KR20170029585A - 박리 컨트롤제, 이를 포함하는 실리콘 박리제 조성물, 박리 시트, 및 적층체 - Google Patents
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Abstract
실리콘계 점착제에 대해서도 충분한 박리성을 갖는 동시에, 경화물에 압력을 가해도 우수한 박리성을 나타내는 박리제 조성물로 하기 위한 박리 컨트롤제, 이를 포함하는 실리콘 박리제 조성물, 이의 경화물로 이루어진 경화층을 구비하는 박리 시트, 및 당해 박리 시트 및 점착층을 구비하는 적층체를 제공한다. 본 발명은, 1분자 중에 15 내지 29몰%의 불소 원자 함유 유기기를 갖고, 또한 하이드로실릴화 반응성 기를 함유하지 않는 오가노폴리실록산을 포함하는 박리 컨트롤제, 이를 포함하는 실리콘 박리제 조성물, 박리 시트, 및 적층체이다.
Description
본 발명은, 박리 컨트롤제 및 이를 포함하는 실리콘 박리제 조성물에 관한 것이다. 또한, 실리콘계 점착제를 비롯한 감압 접착제 등의 점착성 물질에 대해, 프레스 처리 후에도 경박리(輕剝離)인 것을 특징으로 하는 박리제 조성물, 이를 경화시켜서 이루어진 경화층을 포함하는 박리 시트, 및 적층체에 관한 것이다.
박리제 조성물은 종이, 합성 수지 필름, 합성 섬유, 또는 천 등의 각종 기재 표면 위에 도포되고, 경화되어 경화층을 형성함으로써, 감압성 접착제 등의 점착성 물질에 대해 박리성을 갖는 피막을 형성할 수 있다. 이러한 박리제 조성물로서, 불소 원자 함유 실록산 단위를 갖는 오가노폴리실록산을 포함하는 것이 알려져 있다.
예를 들어, 말단이 트리메틸실록시기로 봉쇄된 메틸 수소 폴리실록산과, 말단이 디메틸비닐실록시기로 봉쇄된 메틸비닐폴리실록산과, 퍼플루오로알킬기를 갖는 화합물을 포함하는 이형용 실리콘 조성물이 제안되어 있다(일본 특허공보 특공소63-48901호). 또한, 마찬가지로 플루오로알킬기와 비닐기를 갖는 플루오로실리콘 중합체를 포함하는 도공(塗工) 조성물도 제안되어 있다(일본 공개특허공보 특개소63-320호).
또한, 알케닐기를 포함하지 않는 플루오로실리콘 중합체를 포함하는 박리제 조성물로서, 1분자 중에 적어도 1개의 불소 원자 함유 유기기를 갖고, 또한 알케닐기 및 규소 원자 결합 수소 원자를 갖지 않는 오가노폴리실록산을 포함하는 실리콘 박리제 조성물이 제안되어 있다(일본 공개특허공보 특개평6-279681호).
그러나, 이들 종래의 박리제 조성물은, 유기 수지계 점착성 물질에 대한 경화 피막의 박리성은 우수하지만, 디메틸폴리실록산 또는 메틸페닐폴리실록산 등의 오가노폴리실록산을 주성분으로 하는 실리콘계 점착제에 대한 박리성이 떨어진다는 문제가 있었다. 그 결과, 용도에 따라서는 실리콘계 점착제에 대한 박리성이 불충분해지는 경우가 있었다.
또한, 박리제 조성물을 도포하고, 경화하여 장척의 박리 시트 및 적층체를 제조하는 경우, 통상, 장척의 박리 시트 등은 롤 형상으로 권취되고, 권취체의 상태로 운반 및 보관된다. 이때, 특히 권취체의 중심부에서 권압이 걸리는 것이 알려져 있지만, 이 권압이 걸림으로써, 점착성 물질에 대해 박리층이 중박리화(重剝離化)해 버리는 문제도 있었다 .
본 발명은, 상기 종래 기술의 과제를 해결하기 위해 이루어진 것이고, 실리콘계 점착제에 대해서도 충분한 박리성을 갖는 동시에, 경화물에 압력을 가해도 우수한 박리성을 나타내는 박리제 조성물로 하기 위한 박리 컨트롤제를 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명에 따른 박리 컨트롤제를 포함하는 실리콘 박리제 조성물, 이의 경화물로 이루어진 경화층을 구비하는 박리 시트, 및 당해 박리 시트 및 점착층을 구비하는 적층체를 제공하는 것도 본 발명의 목적이다.
본 발명자들은 상기 과제에 대해 예의 검토한 결과, 본 발명에 도달했다. 즉, 본 발명의 목적은, 1분자 중에 15 내지 29몰%의 불소 원자 함유 유기기를 갖고, 또한 하이드로실릴화 반응성 기를 함유하지 않는 오가노폴리실록산을 포함하는, 박리 컨트롤제에 의해 달성된다. 당해 하이드로실릴화 반응성 기는 대표적으로는, 알케닐기, 아크릴기 등의 탄소-탄소 이중 결합을 함유하는 유기기 또는 규소 원자 결합 수소 원자이지만, 본 발명에 따른 오가노폴리실록산은 하이드로실릴화 반응성 기로서, 알케닐기를 함유하지 않는 것이 특히 바람직하다.
상기 오가노폴리실록산의 분자쇄 말단 중 하나 이상은 트리메틸실릴기인 것이 바람직하다.
상기 불소 원자 함유 유기기는, CnF2n +1-R-, CnF2n +1-R-O-R-, 또는 F(CF(CF3)CF2O)nCF(CF3)-R-O-R-(상기 화학식 중, R은 각각 독립적으로 2가 탄화수소기이고, n은 1 내지 20의 정수임)로 표시되는 기인 것이 바람직하다.
상기 오가노폴리실록산의 중합도는 100 내지 10,000인 것이 바람직하다.
본 발명은,
(A) 1분자 중에, 적어도 1개의 불소 원자 함유 유기기와 적어도 2개의 알케닐기를 갖는 오가노폴리실록산,
(B) 1분자 중에 적어도 2개의 규소 원자 결합 수소 원자를 갖는 오가노 수소 폴리실록산,
(C) 본 발명의 박리 컨트롤제, 및
(D) 하이드로실릴화 반응 촉매
를 포함하는 실리콘 박리제 조성물에도 관한 것이다.
상기 (B) 성분의 함유량은, 상기 (A) 성분 100질량부에 대하여 0.1 내지 40질량부인 것이 바람직하다.
상기 (C) 성분의 함유량은, 상기 (A) 성분 100질량부에 대하여 0.01 내지 20질량부인 것이 바람직하다.
본 발명은, 상기 실리콘 박리제 조성물의 경화물로 이루어진 경화층, 및 시트상 기재를 구비하는 박리 시트에도 관한 것이다.
상기 시트상 기재는 종이, 플라스틱 필름 또는 천인 것이 바람직하다.
또한 본 발명은, 상기 박리 시트 및 점착층을 포함하는 적층체에도 관한 것이다.
본 발명에 의하면, 1분자 중에 15 내지 29몰%의 불소 원자 함유 유기기를 갖고, 또한 하이드로실릴화 반응성 기를 함유하지 않는 오가노폴리실록산을 포함하는 박리 컨트롤제를 사용함으로써, 실리콘계 점착제에 대해서도 박리성이 우수한 경화 피막을 형성할 수 있는 박리제 조성물을 제공할 수 있다. 또한, 장척의 박리 시트를 권취했을 때에도 박리성이 손상되지 않고, 프레스 처리 후에도 경박리이다.
또한, 본 발명의 박리 컨트롤제는, 접착력에 큰 영향을 주지 않고, 실리콘 박리제 조성물에 적합하게 배합할 수 있으며, 각종 기재 표면에 대하여 밀착성이 우수한 피막을 형성할 수 있다.
본 발명의 박리 컨트롤제는, 1분자 중에 15 내지 29몰%의 불소 원자 함유 유기기를 갖고, 또한 하이드로실릴화 반응성 기를 함유하지 않는 오가노폴리실록산을 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에서 불소 원자 함유 유기기의 함유량은, 오가노폴리실록산 분자를 구성하는 전체 실록산 단위 중, 불소 원자 함유 유기기를 갖는 실록산 단위의 비율로서 계산된다.
상기한 오가노폴리실록산의 불소 원자 함유 유기기의 함유량은, 15 내지 29몰%이고, 적합하게는, 16, 17, 18 또는 19몰% 이상이며, 28 또는 27몰% 이하이다. 특히 바람직하게는, 오가노폴리실록산의 불소 원자 함유 유기기의 함유량은 19 내지 27몰%의 범위이다. 한편, 1분자 중의 불소 원자 함유 유기기의 함유량이 상기 하한 미만 또는 상기 상한을 초과하면, 우수한 박리성을 수득할 수 없는 경우가 있다.
상기한 오가노폴리실록산은, 불소 원자 함유 유기기의 함유량에 더해, 분자 중에 하이드로실릴화 반응성 기를 함유하지 않는 것을 특징으로 한다. 오가노폴리실록산이 하이드로실릴화 반응성 기를 함유하는 경우, 특히 하이드로실릴화 반응에 의해 경화하는 실리콘 박리제 조성물에 있어서, 당해 오가노폴리실록산이 박리성을 갖는 실리콘 경화물 내에서, 가교제 또는 주제(主劑)와의 공유 결합을 형성하기 쉬워지고, 박리 컨트롤제로서, 우수한 박리성이 실현될 수 없는 경우가 있다.
상기한 하이드로실릴화 반응성 기는, 백금계 금속 촉매 등의 하이드로실릴화 반응 촉매의 존재 하에 탄소-탄소 이중 결합과 규소 원자 결합 수소 원자 사이의 부가 반응에 관여할 수 있는 반응성 관능기이고, 예를 들면, 탄소 원자수 2 내지 20의 알케닐기, 아크릴기 또는 메타크릴기 등의 탄소-탄소 이중 결합을 적어도 일부에 갖는 유기기 또는 규소 원자 결합 수소 원자이다. 특히, 상기한 오가노폴리실록산은, 분자 내에 알케닐기 또는 규소 원자 결합 수소 원자를 갖지 않는 것이 바람직하고, 알케닐기를 갖지 않는 것이 특히 바람직하다. 상기한 오가노폴리실록산에 있어서, 하이드로실릴화 반응성 기가 특히 분자 말단에 잔존하고 있으면, 박리 컨트롤제로서 사용한 경우, 경박리를 달성할 수 없는 경우가 있다. 특히, 상기한 오가노폴리실록산의 분자 말단에 비닐기 등의 알케닐기가 존재하면, 불소 원자 함유 유기기의 함유량이 상기 범위에 있어도, 수득된 박리 컨트롤제를 실리콘 박리제 조성물에 첨가한 경우의 경박리 특성이 손상되는 경우가 있다.
또한, 오가노폴리실록산의 분자쇄 말단은, 트리메틸실록시기 또는 실라놀기인 것이 바람직하고, 분자쇄 말단 중 하나 이상이 트리메틸실릴기인 것이 보다 바람직하다.
불소 원자 함유 유기기는, CnF2n +1-R-, CnF2n +1-R-O-R-, 또는 F(CF(CF3)CF2O)nCF(CF3)-R-O-R-(상기 화학식 중, R은 각각 독립적으로, 2가 탄화수소기이고, n은 1 내지 20의 정수임)로 표시되는 기인 것이 바람직하다.
2가 탄화수소기로서는, 메틸렌기, 에틸렌기, 메틸메틸렌기, 프로필렌기, 및 부틸렌기 등의 알킬렌기; 페닐렌기, 톨릴렌기, 및 크실렌기 등의 아릴렌기; 및 메틸페닐렌기 및 에틸페닐렌기 등의 알킬렌아릴렌기가 예시된다.
또한, 불소 원자 함유 유기기 이외의 규소 원자 결합 유기기는 하이드로실릴화 반응성 기를 함유하지 않는 관능기인 한, 특별히 한정되지 않고, 이러한 유기기로서, 구체적으로는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 및 부틸기 등의 알킬기; 페닐기, 톨릴기, 및 크실릴기 등의 아릴기; 및 벤질기 및 페네틸기 등의 아랄킬기 등의 1가 탄화수소기가 예시된다. 또한, 수산기나 알콕시기를 갖고 있어도 좋다.
오가노폴리실록산의 분자 구조는 특별히 한정되지 않고, 직쇄상, 환상, 수지상, 및 분기를 일부 갖는 직쇄상 중 어느 것이라도 좋고, 부분적으로 교차 결합을 갖는 것이라도 좋다. 또한, 점도도 특별히 한정되지 않고, 저점도의 액상 오가노폴리실록산부터 고점도의 검(gum)상 오가노폴리실록산까지 사용할 수 있다. 그러나, 특히 우수한 박리성을 갖는 점에서, 25℃에서의 점도는, JIS K7117-1에 준거하여, B형 점도계를 사용해서 측정하여, 100 내지 1,000,000mPa·s의 범위인 것이 바람직하다.
또한, 오가노폴리실록산의 중합도는 100 내지 10,000인 것이 바람직하고, 500 내지 5,000인 것이 보다 바람직하고, 800 내지 3,000인 것이 더욱 바람직하다.
이러한 오가노폴리실록산으로서 구체적으로는, 분자쇄 양 말단 트리메틸실록시기 봉쇄 메틸(3,3,3-트리플루오로프로필)폴리실록산, 분자쇄 양 말단 트리메틸실록시 봉쇄 메틸(3,3,3-트리플루오로프로필)실록산·디메틸실록산 공중합체, 분자쇄 양 말단 트리메틸실록시 봉쇄 메틸(퍼플루오로부틸에틸)실록산·디메틸실록산 공중합체, 분자쇄 양 말단 트리메틸실록시기 봉쇄 메틸(퍼플루오로헥실에틸)실록산·디메틸실록산 공중합체, 분자쇄 양 말단 실라놀기 봉쇄 메틸(3,3,3-트리플루오로프로필)실록산·디메틸실록산 공중합체, 분자쇄 양 말단 실라놀기 봉쇄 메틸(퍼플루오로부틸에틸)실록산·디메틸실록산 공중합체, 분자쇄 양 말단 실라놀기 봉쇄 메틸(퍼플루오로헥실에틸)실록산·디메틸실록산 공중합체, 및 분자쇄 편 말단이 실라놀로 봉쇄되고, 또 한쪽의 편 말단이 트리메틸실록시기로 봉쇄된 메틸(퍼플루오로부틸에틸)실록산·디메틸실록산 공중합체가 예시된다.
또한, 본 발명의 박리 컨트롤제에서는, 이들 오가노폴리실록산 중 1종을 단독으로, 또는 2종 이상을 혼합하여 사용하는 것도 가능하다.
본 발명은,
(A) 1분자 중에, 적어도 1개의 불소 원자 함유 유기기와 적어도 2개의 알케닐기를 갖는 오가노폴리실록산,
(B) 1분자 중에 적어도 2개의 규소 원자 결합 수소 원자를 갖는 오가노 수소 폴리실록산,
(C) 본 발명의 박리 컨트롤제, 및
(D) 하이드로실릴화 반응 촉매
를 포함하는 실리콘 박리제 조성물에도 관한 것이다.
(A) 성분은 실리콘 박리제 조성물의 주성분이고, 1분자 중에, 적어도 1개의 불소 원자 함유 유기기와 적어도 2개의 알케닐기를 갖는 오가노폴리실록산이다. 또한, 알케닐기는 하이드로실릴화 반응성 기이고, 본 발명에 따른 박리 컨트롤제((C) 성분)와는 구별되는 성분이다.
(A) 성분 중의 불소 원자 함유 유기기로서, 구체적으로는, CnF2n +1-R-, CnF2n +1-R-O-R-, 및 F(CF(CF3)CF2O)nCF(CF3)-R-O-R-(상기 화학식 중, R은 각각 독립적으로, 2가 탄화수소기이고, n은 1 내지 20의 정수임)로 표시되는 기를 들 수 있다.
(A) 성분은, 1분자 중에, 바람직하게는 10 내지 75몰%, 보다 바람직하게는 10 내지 50몰%의 불소 원자 함유 유기기를 가진다.
2가 탄화수소기로서는, 메틸렌기, 에틸렌기, 메틸메틸렌기, 프로필렌기, 및 부틸렌기 등의 알킬렌기; 페닐렌기, 톨릴렌기, 및 크실렌기 등의 아릴렌기; 및 메틸페닐렌기 및 에틸페닐렌기 등의 알킬렌아릴렌기가 예시된다.
또한, (A) 성분 중의 불소 원자 함유 유기기 및 알케닐기 이외의 규소 원자 결합 유기기는 특별히 한정되지 않고, 이러한 유기기로서, 구체적으로는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 및 부틸기 등의 알킬기; 페닐기, 톨릴기, 및 크실릴기 등의 아릴기; 및 벤질기 및 페네틸기 등의 아랄킬기 등의 1가 탄화수소기가 예시된다. 바람직하게는, 불소 원자 함유 유기기 및 알케닐기 이외의 규소 원자 결합 유기기는 메틸기 또는 페닐기이다. 또한, (A) 성분의 오가노폴리실록산은 소량의 수산기나 알콕시기를 갖고 있어도 좋다.
이러한 (A) 성분의 분자 구조는 특별히 한정되지 않고, 직쇄상, 환상, 수지상, 및 분기를 일부 갖는 직쇄상 중 어느 것이라도 좋고, 또한 부분적으로 교차 결합을 갖는 것이라도 좋다. 또한, 점도도 특별히 한정되지 않고, 저점도의 액상 오가노폴리실록산부터 고점도의 검상 오가노폴리실록산까지 사용할 수 있다. 특히, 박리성이 우수한 경화 피막을 형성할 수 있는 점에서, (A) 성분의 25℃에서의 점도는 JIS K7117-1에 준거하고, B형 점도계를 사용하여 측정하여, 100 내지 1,000,000mPa·s의 범위인 것이 바람직하다.
(A) 성분의 오가노폴리실록산으로서 구체적으로는, 분자쇄 양 말단 디메틸비닐실록시기 봉쇄 메틸(3,3,3-트리플루오로프로필)폴리실록산, 분자쇄 양 말단 디메틸비닐실록시 봉쇄(3,3,3-트리플루오로프로필)실록산·디메틸실록산 공중합체, 분자쇄 양 말단 디메틸비닐실록시 봉쇄(3,3,3-트리플루오로프로필)실록산·디메틸실록산·메틸비닐실록산 공중합체, 분자쇄 양 말단 디메틸비닐실록시 봉쇄(3,3,3-트리플루오로프로필)실록산·메틸비닐실록산 공중합체, 분자쇄 양 말단 디메틸비닐실록시기 봉쇄 메틸(퍼플루오로부틸에틸)실록산·디메틸실록산·메틸비닐실록산 공중합체, 분자쇄 양 말단 디메틸비닐실록시 봉쇄 메틸(퍼플루오로헥실에틸)실록산·디메틸실록산·메틸비닐실록산 공중합체, 분자쇄 양 말단 트리메틸디실록시 봉쇄(3,3,3-트리플루오로프로필)실록산·메틸비닐실록산 공중합체, 분자쇄 양 말단 트리메틸실록시기 봉쇄 메틸(퍼플루오로부틸에틸)실록산·디메틸실록산·메틸비닐실록산 공중합체, 분자쇄 양 말단 트리메틸실록시기 봉쇄 메틸(퍼플루오로헥실에틸)실록산·디메틸실록산·메틸비닐실록산 공중합체, 분자쇄 양 말단 디메틸비닐실록시기 봉쇄(퍼플루오로부틸에틸)실록산·디메틸실록산·메틸헥세닐실록산 공중합체, 분자쇄 양 말단 실라놀 봉쇄 메틸(3,3,3-트리플루오로프로필)실록산·메틸비닐실록산 공중합체, 분자쇄 양 말단 실라놀 봉쇄 메틸(3,3,3-트리플루오로프로필)실록산·디메틸실록산·메틸비닐실록산 공중합체, 분자쇄 양 말단 실라놀 봉쇄 메틸(퍼플루오로부틸에틸)실록산·디메틸실록산·메틸비닐실록산 공중합체, 분자쇄 양 말단 실라놀 봉쇄 메틸(퍼플루오로헥실에틸)실록산·디메틸실록산·메틸비닐실록산 공중합체, 및 분자쇄 편 말단이 실라놀기로 봉쇄되고, 한쪽의 말단이 트리메틸실록시기로 봉쇄된 메틸(퍼플루오로부틸에틸)실록산·디메틸실록산·메틸비닐실록산 공중합체가 예시된다.
(B) 성분은 본 발명의 조성물에서 가교제로서 작용하고, 1분자 중에 적어도 2개의 규소 원자 결합 수소 원자를 갖는 오가노 수소 폴리실록산이다. 또한, 규소 원자 결합 수소 원자는 하이드로실릴화 반응성 기이고, 본 발명에 따른 박리 컨트롤제((C) 성분)와는 구별되는 성분이다.
(B) 성분 중의 규소 원자 결합 수소 원자 이외의 규소 원자 결합 유기기는 특별히 한정되지 않고, 구체적으로는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 및 벤질기 등의 알킬기; 페닐기, 톨릴기, 및 크실릴기 등의 아릴기; 및 벤질기 및 페네틸기 등의 아랄킬기 등의 1가 탄화수소기가 예시된다.
또한, (B) 성분의 오가노 수소 폴리실록산은 불소 원자 함유 유기기를 갖고 있어도 좋고, 이러한 불소 원자 함유 유기기로서, 구체적으로는 CnF2n +1-R-, CnF2n+1-R-O-R-, 및 F(CF(CF3)CF2O)nCF(CF3)-R-O-R-(상기 화학식 중, R은 각각 독립적으로 2가 탄화수소기이고, n은 1 내지 20 정수임)로 표시되는 기를 들 수 있다.
2가 탄화수소기로서는, 메틸렌기, 에틸렌기, 메틸메틸렌기, 프로필렌기, 및 부틸렌기 등의 알킬렌기; 페닐렌기, 톨릴렌기, 및 크실렌기 등의 아릴렌기; 및 메틸페닐렌기 및 에틸페닐렌기 등의 알킬렌아릴렌기가 예시된다.
이러한 (B) 성분의 분자 구조는 특별히 한정되지 않고, 직쇄상, 환상, 수지상, 및 분기를 일부 갖는 직쇄상 중 어느 것이라도 좋고, 또한 부분적으로 교차 결합을 갖는 것이라도 좋다. 또한, 점도도 특별히 한정되지 않고, 취급의 용이성 및 가교제로서 적합하게 작용하는 점에서, 25℃에서의 점도는 JIS K7117-1에 준거하고, B형 점도계를 사용하여 측정하여, 1 내지 100,000mPa·s의 범위인 것이 바람직하다.
이러한 (B) 성분의 오가노 수소 폴리실록산으로서, 구체적으로는 분자쇄 양 말단 트리메틸 봉쇄 메틸 수소 폴리실록산, 분자쇄 양 말단 트리메틸실록시쇄 봉쇄 메틸 수소 실록산·메틸(3,3,3-트리플루오로프로필)실록산 공중합체, 분자쇄 양 말단 트리메틸실록시 봉쇄 디메틸실록산·메틸 수소 실록산 공중합체, 분자쇄 양 말단 디메틸 수소 실록시 봉쇄 메틸(퍼플루오로부틸에틸)실록산·메틸 수소 실록산 공중합체, 분자쇄 양 말단 트리메틸실록시기 봉쇄 메틸(퍼플루오로부틸에틸)실록산·디메틸실록산·메틸 수소 실록산 공중합체, 분자쇄 양 말단 트리메틸실록시기 봉쇄 메틸(퍼플루오로헥실에틸)실록산·메틸 수소 폴리실록산 공중합체, 및 메틸(퍼플루오로부틸에틸)실록산 단위와 디메틸 수소 실록산 단위와 SiO4 /2 단위로 이루어진 공중합체가 예시된다.
본 발명의 실리콘 박리제 조성물에서 (B) 성분의 함유량은, (A) 성분 100질량부에 대하여, 0.1 내지 40질량부, 바람직하게는 0.1 내지 20질량부의 범위이다. 이는 (B) 성분의 함유량이 (A) 성분 100질량부에 대하여 0.1질량부 미만에서는, 수득된 실리콘 박리제 조성물의 경화 피막 형성 속도가 현저하게 느려지기 때문이고, 또한, 이것이 40질량부를 초과하면, 수득된 경화 피막의 점착성 물질에 대한 경박리성이 실현될 수 없는 경우가 있기 때문이다.
(C) 성분은, 본 발명의 박리 컨트롤제이고, 실리콘 박리제 조성물을 경화하여 수득되는 피막에 우수한 박리성을 부여하기 위한 성분이다. (C) 성분 중의 불소 원자 함유 유기기의 함유량 및 이의 적합한 범위는 상기와 같다. (C) 성분의 함유량은 (A) 성분 100질량부에 대하여 0.01 내지 20질량부의 범위이고, 바람직하게는 1 내지 15질량부의 범위이다. (C) 성분의 함유량이 (A) 성분 100질량부에 대하여 0.01질량부 미만이면, 경화하여 수득되는 피막(박리성 경화 피막)의 점착성 물질에 대한 경박리성이 현저하게 저하되는 경우가 있다. 또한, (C) 성분의 함유량이 20질량부를 초과하면, 경화하여 수득되는 피막의 강도가 현저하게 저하되고, 또한 경화 피막으로부터 (C) 성분이 스며나오기 쉬워, 후술하는 잔류 접착률이 현저하게 저하되는 경우가 있다.
(D) 성분은, (A) 성분의 오가노폴리실록산과 (B) 성분의 오가노 수소 폴리실록산을 가교시키기 위한 촉매로서 작용하는 하이드로실릴화 반응 촉매이다.
(D) 성분의 하이드로실릴화 반응 촉매는 특별히 한정되지 않고, 구체적으로는 실리카 미분말 또는 탄소 분말 담체 위에 흡착시킨 미립자상 백금, 염화 백금산, 알코올 변성 염화 백금산, 염화 백금산의 올레핀 착체, 염화 백금산과 비닐실록산의 배위 화합물, 백금흑, 팔라듐, 및 로듐 촉매가 예시된다.
또한, 본 발명의 실리콘 박리제 조성물에서 (D) 성분의 함유량은 촉매량이고, (D) 성분으로서 백금계 촉매를 사용한 경우, 이 백금계 촉매에 포함되는 백금 금속량은, 실리콘 박리제 조성물 중에 질량 단위로 0.01 내지 1,000ppm의 범위 내가 되는 양인 것이 실용상 바람직하고, 특히 0.1 내지 500ppm의 범위 내가 되는 양인 것이 바람직하다.
본 발명의 실리콘 박리제 조성물은, 상기 (A) 성분 내지 (D) 성분을 포함하고, 이것들을 균일하게 혼합함으로써 조제할 수 있다. 본 발명의 실리콘 박리제 조성물을 조제하는 방법은 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, (A) 성분과 (B) 성분을 균일하게 혼합한 후, (C) 성분과 (D) 성분의 혼합물을 함유하는 방법, (A) 성분과 (B) 성분과 (C) 성분을 균일하게 혼합한 후, 이것에 (D) 성분을 배합하는 방법을 들 수 있다.
또한, 본 발명의 실리콘 박리제 조성물에는, 상기 (A) 성분 내지 (D) 성분 이외의 성분으로서, 필요에 따라 유기 용제를 사용할 수 있다. 유기 용제는, (A) 성분 내지 (C) 성분 중 어느 하나가 고점도인 경우, 그 성분을 균일하게 혼합할 수 있고, 또한 수득된 본 발명의 실리콘 박리제 조성물의 각종 기재에 대한 도포성을 향상시킬 수 있다.
본 발명의 실리콘 박리제 조성물에 배합할 수 있는 유기 용제는, (A) 성분 내지 (C) 성분을 균일하게 용해시킬 수 있는 것이라면 그 종류는 특별히 한정되지 않는다. 이러한 유기 용제로서 구체적으로는, 트리플루오로톨루엔 및 헥사플루오로크실렌 등의 방향족 탄화수소계 유기 용제; 헵탄, 헥산, 펜탄, 및 이소옥탄 등의 지방족 탄화수소계 유기 용제; 트리클로로에틸렌 및 퍼클로로에틸렌 등의 할로겐화 탄화수소계 유기 용제; 아세톤 및 메틸에틸케톤 등의 케톤계 유기 용제; 디에틸에테르 및 메틸부틸에테르 등의 에테르계 용제; 및 아세트산 메틸 및 아세트산 에틸 등의 에스테르계 유기 용제가 예시된다.
또한, 본 발명의 실리콘 박리제 조성물에는, (D) 성분의 촉매 활성을 억제하고, 실온에서의 조성물의 보존 안정성을 향상시키기 위한 임의의 성분으로서, 3-메틸-1-부틴-3-올, 3,5-디메틸-1-헥신-3-올, 3-메틸-1-펜텐-3-올, 또는 페닐부티놀 등의 알키닐알코올; 또는 3-메틸-3-펜텐-1-인, 3,5-디메틸-1-헥신-3-인, (테트라메틸비닐실록산) 환상체 또는 벤조트리아졸 등의 하이드로실릴화 반응 억제제를 소량 배합하는 것이 바람직하다.
본 발명의 실리콘 박리제 조성물은, 상기 (A) 내지 (D) 성분을 포함하고, 임의로 유기 용제 및 하이드로실릴화 반응 억제제를 포함해도 좋다. 본 발명의 실리콘 박리제 조성물은 기재에 대한 양호한 코팅 특성을 얻기 위해, 25℃에서의 점도가, JIS K7117-1에 준거하여, B형 점도계를 사용해서 측정하여, 100 내지 100,000mPa·s의 범위인 것이 바람직하다.
본 발명에 따른 경화성 오가노폴리실록산 조성물에는, 상기 각 성분 이외에 임의 성분을 첨가할 수 있다. 예를 들어, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란 등의 알콕시실란 화합물로 이루어진 접착 촉진제; 페놀계, 퀴논계, 아민계, 인계, 포스파이트계, 황계, 티오에테르계 등의 산화 방지제; 트리아졸계, 벤조페논계 등의 광안정제; 인산 에스테르계, 할로겐계, 인계, 안티몬계 등의 난연제; 양이온계 계면 활성제, 음이온계 계면 활성제, 비이온계 계면 활성제 등으로 이루어진 1종류 이상의 계면 활성제; 대전 방지제, 내열 제, 염료, 안료 등의 공지된 첨가제를 첨가할 수 있다.
본 발명의 실리콘 박리제 조성물은, 이를 종이, 플라스틱 필름, 또는 천 등의 각종 시트상 기재 표면에 도포하고, 그 후, 예를 들면 실온 또는 가열 온도 50 내지 200℃, 가열 시간 20 내지 300초의 조건 하에서 경화시킴으로써, 실리콘계 점착제를 비롯한 감압 접착제 등의 점착성 물질에 대해서는 박리성이 우수한 피막을, 종이, 플라스틱 필름, 또는 천 등의 각종 시트상 기재 표면에 대해서는 밀착성이 우수한 피막을 형성할 수 있다. 이러한 방법으로, 본 발명의 실리콘 박리제 조성물의 경화물로 이루어진 경화층, 및 시트상 기재를 구비하는 박리 시트를 작성할 수 있다.
시트상 기재로서는, 예를 들면, 일본 종이(和紙), 판지, 골판지, 클레이코트지, 폴리올레핀 라미네이트지, 특히 폴리에틸렌 라미네이트지, 및 합성지 등의 종이류; 폴리이미드, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌, 폴리 염화 비닐, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 및 나일론 등의 플라스틱 필름; 천연 섬유포, 합성 섬유포, 및 인공 피혁포 등의 천류; 유리솜, 및 금속박을 들 수 있다.
본 발명의 실리콘 박리제 조성물과 시트상 기재 표면 사이의 밀착성을 향상시키기 위해, 시트상 기재의 편면 또는 양면에, 산화법 또는 요철화법 등에 의한 표면 처리, 또는 프라이머 처리를 실시할 수 있다. 산화법으로서는 예를 들면, 코로나 방전 처리, 플라즈마 방전 처리, 크롬 산화 처리(습식), 화염 처리, 열풍 처리, 오존 처리, 및 자외선 조사 처리 등을 들 수 있다. 요철화법으로서는, 예를 들면 샌드 블라스트법 및 용사(溶射) 처리법 등을 들 수 있다. 이들 표면 처리법은 시트상 기재의 종류에 따라 적합한 방법을 선택할 수 있다. 또한, 본 발명의 실리콘 박리제 조성물을 유전체 세라믹층 성형 재료용 박리 필름, 특히 세라믹 그린 시트 성형용 박리 필름으로서 사용하는 경우에는, 이들 시트상 기재(필름)에 대전 방지 처리를 실시하고, 이것을 시트상 기재로서 사용하는 것도, 시트상 기재에 대한 세라믹 슬러리의 도공 불량 등의 발생의 방지에 유효하다.
시트상 기재의 두께는, 일반적으로 10 내지 300㎛이고, 바람직하게는 15 내지 200㎛이고, 특히 바람직하게는 20 내지 125㎛이다.
본 발명의 실리콘 박리제 조성물의 시트상 기재 위로의 도포 방법은, 공지된 임의의 방법을 사용하여 실시할 수 있으나, 예를 들면, 그라비아 코트법, 바 코트법, 스프레이 코트법, 스핀 코트법, 나이프 코트법, 롤 코트법, 또는 다이코트법 등을 사용할 수 있다.
본 발명의 실리콘 박리제 조성물을 시트상 기재 위에 도포하여 경화시키는 경우, 실리콘 박리제 조성물의 경화층의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 0.01 내지 10㎛인 것이 바람직하고, 0.01 내지 5㎛인 것이 더욱 바람직하다.
또한, 실리콘 박리제 조성물이 도포되어, 경화된 박리 시트는, 실리콘 박리제 조성물이 도포된 면과는 반대의 면에 실리콘계 점착제 등의 점착성 물질을 도포하여, 점착층과의 적층체로 할 수 있다.
상기한 적층체에 적용하는 점착성 물질은, 각종 점착제, 각종 접착제 등이고, 아크릴 수지계 점착제, 고무계 점착제, 실리콘계 점착제, 아크릴 수지계 접착제, 합성 고무계 접착제, 실리콘계 접착제, 에폭시 수지계 접착제, 및 폴리우레탄계 접착제가 예시된다. 또한 아스팔트, 떡과 같은 점착성 식품, 풀, 및 끈끈이가 예시된다. 특히, 실리콘계 점착제인 것이 바람직하다.
특히, 본 발명의 실리콘 박리제 조성물로 이루어진 경화층은, 다른 점착층에 대한 경박리 특성이 우수하므로, 점착층을 포함하는 적층체인 공정지(工程紙), 점착 물질 포장지, 점착 테이프, 접착 라벨, 보호 시트, 재박리형 밀착 시트, 및 유전체 세라믹층 성형 재료용 박리 필름(예를 들어, 세라믹 그린 시트 성형용 박리 필름) 등의 적층체에 대해 이형층으로서 사용할 수 있다. 구체적으로는, 본 발명의 실리콘 박리제 조성물을 사용함으로써, 시트상 기재의 적어도 한쪽 면에 본 발명의 실리콘 박리제 조성물을 가열 경화시켜서 이루어진 경화층(이형층 또는 박리층)을 구비한 시트상 기재에, 시트상 기재의 적어도 한쪽 면에 점착제층(또는 접착층)을 구비한 점착 시트를, 상기 경화층에 상기 점착제층이 접하도록 점착시켜 구성된 적층체를 수득할 수 있다. 본 발명의 실리콘 박리제 조성물로 이루어진 경화층과는 반대측의 시트상 기재 표면, 또는 시트상 기재와 본 발명의 실리콘 박리제 조성물로 이루어진 경화층 사이에는, 상기한 대전 방지층 외에, 기타 층을 임의 선택하여 형성해도 좋다.
본 발명의 조성물로 이루어진 경화층을 구비한 보호 시트 또는 재박리형 밀착 시트는, 금속판, 도장한 금속판, 알루미늄 샷시, 수지판, 화장 강판(化粧 鋼板), 염화 비닐 라미네이트 강판, 또는 유리판 등의 부재를 운반, 가공 또는 양생할 때 등에, 이들 부재 표면에 점착 보호하는 용도 등에 사용된다. 또한, 각종 액정 표시 패널(모니터 또는 디스플레이라고도 함)의 제조 공정, 편광판의 유통 과정, 자동차 등의 각종 기계용 수지 부재의 제조 공정 및 유통 과정, 식품 포장 등에서 사용되는 보호 시트로서 적합하게 사용할 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 조성물로 이루어진 경화층을 갖는 시트상 물품은, 액정 패널, 플라즈마 디스플레이, 편광판 및 위상차판 등의 광학 부품 또는 프린트 배선판, IC, 트랜지스터, 콘덴서 등의 전기·전자 부품의 표면을 보호하기 위한 표면 보호 필름으로서도 사용할 수 있고, 이 경우에는, 본 발명의 조성물에 공지된 대전 방지제를 첨가하는 것이 바람직하다.
마찬가지로, 시트상 기재와 그 위에 본 발명의 실리콘 박리제 조성물을 도공하여 경화시켜서 수득되는 경화층을 갖는 시트상 물품은, 유전체 세라믹층 성형 재료용 박리 필름, 특히 세라믹 그린 시트 성형용 박리 필름으로서 사용할 수 있다. 세라믹 그린 시트는, 본 발명의 세라믹 그린 시트 성형용 박리 필름의 위, 즉, 경화시킨 폴리오가노실록산 조성물의 면 측에 세라믹 슬러리를 도공하고, 그 슬러리를 건조시키는 공정을 포함하는 방법으로 작성할 수 있다.
실시예
이하, 본 발명을 실시예에 의해 상세히 설명하지만, 본 발명은 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 실시예에서, 부는 모두 질량부를 의미하고, Me는 메틸기를 나타내고, Vi는 비닐기를 나타내고, C4F9H4는 CH2CH2C4F9기를 나타낸다. 또한, 합성예에 나타낸 각 플루오로실리콘의 구조는, 29Si- 및 13C-NMR(니혼 덴시 가부시키가이샤 제조 JNM-ECA500)을 사용하여 동정(同定)했다.
실시예 및 비교예에서 박리제 조성물에 사용한 플루오로실리콘의 합성은, 이하의 방법에 따라 실시했다.
[합성예 1] 플루오로실리콘 1의 합성
반응기에 (MeC6F9H4SiO)3을 57.74부, (Me2SiO)4를 42.03부, (Me3SiO1 /2)2를 0.24부, 및 트리플루오로메탄설폰산을 0.017부 첨가하여 교반 혼합하고, 60℃에서 6시간 중합했다. 중합 후, 혼합물을 40℃로 냉각하고, 탄산수소나트륨을 5.6부 첨가하여 중화하고, 1시간 교반을 계속했다. 그 후, 교반을 정지하고, 반응물을 하룻밤 방치하여 실온으로 냉각했다. 냉각된 반응물을 여과하여 트리플루오로메탄설폰산과 탄산수소나트륨의 중화염을 제거하고, N2 플로우 하, 160℃, 풀 베큠(full vacuum)으로 2시간 스트리핑(stripping)을 실시했다. 그 결과, 이하의 평균 분자식을 갖는 플루오로실리콘을 수득했다.
(Me3SiO1 /2)0.86(HOMe2SiO1 /2)1.14(MeC6F9H4SiO)374(Me2SiO)1053
[합성예 2] 플루오로실리콘 2의 합성
반응기에 (MeC6F9H4SiO)3을 50.69부, (Me2SiO)4를 49.20부, (Me3SiO1 /2)2를 0.11부, 및 트리플루오로메탄설폰산을 0.017부 첨가하여 교반 혼합하고, 60℃에서 6시간 중합했다. 중합 후, 혼합물을 40℃로 냉각하고, 탄산수소나트륨을 5.6부 첨가하여 중화하고, 1시간 교반을 계속했다. 그 후, 교반을 정지하고, 반응물을 하룻밤 방치하여 실온으로 냉각했다. 냉각된 반응물을 여과하여 트리플루오로메탄설폰산과 탄산수소나트륨의 중화염을 제거하고, N2 플로우 하, 160℃, 풀 베큠으로 2시간 스트리핑을 실시했다. 그 결과, 이하의 평균 분자식을 갖는 플루오로실리콘을 수득했다.
(Me3SiO1 /2)1.25(HOMe2SiO1 /2)0.75(MeC6F9H4SiO)256(Me2SiO)992
[합성예 3] 플루오로실리콘 3의 합성
반응기에 (MeC6F9H4SiO)3을 63.79부, (Me2SiO)4를 36.11부, (Me3SiO1 /2)2를 0.09부, 및 트리플루오로메탄설폰산을 0.017부 첨가하여 교반 혼합하고, 60℃에서 6시간 중합했다. 중합 후, 혼합물을 40℃로 냉각하고, 탄산수소나트륨을 5.6부 첨가하여 중화하고, 1시간 교반을 계속했다. 그 후, 교반을 정지하고, 반응물을 하룻밤 방치하여 실온으로 냉각했다. 냉각된 반응물을 여과하여 트리플루오로메탄설폰산과 탄산수소나트륨의 중화염을 제거하고, N2 플로우 하, 160℃, 풀 베큠으로 2시간 스트리핑을 실시했다. 그 결과, 이하의 평균 분자식을 갖는 플루오로실리콘을 수득했다.
(Me3SiO1 /2)1.27(HOMe2SiO1 /2)0.73(MeC6F9H4SiO)619(Me2SiO)1379
[합성예 4] 플루오로실리콘 4의 합성
반응기에 (MeC6F9H4SiO)3을 37.01부, (Me2SiO)4를 62.86부, (Me3SiO1 /2)2를 0.13부, 및 트리플루오로메탄설폰산을 0.017부 첨가하여 교반 혼합하고, 60℃에서 6시간 중합했다. 중합 후, 혼합물을 40℃로 냉각하고, 탄산수소나트륨을 5.6부 첨가하여 중화하고, 1시간 교반을 계속했다. 그 후, 교반을 정지하고, 반응물을 하룻밤 방치하여 실온으로 냉각했다. 냉각된 반응물을 여과하여 트리플루오로메탄설폰산과 탄산수소나트륨의 중화염을 제거하고, N2 플로우 하, 160℃, 풀 베큠으로 2시간 스트리핑을 실시했다. 그 결과, 이하의 평균 분자식을 갖는 플루오로실리콘을 수득했다.
(Me3SiO1 /2)1.08(HOMe2SiO1 /2)0.92(MeC6F9H4SiO)210(Me2SiO)1326
[합성예 5] 플루오로실리콘 5의 합성
반응기에 (MeC6F9H4SiO)3을 57.74부, (Me2SiO)4를 42.03부, (ViMe2SiO1 /2)2를 0.24부, 및 트리플루오로메탄설폰산을 0.0017부 첨가하여 교반 혼합하고, 60℃에서 6시간 중합했다. 중합 후, 혼합물을 40℃로 냉각하고, 탄산수소나트륨을 5.6부 첨가하여 중화하고, 1시간 교반을 계속했다. 그 후, 교반을 정지하고, 반응물을 하룻밤 방치하여 실온으로 냉각했다. 냉각된 반응물을 여과하여 트리플루오로메탄설폰산과 탄산수소나트륨의 중화염을 제거하고, N2 플로우 하, 160℃, 풀 베큠으로 2시간 스트리핑을 실시했다. 그 결과, 이하의 평균 분자식을 갖는 플루오로실리콘을 수득했다.
(ViMe2SiO1 /2)1.65(HOMe2SiO1 /2)0.35(MeC6F9H4SiO)146(Me2SiO)439
실시예 및 비교예에서의 실리콘 점착제의 조제는, 이하의 방법에 따라 실시했다.
(실리콘 점착제 조제)
도레이·다우코닝사 제조 부가 경화형 실리콘 점착제 SD4580FC 100부에 톨루엔 50부를 첨가하여 희석하고, 추가로 가교제로서 도레이·다우코닝사 제조 BY24-741 CROSSLINKER 1부, 및 백금 촉매로서 도레이·다우코닝사 제조 NC-25 CATALYST 0.9부를 첨가하여, 충분히 교반했다.
실시예 및 비교예에서의 박리력 및 잔류 접착률의 측정은 이하의 방법에 따라 실시하고, 그 결과를 각 박리 컨트롤제의 불소 원자 함유 유기기 함유량과 함께, 표 1에 나타낸다.
(박리력의 측정)
실리콘 박리제 조성물을 메이어 바 #10를 사용하여 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지 필름의 기재 표면에 도공량이 약 1g/㎡이 되도록 도포하고, 150℃의 열풍 순환식 오븐 중에서 40초 가열하여 박리 시트를 작성했다.
이어서, 이 박리 시트 위에, 하기 1 내지 3 중 어느 하나의 조건으로 점착층을 형성하고, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지 필름과 접합하여 적층체를 작성했다. 이 적층체를 2.5㎝ 폭으로 절단하여 시험편을 작성하고, 인장 시험기를 사용하여, 실리콘 박리제 조성물이 도포된 쪽의 필름을 180°의 각도로 박리 속도 0.3m/분으로 박리하고, 박리에 필요한 힘[gf/in]을 측정했다.
(적층체 샘플 작성 조건 1)
150℃의 열풍 순환식 오븐에서 40초 가열하여 수득된 박리 시트를 오븐에서 꺼내고 나서 1일, 실온에 그대로 정치했다. 그 후, 박리제 도공면 위에, 점착제를 경화 후의 점착제의 도포 두께가 100㎛가 되도록 도포했다. 실온에서 150초 정치한 후, 180℃의 오븐 내에서 150초 경화시켰다. 수득된 점착 시트를 오븐에서 꺼내어, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지 필름에 2kgf의 핸드 롤러로 접합해서, 20g/㎠의 하중 하, 실온에서 30분 에이징했다.
(적층체 샘플 작성 조건 2)
150℃의 열풍 순환식 오븐에서 40초 가열하여 수득된 박리 시트를 오븐에서 꺼낸 후, 박리제 도공면 위에 점착제를 경화 후의 점착제의 도포 두께가 100㎛가 되도록 도포했다. 실온에서 150초 정치한 후, 180℃의 오븐 내에서 150초 경화시켰다. 수득된 점착 시트를 오븐에서 꺼내어, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지 필름에 2kgf 핸드 롤러로 접합해서, 100kg/㎠의 하중 하, 실온에서 1일 에이징했다.
(적층체 샘플 작성 조건 3)
150℃의 열풍 순환식 오븐에서 40초 가열하여 수득된 박리 시트를 오븐에서 꺼낸 후, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지 필름과 핸드 롤러를 사용하여 포개고, 100kg/㎠의 하중 하, 실온에서 1일 에이징했다. 그 후, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지 필름을 벗겨서, 박리 시트의 박리제 도포면 위에 점착제를 경화 후의 점착제의 도포 두께가 100㎛가 되도록 도포했다. 실온에서 150초 정치한 후, 180℃의 오븐 내에서 150초 경화시켰다. 수득된 점착 시트를 오븐에서 꺼내어, 새로이 다른 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지 필름에 2kgf 핸드 롤러로 접합해서, 20g/㎠의 하중 하, 실온에서 30분 에이징했다.
(잔류 접착률)
상기 평가용 적층체 샘플 작성 조건 1로 제작하고, 상기 박리 저항을 측정한 후의 시험편을 경면 스테인리스판에 2kg의 핸드 롤러를 사용하여 접합하고, 실온에서 30분 정치했다. 이어서, 이 시험편을 180°의 각도로 박리 속도 0.3m/분의 조건 하에서 박리하고, 박리에 필요한 힘(F1)[gf/in]을 측정했다.
또한 상기와는 별도로, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지 필름에 점착제를 경화 후의 점착제의 도포 두께가 100㎛가 되도록 도포했다. 도포물을 실온에서 150초 정치한 후, 180℃의 오븐 내에서 150초 경화시켰다. 그 후, 경화물을 실온에서 1일 방치한 후, 2.5㎝ 폭으로 절단하여 시험편을 제작했다. 이 시험편을 경면 스테인리스판에 2kg의 핸드 롤러를 사용하여 접합하고, 실온에서 30분 정치했다. 이어서, 이 시험편을 180°의 각도로 박리 속도 0.3m/분의 조건 하에서 박리하고, 박리에 필요한 힘(F2)[gf/in]을 측정했다. 잔류 접착률((F1)/(F2))×100[%]를 구했다.
[실시예 1] 실리콘 박리제 조성물의 조제
다우·코닝사 제조의 부가 경화형 실리콘 점착제용 박리제 Q2-7785 RELEASE COATING(불소 원자 함유 유기기와 2개 이상의 알케닐기를 갖는 오가노폴리실록산, 미량의 백금 촉매, 용제의 혼합물. 고형분 85%) 11.76부에 이소옥탄 88.24부를 첨가하여 희석하고, 추가로 가교제로서 다우·코닝사 제조의 7560 CROSSLINKER(트리메틸실록시 말단을 갖는 메틸(퍼플루오로부틸에틸)·메틸하이드로젠실록산 공중합체)를 0.4부 첨가했다. 박리 컨트롤제로서, 합성예 1에서 수득된 플루오로실리콘 1을 이소옥탄으로 고형분이 10%가 되도록 희석한 것을 조제하고, Q2-7785 RELEASE COATING 11.76부에 대해, 플루오로실리콘 1이 0.5부가 되도록 첨가하고 혼합하여, 실리콘 박리제 조성물을 조제했다.
[실시예 2]
박리 컨트롤제로서, 합성예 2에서 수득된 플루오로실리콘 2를 플루오로실리콘 1 대신에 첨가한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 실리콘 박리제 조성물을 조제했다.
[실시예 3]
박리 컨트롤제로서, 합성예 1에서 수득된 플루오로실리콘 1을 Q2-7785 RELEASE COATING 11.76부에 대해, 플루오로실리콘 1이 2.0부가 되도록 첨가한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 실리콘 박리제 조성물을 조제했다.
[비교예 1]
박리 컨트롤제로서, 합성예 3에서 수득된 플루오로실리콘 3을 플루오로실리콘 1 대신에 첨가한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 실리콘 박리제 조성물을 조제했다.
[비교예 2]
박리 컨트롤제로서, 합성예 4에서 수득된 플루오로실리콘 4를 플루오로실리콘 1 대신에 첨가한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 실리콘 박리제 조성물을 조제했다.
[비교예 3]
박리 컨트롤제로서, 합성예 5에서 수득된 플루오로실리콘 5(비닐기 함유량 0.04질량%)를 플루오로실리콘 1 대신에 첨가한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 실리콘 박리제 조성물을 조제했다.
[비교예 4]
박리 컨트롤제로서, 이하의 평균 분자식:
(ViMe2SiO1 /2)1(Me3SiO1 /2)1(MeC6F9H4SiO)36.2(Me2SiO)108.6
를 갖는 플루오로실리콘 6(비닐기 함유량 0.14질량%)을 플루오로실리콘 1 대신에 첨가한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 실리콘 박리제 조성물을 조제했다.
[비교예 5]
박리 컨트롤제에 상당하는 성분을 첨가하지 않은 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 실리콘 박리제 조성물을 조제했다.
표 1: 점착제에 대한 박리력 및 잔류 접착률
표 1에 나타낸 결과로부터, 박리 컨트롤제인 오가노폴리실록산의 불소 원자 함유 유기기의 함유량이 15 내지 29몰%의 범위 내이고, 알케닐기 및 규소 원자 결합 수소 원자를 갖지 않는(실시예 1 내지 실시예 3) 경우에는, 오가노폴리실록산의 불소 원자 함유 유기기의 함유량이 상기 범위 내에 없는(비교예 1 및 비교예 2) 경우에 비해, 조건 1 내지 3 중 어느 것에서도 경박리를 실현할 수 있었다. 한편, 분자 중에 반응성인 알케닐기를 갖는 오가노폴리실록산을 사용한 경우(비교예 3 및 비교예 4), 불소 원자 함유 유기기의 함유량이 15 내지 29몰%의 범위 내라도, 경박리를 실현하지 못했다. 또한, 비교예 5는, 박리 컨트롤제를 포함하지 않는 대조 실험이고, 본 발명에 따른 박리 컨트롤제(실시예 1 내지 실시예 3)는, 샘플 작성 조건 1 내지 3 중 어느 경우에서도 점착제에 대한 박리력이 현저히 저하되어 있는 것을 확인할 수 있었다.
본 발명의 박리 컨트롤제는 실리콘 박리제 조성물, 이의 경화물로 이루어진 경화층을 구비하는 박리 시트, 및, 당해 박리 시트 및 점착층을 구비하는 적층체에 적합하게 사용할 수 있다. 또한, 이의 우수한 특성에 의해, 실리콘계 점착제에 대해 프레스 처리 후에도 박리성이 우수한 경화 피막을 형성할 수 있다.
Claims (11)
1 분자 중에 15 내지 29몰%의 불소 원자 함유 유기기를 갖고, 또한 하이드로실릴화 반응성 기를 함유하지 않는 오가노폴리실록산을 포함하는, 박리 컨트롤제.
제1항에 있어서, 상기 하이드로실릴화 반응성 기가 알케닐기인, 박리 컨트롤제.
제1항에 있어서, 상기 오가노폴리실록산의 분자쇄 말단 중 하나 이상이 트리메틸실릴기인, 박리 컨트롤제.
제1항에 있어서, 상기 불소 원자 함유 유기기가, CnF2n +1-R-, CnF2n +1-R-O-R-, 또는 F(CF(CF3)CF2O)nCF(CF3)-R-O-R-(상기 화학식 중, R은 각각 독립적으로 2가 탄화수소기이고, n은 1 내지 20의 정수임)로 표시되는 기인, 박리 컨트롤제.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 오가노폴리실록산의 중합도가 100 내지 10,000인, 박리 컨트롤제.
(A) 1분자 중에, 적어도 1개의 불소 원자 함유 유기기와 적어도 2개의 알케닐기를 갖는 오가노폴리실록산,
(B) 1분자 중에 적어도 2개의 규소 원자 결합 수소 원자를 갖는 오가노 수소 폴리실록산,
(C) 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 박리 컨트롤제, 및,
(D) 하이드로실릴화 반응 촉매
를 포함하는, 실리콘 박리제 조성물.
(B) 1분자 중에 적어도 2개의 규소 원자 결합 수소 원자를 갖는 오가노 수소 폴리실록산,
(C) 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 박리 컨트롤제, 및,
(D) 하이드로실릴화 반응 촉매
를 포함하는, 실리콘 박리제 조성물.
제6항에 있어서, 상기 (B) 성분의 함유량이, 상기 (A) 성분 100질량부에 대하여 0.1 내지 40질량부인, 실리콘 박리제 조성물.
제6항 또는 제7항에 있어서, 상기 (C) 성분의 함유량이, 상기 (A) 성분 100질량부에 대하여 0.01 내지 20질량부인, 실리콘 박리제 조성물.
제6항 내지 제8항 중 어느 한 항에 기재된 실리콘 박리제 조성물의 경화물로 이루어진 경화층, 및 시트상 기재를 구비하는, 박리 시트.
제9항에 있어서, 상기 시트상 기재가 종이, 플라스틱 필름 또는 천인, 박리 시트.
제9항 또는 제10항에 기재된 박리 시트 및 점착층을 구비하는, 적층체.
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일본 공개특허공보 특개소63-320호 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR20180114313A (ko) * | 2017-04-10 | 2018-10-18 | 도레이첨단소재 주식회사 | 이형 필름 |
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