KR20100013048A - 회수챔버 세척 방법 및 세척 모듈 - Google Patents

회수챔버 세척 방법 및 세척 모듈 Download PDF

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KR20100013048A
KR20100013048A KR1020080074548A KR20080074548A KR20100013048A KR 20100013048 A KR20100013048 A KR 20100013048A KR 1020080074548 A KR1020080074548 A KR 1020080074548A KR 20080074548 A KR20080074548 A KR 20080074548A KR 20100013048 A KR20100013048 A KR 20100013048A
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주식회사 케이씨텍
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Abstract

매엽식 세정 장비에서 회수챔버의 약액 회수부 내에 남아 있는 잔존 약액 또는 기타 오염물질을 제거하는 회수챔버 세척 방법 및 세척 모듈이 제시된다. 본 발명의 회수챔버 세척 방법은 회수챔버의 제1 약액 회수부와 수평면 상에 위치하도록 스핀척을 이송하는 단계, 노즐 어셈블리로부터 순수액을 분사하는 단계, 스핀척을 고속 회전시키는 단계, 스핀척의 회전을 멈추고 회수챔버의 제2 약액 회수부와 수평면 상에 위치하도록 스핀척을 이송하는 단계, 노즐 어셈블리로부터 순수액을 분사하는 단계 및 스핀척을 고속 회전시키는 단계를 포함하여, 회수챔버의 약액 회수부 내부를 세척한다. 본 발명의 회수챔버 세척 방법에 의하면, 약액 회수부 내의 잔존 약액이나 기타 오염물질을 간단하게 제거할 수 있어, 잔존 약액이나 기타 오염물질에 의한 기판의 불량을 방지할 수 있을 뿐만 아니라 회수챔버의 수명을 연장시킬 수 있는 장점이 있다. 또한, 별도의 장치를 추가하지 않고 기존의 매엽식 세정 장비만으로 회수챔버를 세척할 수 있기 때문에, 비용절감의 효과가 있다.
매엽식, 기판, 스핀척, 순수액, 고속 회전.

Description

회수챔버 세척 방법 및 세척 모듈 {Method and Module for Cleaning a Recovering Chamber}
본 발명은 매엽식 세정 장비의 회수챔버의 세척 방법에 관한 것으로, 구체적으로 노즐 어셈블리로부터 순수액을 분사하면서 스핀척을 고속 회전시킴으로써 회수챔버의 약액 회수부 내의 잔존 약액이나 기타 오염물질을 제거하는 방법에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체 소자는 기판을 이용하여 증착, 식각 공정 등을 반복 수행함으로써 제조될 수 있다. 이러한 공정들을 거치는 동안 기판 상에는 각종 파티클, 금속 불순물, 유기 불순물 등과 같은 오염 물질이 잔존할 수 있다. 오염 물질은 반도체 소자의 수율 및 신뢰성에 악영향을 미치기 때문에 반도체 제조 시에는 기판에 잔존하는 오염 물질을 제거하는 공정이 수행된다.
상기 공정을 위한 기판 처리 방식은 크게 건식 처리 방식 및 습식 처리 방식으로 구분될 수 있으며, 이 중에서 습식 처리 방식은 여러 가지 약액을 이용하는 방식으로서, 복수의 기판을 동시에 처리하는 배치식(batch type) 세정 장치와 낱장 단위로 기판을 처리하는 매엽식(single wafer type) 세정 장치로 구분된다.
최근에는 기판의 표면에 극히 높은 청정도가 요구됨에 따라 이를 만족시키기 위해 매엽식 세정 장치가 널리 사용되고 있다.
매엽식 세정 장치는 기판을 낱장 단위로 처리하는 방식으로서, 고속으로 회전시킨 기판 표면에 세정액을 분사함으로써, 기판의 회전에 의한 원심력과 세정액의 분사에 따른 압력을 이용하여 오염원을 제거하는 스핀 방식(spinning method)으로 세정이 진행된다.
통상적으로 매엽식 세정 장치는 기판을 고정시킨 상태로 회전하는 스핀척, 기판에 약액, 순수액 또는 건조가스 등을 공급하기 위한 노즐 어셈블리 및 기판 표면에서 비산하는 약액 또는 순수액 등을 회수하는 회수챔버를 포함한다. 회수된 약액 또는 순수액 등은 여과 등의 공정을 거쳐 기판 세정에 재사용된다.
한편, 회수챔버는 스핀척 둘레를 감싸고 있으며, 기판의 세정에 사용된 약액을 회수하는 약액 회수부 및 순수액을 회수하는 순수액 회수부를 포함하는 다단식 회수챔버가 주로 사용된다.
그런데, 기판의 세정을 수십 회 내지 수백 회 반복하다 보면, 약액 회수부의 내부에는 일부 약액이 기판의 세정에 재사용되지 못하고 남아 있는 경우가 발생할 수 있다. 또한, 외부로부터의 오염물질들이 약액 회수부 내에 침투하여 잔존하게 되는 경우가 발생할 수 있다.
이러한 잔존 약액이나 기타 오염물질들은 기판의 세정 시에 약액 회수부 내부로 들어오는 약액의 압력에 의해 역으로 다시 기판 상으로 공급될 수 있어, 기판의 세정 효율을 감소시킬 수 있는 요인으로 작용할 수 있다. 뿐만 아니라, 일부 약액은 부식성을 가질 수 있으며, 이러한 약액이 약액 회수부 내에 오랫동안 잔존하게 되면 회수챔버의 수명이 단축될 수 있는 문제점이 있다.
따라서, 본 발명의 목적은 매엽식 세정 장비의 회수챔버 내에 남아 있는 잔존 약액이나 기타 오염물질을 간단하고 효과적으로 제거할 수 있는 회수챔버 세척 방법 및 세척 모듈을 제공하는데 있다.
또한, 본 발명의 목적은 회수챔버 내의 잔존 약액이나 기타 오염물질을 효과적으로 제거하여 회수챔버의 수명을 연장시킬 수 있고 기판의 세정 불량을 줄일 수 있는 회수챔버 세척 방법 및 세척 모듈을 제공하는데 있다.
본 발명의 또 다른 목적은, 별도의 추가 장치를 구비하지 않고서 기존의 매엽식 세정 장비만으로 회수챔버를 세척할 수 있어서 비용절감의 효과가 있고 추가 장치로 인한 설치 공간의 제약이 없는 회수챔버 세척 방법 및 세척 모듈을 제공하는데 있다.
본 발명에 따른 회수챔버 세척 방법은 일반적인 매엽식 세정 장비에서 사용된다. 즉, 기판을 회전 가능하게 지지하는 스핀척, 상기 스핀척 상으로 약액 또는 순수액을 공급하는 노즐 어셈블리 및 상기 스핀척의 둘레에 배치되는 회수챔버를 포함하는 매엽식 세정 장비에 있어서, 상기 회수챔버의 약액 회수부와 수평면 상에 위치하도록 상기 스핀척을 이송하는 단계, 상기 노즐 어셈블리에서 상기 스핀척 상으로 세척액을 공급하는 단계, 및 상기 스핀척을 회전시켜 상기 세척액을 상기 약액 회수부로 비산시키는 단계를 포함하여, 스핀척의 회전으로 발생하는 원심 력에 의해 약액 회수부 내부로 향하는 고압의 세척액에 의해 약액 회수부 내부를 세척한다.
상기 회수챔버는 다단으로 구성될 수 있다. 즉, 회수챔버는 순수액 회수부뿐만 아니라 적어도 두 개 이상의 약액 회수부를 포함할 수 있다. 이 때, 상기 스핀척을 이송하는 단계, 상기 세척액을 공급하는 단계 및 상기 스핀척을 회전시키는 단계는 상기 약액 회수부 중 어느 하나에서 수행된 후, 순차적으로 다른 약액 회수부에서 수행될 수 있다.
바람직하게, 상기 세척액은 순수액일 수 있다.
상기 노즐 어셈블리는 상기 기판의 상부에 위치하는 상부 노즐 및 상기 스핀척의 내부에 위치하는 하부 노즐을 포함할 수 있으며, 상기 세척액을 공급하는 단계는 상기 상부 노즐 또는 상기 하부 노즐 중 적어도 어느 하나에서 세척액을 분사함으로써 이루어질 수 있다.
바람직하게, 상기 세척액을 공급하는 단계 및 상기 스핀척을 회전시키는 단계는 동시에 이루어짐으로써, 고압의 세척액이 균일하게 약액 회수부 내로 공급되도록 할 수 있다.
바람직하게 상기 스핀척을 회전시키는 단계는 스핀척의 고속 회전에 의해 이루어질 수 있으며, 이 때 스핀척의 회전 속도는 500 내지 3000 rpm인 것이 바람직하다.
또는, 상기 스핀척을 회전시키는 단계는 상기 스핀척을 50 rpm 이하로 저속 회전시키는 것에 의해 이루어질 수 있다.
본 발명에 따른 회수챔버 세척 방법은 기판의 세정 공정이 수십 회 내지 수백 회 반복된 후에 주기적으로 수행되는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명은 회수챔버의 약액 회수부를 세척하는 매엽식 세정장비의 세척 모듈을 제공한다. 본 발명에 따른 세척 모듈은 기판을 회전 가능하게 지지하는 스핀척, 상기 스핀척의 둘레에 배치되어 상기 기판의 세정에 사용된 약액을 회수하는 약액 회수부, 세척을 위한 정위치로 상기 스핀척을 이동시키는 이동유닛, 상기 이동유닛에 세척액을 공급하는 세척액 공급유닛, 및 상기 스핀척을 회전시키는 회전유닛을 포함하며, 상기 정위치에 위치한 상기 스핀척에 공급된 상기 세척액이 비산되어 상기 약액 회수부를 세척하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 매엽식 세정 장비의 회수챔버 세척 방법 및 세척 모듈에 의하면, 회수챔버 내에 남아 있는 잔존 약액이나 기타 오염물질을 간단하고 효과적으로 제거할 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명에 따른 매엽식 세정 장비의 회수챔버 세척 방법 및 세척 모듈에 의하면, 별도의 추가 장치를 구비하지 않고 기존의 매엽식 세정 장비만으로 회수챔버의 세척을 수행할 수 있으므로, 비용절감의 효과를 가질 뿐만 아니라 추가 장치의 설치로 인해 야기될 수 있는 설치 공간을 줄일 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명에 따른 매엽식 세정 장비의 회수챔버 세척 방법 및 세척 모듈에 의하면, 회수챔버의 약액 회수부 내에 남아 있을 수 있는 부식성이 있는 잔존 약액이나 기타 오염물질을 효율적으로 제거할 수 있어서, 회수챔버의 수명을 연장 시킬 수 있을 뿐만 아니라, 잔존 약액이나 기타 오염물질이 기판 상으로 역 침투해 갈 수 있는 가능성을 미연에 방지하여 기판의 세정 불량을 감소시킬 수 있는 효과가 있다.
이하 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명하지만, 본 발명이 실시예에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 참고로, 본 설명에서 동일한 번호는 실질적으로 동일한 요소를 지칭하며, 상기 규칙 하에서 다른 도면에 기재된 내용을 인용하여 설명할 수 있고, 당업자에게 자명하다고 판단되거나 반복되는 내용은 생략될 수 있다.
도 1은 본 발명의 회수챔버 세척 방법이 사용되는 일반적인 매엽식 세정 장비를 개략적으로 도시한 구성도이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 매엽식 세정 장비(100)는 기판(W)을 회전 가능하게 지지하는 스핀척(110), 상기 스핀척(110)을 둘러싸고 있는 세정챔버(140), 상기 세정챔버(140)의 내주면에 존재하여 기판(W)으로 분사된 세정제를 회수하는 회수챔버(120), 및 상기 스핀척(110) 상으로 약액이나 순수액을 공급하는 노즐 어셈블리(130)를 포함한다.
매엽식 세정 장비(100)에는 기판(W)을 스핀 방식으로 세정하기 위해 스핀척(110)을 회전시키는 회전구동부(116) 및, 스핀척(110)을 승하강 시키기 위한 승하강구동부(118)가 더 구비된다.
상기 세정챔버(140)는 기판(W)을 세정하기 위한 공간을 제공하고 기판(W) 상으로 분사되는 세정제의 비산을 방지하기 위한 것으로 낱장의 기판(W)이 수평하게 삽입되는 개구(111)를 가진다.
상기 세정챔버(140)내로 선택적으로 로딩(loading) 또는 언로딩(unloading)되는 기판(W)은 반도체 기판이 되는 실리콘 웨이퍼로 예시하나, 꼭 이를 한정하는 것은 아니다. 즉, 상기 기판(W)은 LCD(Liquid Crystal Display) 또는 PDP(Plasma Display Panel)와 같은 평판 디스플레이 장치용 유리기판이 채용될 수 있음은 당연하다.
회수챔버(120)는 일반적으로 다단식으로 구성된다. 구체적으로, 회수챔버(120)는, 예를 들어 제1 약액을 회수하는 제1 약액 회수부(122), 순수액을 회수하는 순수액 회수부(124), 및 제2 약액을 회수하는 제2 약액 회수부(126)를 포함한다. 본 실시예에서는 회수챔버(120)가 세 개의 회수부(122, 124, 126)를 포함하는 것으로 구성하였지만, 반드시 이에 한정되는 것은 아니고, 사용되는 약액의 종류나 수에 따라 회수부는 하나, 둘 또는 네 개 이상으로도 구성될 수 있다.
본 발명의 회수챔버(120) 세척 방법의 이해를 돕기 위해, 매엽식 세정 장비(100)에 의한 기판(W)의 세정을 위한 스핀척(110)의 작동에 대해 간단히 설명하면 다음과 같다.
우선, 스핀척(110)이 승강한 상태에서, 기판(W)은 스핀척(110) 상에 고정 지지된다. 예를 들어, 기판(W)이 제1 약액에 의한 세정 공정, 순수액에 의한 세정 공정 및 제2 약액에 의한 세정 공정을 거칠 경우, 스핀척(110)은 제1 약액 회수부(122)와 수평면 상에 위치하도록 하강한다. 이어서, 노즐 어셈블리(130)로부터 제1 약액이 공급됨과 동시에 스핀척(110)의 회전이 일어나게 되는데, 스핀척(110)의 회전에 의해 발생하는 원심력에 의해 기판(W) 상에 공급된 제1 약액은 스핀척(110)의 방사방향으로 퍼져 나가면서 기판(W)을 세정한다. 스핀척(110)을 벗어난 제1 약액은 제1 약액 회수부(122) 내로 회수된다.
다음으로, 스핀척(110)의 회전이 멈추고, 스핀척(110)은 승하강구동부(118)에 의해 순수액 회수부(124)와 수평면 상에 위치하도록 하강한다. 스핀척(110)의 하강이 멈추면, 노즐 어셈블리(130)로부터 순수액이 공급되면서 스핀척(110)이 회전구동부(116)에 의하여 회전하여 순수액에 의한 세정 공정이 진행된다.
순수액에 의한 세정이 완료되면, 스핀척(110)은 제2 약액 회수부(126)와 수평면 상에 위치하도록 하강하고, 앞선 세정 공정들과 마찬가지로 노즐 어셈블리(130)로부터 제2 약액이 공급됨과 동시에 스핀척(110)이 회전하면서 제2 약액에 의한 세정 공정이 진행된다.
이하에서는 매엽식 세정 장비(100)에서, 본 발명에 따른 회수챔버(120)의 세척 방법에 대해 설명한다.
도 2는 본 발명에 따른 회수챔버 세척 방법의 흐름도이며, 여기서는, 예를 들어 제1 약액 회수부(122)의 세척이 진행되고 이어서 제2 약액 회수부(126)의 세척이 진행되는 공정을 설명한다.
회수챔버(120)의 제1 약액 회수부(122)를 세척하기 위해, 스핀척(110)은 제1 약액 회수부(122)와 수평면 상에 위치하도록 승하강구동부(118)에 의해 승강 또는 하강한다(S210).
스핀척(110)이 제1 약액 회수부(122)와 동일 평면 상에 위치한 후, 노즐 어셈블리(130)가 스핀척(110)의 상부로 위치하게 되고, 노즐 어셈블리(130)로부터 순수액이 스핀척(110) 상으로 공급된다(S220).
이어서, 회전구동부(116)가 스핀척(110)에 회전력을 인가하게 되는데, 이 때 회전구동부(116)는 일반적인 순수액에 의한 세정 시 스핀척(110)이 회전하는 속도인 1500 내지 2000 스핀척(110)이가 500 내지 3,000 rpm의 회전 속도보다 더 큰 속도로를 갖도록 스핀척(110)이 고속 회전하도록 구동력을 인가한다. 이에 따라 스핀척(110)의 고속 회전에 의해 순수액은 스핀척(110)의 방사방향으로 빠른 속도로 퍼져 나가게 되고, 스핀척(110)을 이탈한 후에도 빠른 속도로 제1 약액 회수부(122)로 들어가기 때문에, 제1 약액 회수부(122) 내부에는 고압의 순수액이 가해진다. 고압의 순수액에 의해, 제1 약액 회수부(122) 내부에 남아있는 잔존 약액이나 기타 오염물질은 용이하게 제거된다(S230).
바람직하게, 본 발명에 따른 회수챔버(120) 세척을 위한 스핀척(110)의 고속 회전 속도는 500 내지 3000 rpm일 수 있다. 이러한 고속의 스핀척(110) 회전 속도에 의해 스핀척(110) 상으로 공급된 순수액은 충분한 속도와 압력을 가지고 제1 약액 회수부(122) 내부로 분사될 수 있다.
또한, 스핀척(110)을 50rpm이하로 저속 회전하여 스핀척(110)에 인접한 회수챔버(120)의 외벽으로 새정액이 분사되게 함으로써 세정챔버(140) 의 저면 및 회수챔버(120)의 외벽에 잔존하는 약액 또는 기타 오염물질을 세척할 수 있다.본 발 명에 따른
회수챔버 세척은 스핀척(110)을 50 rpm 이하로 저속회전 시킴으로써 수행될 수 있다. 스핀척(110)이 50 rpm 이하로 회전하게 되면, 스핀척(110) 상에 공급된 순수액은 회수챔버(120) 내부로 들어가지 않고 스핀척(110)에 인접한 회수챔버(120)의 외벽으로 분사된다. 이에 의해, 회수챔버(120)의 외벽에 잔존하는 약액이나 기타 오염물질의 세척이 이루어진다.
이와 같은 제1 약액 회수부(122) 내부의 세척이 진행되는 동안, 제1 약액 회수부(122) 및 세정챔버(140) 저면에로 모인 세척액인 즉, 순수액에는 순수액은 잔존 약액이나 기타 오염물질이을 포함하고 있다.된 상태이므로, 따라서, 이러한 순수액은 매엽식 세정 장비(100)의 외부로 배출된다. 즉, 제1 약액 회수부(122) 내에 모인 순수액은 재사용을 위해 회수되지 아니하며 재사용을 위한 별도의 여과 공정도 거치지 않는다.
제1 약액 회수부(122)의 내부 세척이 완료되면, 스핀척(110)의 회전이 멈추게 되고, 승하강구동부(118)는 스핀척(110)을 제2 약액 회수부(126)의 세척을 위해 하강한다.
제2 약액 회수부(126)의 세척 공정은 앞서 설명한 제1 약액 회수부(122)의 세척 공정과 동일하므로, 설명의 간략화를 위해 이에 대한 설명은 생략하기로 한다(S240, S250, S260).
또한, 본 발명에 따른 회수챔버(120) 세척 방법은 제1 및 제2 약액 회수부(122, 126)뿐만 아니라 순수액 회수부(124)에 대해서도 동일한 방식으로 수행될 수 있다. 즉, 순수액 회수부(124) 내에도 약액들이나 기타 오염물질이 침투할 수 있으므로, 본 발명에 따라 순수액을 공급 받음과 동시에 스핀척(110)을 고속 회전하여, 이들 잔존 약액이나 오염물질들을 용이하게 제거할 수 있다.
본 발명에 따른 회수챔버(120) 세척에 있어서, 노즐 어셈블리(130)로부터 순수액이 공급된 후에 스핀척(110)이 회전할 수도 있지만, 순수액의 공급과 동시에 스핀척(110)이 회전하는 것도 가능하다. 이에 의해, 노즐 어셈블리(130)로부터 스핀척(110)으로 공급되어 세척을 위해 약액 회수부(122, 126)로 들어가는 순수액이 일정하게 되어 약액 회수부(122, 126) 내부가 전체적으로 비교적 고르게 세척될 수 있다. 물론, 스핀척(110)이 회전하는 동안 노즐 어셈블리(130)로부터 순수액이 공급될 수도 있다.
또한, 노즐 어셈블리(130)가 기판(W)의 상부에 위치하는 상부 노즐 및 스핀척(210)의 내부에 위치하는 하부 노즐을 포함할 수 있다. 이 경우, 노즐 어셈블리(130)로부터 세척액인 순수액을 공급하는 단계(S220, S250)는 상부 노즐과 하부 노즐에서 순수액을 동시에 분사함으로써 이루어질 수 있다. 이 때, 하부 노즐로부터 분사되는 순수액이 약액 회수부(122, 126)로 효율적으로 안내되도록 하기 위하여, 스핀척(210) 상에 기판(W)을 고정시킨 채 본 발명의 회수챔버 세척 공정을 진행할 수 있다. 다시 말해서, 상부 노즐로부터의 순수액은 기판(W) 상부로 공급된 후 기판(W)의 방사 방향으로 방향을 전환하여 약액 회수부(122, 126) 내부로 분사되고, 하부 노즐로부터의 순수액은 기판(W)의 하부로 공급된 후 기판(W)의 방사 방향으로 방향을 전환하여 약액 회수부(122, 126) 내부로 분사된다.
물론, 하부 노즐에서만 순수액을 분사하여 스핀척(110)의 세척을 수행할 수도 있다. 구체적으로, 스핀척(110) 상에 기판(W)을 제거한 상태에서, 하부 노즐로부터 순수액을 분사함과 동시에 스핀척(110)을 회전시켜 순수액이 스핀척(110) 상부와 회수챔버(120)를 세척하도록 한다. 이 때, 하부 노즐로부터 분사되는 순수액의 압력은 기판(W) 세정시 분사되는 압력에 비해 낮게 설정하는 것이 바람직하다. 이렇게 하부 노즐로부터 공급된 순수액은 스핀척(110)의 중앙부에서부터 원심력에 의해 방사방향으로 퍼져 나가면서 스핀척(110)을 세척하고, 스핀척(110)을 벗어난 순수액은 회수챔버(120)를 세척한다.
본 발명에 따른 회수챔버(120) 세척 방법은 기판(W) 세정 공정이 수십 회 내지 수백 회 반복된 후에 주기적으로 한번씩 수행됨으로써, 기판(W) 세정 공정이 크게 방해 받지 않으면서 회수챔버(120)의 약액 회수부(122, 126) 내부가 세척되도록 하는 것이 바람직하다.
본 발명에 따른 회수챔버 세척 방법에 의하면, 회수챔버(120)의 약액 회수부(122, 126) 내부를 세척할 수 있을 뿐만 아니라, 스핀척(210) 상에 기판(W)을 배치하지 않은 상태로 본 공정을 수행하게 되면 스핀척(210)의 상부가 세척되는 효과도 동시에 누릴 수 있다.
이와 같은 본 발명의 기술은 상기 기판(W)의 세정 공정이 수십 회 내지 수백 회 반복된 후에 수행될 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만 해당 기술분야의 숙련된 당업자라면 하기의 청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영 역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
본 명세서 내에 포함되어 있음.
도 1은 본 발명의 회수챔버 세척 방법이 사용되는 일반적인 매엽식 세정 장비를 개략적으로 도시한 구성도이다;
도 2는 본 발명에 따른 회수챔버 세척 방법의 흐름도이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
100 : 매엽식 세정 장비 110 : 스핀척
111 : 개구 116 : 회전구동부
118 : 승하강구동부 120 : 회수챔버
122 : 제1 약액 회수부 124 : 순수액 회수부
126 : 제2 약액 회수부 130 : 노즐 어셈블리
140 : 세정챔버 W : 기판

Claims (10)

  1. 기판을 회전 가능하게 지지하는 스핀척, 상기 스핀척 상으로 약액 또는 순수액을 공급하는 노즐 어셈블리 및 상기 스핀척의 둘레에 배치되는 회수챔버를 포함하는 매엽식 세정 장비에 있어서,
    상기 회수챔버의 약액 회수부와 수평면 상에 위치하도록, 상기 스핀척을 이송하는 단계;
    상기 노즐 어셈블리에서 상기 스핀척 상으로 세척액을 공급하는 단계; 및
    상기 스핀척을 회전시켜 상기 세척액을 상기 약액 회수부로 비산시키는 단계;
    를 포함하여 상기 세척액으로 상기 약액 회수부를 세척하는 것을 특징으로 하는 매엽식 세정 장비의 회수챔버 세척 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 회수챔버는 적어도 두 개의 약액 회수부를 포함하며,
    상기 스핀척을 이송하는 단계, 상기 세척액을 공급하는 단계 및 상기 스핀척을 회전시키는 단계는 상기 약액 회수부 중 어느 하나에서 수행된 후, 순차적으로 다른 약액 회수부에서 수행되는 것을 특징으로 하는 회수챔버 세척 방법.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 세척액은 순수액인 것을 특징으로 하는 회수챔버 세척 방법.
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 노즐 어셈블리는 상기 기판의 상부에 위치하는 상부 노즐 및 상기 스핀척의 내부에 위치하는 하부 노즐을 포함하여,
    상기 세척액을 공급하는 단계는 상기 상부 노즐 또는 상기 하부 노즐 중 적어도 어느 하나에서 세척액을 분사함으로써 이루어지는 것을 특징으로 하는 회수챔버 세척 방법.
  5. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 세척액을 공급하는 단계 및 상기 스핀척을 회전시키는 단계는 동시에 이루어지는 것을 특징으로 하는 회수챔버 세척 방법.
  6. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 스핀척을 회전시키는 단계는 스핀척의 고속 회전에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 회수챔버 세척 방법.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 스핀척의 고속 회전은 상기 스핀척의 회전 속도가 500 내지3000 rpm으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 회수챔버 세척 방법.
  8. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 스핀척을 회전시키는 단계는 상기 스핀척을 50 rpm 이하로 저속 회전시키는 것에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 회수챔버 세척 방법.
  9. 제 1 항 또는 제 2 항에 따른 회수챔버 세척 방법은 상기 기판의 세정 공정이 수십 회 내지 수백 회 반복된 후에 수행되는 것을 특징으로 하는 회수챔버 세척 방법.
  10. 기판을 회전 가능하게 지지하는 스핀척;
    상기 스핀척의 둘레에 배치되어, 상기 기판의 세정에 사용된 약액을 회수하는 약액 회수부;
    세척을 위한 정위치로 상기 스핀척을 이동시키는 이동유닛;
    상기 이동유닛에 세척액을 공급하는 세척액 공급유닛; 및
    상기 스핀척을 회전시키는 회전유닛;
    을 포함하여, 상기 정위치에 위치한 상기 스핀척에 공급된 상기 세척액이 비산되어 상기 약액 회수부를 세척하는 것을 특징으로 하는 매엽식 세정장비의 회수챔버 세척 모듈.
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