KR20170054399A - 자동 클리닝 기능을 갖는 코터 및 코터 자동 클리닝 방법 - Google Patents

자동 클리닝 기능을 갖는 코터 및 코터 자동 클리닝 방법 Download PDF

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Abstract

자동 클리닝 기능을 갖는 코터와, 코터 자동 클리닝 방법. 코터(100, 200, 300, 400, 500, 600, 700, 800) 클리닝 용액으로 채워질 수 있는 코터 챔버(101, 201, 301, 401, 501, 601, 701, 801), 기판(103, 203, 303, 403, 503, 603, 703, 803)을 유지하고 위치 설정하는 기판 척(102, 202, 302, 402, 502, 602, 702, 802), 및 포토레지스트가 코터 챔버(101, 201, 301, 401, 501, 601, 701, 801) 밖으로 튀는 것을 방지하기 위하여 위로 이동하거나, 클리닝을 위하여 아래로 이동하여 클리닝 용액 내에 잠길 수 있는 적어도 하나의 측판(shroud)(108, 208, 308, 408, 508, 608, 708, 808)을 포함한다. 코터(100, 200, 300, 400, 500, 600, 700, 800) 자동 클리닝 방법은, 코터(100, 200, 300, 400, 500, 600, 700, 800)의 액체 출구 밸브(118, 218, 318, 418A, 418B, 518, 532, 618, 718, 818)를 턴오프하는 단계; 클리닝 용액으로 코터 챔버(101, 201, 301, 401, 501, 601, 701, 801)를 채우는 단계; 코터 챔버(101, 201, 301, 401, 501, 601, 701, 801) 내의 포토레지스트가 클리닝 용액 내로 용해된 후에, 액체 출구 밸브(118, 218, 318, 418A, 418B, 518, 532, 618, 718, 818)를 턴온하여 클리닝 용액을 코터 챔버(101, 201, 301, 401, 501, 601, 701, 801) 밖으로 배출하는 단계를 포함한다.

Description

자동 클리닝 기능을 갖는 코터 및 코터 자동 클리닝 방법{COATER WITH AUTOMATIC CLEANING FUNCTION AND COATER AUTOMATIC CLEANING METHOD}
본 발명은 일반적으로 반도체 제조 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 자동 클리닝 기능을 갖는 코터 및 코터 자동 클리닝 방법에 관한 것이다.
반도체 소자를 제조하는데 있어서, 리소그라피는 마스크 상의 패턴을 웨이퍼의 표면에 전사하는 공정이다. 리소그라피 공정은 포토레지스트를 코팅하고, 노광하고, 현상하는 단계들을 포함한다. 포토레지스트를 웨이퍼의 표면 상으로 코팅하기 위하여, 코터(coater)가 사용된다. 종래의 코터는 챔버를 포함한다. 웨이퍼 척이 웨이퍼를 유지하기 위하여 챔버 내에 위치 설정된다. 웨이퍼 척은 웨이퍼 척을 회전 구동하기 위하여 사용되는 구동 메커니즘에 연결된다. 챔버는 챔버 내의 가스가 챔버로부터 배출되는 배기 포트를 형성한다.
웨이퍼의 표면 상에 포토레지스트 층을 형성하기 위하여, 구동 메커니즘은 웨이퍼 척을 회전 구동한다. 노즐이 웨이퍼 위로 이동되어, 웨이퍼의 중심을 겨냥한다. 노즐은 웨이퍼의 중심을 향하여 포토레지스트를 분사하고, 포토레지스트는 웨이퍼의 전체 표면이 포토레지스트 층으로 덮일 때까지 웨이퍼의 중심으로부터 웨이퍼의 엣지로 바깥을 향하여 퍼져 나간다. 일반적으로, 웨이퍼의 전체 표면이 포토레지스트로 균일하게 코팅되는 것을 보장하기 위하여, 웨이퍼 척의 회전 속도는 코팅 공정의 마지막에 증가된다. 웨이퍼의 고속 원심성 선회는 반도체 제조에 있어서 포토레지스트 코팅을 적용하는 표준 방법이다. "스핀 코팅(Spin Coating)"으로 알려진 이 기술은 웨이퍼의 표면 상에 얇고 균일한 포토레지스트 층을 생산한다.
그러나, 웨이퍼 척의 회전 속도가 증가함에 따라, 포토레지스트는 웨이퍼로부터 분리되어 챔버의 내부 표면으로 날아간다. 포토레지스트는 챔버 내부에 모이며, 이는 웨이퍼가 오염되게 하고 코팅 공정 결과에 악영향을 초래한다. 또한, 포토레지스트는 챔버의 배기 포트에 부착될 수 있어, 가스 배기에 영향을 미친다. 따라서, 챔버는 정기적으로 클리닝될 필요가 있다. 그러나, 지금까지, 이는 챔버를 수동으로 클리닝하는 것에 주로 의존하며, 챔버를 클리닝할 때, 코팅 공정은 정지되어야만 한다. 또한, 고급 패키징 공정에서, 두꺼운 포토레지스트(대략 10um)가 폭넓게 사용된다. 웨이퍼의 표면 상에 두꺼운 포토레지스트 층을 형성하기 위하여, 많은 포토레지스트(대략 100um)가 웨이퍼 상으로 분사되지만, 많은 양의 포토레지스트가 웨이퍼로부터 분리되어 챔버의 내부 표면으로 날아간다. 포토레지스트는 이내 챔버 내부에 모이고, 따라서 챔버 클리닝의 빈도가 증가하여, 챔버는 대략 매 12시간마다 클리닝될 필요가 있다. 수동 클리닝을 채용한다면, 이는 시간 소비적이고 귀찮은 것이 될 것이어서, 생산성을 저하시키고 대규모 제조의 요구를 충족하지 않을 것이다.
본 발명은 자동 클리닝 기능을 갖는 코터를 제공한다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 자동 클리닝 기능을 갖는 코터는, 클리닝 용액으로 채워질 수 있는 코터 챔버, 기판을 유지하고 위치 설정하는 기판 척, 및 포토레지스트가 코터 챔버 밖으로 튀는 것을 방지하기 위하여 위로 이동하거나, 클리닝을 위하여 아래로 이동하여 클리닝 용액 내에 잠길 수 있는 적어도 하나의 측판(shroud)을 포함한다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 자동 클리닝 기능을 갖는 코터는, 클리닝 용액으로 채워질 수 있는 코터 챔버, 기판을 유지하고 위치 설정하는 기판 척, 및 위로 이동하거나 아래로 이동하도록 기판 척을 구동하기 위하여 기판 척과 연결된 수직 액추에이터를 포함한다.
본 발명은, 코터의 액체 출구 밸브를 턴오프하는 단계; 클리닝 용액으로 코터 챔버를 채우는 단계; 코터 챔버 내의 포토레지스트가 클리닝 용액 내로 용해된 후에, 액체 출구 밸브를 턴온하여 클리닝 용액을 코터 챔버 밖으로 배출하는 단계를 포함하는 코터 자동 클리닝 방법을 제공한다.
발명은 다음과 같은 첨부된 도면을 참조하여 실시예에 대한 이어지는 발명을 실시하기 위한 구체적인 내용을 읽음으로써 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명할 것이다:
도 1a 및 1b는 본 발명의 예시적인 실시예에 따른 자동 클리닝 기능을 갖는 코터를 도시하는 단면도이다.
도 2a 내지 2c는 본 발명의 다른 예시적인 실시예에 따른 자동 클리닝 기능을 갖는 코터를 도시하는 단면도이다.
도 3a 내지 3c는 본 발명의 다른 예시적인 실시예에 따른 자동 클리닝 기능을 갖는 코터를 도시하는 단면도이다.
도 4는 본 발명의 다른 예시적인 실시예에 따른 자동 클리닝 기능을 갖는 코터를 도시하는 단면도이다.
도 5a 및 5b는 본 발명의 다른 예시적인 실시예에 따른 자동 클리닝 기능을 갖는 코터를 도시하는 단면도이다.
도 6a 및 6b는 본 발명의 다른 예시적인 실시예에 따른 자동 클리닝 기능을 갖는 코터를 도시하는 단면도이다.
도 7a 내지 7c는 본 발명의 다른 예시적인 실시예에 따른 자동 클리닝 기능을 갖는 코터를 도시하는 단면도이다.
도 8은 본 발명의 다른 예시적인 실시예에 따른 자동 클리닝 기능을 갖는 코터를 도시하는 단면도이다.
본 발명은 자동 클리닝 기능을 갖는 코터를 제공한다. 기판의 표면 상에 포토레지스트를 코팅하기 위하여 이용하는 코터는 코터 챔버를 가진다. 코터는 코터 챔버 내의 포토레지스트를 용해하기 위한 클리닝 용액으로 코터 챔버를 채우고, 포토레지스트가 클리닝 용액 내로 용해된 후에 코터 챔버로부터 클리닝 용액을 배출할 수 있다. 종래의 코터에 비하여, 본 발명의 코터는 자동 클리닝을 실현하여, 시간과 노력을 줄이고 생산성을 향상시킨다.
도 1a 및 1b를 참조하면, 도 1a 및 1b는 본 발명의 예시적인 실시예에 따른 자동 클리닝 기능을 갖는 코터를 도시한다. 코터(100)는 코터 챔버(101)를 포함한다. 기판(103)을 유지하고 위치 설정하기 위한 기판 척(102)은 코터 챔버(101) 내에 위치된다. 기판 척(102)은 진공 척(vacuum chuck) 또는 자기 서스펜션 척(magnetic suspension chuck)일 수 있다. 기판 척(102)은 기판 척(102)을 회전 구동하기 위하여 사용되는 회전 액추에이터(104)에 연결된다. 코터 챔버(101)는 포토레지스트를 용해시킬 수 있는 클리닝 용액으로 채워지는 용액 트러프(trough)(105)를 가진다. 용액 트러프(105)는 코터 챔버(101)의 측벽과, 클리닝 용액이 회전 액추에이터(104) 내로 들어가는 것을 방지하기 위하여 코터 챔버(101) 내에 위치 설정된 보호 벽(106) 사이에 형성된다. 본 실시예에서, 보호 벽(106)은 포토레지스트로 코팅되는 것으로부터 기판 척(102)을 보호하기 위하여 기판 척(102)의 상면에 접근하도록 연장한다. 레벨 센서(107)가 용액 트러프(105) 내의 클리닝 용액의 레벨을 검출하기 위하여 코터 챔버(101) 상에 설치된다. 적어도 하나의 측판(shroud)(108)이 포토레지스트가 코터 챔버(101) 밖으로 튀는 것을 방지하기 위하여 위로 이동할 수 있거나, 클리닝을 위하여 아래로 이동하여 클리닝 용액 내로 잠길 수 있다. 측판(108)을 지지하기 위하여, 바람직하게는 적어도 2개의 구동 메커니즘(109)이 있으며, 모든 구동 메커니즘(109)은 용액 트러프(105) 내에 수직으로 배치된 지지 샤프트(110)와 연결된다. 측판(108)은 지지 샤프트(110)의 상단부 상에 고정된다. 구동 메커니즘(109)은 위로 이동하거나 아래로 이동하도록 지지 샤프트(110)를 구동하며, 이는 코터 챔버(101) 밖으로 포토레지스트가 튀는 것을 방지하기 위하여 측판(108)을 위로 이동하게 하거나, 또는 클리닝을 위하여 아래로 이동하여 용액 트러프(105)의 클리닝 용액 내로 잠기게 할 수 있다. 구동 메커니즘(109)은 모터 또는 실린더일 수 있다. 구동 메커니즘(109)은 측판(108)이 클리닝을 위하여 클리닝 용액 내로 잠길 때 고속으로 진동하도록 지지 샤프트(110)를 구동할 수 있으며, 이는 측판(108)으로부터 포토레지스트를 벗기기에 좋다. 모든 지지 샤프트(110)는 폴리테트라플루오로에틸렌(polytetrafluoroethylene)과 같은 클리닝 용액의 부식에 견딜 수 있는 재료로 이루어진 벨로우즈(bellows)(111) 내로 밀봉된다. 코터 챔버(101)는 코터 챔버(101) 밖으로 가스를 배출하기 위한 배기 포트(112)를 형성한다. 본 실시예에서, 배기 포트(112)는 용액 트러프(105)에 연결된다. 배기 파이프(113)가 배기 포트(112)에 연결된다. 스위치 밸브(114)가 배기 파이프(113) 상에 설치된다. 기판(103)의 표면 상에 포토레지스트를 코팅할 때, 코터 챔버(101) 밖으로 가스를 배출하기 위하여 스위치 밸브(114)가 턴온되고, 코터가 클리닝될 필요가 있을 때, 용액 트러프(105)를 클리닝 용액으로 채우기 위하여 스위치 밸브(114)가 턴오프된다. 이 경우에, 배기 파이프(113)도 클리닝 용액으로 채워진다. 액체 입구 파이프(115)가 클리닝 용액을 용액 트러프(105)로 공급하기 위하여 용액 트러프(105)에 연결되고, 액체 입구 밸브(116)가 액체 입구 파이프(115) 상에 설치된다. 액체 출구 파이프(117)가 용액 트러프(105) 밖으로 클리닝 용액을 배출하기 위하여 용액 트러프(105)에 연결된다. 본 실시예에서, 배기 파이프(113)가 클리닝 용액으로 채워지기 때문에, 클리닝 용액을 완전히 배출하기 위하여, 바람직하게는, 액체 출구 파이프(117)는 배출 파이프(113)의 가장 낮은 지점에 위치 설정된다. 액체 출구 밸브(118)가 액체 출구 파이프(117) 상에 설치된다.
도 1a에 도시된 바와 같이, 코터(100)가 기판(103)의 표면 상에 포토레지스트를 코팅하기 위하여 사용될 때, 스위치 밸브(114)는 코터 챔버(101) 내의 가스가 배기 포트(112)와 배기 파이프(113)를 통해 코터 챔버(101) 밖으로 배출되도록 턴온된다. 구동 메커니즘(109)은 위로 이동하도록 지지 샤프트(110)를 구동하여, 포토레지스트가 코터 챔버(101) 밖으로 튀는 것을 방지하기 위하여 측판(108)이 위로 이동하게 한다. 회전 액추에이터(104)는 기판 척(102)을 회전 구동하고, 그 다음, 포토레지스트가 기판(103)의 표면으로 분사된다. 스핀 코팅 방법을 통해, 균일한 포토레지스트 층이 기판(103)의 표면 상에 코팅된다. 코팅 공정 동안, 포토레지스트는 주로 측판(108) 상에 모인다.
도 1b에 도시된 바와 같이, 코터(100)가 클리닝될 필요가 있을 때, 스위치 밸브(114)와 액체 출구 밸브(118)가 턴오프된다. 액체 입구 밸브(116)가 턴온되고, 클리닝 용액이 액체 입구 파이프(115)를 통해 용액 트러프(105)로 공급된다. 용액 트러프(105)는 클리닝 용액으로 채워진다. 용액 트러프(105) 내의 액체 레벨의 높이는 기판 척(102)의 높이보다 더 낮다. 구동 메커니즘(109)은 아래로 이동하도록 지지 샤프트(110)를 구동하여, 클리닝을 위하여 측판(108)이 아래로 이동하여 용액 트러프(105)의 클리닝 용액 내로 잠기게 한다. 구동 메커니즘(109)은 측판(108)이 클리닝 용액 내로 잠길 때 고속으로 진동하도록 지지 샤프트(110)를 구동한다. 코터 챔버(101) 내의 포토레지스트 및 측판(108) 상의 포토레지스트가 클리닝 용액 내로 용해된 후에, 액체 출구 밸브(118)는 턴온되고, 용액 트러프(105) 및 배기 파이프(113) 내의 클리닝 용액이 액체 출구 파이프(117)를 통해 배출된다.
도 2a 내지 2c를 참조하면, 도 2a 내지 2c는 본 발명의 예시적인 실시예에 따른 자동 클리닝 기능을 갖는 코터를 도시하는 단면도이다. 코터(200)는 코터 챔버(201)를 포함한다. 기판(203)을 유지하고 위치 설정하기 위한 기판 척(202)은 코터 챔버(201) 내에 위치된다. 2개의 자석(239)이 기판 척(202)의 상면과 기판 척(202)의 하면에 각각 위치 설정된다. 도 2c에 도시된 바와 같이, 대향하는 2개의 자석의 표면의 극성은 동일하다. 기판 척(202)은 기판 척(202)을 회전 구동하기 위하여 사용되는 회전 액추에이터(204)와, 위로 이동하거나 아래로 이동하도록 기판 척(202)을 구동하기 위하여 사용되는 수직 액추에이터(219)에 연결된다. 코터 챔버(201)의 외부 하부에 수직으로 고정된 샤프트(221) 상에 배치된 2개의 위치 센서(220)가 있으며, 하나의 위치 센서(220)는 샤프트(221)의 상부에 위치되고, 다른 위치 센서(220)는 샤프트(221)의 하부에 위치된다. 수직 액추에이터(219)는 샤프트(221)를 따라 이동한다. 포토레지스트를 코팅하기 위하여, 수직 액추에이터(219)는 샤프트(221)를 따라 위로 이동하고, 샤프트(221)의 상부에 위치된 위치 센서(220)의 위치에서 정지한다. 코터 클리닝을 위하여, 수직 액추에이터(219)는 샤프트(221)를 따라 아래로 이동하고, 샤프트(221)의 하부에 위치된 다른 위치 센서(220)의 위치에서 정지한다. 탄성 보호 벽(206)이 코터 챔버(201) 내에 위치 설정된다. 탄성 보호 벽(206)은 벨로우즈일 수 있다. 클리닝 용액이 회전 액추에이터(204)와 수직 액추에이터(219) 내로 들어가는 것을 방지하기 위하여, 탄성 보호 벽(206)의 일단은 코터 챔버(201)의 내부 하부와 연결되고, 탄성 보호 벽(206)의 타단은 밀봉 부재(222)와 연결된다. 밀봉 부재(222)는 밀봉 부재(222)의 하부에 정착된 밀봉 링(223)과 밀봉 부재(222)의 상부에 정착된 자성체(240)를 가진다. 자성체(240)는 2개의 자석(239) 사이에 위치된다. 자성체(240)의 양측의 극성은, 도 2c에 도시된 바와 같이, 대향하는 2개의 자석 표면의 극성과 동일하다. 배출 개구(241)가 밀봉 부재(222)의 하부에 형성된다. 내력벽(bearing wall)(242)이 코터 챔버(201) 내에 위치 설정되고 탄성 보호 벽(206)에 의해 둘러싸인다. 레벨 센서(207)가 코터 챔버(201) 내의 클리닝 용액의 레벨을 검출하기 위하여 코터 챔버(201) 상에 설치된다. 적어도 하나의 측판(208)이 포토레지스트가 코터 챔버(201) 밖으로 튀는 것을 방지하기 위하여 위로 이동할 수 있거나, 클리닝을 위하여 아래로 이동하여 클리닝 용액 내로 잠길 수 있다. 측판(208)을 지지하기 위하여, 바람직하게는 적어도 2개의 구동 메커니즘(209)이 있으며, 각각의 구동 메커니즘(209)은 코터 챔버(201) 내에 수직으로 배치된 지지 샤프트(210)와 연결된다. 측판(208)은 지지 샤프트(210)의 상단부 상에 고정된다. 구동 메커니즘(209)은 위로 이동하거나 아래로 이동하도록 지지 샤프트(210)를 구동하며, 이는 코터 챔버(201) 밖으로 포토레지스트가 튀는 것을 방지하기 위하여 측판(208)이 위로 이동하게 하거나, 또는 클리닝을 위하여 측판(208)이 아래로 이동하여 코터 챔버(201)의 클리닝 용액 내로 잠기게 할 수 있다. 구동 메커니즘(209)은 모터 또는 실린더일 수 있다. 구동 메커니즘(209)은 측판(208)이 클리닝을 위하여 클리닝 용액 내로 잠길 때 고속으로 진동하도록 지지 샤프트(210)를 구동하며, 이는 측판(208)으로부터 포토레지스트를 벗기기에 좋다. 모든 지지 샤프트(210)는 클리닝 용액의 부식에 견딜 수 있는 재료로 이루어진 벨로우즈(211) 내로 밀봉된다. 코터 챔버(201)는 코터 챔버(201) 밖으로 가스를 배출하기 위한 배기 포트(212)를 형성한다. 배기 파이프(213)가 배기 포트(212)에 연결된다. 스위치 밸브(214)가 배기 파이프(213) 상에 설치된다. 기판(203)의 표면 상에 포토레지스트를 코팅할 때, 코터 챔버(201) 밖으로 가스를 배출하기 위하여 스위치 밸브(214)가 턴온되고, 코터가 클리닝될 필요가 있을 때, 코터 챔버(201)를 클리닝 용액으로 채우기 위하여 스위치 밸브(214)가 턴오프된다. 이 경우에, 배기 파이프(213)도 클리닝 용액으로 채워진다. 액체 입구 파이프(215)가 클리닝 용액을 코터 챔버(201)로 공급하기 위하여 코터 챔버(201)에 연결되고, 액체 입구 밸브(216)가 액체 입구 파이프(215) 상에 설치된다. 액체 출구 파이프(217)가 코터 챔버(201) 밖으로 클리닝 용액을 배출하기 위하여 코터 챔버(201)에 연결된다. 본 실시예에서, 배기 파이프(213)가 클리닝 용액으로 채워지기 때문에, 클리닝 용액을 완전히 배출하기 위하여, 바람직하게는, 액체 출구 파이프(217)가 배출 파이프(213)의 가장 낮은 지점에 위치 설정된다. 액체 출구 밸브(218)가 액체 출구 파이프(217) 상에 설치된다.
도 2a에 도시된 바와 같이, 코터(200)가 기판(203)의 표면 상에 포토레지스트를 코팅하기 위하여 사용될 때, 스위치 밸브(214)는 코터 챔버(201) 내의 가스가 배기 포트(212)와 배기 파이프(213)를 통해 코터 챔버(201) 밖으로 배출되도록 턴온된다. 구동 메커니즘(209)은 위로 이동하도록 지지 샤프트(210)를 구동하여, 포토레지스트가 코터 챔버(201) 밖으로 튀는 것을 방지하기 위하여 측판(208)이 위로 이동하게 한다. 수직 액추에이터(219)는, 샤프트(221)의 상부에 위치된 위치 센서(220)가 수직 액추에이터(219)를 검출할 때까지, 위로 이동하도록 기판 척(202)을 구동한다. 기판 척(202)이 위로 이동하는 과정에서, 자성체(240)는 기판 척(202)의 하부 표면에 위치 설정된 자석(239)과 인접해 있어, 밀봉 부재(222)가 기판 척(202)과 함께 위로 이동하게 한다. 기판 척(202)이 공정 위치로 위로 이동할 때, 기판 척(202)은 위로 이동하는 것을 정지하고, 자성체(240)가 2개의 자석(239) 사이에 위치되고, 자성체(240)와 2개의 자석(239) 사이의 자력의 작용 하에서 2개의 자석(239)과 접촉하지 않는다. 기판 척(202)도 밀봉 링(223)과 접촉하지 않는다. 회전 액추에이터(204)는 기판 척(202)을 회전 구동하고, 그 다음, 포토레지스트가 기판(203)의 표면으로 분사된다. 스핀 코팅 방법을 통해, 균일한 포토레지스트 층이 기판(203)의 표면 상에 코팅된다.
도 2b에 도시된 바와 같이, 코터(200)가 클리닝될 필요가 있을 때, 스위치 밸브(214)와 액체 출구 밸브(218)가 턴오프된다. 수직 액추에이터(219)는, 샤프트(221)의 하부에 위치된 위치 센서(220)가 수직 액추에이터(219)를 검출할 때까지, 아래로 이동하도록 기판 척(202)을 구동한다. 탄성 보호 벽(206)은 아래를 향하여 압축되고, 내력벽(242)이 밀봉 부재(222)를 유지한다. 기판 척(202)의 하부는 클리닝 용액이 수직 액추에이터(219)와 회전 액추에이터(204) 내로 들어가는 것을 방지하기 위하여 밀봉 링(223)에 대하여 가압된다. 액체 입구 밸브(216)가 턴온되고, 클리닝 용액이 액체 입구 파이프(215)를 통해 코터 챔버(201)로 공급된다. 코터 챔버(201)는 클리닝 용액으로 채워진다. 기판 척(202), 밀봉 부재(222) 및 탄성 보호 벽(206)이 클리닝을 위하여 클리닝 용액 내로 잠긴다. 구동 메커니즘(209)은 아래로 이동하도록 지지 샤프트(210)를 구동하여, 클리닝을 위하여 측판(208)이 아래로 이동하여 코터 챔버(201)의 클리닝 용액 내로 잠기게 한다. 구동 메커니즘(209)은 측판(208)이 클리닝 용액 내로 잠길 때 고속으로 진동하도록 지지 샤프트(210)를 구동한다. 코터 챔버(201) 내의 포토레지스트 및 측판(208) 상의 포토레지스트가 클리닝 용액 내로 용해된 후에, 액체 출구 밸브(218)는 턴온되고, 코터 챔버(201) 및 배기 파이프(213) 내의 클리닝 용액이 액체 출구 파이프(217)를 통해 배출된다. 밀봉 부재(222) 내의 클리닝 용액이 배출 개구(241)로부터 배출된다.
도 3a 내지 3c를 참조하면, 도 3a 내지 3c는 본 발명의 다른 예시적인 실시예에 따른 자동 클리닝 기능을 갖는 코터를 도시하는 단면도이다. 코터(300)는 코터 챔버(301)를 포함한다. 기판(303)을 유지하고 위치 설정하기 위한 기판 척(302)은 코터 챔버(301) 내에 위치된다. 기판 척(302)은 진공 척 또는 자기 서스펜션 척일 수 있다. 기판 척(302)은 기판 척(302)을 회전 구동하기 위하여 사용되는 회전 액추에이터(304)에 연결된다. 코터 챔버(301)는 포토레지스트를 용해시킬 수 있는 클리닝 용액으로 채워지는 용액 트러프(305)를 가진다. 용액 트러프(305)는 코터 챔버(301)의 측벽과, 클리닝 용액이 회전 액추에이터(304)로 들어가는 것을 방지하기 위하여 코터 챔버(301) 내에 위치 설정된 보호 벽(306) 사이에 형성된다. 포토레지스트로 코팅되는 것으로부터 기판 척(302)을 보호하기 위하여 차폐 플레이트(324)가 기판 척(302) 주위로 지지된다. 레벨 센서(307)가 용액 트러프(305) 내의 클리닝 용액의 레벨을 검출하기 위하여 코터 챔버(301) 상에 설치된다. 2개의 측판(308)이 포토레지스트가 코터 챔버(301) 밖으로 튀는 것을 방지하기 위하여 위로 이동할 수 있거나, 클리닝을 위하여 아래로 이동하여 클리닝 용액 내로 잠길 수 있다. 모든 측판(308)을 지지하기 위하여, 바람직하게는 적어도 2개의 구동 메커니즘(309)이 있으며, 모든 구동 메커니즘(309)은 용액 트러프(305) 내에 수직으로 배치된 지지 샤프트(310)와 연결된다. 측판(308)은 지지 샤프트(310)의 상단부 상에 고정된다. 구동 메커니즘(309)은 위로 이동하거나 아래로 이동하도록 지지 샤프트(310)를 구동하며, 이는 코터 챔버(301) 밖으로 포토레지스트가 튀는 것을 방지하기 위하여 측판(308)을 위로 이동하게 하거나, 또는 클리닝을 위하여 측판(308)이 아래로 이동하여 용액 트러프(305)의 클리닝 용액 내로 잠기게 할 수 있다. 구동 메커니즘(309)은 모터 또는 실린더일 수 있다. 구동 메커니즘(309)은 측판(308)이 클리닝을 위하여 클리닝 용액 내로 잠길 때 고속으로 진동하도록 지지 샤프트(310)를 구동하며, 이는 측판(308)으로부터 포토레지스트를 벗기기에 좋다. 모든 지지 샤프트(310)는 클리닝 용액의 부식에 견딜 수 있는 재료로 이루어진 벨로우즈(311) 내로 밀봉된다. 코터 챔버(301)는 코터 챔버(301) 밖으로 가스를 배출하기 위한 배기 포트(312)를 형성한다. 액체 입구 파이프(315)가 클리닝 용액을 용액 트러프(305)로 공급하기 위하여 용액 트러프(305)에 연결되고, 액체 입구 밸브(316)가 액체 입구 파이프(315) 상에 설치된다. 액체 출구 파이프(317)가 용액 트러프(305) 밖으로 클리닝 용액을 배출하기 위하여 용액 트러프(305)에 연결된다. 액체 출구 밸브(318)가 액체 출구 파이프(317) 상에 설치된다. 챔버 커버(325)가 측판(308)에 의해 지지된다.
도 3a 및 3b에 도시된 바와 같이, 코터(300)가 기판(303)의 표면 상에 포토레지스트를 코팅하기 위하여 사용될 때, 액체 출구 밸브(318)가 턴오프된다. 액체 입구 밸브(316)가 턴온되고 클리닝 용액이 액체 입구 파이프(315)를 통해 용액 트러프(305)로 공급된다. 용액 트러프(305)는 클리닝 용액으로 채워진다. 구동 메커니즘(309)은 위로 이동하도록 지지 샤프트(310)를 구동하여, 포토레지스트가 코터 챔버(301) 밖으로 튀는 것을 방지하기 위하여 측판(308)이 위로 이동하게 한다. 포토레지스트가 코터 챔버(301) 밖으로 튀는 것을 방지하기 위하여 위로 이동하는 측판(308)은 유사한 공기 흐름 패턴을 유지하기 위하여 코터 챔버(301) 위로 챔버 커버(325)를 지지하여, 기판(303)의 엣지 상의 코팅 균일도를 보장한다. 다른 측판(308)은 클리닝 용액 내로 잠긴다. 회전 액추에이터(304)는 기판 척(302)을 회전 구동하고, 그 다음, 포토레지스트가 기판(303)의 표면으로 분사된다. 스핀 코팅 방법을 통해, 균일한 포토레지스트 층이 기판(303)의 표면 상에 코팅된다. 컨트롤러에서 미리 설정될 수 있는 기간 후에, 코터 챔버(301) 밖으로 포토레지스트가 튀는 것을 방지하기 위하여 클리닝 용액 내로 잠긴 다른 측판(308)이 위로 이동하도록 구동되어 코터 챔버(301) 위로 챔버 커버(325)를 지지한다. 전자의 측판(308)은 클리닝을 위하여 아래로 이동하여 클리닝 용액 내로 잠기도록 구동된다. 구동 메커니즘(309)은 클리닝을 위하여 측판(308)이 클리닝 용액 내로 잠길 때 고속으로 진동하도록 지지 샤프트(310)를 구동한다. 코팅 공정 동안 포토레지스트가 주로 측판(308) 상에 모이기 때문에, 2개의 측판(308)이 교대로 위로 이동하거나 아래로 이동하며, 코팅 공정은 정지할 필요 없이 계속될 수 있어, 생산성을 개선한다.
도 3c에 도시된 바와 같이, 코팅 공정이 완료된 후에, 2개의 측판(308)은 클리닝을 위해 아래로 이동하여 클리닝 용액 내로 잠기도록 동시에 구동될 수 있다. 챔버 커버(325)는 아래를 향해 이동하여 2개의 측판(308)과 함께 클리닝 용액 내로 잠긴다. 포토레지스트가 클리닝 용액 내로 완전히 용해된 후에, 액체 출구 밸브(318)는 턴온되고, 용액 트러프(305) 내의 클리닝 용액이 액체 출구 파이프(317)를 통해 배출된다.
도 4를 참조하면, 도 4는 본 발명의 다른 예시적인 실시예에 따른 자동 클리닝 기능을 갖는 코터를 도시하는 단면도이다. 코터(400)는 코터 챔버(401)를 포함한다. 기판(403)을 유지하고 위치 설정하기 위한 기판 척(402)은 코터 챔버(401) 내에 위치된다. 기판 척(402)은 진공 척 또는 자기 서스펜션 척일 수 있다. 기판 척(402)은 기판 척(402)을 회전 구동하기 위하여 사용되는 회전 액추에이터(404)에 연결된다. 코터(300)에 비하여, 코터 챔버(401)의 측벽과, 클리닝 용액이 회전 액추에이터(404)로 들어가는 것을 방지하기 위하여 코터 챔버(401) 내에 위치 설정된 보호 벽(406) 사이에 형성된 용액 트러프는 분리 벽(426)에 의해 2개의 개별 용액 트러프로 분할된다. 따라서, 코터 챔버(401)는 포토레지스트를 용해시킬 수 있는 클리닝 용액으로 채워지는 제1 용액 트러프(405A)와 제2 용액 트러프(405B)를 가진다. 포토레지스트로 코팅되는 것으로부터 기판 척(402)을 보호하기 위하여 차폐 플레이트(424)가 기판 척(402) 주위로 지지된다. 제1 레벨 센서(407A)가 제1 용액 트러프(405A) 내의 클리닝 용액의 레벨을 검출하기 위하여 코터 챔버(401) 상에 설치된다. 제2 레벨 센서(407B)가 제2 용액 트러프(405B) 내의 클리닝 용액의 레벨을 검출하기 위하여 보호 벽(406) 상에 설치된다. 2개의 측판(408)이 포토레지스트가 코터 챔버(401) 밖으로 튀는 것을 방지하기 위하여 위로 이동할 수 있거나, 클리닝을 위하여 아래로 이동하여 클리닝 용액 내로 잠길 수 있다. 제1 용액 트러프(405A)와 제2 용액 트러프(405B)는 각각 측판(408) 중 하나를 수용한다. 모든 측판(408)을 지지하기 위하여, 바람직하게는 적어도 2개의 구동 메커니즘(409)이 있으며, 모든 구동 메커니즘(409)은 지지 샤프트(410)와 연결된다. 측판(408)은 지지 샤프트(410)의 상단부 상에 고정된다. 구동 메커니즘(409)은 위로 이동하거나 아래로 이동하도록 지지 샤프트(410)를 구동하며, 이는 코터 챔버(401) 밖으로 포토레지스트가 튀는 것을 방지하기 위하여 측판(408)이 위로 이동하게 하거나, 또는 클리닝을 위하여 측판(408)이 아래로 이동하여 대응하는 용액 트러프의 클리닝 용액 내로 잠기게 할 수 있다. 구동 메커니즘(409)은 모터 또는 실린더일 수 있다. 구동 메커니즘(409)은 측판(408)이 클리닝을 위하여 클리닝 용액 내로 잠길 때 고속으로 진동하도록 지지 샤프트(410)를 구동하며, 이는 측판(408)으로부터 포토레지스트를 벗기기에 좋다. 모든 지지 샤프트(410)는 클리닝 용액의 부식에 견딜 수 있는 재료로 이루어진 벨로우즈(411) 내로 밀봉된다. 코터 챔버(401)는 코터 챔버(401) 밖으로 가스를 배출하기 위한 배기 포트(412)를 형성한다. 제1 액체 입구 파이프(415A)가 클리닝 용액을 제1 용액 트러프(405A)로 공급하기 위하여 제1 용액 트러프(405A)에 연결되고, 제1 액체 입구 밸브(416A)가 제1 액체 입구 파이프(415A) 상에 설치된다. 제1 액체 출구 파이프(417A)가 제1 용액 트러프(405A) 밖으로 클리닝 용액을 배출하기 위하여 제1 용액 트러프(405A)에 연결된다. 제1 액체 출구 밸브(418A)가 제1 액체 출구 파이프(417A) 상에 설치된다. 제2 액체 입구 파이프(415B)가 클리닝 용액을 제2 용액 트러프(405B)로 공급하기 위하여 제2 용액 트러프(405B)에 연결되고, 제2 액체 입구 밸브(416B)가 제2 액체 입구 파이프(415B) 상에 설치된다. 제2 액체 출구 파이프(417B)가 제2 용액 트러프(405B) 밖으로 클리닝 용액을 배출하기 위하여 제2 용액 트러프(405A)에 연결된다. 제2 액체 출구 밸브(418B)가 제2 액체 출구 파이프(417B) 상에 설치된다. 챔버 커버(425)가 측판(408)에 의해 지지된다.
코터(400)가 기판(403)의 표면 상에 포토레지스트를 코팅하기 위하여 사용될 때, 제1 용액 트러프(405A)에 대응하는 측판(408)은 포토레지스트가 코터 챔버(401) 밖으로 튀는 것을 방지하기 위하여 위로 이동하도록 구동된다. 측판(408)은 유사한 공기 흐름 패턴을 유지하기 위하여 코터 챔버(401) 위로 챔버 커버(425)를 지지하여, 기판(403)의 엣지 상의 코팅 균일도를 보장한다. 제1 용액 트러프(405A)는 클리닝 용액을 가지지 않는다. 제2 액체 출구 밸브(418B)가 턴오프된다. 제2 액체 입구 밸브(416B)가 턴온되고 클리닝 용액이 제2 액체 입구 파이프(415B)를 통해 제2 용액 트러프(405B)로 공급된다. 제2 용액 트러프(405B)는 클리닝 용액으로 채워진다. 제2 용액 트러프(405B)에 대응하는 다른 측판(408)은 아래로 이동하여 제2 용액 트러프(405B)의 클리닝 용액 내로 잠기도록 구동된다. 컨트롤러에서 미리 설정될 수 있는 기간 후에, 제2 액체 출구 밸브(418B)가 턴온되고 제2 용액 트러프(405B) 내의 클리닝 용액이 제2 액체 출구 파이프(417B)를 통해 배출된다. 제2 용액 트러프(405B)에 대응하는 측판(408)은 위로 이동하여 코터 챔버(401) 위로 챔버 커버(425)를 지지하도록 구동된다. 제1 액체 출구 밸브(418A)가 턴오프된다. 제1 액체 입구 밸브(416A)가 턴온되고, 제1 액체 입구 밸브(416A)를 통해 클리닝 용액이 제1 용액 트러프(405A)로 공급된다. 제1 용액 트러프(405A)이 클리닝 용액으로 채워진다. 제1 용액 트러프(405A)에 대응하는 측판(408)이 클리닝을 위하여 아래로 이동하여 제1 용액 트러프(405A)의 클리닝 용액 내로 잠기도록 구동된다. 2개의 측판(308)은 교대로 위로 이동하거나 아래로 이동한다.
도 5a 및 5b를 참조하면, 도 5a 및 5b는 본 발명의 다른 예시적인 실시예에 따른 자동 클리닝 기능을 갖는 코터를 도시하는 단면도이다. 코터(500)는 코터 챔버(501)를 포함한다. 기판(503)을 유지하고 위치 설정하기 위한 기판 척(502)은 코터 챔버(501) 내에 위치된다. 기판 척(502)은 진공 척 또는 자기 서스펜션 척일 수 있다. 기판 척(502)은 기판 척(502)을 회전 구동하기 위하여 사용되는 회전 액추에이터(504)에 연결된다. 코터 챔버(501)는 포토레지스트를 용해시킬 수 있는 클리닝 용액으로 채워지는 용액 트러프(505)를 가진다. 용액 트러프(505)는 코터 챔버(501)의 측벽과, 코터 챔버(501) 내에 위치 설정된 보호 벽(506) 사이에 형성된다. 포토레지스트로 코팅되는 것으로부터 기판 척(502)을 보호하기 위하여 차폐 플레이트(524)가 기판 척(502) 주위로 지지된다. 레벨 센서(507)가 용액 트러프(505) 내의 클리닝 용액의 레벨을 검출하기 위하여 코터 챔버(501) 상에 설치된다. 2개의 측판(508)이 포토레지스트가 코터 챔버(501) 밖으로 튀는 것을 방지하기 위하여 위로 이동할 수 있거나, 클리닝을 위하여 아래로 이동하여 용액 트러프(505)의 클리닝 용액 내로 잠길 수 있다. 모든 측판(508)을 지지하기 위하여, 바람직하게는 적어도 2개의 구동 메커니즘(509)이 있으며, 모든 구동 메커니즘(509)은 용액 트러프(505) 내에 수직으로 배치된 지지 샤프트(510)와 연결된다. 측판(508)은 지지 샤프트(510)의 상단부 상에 고정된다. 구동 메커니즘(509)은 위로 이동하거나 아래로 이동하도록 지지 샤프트(510)를 구동하며, 이는 코터 챔버(501) 밖으로 포토레지스트가 튀는 것을 방지하기 위하여 측판(508)이 위로 이동하게 하거나, 또는 클리닝을 위하여 측판(508)이 아래로 이동하여 용액 트러프(505)의 클리닝 용액 내로 잠기게 할 수 있다. 구동 메커니즘(509)은 모터 또는 실린더일 수 있다. 구동 메커니즘(509)은 측판(508)이 클리닝을 위하여 클리닝 용액 내로 잠길 때 고속으로 진동하도록 지지 샤프트(510)를 구동하며, 이는 측판(508)으로부터 포토레지스트를 벗기기에 좋다. 모든 지지 샤프트(510)는 클리닝 용액의 부식에 견딜 수 있는 재료로 이루어진 벨로우즈(511) 내로 밀봉된다. 코터 챔버(501)는 코터 챔버(501) 밖으로 가스를 배출하기 위한 배기 포트(512)를 형성한다. 액체 입구 파이프(515)가 클리닝 용액을 용액 트러프(505)로 공급하기 위하여 용액 트러프(505)에 연결되고, 액체 입구 밸브(516)가 액체 입구 파이프(515) 상에 설치된다. 액체 출구 파이프(517)가 용액 트러프(505) 밖으로 클리닝 용액을 배출하기 위하여 용액 트러프(505)에 연결된다. 액체 출구 밸브(518)가 액체 출구 파이프(517) 상에 설치된다. 챔버 커버(525)가 측판(408)에 의해 지지된다. 차폐 플레이트(524)를 클리닝하기 위하여, 코터 챔버(501)는 포토레지스트를 용해할 수 있는 클리닝 용액으로 채워지는 다른 용액 트러프(527)를 가진다. 다른 레벨 센서(528)가 용액 트러프(527) 내의 클리닝 용액의 레벨을 검출하기 위하여 사용된다. 다른 액체 입구 파이프(529)가 클리닝 용액을 용액 트러프(527)에 공급하기 위하여 용액 트러프(527)에 연결되고, 다른 액체 입구 밸브(530)가 액체 입구 파이프(529) 상에 설치된다. 다른 액체 출구 파이프(531)가 용액 트러프(527) 밖으로 클리닝 용액을 배출하기 위하여 용액 트러프(527)에 연결된다. 다른 액체 출구 밸브(532)가 액체 출구 파이프(531) 상에 설치된다. 기판 척(502) 주위로 차폐 플레이트(524)를 지지하기 위하여, 적어도 다른 2개의 구동 메커니즘(533)이 있으며, 모든 구동 메커니즘(533)은 용액 트러프(527) 내에 수직으로 배치된 지지 샤프트(534)와 연결된다. 차폐 플레이트(524)는 지지 샤프트(534)의 상단부 상에 고정된다. 구동 메커니즘(533)은 위로 이동하거나 아래로 이동하도록 지지 샤프트(534)를 구동하며, 이는 차폐 플레이트(524)가 위로 이동하게 하거나, 클리닝을 위하여 아래로 이동하여 용액 트러프(527)의 클리닝 용액 내로 잠기게 한다. 구동 메커니즘(533)은 차폐 플레이트(524)가 클리닝을 위하여 클리닝 용액 내로 잠길 때 고속으로 진동하도록 지지 샤프트(534)를 구동하며, 이는 차폐 플레이트(524)로부터 포토레지스트를 벗기기에 좋다. 모든 지지 샤프트(534)는 클리닝 용액의 부식에 견딜 수 있는 재료로 이루어진 벨로우즈(535) 내로 밀봉된다.
도 5a에 도시된 바와 같이, 코터(500)가 기판(503)의 표면 상에 포토레지스트를 코팅하기 위하여 사용될 때, 액체 출구 밸브(518)가 턴오프된다. 액체 입구 밸브(516)가 턴온되고 클리닝 용액이 액체 입구 파이프(515)를 통해 용액 트러프(505)로 공급된다. 용액 트러프(505)는 클리닝 용액으로 채워진다. 구동 메커니즘(509)은 위로 이동하도록 지지 샤프트(510)를 구동하여, 포토레지스트가 코터 챔버(501) 밖으로 튀는 것을 방지하기 위하여 측판(508) 중 하나가 위로 이동하게 한다. 포토레지스트가 코터 챔버(501) 밖으로 튀는 것을 방지하기 위하여 위로 이동하는 측판(508)은 유사한 공기 흐름 패턴을 유지하기 위하여 코터 챔버(501) 위로 챔버 커버(525)를 지지하여, 기판(503)의 엣지 상의 코팅 균일도를 보장한다. 다른 측판(508)은 클리닝 용액 내로 잠긴다. 회전 액추에이터(504)는 기판 척(502)을 회전 구동하고, 그 다음, 포토레지스트가 기판(503)의 표면으로 분사된다. 스핀 코팅 방법을 통해, 균일한 포토레지스트 층이 기판(503)의 표면 상에 코팅된다. 컨트롤러에서 미리 설정될 수 있는 기간 후에, 코터 챔버(501) 밖으로 포토레지스트가 튀는 것을 방지하기 위하여 클리닝 용액 내로 잠긴 다른 측판(508)이 위로 이동하도록 구동되어 코터 챔버(501) 위로 챔버 커버(525)를 지지한다. 전자의 측판(508)은 클리닝을 위하여 아래로 이동하여 클리닝 용액 내로 잠기도록 구동된다. 구동 메커니즘(509)은 클리닝을 위하여 측판(508)이 클리닝 용액 내로 잠길 때 고속으로 진동하도록 지지 샤프트(510)를 구동한다. 2개의 측판(508)이 교대로 위로 이동하거나 아래로 이동하며, 차폐 플레이트(524)는 코팅 공정 동안 항상 기판 척(502)을 둘러싼다.
도 5b에 도시된 바와 같이, 코팅 공정이 완료된 후에, 액체 출구 밸브(532)가 턴오프된다. 액체 입구 밸브(530)가 턴온되고 클리닝 용액이 액체 입구 파이프(529)를 통해 용액 트러프(527)로 공급된다. 용액 트러프(527)는 클리닝 용액으로 채워진다. 구동 메커니즘(533)은 아래로 이동하도록 지지 샤프트(534)를 구동하여, 클리닝을 위하여 차폐 플레이트(524)가 아래로 이동하여 용액 트러프(527)의 클리닝 용액 내로 잠기게 한다. 구동 메커니즘(533)은 클리닝을 위하여 차폐 플레이트(524)가 클리닝 용액 내로 잠길 때 고속으로 진동하도록 지지 샤프트(534)를 구동한다. 2개의 측판(508)은 클리닝을 위하여 아래로 이동하여 용액 트러프(505)의 클리닝 용액 내로 잠기도록 동시에 구동될 수 있다. 챔버 커버(525)는 아래로 이동하여 2개의 측판(508)과 함께 용액 트러프(505)의 클리닝 용액 내로 잠긴다. 포토레지스트가 클리닝 용액 내로 완전히 용해된 후에, 액체 출구 밸브(518)와 액체 출구 밸브(532)는 턴온되고, 용액 트러프(505) 내의 클리닝 용액과 용액 트러프(527) 내의 클리닝 용액이 액체 출구 파이프(517)와 액체 출구 파이프(531)를 통해 배출된다.
도 6a 내지 6c를 참조하면, 도 6a 내지 6c는 본 발명의 다른 예시적인 실시예에 따른 자동 클리닝 기능을 갖는 코터를 도시하는 단면도이다. 코터(600)는 코터 챔버(601)를 포함한다. 기판(603)을 유지하고 위치 설정하기 위한 기판 척(602)은 코터 챔버(601) 내에 위치된다. 2개의 자석(639)이 기판 척(602)의 상면과 기판 척(602)의 하면에 각각 위치 설정된다. 대향하는 2개의 자석의 표면의 극성은 동일하다. 기판 척(602)은 기판 척(602)을 회전 구동하기 위하여 사용되는 회전 액추에이터(604)와, 위로 이동하거나 아래로 이동하도록 기판 척(602)을 구동하기 위하여 사용되는 수직 액추에이터(619)에 연결된다. 코터 챔버(601)의 외부 하부에 수직으로 고정된 샤프트(621) 상에 배치된 2개의 위치 센서(620)가 있으며, 하나의 위치 센서(620)는 샤프트(621)의 상부에 위치되고, 다른 위치 센서(620)는 샤프트(621)의 하부에 위치된다. 수직 액추에이터(619)는 샤프트(621)를 따라 이동한다. 포토레지스트를 코팅하기 위하여, 수직 액추에이터(619)는 샤프트(621)를 따라 아래로 이동하고, 샤프트(621)의 하부에 위치된 위치 센서(620)의 위치에서 정지한다. 기판 척(602)은 코터 챔버(601) 내에 수용된다. 코터 클리닝을 위하여, 수직 액추에이터(619)는 샤프트(621)를 따라 위로 이동하고, 샤프트(621)의 상부에 위치된 다른 위치 센서(620)의 위치에서 정지한다. 기판 척(602)은 코터 챔버(601) 밖으로 신장된다. 클리닝 용액이 회전 액추에이터(604)와 수직 액추에이터(619) 내로 들어가는 것을 방지하기 위하여 탄성 보호 벽(606)이 코터 챔버(601) 내에 위치 설정된다. 탄성 보호 벽(606)의 하단부는 코터 챔버(601)의 내부 하부와 연결된다. 자성체(640)가 탄성 보호 벽(606)의 상단부에 정착된다. 자성체(640)는 2개의 자석(639) 사이에 위치된다. 자성체(640)의 양측의 극성은 대향하는 2개의 자석 표면의 극성과 동일하다. 레벨 센서(607)가 코터 챔버(601) 내의 클리닝 용액의 레벨을 검출하기 위하여 코터 챔버(601) 상에 설치된다. 차폐 벽(636)이 코터 챔버(601) 내에 수직으로 위치 설정되고, 탄성 보호 벽(606)을 둘러싼다. 차폐 벽(636)의 상부는 포토레지스트로 코팅되는 것으로부터 기판 척(602)을 보호하기 위하여 기판 척(602)의 상부 표면에 접근하도록 연장한다. 차폐 벽(636)의 하부는 탄성 보호 벽(606)과 차폐 벽(636) 사이의 공간에서 클리닝 용액을 배출하기 위한 갭(637)을 형성한다. 코터 챔버(601)는 코터 챔버(601)로부터 가스를 배출하기 위한 배기 포트(612)를 형성한다. 배기 파이프(613)가 배기 포트(612)에 연결된다. 스위치 밸브(614)가 배기 파이프(613) 상에 설치된다. 기판(603)의 표면 상에 포토레지스트를 코팅할 때, 코터 챔버(601) 밖으로 가스를 배출하기 위하여 스위치 밸브(614)가 턴온되고, 코터가 클리닝될 필요가 있을 때, 코터 챔버(601)를 클리닝 용액으로 채우기 위하여 스위치 밸브(614)가 턴오프된다. 이 경우에, 배기 파이프(613)도 클리닝 용액으로 채워진다. 스위치 밸브(614)의 위치 높이는 레벨 센서(607)의 위치 높이보다 더 높을 수 있거나, 레벨 센서(607)의 위치 높이보다 더 낮을 수 있다. 스위치 밸브(614)의 위치 높이가 레벨 센서(607)의 위치 높이보다 더 높다면, 스위치 밸브(614)의 조임(tightness) 요건은 상대적으로 낮다. 스위치 밸브(614)의 위치 높이가 레벨 센서(607)의 위치 높이보다 더 낮다면, 스위치 밸브(614)의 조임 요건은 상대적으로 높아, 클리닝 용액이 스위치 밸브(614)를 지나서 흐를 수 없다는 것을 보장한다.
액체 입구 파이프(615)가 클리닝 용액을 코터 챔버(601)에 공급하기 위하여 코터 챔버(601)에 연결되고, 액체 입구 밸브(616)가 액체 입구 파이프(615) 상에 설치된다. 코터 챔버(601)로부터 클리닝 용액을 배출하기 위하여 액체 출구 파이프(617)가 코터 챔버(601)에 연결된다. 본 실시예에서, 배기 파이프(613)가 클리닝 용액으로 채워지기 때문에, 클리닝 용액을 완전히 배출하기 위하여, 바람직하게는, 액체 출구 파이프(617)는 배기 파이프(613)의 가장 낮은 지점에 위치 설정된다. 액체 출구 밸브(618)는 액체 출구 파이프(617) 상에 설치된다.
도 6a에 도시된 바와 같이, 코터(600)가 기판(603)의 표면 상에 포토레지스트를 코팅하기 위하여 사용될 때, 스위치 밸브(614)는 코터 챔버(601) 내의 가스가 배기 포트(612)와 배기 파이프(613)를 통해 코터 챔버(201) 밖으로 배출되도록 턴온된다. 수직 액추에이터(219)는 샤프트(621)의 하부에 위치된 위치 센서(620)가 수직 액추에이터(619)를 검출할 때까지 아래로 이동하도록 기판 척(602)을 구동한다. 기판 척(602)은 코터 챔버(601) 내에 수용된다. 자성체(640)는 기판 척(602)과 함께 이동한다. 기판 척(602)이 이동을 정지한 후에, 자성체(640)는 2개의 자석(639) 사이에 위치되고, 자성체(640)와 2개의 자석(639) 사이의 자력의 작용 하에서 2개의 자석(639)과 접촉하지 않는다. 회전 액추에이터(604)는 기판 척(602)을 회전 구동하고, 그 다음, 포토레지스트가 기판(603)의 표면으로 분사된다. 스핀 코팅 방법을 통해, 균일한 포토레지스트 층이 기판(603)의 표면 상에 코팅된다.
도 6b에 도시된 바와 같이, 코터(600)가 클리닝될 필요가 있을 때, 스위치 밸브(614)와 액체 출구 밸브(618)가 턴오프된다. 수직 액추에이터(619)는, 샤프트(621)의 상부에 위치된 위치 센서(620)가 수직 액추에이터(619)를 검출할 때까지, 위로 이동하도록 기판 척(602)을 구동한다. 기판 척(602)은 코터 챔버(601) 밖으로 신장한다. 기판 척(602)이 위로 이동하는 과정에서, 자성체(640)는 기판 척(602)의 하부 표면에 위치 설정된 자석(639)과 인접해 있어, 자성체(640)는 기판 척(602)과 함께 위로 이동한다. 기판 척(602)이 코터 챔버(601) 밖으로 이동한 후에, 액체 입구 밸브(616)가 턴온되고, 클리닝 용액이 액체 입구 파이프(615)를 통해 코터 챔버(601)로 공급된다. 코터 챔버(601)가 클리닝 용액으로 채워진다. 코터 챔버(601) 내의 포토레지스트가 클리닝 용액 내로 용해된 후에, 액체 출구 밸브(618)가 턴온되고, 코터 챔버(601) 내의 클리닝 용액과 배기 파이프(613) 내의 클리닝 용액이 액체 출구 파이프(617)를 통해 배출된다. 기판(603)이 기판 척(602) 상에 로딩되거나, 기판 척(602)으로부터 언로딩될 때, 수직 액추에이터(619)는 코터 챔버(601) 밖으로 신장하도록 기판 척(602)을 구동한다.
도 7a 내지 7c를 참조하면, 도 7a 내지 7c는 본 발명의 다른 예시적인 실시예에 따른 자동 클리닝 기능을 갖는 코터를 도시하는 단면도이다. 코터(700)는 코터 챔버(701)를 포함한다. 기판(703)을 유지하고 위치 설정하기 위한 기판 척(702)은 코터 챔버(701) 내에 위치된다. 2개의 자석(739)이 기판 척(702)의 상면과 기판 척(702)의 하면에 각각 위치 설정된다. 대향하는 2개의 자석의 표면의 극성은 동일하다. 기판 척(702)은 기판 척(702)을 회전 구동하기 위하여 사용되는 회전 액추에이터(704)와, 위로 이동하거나 아래로 이동하도록 기판 척(702)을 구동하기 위하여 사용되는 수직 액추에이터(719)에 연결된다. 코터 챔버(701)의 외부 하부에 수직으로 고정된 샤프트(721) 상에 배치된 3개의 위치 센서가 있으며, 하나의 위치 센서(720A)는 샤프트(721)의 상부에 위치된다. 하나의 위치 센서(720B)는 샤프트(721)의 하부에 위치된다. 하나의 위치 센서(720C)는 위치 센서(720A)와 위치 센서(720B) 사이에 위치된다. 수직 액추에이터(719)는 샤프트(721)를 따라 이동한다. 포토레지스트를 코팅하기 위하여, 수직 액추에이터(719)는 샤프트(721)를 따라 아래로 이동하고, 위치 센서(720C)의 위치에서 정지한다. 코터 클리닝을 위하여, 수직 액추에이터(219)는 샤프트(221)를 따라 아래로 이동하고, 샤프트(221)의 하부에 위치된 위치 센서(720B)의 위치에서 정지한다. 기판(703)을 로딩하거나 언로딩하기 위하여, 수직 액추에이터(719)가 샤프트(721)를 따라 위로 이동하고, 위치 센서(720A)의 위치에서 정지한다. 탄성 보호 벽(706)이 코터 챔버(701) 내에 위치 설정된다. 탄성 보호 벽(706)은 벨로우즈일 수 있다. 클리닝 용액이 회전 액추에이터(704)와 수직 액추에이터(719) 내로 들어가는 것을 방지하기 위하여, 탄성 보호 벽(606)의 일단은 코터 챔버(701)의 내부 하부와 연결되고, 탄성 보호 벽(706)의 타단은 밀봉 부재(722)와 연결된다. 밀봉 부재(722)는 밀봉 부재(722)의 하부에 정착된 밀봉 링(723)과 밀봉 부재(722)의 상부에 정착된 자성체(740)를 가진다. 자성체(740)는 2개의 자석(739) 사이에 위치된다. 자성체(740)의 양측의 극성은 대향하는 2개의 자석 표면의 극성과 동일하다. 배출 개구(741)가 밀봉 부재(722)의 하부에 형성된다. 내력벽(742)이 코터 챔버(701) 내에 위치 설정되고 탄성 보호 벽(706)에 의해 둘러싸인다. 레벨 센서(707)가 코터 챔버(701) 내의 클리닝 용액의 레벨을 검출하기 위하여 코터 챔버(701) 상에 설치된다. 코터 챔버(701)는 코터 챔버(701) 밖으로 가스를 배출하기 위한 배기 포트(712)를 형성한다. 배기 파이프(713)가 배기 포트(712)에 연결된다. 스위치 밸브(714)가 배기 파이프(713) 상에 설치된다. 기판(703)의 표면 상에 포토레지스트를 코팅할 때, 코터 챔버(701) 밖으로 가스를 배출하기 위하여 스위치 밸브(714)가 턴온되고, 코터가 클리닝될 필요가 있을 때, 코터 챔버(701)를 클리닝 용액으로 채우기 위하여 스위치 밸브(714)가 턴오프된다. 이 경우에, 배기 파이프(713)도 클리닝 용액으로 채워진다. 액체 입구 파이프(715)가 클리닝 용액을 코터 챔버(701)로 공급하기 위하여 코터 챔버(701)에 연결되고, 액체 입구 밸브(716)가 액체 입구 파이프(715) 상에 설치된다. 액체 출구 파이프(717)가 코터 챔버(701) 밖으로 클리닝 용액을 배출하기 위하여 코터 챔버(701)에 연결된다. 본 실시예에서, 배기 파이프(713)가 클리닝 용액으로 채워지기 때문에, 클리닝 용액을 완전히 배출하기 위하여, 바람직하게는, 액체 출구 파이프(717)가 배출 파이프(713)의 가장 낮은 지점에 위치 설정된다. 액체 출구 밸브(718)가 액체 출구 파이프(217) 상에 설치된다.
도 7a에 도시된 바와 같이, 코터(700)가 기판(703)의 표면 상에 포토레지스트를 코팅하기 위하여 사용될 때, 스위치 밸브(714)는 코터 챔버(601) 내의 가스가 배기 포트(712)와 배기 파이프(713)를 통해 코터 챔버(701) 밖으로 배출되도록 턴온된다. 수직 액추에이터(719)는 위치 센서(720C)가 수직 액추에이터(719)를 검출할 때까지 위로 이동하도록 기판 척(702)을 구동한다. 기판 척(702)은 코터 챔버(701) 내에 수용된다. 자성체(740)는 2개의 자석(739) 사이에 위치되고, 자성체(740)와 2개의 자석(739) 사이의 자력의 작용 하에서 2개의 자석(739)과 접촉하지 않는다. 기판 척(702)도 밀봉 링(723)과 접촉하지 않는다. 회전 액추에이터(704)는 기판 척(702)을 회전 구동하고, 그 다음, 포토레지스트가 기판(703)의 표면으로 분사된다. 스핀 코팅 방법을 통해, 균일한 포토레지스트 층이 기판(703)의 표면 상에 코팅된다.
도 7b에 도시된 바와 같이, 코터(700)가 클리닝될 필요가 있을 때, 스위치 밸브(714)와 액체 출구 밸브(718)가 턴오프된다. 수직 액추에이터(719)는, 위치 센서(720B)가 수직 액추에이터(719)를 검출할 때까지, 아래로 이동하도록 기판 척(702)을 구동한다. 탄성 보호 벽(706)은 아래를 향하여 압축되고, 내력벽(742)이 밀봉 부재(722)를 위로 유지한다. 기판 척(702)의 하부는 클리닝 용액이 수직 액추에이터(719)와 회전 액추에이터(704) 내로 들어가는 것을 방지하기 위하여 밀봉 링(723)에 대하여 가압된다. 액체 입구 밸브(716)가 턴온되고, 클리닝 용액이 액체 입구 파이프(715)를 통해 코터 챔버(701)로 공급된다. 코터 챔버(701)는 클리닝 용액으로 채워진다. 기판 척(702), 밀봉 부재(722) 및 탄성 보호 벽(706)이 클리닝을 위하여 클리닝 용액 내로 잠긴다. 코터 챔버(701) 내의 포토레지스트가 클리닝 용액 내로 용해된 후에, 액체 출구 밸브(718)는 턴온되고, 코터 챔버(701) 및 배기 파이프(713) 내의 클리닝 용액이 액체 출구 파이프(717)를 통해 배출된다. 밀봉 부재(722) 내의 클리닝 용액이 배출 개구(741)로부터 배출된다.
도 7c에 도시된 바와 같이, 기판 척(702) 상에 기판(703)을 로딩하거나 기판 척(702)으로부터 기판(703)을 언로딩하기 위하여, 위치 센서(720A)가 수직 액추에이터(719)를 검출할 때까지 위로 이동하도록 기판 척(702)을 구동한다. 기판 척(702)은 코터 챔버(701) 밖으로 신장한다.
도 8을 참조하면, 도 8은 본 발명의 다른 예시적인 실시예에 따른 자동 클리닝 기능을 갖는 코터를 도시하는 단면도이다. 코터(600)와 비교하여, 차이는 스위치 밸브(814)의 위치 높이가 레벨 센서(807)의 위치 높이보다 더 낮다는 것이다. 이러한 상태에서, 스위치 밸브(814)의 조임 요건은 상대적으로 높아, 클리닝 용액이 스위치 밸브(814)를 지나 흐를 수 없다는 것을 보장한다.
본 발명에 따라, 코터 자동 클리닝 방법은,
코터의 액체 출구 밸브를 턴오프하는 단계;
클리닝 용액으로 코터 챔버를 채우는 단계; 및
코터 챔버 내의 포토레지스트가 클리닝 용액 내로 용해된 후에, 액체 출구 밸브를 턴온하여 클리닝 용액을 코터 챔버 밖으로 배출하는 단계
를 포함한다.
본 방법은, 클리닝 용액으로 코터 챔버를 채우는 단계 전에 코터의 배기 포트와 연결되는 배기 파이프 상에 설치된 스위치 밸브를 턴오프하는 단계를 더 포함한다.
본 발명의 전술한 설명은 예시 및 설명의 목적으로 제공되었다. 개시된 정확한 형태로 본 발명을 제한하거나 소진적인 것으로 의도되지 않고, 명확하게 많은 변경 및 수정이 전술한 내용의 견지에서 가능하다. 본 발명에 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명할 수 있는 이러한 변경 및 수정은 첨부된 특허청구범위에 의해 정의되는 바와 같은 본 발명의 범위 내에 포함되는 것으로 의도된다.

Claims (60)

  1. 클리닝 용액으로 채워질 수 있는 코터 챔버;
    기판을 유지하고 위치 설정하는 기판 척; 및
    포토레지스트가 상기 코터 챔버 밖으로 튀는 것을 방지하기 위하여 위로 이동하거나, 클리닝을 위하여 아래로 이동하여 상기 클리닝 용액 내에 잠길 수 있는 적어도 하나의 측판(shroud)
    을 포함하는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 코터 챔버는 클리닝 용액으로 채워지는 용액 트러프(trough)를 가지고, 상기 용액 트러프는 상기 코터 챔버의 측벽과, 상기 코터 챔버 내에 위치 설정된 보호 벽 사이에 형성되는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 보호 벽은 상기 포토레지스트로 코팅되는 것으로부터 상기 기판 척을 보호하기 위하여 상기 기판 척의 상면에 접근하도록 연장하는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 코터 챔버 내의 상기 클리닝 용액의 레벨을 검출하기 위하여 상기 코터 챔버 상에 설치된 레벨 센서를 더 포함하는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  5. 제1항에 있어서,
    적어도 2개의 구동 메커니즘을 더 포함하고, 모든 상기 구동 메커니즘은 지지 샤프트와 연결되고, 상기 측판은 상기 지지 샤프트의 상단부 상에 고정되고, 상기 구동 메커니즘은 위로 이동하거나 아래로 이동하도록 상기 지지 샤프트를 구동하여, 상기 포토레지스트가 상기 코터 챔버 밖으로 튀는 것을 방지하기 위하여 상기 측판이 위로 이동하게 하거나, 클리닝을 위하여 상기 측판이 위로 이동하여 상기 클리닝 용액 내로 잠기게 하는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  6. 제5항에 있어서,
    모든 상기 지지 샤프트는 벨로우즈(bellows) 내로 밀봉되는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 측판은, 클리닝을 위하여 상기 측판이 상기 클리닝 용액 내로 잠길 때 고속으로 진동하도록 구동되는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  8. 제2항에 있어서,
    상기 코터 챔버는, 상기 코터 챔버 밖으로 가스를 배출하기 위한 배기 포트를 더 포함하는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 배기 포트는 상기 용액 트러프에 연결되는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 배기 포트에 연결되는 배기 파이프와, 상기 배기 파이프 상에 설치된 스위치 밸브를 더 포함하는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  11. 제1항에 있어서,
    상기 코터 챔버에 상기 클리닝 용액을 공급하기 위하여 상기 코터 챔버에 연결되는 액체 입구 파이프, 상기 액체 입구 파이프 상에 설치된 액체 입구 밸브, 상기 코터 챔버 밖으로 상기 클리닝 용액을 배출하기 위하여 상기 코터 챔버에 연결된 액체 출구 파이프 및 상기 액체 출구 파이프 상에 설치된 액체 출구 밸브를 더 포함하는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  12. 제1항에 있어서,
    상기 기판 척은 진공 척(vacuum chuck) 또는 자기 서스펜션 척(magnetic suspension)인,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  13. 제1항에 있어서,
    상기 기판 척은, 상기 기판 척을 회전 구동하기 위하여 사용되는 회전 액추에이터에 연결되는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  14. 제2항에 있어서,
    상기 용액 트러프 내의 액체 레벨의 높이는 상기 기판 척의 높이보다 더 낮은,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  15. 제1항에 있어서,
    상기 기판 척은 클리닝을 위하여 상기 클리닝 용액 내로 잠길 수 있는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  16. 제1항에 있어서,
    상기 기판 척과 연결되고, 위로 이동하거나 아래로 이동하도록 상기 기판 척을 구동하기 위하여 사용되는 수직 액추에이터를 더 포함하는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  17. 제16항에 있어서,
    상기 코터 챔버의 외부 하부에 수직으로 고정된 샤프트 상에 배치된 2개의 위치 센서를 더 포함하고, 상기 액추에이터는 상기 샤프트를 따라 이동하고, 포토레지스트를 코팅하기 위하여, 상기 수직 액추에이터는, 상기 샤프트의 상부에 위치된 상기 위치 센서가 상기 수직 액추에이터를 검출할 때까지, 상기 기판 척을 위로 이동하도록 구동하고, 코터 클리닝을 위하여, 상기 수직 액추에이터는, 상기 샤프트의 하부에 위치된 상기 위치 센서가 상기 수직 액추에이터를 검출할 때까지, 상기 기판 척을 아래로 이동하도록 구동하는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  18. 제16항에 있어서,
    상기 기판 척의 상면과 상기 기판 척의 하면에 각각 위치 설정된 2개의 자석과, 상기 코터 챔버 내에 위치 설정된 탄성 보호 벽을 더 포함하고, 대향하는 상기 2개의 자석의 표면의 극성은 동일하고, 상기 탄성 보호 벽의 일단은 상기 코터 챔버의 내부 하부와 연결되고 상기 탄성 보호 벽의 타단은 밀봉 부재와 연결되며, 상기 밀봉 부재는 상기 밀봉 부재의 하부에 정착된 밀봉 링과 상기 밀봉 부재의 상부에 정착된 자성체를 갖고, 상기 자성체는 상기 2개의 자석 사이에 위치되고, 상기 자성체의 양측의 극성은 대향하는 상기 2개의 자석의 표면의 극성과 동일한,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  19. 제18항에 있어서,
    상기 밀봉 부재의 하부에 형성된 배출 개구를 더 포함하는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  20. 제18항에 있어서,
    상기 코터 챔버 내에 위치 설정되고 상기 탄성 보호 벽에 의해 둘러싸이는 내력벽(bearing wall)을 더 포함하는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  21. 제18항에 있어서,
    상기 탄성 보호 벽은 벨로우즈인,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  22. 제18항에 있어서,
    포토레지스트를 코팅하기 위하여, 상기 수직 액추에이터는 위로 이동하도록 상기 기판 척을 구동하고, 상기 자성체는 상기 기판 척의 하면에 위치 설정된 상기 자석과 인접해 있어, 상기 밀봉 부재가 상기 기판 척을 따라 위로 이동하게 하고, 상기 기판 척이 공정 위치까지 위로 이동할 때, 상기 기판 척은 위로 이동하는 것을 정지하고 상기 자성체는 상기 2개의 자석 사이에 있고 상기 자성체와 상기 2개의 자석 사이의 자력의 작용 하에서 상기 2개의 자석과 접촉하지 않으며, 상기 기판 척도 상기 밀봉 링과 접촉하지 않는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  23. 제18항에 있어서,
    코터 클리닝을 위하여, 상기 수직 액추에이터는 아래로 이동하도록 상기 기판 척을 구동하고, 상기 기판 척의 하부는 밀봉을 위하여 상기 밀봉 링에 대하여 가압되고, 그 다음 상기 코터 챔버는 상기 클리닝 용액으로 채워지고, 상기 기판 척은 클리닝을 위하여 상기 클리닝 용액 내로 잠기는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  24. 제1항에 있어서,
    다른 측판을 더 포함하고, 상기 포토레지스트가 상기 코터 챔버 밖으로 튀는 것을 방지하기 위하여 상기 측판 중 하나가 위로 이동할 때, 상기 다른 측판이 상기 클리닝 용액 내로 잠기는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  25. 제24항에 있어서,
    2개의 상기 측판에 의해 상기 코터 챔버 위로 지지되는 챔버 커버를 더 포함하는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  26. 제25항에 있어서,
    2개의 상기 측판이 아래로 이동하여 상기 클리닝 용액 내로 잠길 때, 상기 코터 챔버는 아래로 이동하여 2개의 상기 측판과 함께 상기 클리닝 용액 내로 잠기는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  27. 제24항에 있어서,
    모든 상기 측판은 적어도 2개의 구동 메커니즘에 의해 지지되고, 모든 상기 구동 메커니즘은 지지 샤프트와 연결되고, 상기 측판은 상기 지지 샤프트의 상단부 상에 고정되고, 상기 구동 메커니즘은 위로 이동하거나 아래로 이동하도록 상기 지지 샤프트를 구동하여, 상기 포토레지스트가 상기 코터 챔버 밖으로 튀는 것을 방지하기 위하여 상기 측판이 위로 이동하게 하거나, 클리닝을 위하여 상기 기판이 아래로 이동하여 상기 클리닝 용액 내로 잠기게 하는,
    상기 측판이
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  28. 제27항에 있어서,
    모든 상기 지지 샤프트는 벨로우즈 내로 밀봉되는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  29. 제2항에 있어서,
    상기 용액 트러프는 분리 벽에 의해 2개의 개별 용액 트러프로 분할되고, 각각의 상기 용액 트러프는 측판을 수용하는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  30. 제29항에 있어서,
    모든 상기 개별 용액 트러프는 액체 입구 파이프와 액체 출구 파이프와 연결되고, 상기 액체 입구 파이프는 상기 클리닝 용액을 상기 용액 트러프에 공급하기 위하여 상기 용액 트러프에 연결되고, 액체 입구 밸브가 상기 액체 입구 파이프 상에 설치되고, 상기 액체 출구 파이프는 상기 클리닝 용액을 상기 용액 트러프 밖으로 배출하기 위하여 상기 용액 트러프에 연결되고, 액체 출구 밸브가 상기 액체 출구 파이프 상에 설치되는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  31. 제29항에 있어서,
    상기 2개의 개별 용액 트러프 내의 상기 클리닝 용액의 레벨을 검출하기 위한 2개의 레벨 센서를 더 포함하는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  32. 제1항에 있어서,
    상기 포토레지스트로 코팅되는 것으로부터 상기 기판 척을 보호하기 위하여 상기 기판 척 주위로 지지되는 차폐 플레이트를 더 포함하는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  33. 제32항에 있어서,
    상기 코터 챔버는 상기 차폐 플레이트를 클리닝하기 위하여 클리닝 용액으로 채워지는 용액 트러프를 갖는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  34. 제33항에 있어서,
    상기 용액 트러프 내의 상기 클리닝 용액의 레벨을 검출하기 위하여 사용되는 레벨 센서를 더 포함하는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  35. 제33항에 있어서,
    상기 클리닝 용액을 상기 용액 트러프에 공급하기 위하여 상기 용액 트러프에 연결된 액체 입구 파이프, 상기 액체 입구 파이프 상에 설치된 액체 입구 밸브, 상기 클리닝 용액을 상기 용액 트러프 밖으로 배출하기 위하여 상기 용액 트러프에 연결된 액체 출구 파이프 및 상기 액체 출구 파이프 상에 설치된 액체 출구 밸브를 더 포함하는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  36. 제33항에 있어서,
    상기 차폐 플레이트는 적어도 2개의 구동 메커니즘에 의해 상기 기판 척 주위로 지지되고, 모든 상기 구동 메커니즘은 상기 용액 트러프 내에 수직으로 배치된 지지 샤프트와 연결되고, 상기 차폐 플레이트는 상기 지지 샤프트의 상단부 상에 고정되고, 사이 구동 메커니즘은 위로 이동하거나 아래로 이동하도록 상기 지지 샤프트를 구동하여, 상기 차폐 플레이트가 상기 기판 척 주위로 위로 이동하게 하거나, 클리닝을 위하여 상기 차폐 플레이트가 상기 용액 트러프의 상기 클리닝 용액 내로 잠기게 하는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  37. 제36항에 있어서,
    상기 구동 메커니즘은, 상기 차폐 플레이트가 클리닝을 위하여 상기 클리닝 용액 내로 잠길 때 고속으로 진동하도록 상기 지지 샤프트를 구동하는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  38. 제36항에 있어서,
    모든 상기 지지 샤프트는 벨로우즈 내로 밀봉되는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  39. 클리닝 용액으로 채워질 수 있는 코터 챔버;
    기판을 유지하고 위치 설정하는 기판 척; 및
    위로 이동하거나 아래로 이동하도록 상기 기판 척을 구동하기 위하여, 상기 기판 척과 연결된 수직 액추에이터
    를 포함하는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  40. 제39항에 있어서,
    상기 코터 챔버의 외부 하부에 수직으로 고정된 샤프트 상에 배치된 2개의 위치 센서를 더 포함하고, 상기 수직 액추에이터는 상기 샤프트를 따라 이동하고, 상기 수직 액추에이터는 상기 샤프트를 따라 아래로 이동하여 상기 샤프트의 하부에 위치된 상기 위치 센서의 위치에서 정지하고, 상기 수직 액추에이터는 상기 샤프트를 따라 위로 이동하여 상기 샤프트의 상부에 위치된 다른 상기 위치 센서의 위치에서 정지하는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  41. 제39항에 있어서,
    상기 기판 척의 상면과 상기 기판 척의 하면에 각각 위치 설정된 2개의 자석과, 상기 코터 챔버 내에 위치 설정된 탄성 보호 벽, 상기 탄성 보호 벽의 상단부에 정착된 자성체를 더 포함하고, 대향하는 상기 2개의 자석의 표면의 극성은 동일하고, 상기 탄성 보호 벽의 하단부는 상기 코터 챔버의 내부 하부와 연결되고, 상기 자성체는 상기 2개의 자석 사이에 위치되고, 상기 자성체의 양측의 극성은 대향하는 상기 2개의 자석의 표면의 극성과 동일한,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  42. 제41항에 있어서,
    포토레지스트를 코팅하기 위하여, 상기 수직 액추에이터는 아래로 이동하도록 상기 기판 척을 구동하고, 상기 기판 척은 상기 코터 챔버 내에 수용되고, 상기 자성체는 상기 기판 척과 함께 이동하고, 상기 기판 척이 이동을 정지한 후에, 상기 자성체는 상기 2개의 자석 사이에 위치되어 상기 자성체와 상기 2개의 자석 사이의 자력의 작용 하에서 상기 2개의 자석과 접촉하지 않는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  43. 제41항에 있어서,
    코터 클리닝을 위하여, 상기 수직 액추에이터는 위로 이동하여 상기 코터 챔버 밖으로 신장하도록 상기 기판 척을 구동하고, 상기 자성체는 상기 기판 척의 하면에 위치 설정된 상기 자석과 인접하고, 상기 자성체는 상기 기판 척과 함께 위로 이동하는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  44. 제41항에 있어서,
    상기 코터 챔버 내에 위치 설정되고 상기 탄성 보호 벽을 둘러싸는 차폐 벽을 더 포함하고, 상기 차폐 벽의 상부는 상기 포토레지스트를 코팅할 때 상기 기판 척의 상면에 접근하도록 연장하는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  45. 제44항에 있어서,
    상기 차폐 벽의 하부는 상기 보호 벽과 상기 차폐 벽 사이의 공간 내의 상기 클리닝 용액이 배출되기 위한 갭을 정의하는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  46. 제39항에 있어서,
    상기 코터 챔버 내의 상기 클리닝 용액의 레벨을 검출하기 위하여 상기 코터 챔버 상에 설치된 레벨 센서를 더 포함하는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  47. 제39항에 있어서,
    상기 코터 챔버는 상기 코터 챔버 밖으로 가스를 배출하기 위한 배기 포트를 더 포함하는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  48. 제47항에 있어서,
    상기 배기 포트에 연결된 배기 파이프와, 상기 배기 파이프 상에 설치된 스위치 밸브를 더 포함하는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  49. 제39항에 있어서,
    상기 코터 챔버에 상기 클리닝 용액을 공급하기 위하여 상기 코터 챔버에 연결되는 액체 입구 파이프, 상기 액체 입구 파이프 상에 설치된 액체 입구 밸브, 상기 코터 챔버 밖으로 상기 클리닝 용액을 배출하기 위하여 상기 코터 챔버에 연결된 액체 출구 파이프 및 상기 액체 출구 파이프 상에 설치된 액체 출구 밸브를 더 포함하는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  50. 제39항에 있어서,
    상기 기판 척은 진공 척(vacuum chuck) 또는 자기 서스펜션 척(magnetic suspension)인,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  51. 제39항에 있어서,
    상기 기판 척은, 상기 기판 척을 회전 구동하기 위하여 사용되는 회전 액추에이터에 연결되는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  52. 제39항에 있어서,
    상기 기판 척의 상면과 상기 기판 척의 하면에 각각 위치 설정된 2개의 자석과, 상기 코터 챔버 내에 위치 설정된 탄성 보호 벽을 더 포함하고, 대향하는 상기 2개의 자석의 표면의 극성은 동일하고, 상기 탄성 보호 벽의 일단은 상기 코터 챔버의 내부 하부와 연결되고 상기 탄성 보호 벽의 타단은 밀봉 부재와 연결되며, 상기 밀봉 부재는 상기 밀봉 부재의 하부에 정착된 밀봉 링과 상기 밀봉 부재의 상부에 정착된 자성체를 갖고, 상기 자성체는 상기 2개의 자석 사이에 위치되고, 상기 자성체의 양측의 극성은 대향하는 상기 2개의 자석의 표면의 극성과 동일한,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  53. 제52항에 있어서,
    상기 밀봉 부재의 하부에 형성된 배출 개구를 더 포함하는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  54. 제52항에 있어서,
    상기 코터 챔버 내에 위치 설정되고 상기 탄성 보호 벽에 의해 둘러싸이는 내력벽(bearing wall)을 더 포함하는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  55. 제52항에 있어서,
    상기 탄성 보호 벽은 벨로우즈인,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  56. 제52항에 있어서,
    포토레지스트를 코팅하기 위하여, 상기 수직 액추에이터는 위로 이동하도록 상기 기판 척을 구동하고, 상기 기판 척은 상기 코터 챔버 내에 수용되고, 상기 자성체는 상기 2개의 자석 사이에 위치되어 상기 자성체와 상기 2개의 자석 사이의 자력의 작용 하에서 상기 2개의 자석과 접촉하지 않으며, 상기 기판 척도 상기 밀봉 링과 접촉하지 않는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  57. 제52항에 있어서,
    코터 클리닝을 위하여, 상기 수직 액추에이터는 아래로 이동하도록 상기 기판 척을 구동하고, 상기 기판 척의 하부는 밀봉을 위하여 상기 밀봉 링에 대하여 가압되고, 그 다음 상기 코터 챔버는 상기 클리닝 용액으로 채워지고, 상기 기판 척은 클리닝을 위하여 상기 클리닝 용액 내로 잠기는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  58. 제40항에 있어서,
    다른 위치 센서를 더 포함하고, 상기 수직 액추에이터는 상기 다른 위치 센서가 상기 수직 액추에이터를 검출할 때까지 위로 이동하도록 상기 기판 척을 구동하고, 상기 기판 척은 상기 기판 척 상에 상기 기판을 로딩하거나 상기 기판 척으로부터 상기 기판을 언로딩하기 위하여 상기 코터 챔버 밖으로 신장하는,
    자동 클리닝 기능을 갖는 코터.
  59. 코터의 액체 출구 밸브를 턴오프하는 단계;
    클리닝 용액으로 코터 챔버를 채우는 단계; 및
    상기 코터 챔버 내의 포토레지스트가 상기 클리닝 용액 내로 용해된 후에, 상기 액체 출구 밸브를 턴온하여 상기 클리닝 용액을 상기 코터 챔버 밖으로 배출하는 단계
    를 포함하는,
    코터 자동 클리닝 방법.
  60. 제59항에 있어서,
    상기 클리닝 용액으로 상기 코터 챔버를 채우는 단계 전에, 상기 코터의 배기 포트와 연결되는 배기 파이프 상에 설치된 스위치 밸브를 턴오프하는 단계를 더 포함하는,
    코터 자동 클리닝 방법.
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