-3-
메틸
-4-
옥소피페리딘
-1-
카르복실레이트
(화학식 IV의 화합물)의 제조
수소반응기에 아세트산에틸 141.6 kg, 실시예 3에서 제조된 (R)-1-벤질-3-메틸피페리딘-4-온 22.4 kg을 투입하고 교반하여 완전히 용해하였다. 디-터트-부틸 디카보네이트 28.9 kg, 10% 팔라듐/탄소 1.12 kg을 투입하고 교반하였다. 25±2 ℃, 수소 50 psi (3.7±0.2 atm)로 조절하여 24 시간 동안 교반하였다. 반응이 완결되면 팔라듐/탄소를 여과하고 40 ℃에서 진공농축하였다. n-헵탄 15.3 kg 투입 후 0±5 ℃로 냉각하여 결정화하였다. 여과하고 실온에서 진공건조하여 표제 화합물 (21.4 kg, 91%, 99.5% ee)를 수득하였다.
1H-NMR (400MHz, CDCl3): δ = 1.02 (d, 3H), 1.47 (s, 9H), 2.36-2.55 (m, 3H), 2.55 (m, 1H), 3.24 (t, 1H), 4.15-4.19 (m, 2H)
광학회전
: [α]
D
20
= -1.2 °
([α]
D
20
: 20 ℃, D line of sodium spectrum (589 nm), 1% solution)
실시예
6:
터트
-부틸 (S)-3-
메틸
-4-
옥소피페리딘
-1-
카르복실레이트
(화학식 IV의 화합물)의 제조
수소반응기에 아세트산에틸 7.7 kg, 실시예 4에서 제조된 (S)-1-벤질-3-메틸피페리딘-4-온 1.2 kg을 투입하고 교반하여 완전히 용해하였다. 디-터트-부틸 디카보네이트 1.6 kg, 10% 팔라듐/탄소 0.06 kg을 투입하고 교반하였다. 25±2 ℃, 수소 50 psi (3.7±0.2 atm)로 조절하여 24 시간 동안 교반하였다. 반응이 완결되면 팔라듐/탄소를 여과하고 40 ℃에서 진공농축하였다. n-헵탄 1.7 kg 투입 후 0±5 ℃로 냉각하여 결정화하였다. 여과하고, 실온에서 진공건조하여 표제 화합물 (1.0 kg, 78%, 99.2% ee)을 수득하였다.
1H-NMR (400MHz, CDCl3): δ = 1.02 (d, 3H), 1.47 (s, 9H), 2.34-2.56 (m, 3H), 2.70-2.89 (m, 1H), 3.22 (t, 1H), 4.16-4.19 (m, 2H)
실시예
7: 화학식
ent
-II 및 화학식 II로부터
라세미화를
통한 1-벤질-3-
메틸피페리딘
-4-온
(화학식 I의 화합물)의 제조 (recycle)
반응기에 화학식 II의 화합물 (실시예 1)를 제조하고 남은 여액을 투입하고, 45 ℃에서 진공 농축하였다. 0 내지 5 ℃로 냉각하고, 10% NaOH 수용액 83 L를 서서히 투입하였다. 35 내지 40 ℃로 승온하여 6 시간 동안 교반하였다. 디클로로메탄 221.9 kg을 투입하고 30분 교반 후 유기층을 분리하였다. 수층에 디클로로메탄 133.4 kg을 투입하고 30분 교반 후 유기층을 분리하였다. 유기층에 무수황산마그네슘 59 kg을 투입하고 30분 교반 후 여과하였다. 40 ℃에서 진공 농축하여 표제 화합물 (23.6 kg, 80%)을 수득하였다.
1H-NMR (400MHz, CDCl3): δ = 0.85 (d, 3H), 2.02 (t, 1H), 2.16(d, 1H), 2.32 (t, 1H), 2.50-2.67 (m, 2H), 2.98-3.23 (m, 2H), 3.58 (s, 2H), 7.23-7.36 (m, 5H)
실시예
8: 화학식
ent
-II 및 화학식 II로부터
라세미화를
통한 1-벤질-3-
메틸피페리딘
-4-온
(화학식 I의 화합물)의 제조 (recycle)
반응기에 화학식 II의 화합물 (실시예 2)를 제조하고 남은 여액을 투입하고, 45 ℃에서 진공 농축하였다. 0 내지 5 ℃로 냉각하고, 10% NaOH 수용액 4.8 L를 서서히 투입하였다. 35 내지 40 ℃로 승온하여 6 시간 동안 교반하였다. 디클로로메탄 12.8 kg을 투입하고 30분 교반 후 유기층을 분리하였다. 수층에 디클로로메탄 7.7 kg을 투입하고 30분 교반 후 유기층을 분리하였다. 유기층에 무수황산마그네슘 3.4 kg을 투입하고 30분 교반 후 여과하였다. 40 ℃에서 진공 농축하여 표제 화합물 (1.3 kg, 75%)을 수득하였다.
1H-NMR (400MHz, CDCl3): δ = 0.85 (d, 3H), 2.02 (t, 1H), 2.16(d, 1H), 2.32 (t, 1H), 2.50-2.67 (m, 2H), 2.98-3.23 (m, 2H), 3.58 (s, 2H), 7.23-7.36 (m, 5H)
Claims (19)
- 제 1 항에 있어서, 상기 화학식 II의 화합물은,
(R)-1-벤질-3-메틸피페리딘-4-온 (2S,3S)-2,3-비스((4-메틸벤조일)옥시)숙신산 염; 또는
(S)-1-벤질-3-메틸피페리딘-4-온 (2R,3R)-2,3-비스((4-메틸벤조일)옥시)숙신산 염;
인 화합물. - 제 4 항에 있어서, 상기 화학식 III의 화합물은,
(R)-1-벤질-3-메틸피페리딘-4-온; 또는
(S)-1-벤질-3-메틸피페리딘-4-온;
인 화합물. - 제 8 항에 있어서, 상기 화학식 III의 화합물과 디-터트-부틸-디카보네이트를 반응시켜 상기 화학식 IV의 화합물을 제조하는 단계 (단계 3)를 더 포함하는 제조방법.
- 제 8 항에 있어서, 상기 단계 1에서 화학식 II의 화합물을 제조한 후 반대의 광학이성질체에 염기를 가하여 라세미화시켜 상기 화학식 I의 화합물을 다시 제조하고 이를 단계 1에서 재사용하는 단계 (단계 4)를 더 포함하는 제조방법.
- 제 7 항에 있어서, 상기 단계 1은 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 아세톤, 아세토니트릴, 에틸아세테이트, 디클로로메탄, 테트라히드로푸란 또는 이의 혼합용매에서 수행되는 것인 제조방법.
- 제 7 항에 있어서, 상기 단계 1은 0 내지 50 ℃에서 수행되는 것인 제조방법.
- 제 8 항에 있어서, 상기 단계 2의 염기는 수산화암모늄, 수산화나트륨, 수산화칼륨 또는 수산화리튬인 제조방법.
- 제 8 항에 있어서, 상기 단계 2에서 pH 9.8 내지 10.5 로 조절하는 것인 제조방법.
- 제 9 항에 있어서, 상기 단계 3은 팔라듐 촉매를 사용하는 것인 제조방법.
- 제 16 항에 있어서, 상기 팔라듐 촉매는 Pd/C, Pd(OH)2 또는 Pd(OH)2/C 인 제조방법
- 제 9 항에 있어서, 상기 단계 3은 메탄올, 에탄올, 에틸아세테이트, 테트라히드로푸란 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나의 용매 하에서 수행되는 제조방법.
- 제 10 항에 있어서, 상기 단계 4의 염기는 수산화나트륨, 수산화암모늄, 수산화칼륨 또는 수산화리튬인 제조방법.
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AMND | Amendment | ||
E601 | Decision to refuse application | ||
AMND | Amendment | ||
X701 | Decision to grant (after re-examination) | ||
GRNT | Written decision to grant |