KR20160009603A - 산화 촉매, 배기 가스 처리 장치, 축열 연소 버너, 가스 중의 가연 성분을 산화하는 방법 및 가스 중의 질소산화물의 제거 방법 - Google Patents
산화 촉매, 배기 가스 처리 장치, 축열 연소 버너, 가스 중의 가연 성분을 산화하는 방법 및 가스 중의 질소산화물의 제거 방법 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명의 목적·과제는 금속 활성종의 담지량을 억제하면서 황산화물이나 수증기 등의 촉매 피독 물질을 포함하는 피처리 가스 중에 있어서 종래보다도 높은 공간 속도로 또한 저온에서 환경 오염 물질을 효율적으로 산화하는 것이 가능한 산화 촉매를 제공하는 것이다. 그리고, 본 발명에 따른 산화 촉매는 담체에 백금, 팔라듐, 로듐으로 이루어지는 군에서 선택되는 전이 원소 중 적어도 1종이 담지되어 있고, 당해 산화 촉매에 있어서의 세공 반경 2nm 이상 100nm 이하의 범위의 세공에 있어서, 상기 범위의 세공의 전체 표면적에 차지하는 세공 반경 10nm 이상의 세공의 표면적의 비율이 49% 초과이다.
Description
본 발명은 가스 중의 가연 성분을 산화시키는 산화 촉매, 가스 중의 가연 성분의 산화시에 발생하는 열을 이용하는 배기 가스 처리 장치, 축열 연소 버너, 가스 중의 가연 성분을 산화하는 방법, 및 질소산화물의 제거 방법에 관한 것으로, 특히 촉매의 피독 물질이 될 수 있는 수증기와 황산화물을 포함하는 가스에 대한, 산화 촉매, 배기 가스 처리 장치, 축열 연소 버너, 가스 중의 가연 성분을 산화하는 방법 및 가스 중의 질소산화물의 제거 방법에 관한 것이다.
환경 의식이 고조됨에 따라 배기 가스 중에 포함되는 일산화탄소나 메탄을 제거함으로써 환경 부하를 저감하는 프로세스의 개발이 진행되고 있다. 배기 가스 중에는, 일산화탄소 및 메탄은 연소 하한 미만의 농도만 포함되어 있어 산소를 포함하는 조건에서도 일산화탄소 및 메탄을 연소 제거하기가 어렵다. 즉, 일산화탄소 및 메탄은 배기 가스에 포함되는 미연소 성분이라고 말할 수 있다. 따라서, 산화 촉매를 이용하여 이들 미연소 성분을 촉매 연소함으로써, 일산화탄소 및 메탄은 효율적으로 이산화탄소 및 수증기에 변환되어 배기 가스 중으로부터 제거된다. 최근에는 촉매 연소에서 발생한 열을 회수함으로써 프로세스의 열효율을 높이는 방법이 검토되고 있고, 버너나 배기 가스 처리 프로세스의 효율화를 도모하는 방법도 보고되어 있다(예를 들어 다음의 특허문헌 1 및 특허문헌 2를 참조). 배기 가스 중의 미연소 성분에 대하여 촉매 연소 기술을 적용함으로써, 환경 부하 저감뿐만 아니라 저비용화를 달성할 수 있을 가능성이 있다.
배수 중에 포함되는 유기물을 분해 제거하는 경우에는 미생물을 이용한 생물학적 처리법이 이용되는 경우가 많지만, 산화 촉매를 이용하여 처리를 행하는 방법도 보고되어 있다(예를 들어 다음의 특허문헌 3을 참조). 그러나, 산화 촉매를 이용한 배수 처리 프로세스에서는 액체 상태의 물을 처리 대상으로 하는 사정상, 프로세스에서 도달하는 최고 온도가 기껏 230℃ 미만이어, 반응 중에 발생하는 촉매 담체의 열적 변화는 작다. 또한, 액체 상태의 물은 비열 및 밀도가 크고, 처리 공간 속도가 작은 점에서, 촉매 반응부의 온도가 설정 온도보다도 높아지는 것도 생각하기 어렵다. 이러한 사정으로부터 배수 처리 프로세스와 배기 가스 처리 프로세스는 상이한 촉매가 이용된다. 예를 들어 배수 처리용의 촉매는 제조시에 500℃ 이상의 높은 온도에서의 처리를 거치지 않는 경우가 많고, 배기 가스 중 미연소 성분의 연소에 이용한 경우에는 반응 중에 촉매의 성상이 변화하고, 강도의 저하나 촉매 활성의 저하가 발생할 우려가 있다. 이 때문에, 배수 처리용의 촉매를 그대로 배기 가스 중의 미연소 성분을 처리하는 프로세스에 적용하기는 어렵다. 그 밖의 프로세스에서 이용되는 촉매에 대해서도 대상으로 하는 반응이나 프로세스 조건에 따라 이용 가능한 촉매는 상이하고, 이들 촉매를 그대로 배기 가스 중 미연소 성분의 산화 연소에 적용하기는 어렵다.
가스 중에 포함되는 미량의 가연성 성분을 연소시킬 때에는 귀금속을 활성종에 포함하는 산화 촉매를 이용하는 것이 일반적이고, 각종 담체 상에 담지된 귀금속 미립자의 표면에서 반응이 진행하는 것이 알려져 있다. 여기서, 소결로 배기 가스로 대표되는 공장 배기 가스나 탈황이 불충분한 연료를 이용한 자동차·선박의 배기 가스 중에는 황산화물로 대표되는 다량의 촉매 피독 물질이 포함되어 있다. 귀금속 입자가 이러한 촉매 피독 물질에 의해 피복되는 것 등이 원인이 되어 산화 촉매가 급속하게 열화되거나 활성이 저감된다. 이러한 문제에 대응하기 위해서 반응 온도를 상승시키고, 담지시키는 귀금속의 양을 증대시키는 등과 같은 대응을 행하는 것이 일반적이다. 소결로 배기 가스에 관한 일산화탄소의 연소열을 이용한 탈질 프로세스 개발에 있어서도 마찬가지의 대책이 취해지고 있다(예를 들어 다음의 특허문헌 4를 참조).
이러한 사정으로부터 황산화물을 포함하는 피처리 가스 중에서 이용하는 산화 촉매에 대해서는 일정 이상의 표면적을 갖는 담체를 이용하여 1질량% 이상의 귀금속을 담지시키거나 공간 속도(단위 용적을 1시간당 통과하는 표준 상태 환산의 원료 용적임)를 50000 이하로 저감하거나 함으로써 대응하는 것이 일반적이다. 귀금속 담지량을 너무 증대하면 이산화유황의 삼산화유황에 대한 산화가 증대하는데, 이종 원소를 첨가함으로써 이러한 이산화유황의 산화를 억제하는 시도도 다수 행하여지고 있다(예를 들어 다음의 특허문헌 5 내지 특허문헌 7을 참조).
A. Luengnaruemitchai, M. Nimsuk, P. Naknam, S. Wongkasemjit, S. Osuwan, "A comparative study of synthesized and commercial A-type zeolite supported Pt catalysts for selective CO oxidation in H2-rich stream", Int. J. Hydrogen Energy, 33206-213(2008)
요네다 유키오편, 「촉매 공학 강좌/촉매 학회편; 4」, 치진서관, 1964년
이와모토 마사카즈 감수, 「촉매 제조 핸드북」 제8편, NTS, 2011
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K. Rutha, M. Hayesa, R. Burch, S. Tsubota, M. Haruta, "The effects of SO2 on the oxidation of CO and propane on supported Pt and Au catalysts", Applied Catalysis B: Environmental 24 (2000)L133-L138
다량의 황산화물이나 수증기 등을 포함하는 배기 가스 중에서는 산화 촉매의 활성이 크게 저하되는 것이 알려져 있고, 높은 활성을 나타내는 산화 촉매를 얻기 위해서는 반응 온도를 상승시키고, 활성 금속종의 담지량을 증대시키는 등과 같은 대책이 행하여지는 것이 일반적이다. 그러나, 이들 대책은 모두 비용을 크게 증대시키는 원인이 된다.
본 발명은 금속 활성종의 담지량을 억제하면서 황산화물이나 수증기 등의 촉매 피독 물질을 포함하는 피처리 가스 중에 있어서 산화 촉매의 활성 저하를 억제하고, 종래 기술보다도 높은 공간 속도 또한 저온에서 일산화탄소 등의 가연성 물질을 효율적으로 산화하는 것이 가능한 산화 촉매를 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 이러한 산화 촉매를 이용함으로써, 촉매 피독 물질을 포함하는 피처리 가스 중에 있어서 일산화탄소 등의 가연성 물질을 효율적으로 저온에서 산화하는 가스 중의 가연 성분을 산화하는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 이러한 산화 촉매가 충전되고, 가스 중의 가연 성분의 산화시에 발생하는 열을 이용하여 일산화탄소 등의 가연성 물질을 효율적으로 저온에서도 산화하는 것이 가능한 배기 가스 처리 장치 및 축열 연소 버너와, 이러한 산화 촉매를 이용한 효율적인 질소산화물의 제거 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명자는 상기 과제를 해결하기 위해서 활성 금속을 담지시키는 담체와, 활성 금속을 담지시킨 촉매에 대하여 비표면적·세공 분포·구성 원소·결정 구조에 착안하여 예의 연구를 행하였다.
그리고, 본 발명자는 담체 및 촉매의 세공 분포에 착안하여 세공 반경이 큰 세공의 비율이 높은 촉매를 제작함으로써, 황산화물로 대표되는 촉매 피독 물질을 포함하는 피처리 가스 중에 있어서 산화 촉매의 활성 저하를 억제시키는 방법을 알아내어 본 발명을 완성하였다.
구체적으로는 본 발명은 이하와 같은 것을 제공한다.
(1) 담체에 백금, 팔라듐, 로듐으로 이루어지는 군에서 선택되는 전이 원소 중 적어도 1종이 담지된 산화 촉매이고, 상기 산화 촉매에 있어서의 세공 반경 2nm 이상 100nm 이하의 범위의 세공에 있어서, 당해 범위의 세공의 전체 표면적에 차지하는 세공 반경 10nm 이상의 세공으로 형성되는 표면적의 비율이 49% 초과인, 산화 촉매.
(2) 담체에 백금, 팔라듐, 로듐으로 이루어지는 군에서 선택되는 전이 원소 중 적어도 1종이 담지된 가스 중의 가연 성분을 산화하는 산화 촉매로서, 상기 산화 촉매에 있어서의 세공 반경 2nm 이상 100nm 이하의 범위의 세공에 있어서, 당해 범위의 세공의 전체 표면적에 차지하는 세공 반경 10nm 이상의 세공으로 형성되는 표면적의 비율이 49% 초과인, 산화 촉매.
(3) 상기 범위의 세공 전체 표면적에서 차지하는 세공 반경 10nm 이상의 세공으로 형성되는 표면적의 비율이 60% 이상인 (1) 또는 (2)에 기재된 산화 촉매.
(4) 상기 범위의 세공의 전체 표면적에 차지하는 세공 반경 20nm 이상의 세공으로 형성되는 표면적의 비율이 20% 이상인 (1) 내지 (3) 중 어느 한 항에 기재된 산화 촉매.
(5) 상기 범위의 세공의 전체 표면적에 차지하는 세공 반경 20nm 이상의 세공으로 형성되는 표면적의 비율이 30% 이상인 (1) 내지 (4) 중 어느 한 항에 기재된 산화 촉매.
(6) 상기 범위의 세공의 전체 표면적에 차지하는 세공 반경 80nm 이상의 세공으로 형성되는 표면적의 비율이 2% 이상인 (1) 내지 (5) 중 어느 한 항에 기재된 산화 촉매.
(7) 비표면적이 20m2/g 이하인 (1) 내지 (6) 중 어느 한 항에 기재된 산화 촉매.
(8) 상기 산화 촉매에 담지되는 상기 전이 금속이 백금인 (1) 내지 (7) 중 어느 한 항에 기재된 산화 촉매.
(9) 상기 산화 촉매에 담지되는 상기 전이 원소의 비율이 당해 전이 원소의 금속 환산의 질량비의 합으로서 상기 산화 촉매의 전체 질량에 대하여 0.01% 이상 2.0% 이하인 (1) 내지 (8) 중 어느 한 항에 기재된 산화 촉매.
(10) 상기 산화 촉매의 담체가 융점 1300℃ 이상의 산화물 담체인 (1) 내지 (9) 중 어느 한 항에 기재된 산화 촉매.
(11) 상기 산화 촉매의 담체가 이산화티타늄 또는 산화지르코늄 중 어느 하나인 (1) 내지 (10) 중 어느 한 항에 기재된 산화 촉매.
(12) 상기 산화 촉매의 담체가 아나타제형 구조의 이산화티타늄인 (11)에 기재된 산화 촉매.
(13) 상기 이산화티타늄은 황산법으로 제조된 이산화티타늄인 (11) 또는 (12)에 기재된 산화 촉매.
(14) 촉매를 이용하여 피처리 가스 중에 포함되는 미연소 성분을 연소시키는 연소 촉매부를 구비하고, 상기 연소 촉매부에 (1) 내지 (13) 중 어느 한 항에 기재된 산화 촉매가 충전되어 있는 배기 가스 처리 장치.
(15) 상기 연소 촉매부의 전단에 설치되고, 상기 피처리 가스의 온도를 상승시키는 가스 가열부와, 상기 연소 촉매부의 후단에 설치되고, 상기 피처리 가스 중의 질소산화물을 제거하는 탈질부를 더 구비하는 (14)에 기재된 배기 가스 처리 장치.
(16) 상기 연소 촉매부의 전단에 설치되고, 상기 피처리 가스 중의 질소산화물을 제거하는 탈질부와, 상기 탈질부의 전단에 설치되고, 상기 피처리 가스의 온도를 상승시키는 가스 가열부를 더 구비하고, 상기 연소 촉매부에서 발생한 연소열이 상기 가스 가열부에 공급되는 상기 피처리 가스의 가열에 이용되는 (14)에 기재된 배기 가스 처리 장치.
(17) 연료 및 연소 공기의 혼합기를 분사하는 혼합기 분사부와, 축열체가 배치되어 있고, 피처리 가스를 유통시켜 현열을 축열체에 축열하고, 축열 후에 연소 공기를 유통시켜 축열한 열량으로 당해 연소 공기를 가열하는 축열부를 구비하고, 상기 축열부와 상기 혼합기 분사부의 사이에 설치된 연소 촉매부 또는 상기 축열부에는 (1) 내지 (13) 중 어느 한 항에 기재된 산화 촉매가 충전되어 있는 축열 연소 버너.
(18) (1) 내지 (13) 중 어느 한 항에 기재된 산화 촉매를 이용하여 수증기 및 황산화물을 포함하는 피처리 가스 중의 일산화탄소, 일산화질소, 메탄으로 이루어지는 군에서 선택되는 가연 성분을 산화하는 가스 중의 가연 성분을 산화하는 방법.
(19) 상기 피처리 가스와 상기 산화 촉매의 접촉하는 온도가 250℃ 이상 300℃ 미만인 (18)에 기재된 가스 중의 가연 성분을 산화하는 방법.
(20) 피처리 가스의 온도를 상승시키는 가스 가열부와, 피처리 가스 중의 질소산화물을 제거하는 탈질부를 갖는 가스 처리 프로세스를 이용하고, 질소산화물을 포함함과 함께 수증기와 황산화물과 가연성 가스를 포함하는 피처리 가스 중의 질소산화물을 제거하는 방법으로서, 상기 가스 가열부와 상기 탈질부의 사이에 (1) 내지 (13) 중 어느 한 항에 기재된 산화 촉매가 충전된 연소 촉매부를 배치하고, 당해 연소 촉매부에 상기 가스 가열부에서 가열된 상기 피처리 가스를 통과시켜 상기 피처리 가스 중의 가연 성분을 연소하고, 그 연소열에 의해 상기 피처리 가스의 온도를 더 상승시키는 가스 중의 질소산화물의 제거 방법.
(21) 상기 가스 가열부로서 열교환기와, 가스 가열 버너 또는 전열 히터를 이용하고, 상기 탈질부로부터 배출된 가스를 상기 열교환기의 고온 가스로서 사용하는 (20)에 기재된 가스 중의 질소산화물의 제거 방법.
(22) 상기 가스 가열부로서 열교환기와, 가스 가열 버너 또는 전열 히터를 이용하고, 상기 연소 촉매부의 위치를 상기 가스 가열부와 상기 탈질부의 사이로부터 상기 가스 가열부 및 상기 탈질부의 후단에 배치를 바꾸고, 상기 연소 촉매부로부터 배출된 가스를 상기 열교환기의 고온 가스로서 사용하는 (20)에 기재된 가스 중의 질소산화물의 제거 방법.
(23) 상기 피처리 가스가 철강 제조 프로세스에 있어서의 소결로의 배기 가스인 (20) 내지 (22) 중 어느 한 항에 기재된 가스 중의 질소산화물의 제거 방법.
이상 설명한 바와 같이 본 발명에 따르면, 황산화물을 포함하는 피처리 가스 중에 함유되는 일산화탄소, 일산화질소, 메탄을 종래 기술에 비하여 저온에서 산화시키는 것이 가능하고, 금속 활성종 담지량이 적은 경우에도 산화시키는 것이 가능한 촉매를 제공할 수 있다. 또한, 이러한 산화 촉매를 이용하여 가스 중의 가연 성분의 산화시에 발생하는 열을 이용한 배기 가스 처리 장치와, 효율적으로 피처리 가스 중의 일산화탄소, 일산화질소, 메탄을 산화시킬 수 있는 방법을 제공할 수 있음과 함께, 이러한 산화 촉매를 제조하는 방법을 제공할 수 있다.
도 1은 배기 가스 탈질법에 있어서의 처리 프로세스의 유로를 도시한 설명도이다.
도 2는 배기 가스 탈질법에 있어서의 처리 프로세스의 유로를 도시한 설명도이다.
도 3은 배기 가스 처리 프로세스를 포함하는 축열 연소 버너의 프로세스 유로를 도시한 설명도이다.
도 4a는 Dollimore-Heal법(DH법)으로 계산한 발명예의 면적 분포 표시에서의 세공 분포와 그 누적값을 나타내는 그래프이다.
도 4b는 DH법으로 계산한 발명예의 면적 분포 표시에서의 세공 분포와 그 누적값을 나타내는 그래프이다.
도 4c는 DH법으로 계산한 발명예의 면적 분포 표시에서의 세공 분포와 그 누적값을 나타내는 그래프이다.
도 5a는 DH법으로 계산한 비교예의 면적 분포 표시에서의 세공 분포와 그 누적값을 나타내는 그래프이다.
도 5b는 DH법으로 계산한 비교예의 면적 분포 표시에서의 세공 분포와 그 누적값을 나타내는 그래프이다.
도 5c는 DH법으로 계산한 비교예의 면적 분포 표시에서의 세공 분포와 그 누적값을 나타내는 그래프이다.
도 6a는 시험예 1의 결과를 나타내는 도면으로서, 반응 시간과 일산화탄소 전화율의 관계를 나타내는 그래프이다.
도 6b는 시험예 1의 결과를 나타내는 도면으로서, 반응 시간과 일산화탄소 전화율의 관계를 나타내는 그래프이다.
도 6c는 시험예 1의 결과를 나타내는 도면으로서, 반응 시간과 일산화탄소 전화율의 관계를 나타내는 그래프이다.
도 6d는 시험예 1의 결과를 나타내는 도면으로서, 반응 시간과 일산화탄소 전화율의 관계를 나타내는 그래프이다.
도 7은 시험예 2의 결과를 나타내는 도면으로서, 반응 온도와 일산화탄소 전화율의 관계를 나타내는 그래프이다.
도 8은 시험예 4의 결과를 나타내는 도면으로서, 반응 시간과 일산화탄소 전화율의 관계를 나타내는 그래프이다.
도 9a는 시험예 5의 결과를 나타내는 도면으로서, 반응 시간과 일산화탄소 전화율의 관계를 나타내는 그래프이다.
도 9b는 시험예 5의 결과를 나타내는 도면으로서, 반응 시간과 일산화탄소 전화율의 관계를 나타내는 그래프이다.
도 9c는 시험예 5의 결과를 나타내는 도면으로서, 반응 시간과 일산화탄소 전화율의 관계를 나타내는 그래프이다.
도 2는 배기 가스 탈질법에 있어서의 처리 프로세스의 유로를 도시한 설명도이다.
도 3은 배기 가스 처리 프로세스를 포함하는 축열 연소 버너의 프로세스 유로를 도시한 설명도이다.
도 4a는 Dollimore-Heal법(DH법)으로 계산한 발명예의 면적 분포 표시에서의 세공 분포와 그 누적값을 나타내는 그래프이다.
도 4b는 DH법으로 계산한 발명예의 면적 분포 표시에서의 세공 분포와 그 누적값을 나타내는 그래프이다.
도 4c는 DH법으로 계산한 발명예의 면적 분포 표시에서의 세공 분포와 그 누적값을 나타내는 그래프이다.
도 5a는 DH법으로 계산한 비교예의 면적 분포 표시에서의 세공 분포와 그 누적값을 나타내는 그래프이다.
도 5b는 DH법으로 계산한 비교예의 면적 분포 표시에서의 세공 분포와 그 누적값을 나타내는 그래프이다.
도 5c는 DH법으로 계산한 비교예의 면적 분포 표시에서의 세공 분포와 그 누적값을 나타내는 그래프이다.
도 6a는 시험예 1의 결과를 나타내는 도면으로서, 반응 시간과 일산화탄소 전화율의 관계를 나타내는 그래프이다.
도 6b는 시험예 1의 결과를 나타내는 도면으로서, 반응 시간과 일산화탄소 전화율의 관계를 나타내는 그래프이다.
도 6c는 시험예 1의 결과를 나타내는 도면으로서, 반응 시간과 일산화탄소 전화율의 관계를 나타내는 그래프이다.
도 6d는 시험예 1의 결과를 나타내는 도면으로서, 반응 시간과 일산화탄소 전화율의 관계를 나타내는 그래프이다.
도 7은 시험예 2의 결과를 나타내는 도면으로서, 반응 온도와 일산화탄소 전화율의 관계를 나타내는 그래프이다.
도 8은 시험예 4의 결과를 나타내는 도면으로서, 반응 시간과 일산화탄소 전화율의 관계를 나타내는 그래프이다.
도 9a는 시험예 5의 결과를 나타내는 도면으로서, 반응 시간과 일산화탄소 전화율의 관계를 나타내는 그래프이다.
도 9b는 시험예 5의 결과를 나타내는 도면으로서, 반응 시간과 일산화탄소 전화율의 관계를 나타내는 그래프이다.
도 9c는 시험예 5의 결과를 나타내는 도면으로서, 반응 시간과 일산화탄소 전화율의 관계를 나타내는 그래프이다.
이하에 첨부 도면을 참조하면서 본 발명의 적합한 실시 형태에 대하여 상세하게 설명한다. 또한, 본 명세서 및 도면에 있어서 실질적으로 동일한 기능 구성을 갖는 구성 요소에 대해서는 동일한 번호를 부여함으로써 중복 설명을 생략한다.
(본 발명자에 의한 검토에 대하여)
소결로로부터의 배기 가스나 버너로부터의 배기 가스로 대표되는 공장 배기 가스 중에는 이산화유황, 삼산화유황으로 대표되는 황산화물 외에 다량의 수증기가 포함되어 있다. 산화 촉매를 이용하여 이들 배기 가스에 포함되는 가연 물질을 연소시킬 때에는 이산화유황이 산화되어 삼산화유황의 양이 증대하고, 농황산이 생성된다. 삼산화유황 및 농황산은 많은 산화물과 용이하게 반응하여 황산화물이 되는 것이 알려져 있고, 이 반응에 의해 촉매의 활성이 크게 손상되는 것이 알려져 있다.
많은 산화물 담체 중 이산화티타늄과 산화지르코늄은 황산화하기 어려운 담체로서 알려져 있다. 이산화티타늄을 농황산 중에 용해시킬 때에는 이산화티타늄 입자 표면에 산화 황산 티타늄의 막을 형성하고, 내부의 황산화를 방해할 수 있는 것이 알려져 있다. 또한, 이산화티타늄의 원료가 되는 일메나이트광을 용해시킬 때에는 일메나이트광을 열농황산 중에서 1000℃ 정도까지 승온시킬 필요가 있다.
상기한 바와 같이 이산화티타늄이나 산화지르코늄은 황산화물에 대하여 높은 내성을 나타내지만, 이산화티타늄이나 산화지르코늄을 담체로서 이용한 것만으로는 황산화물을 포함하는 피처리 가스 중에 있어서의 활성 저하를 억제할 수 없다. 이러한 지견에 대해서는 다음의 실험예에 나타내는 바와 같다. 또한, 급속한 활성 저하를 나타낸 촉매에 대하여 반응 활성의 온도 의존성을 조사한 결과, 300℃ 부근에서 급준한 활성 변화를 나타내고, 이러한 활성 변화는 온도를 상하시킴으로써 가역적으로 반복 관측되었다. 귀금속 미립자의 응집이나 담체의 이성화 등이 주된 활성 저하의 요인이라고 가정한 경우, 이러한 가역적인 활성의 변동이 발생한다고는 생각하기 어렵고, 담체와 피처리 가스의 반응 이외에 어떠한 활성 저하 요인이 존재한다고 생각되었다.
따라서, 다른 촉매 열화 요인으로서 부생 농황산에 의한 세공의 폐색에 착안하였다. 황산화물, 산소 및 수증기를 포함하는 피처리 가스 중에서 산화 촉매를 이용한 산화 반응을 행하면, 부반응으로서 이산화유황의 산화가 진행하고, 생성한 삼산화유황과 수증기의 반응에 의해 농황산이 생성한다. 농황산은 매우 증기압이 낮은 액체이고, 비점은 300℃ 이상이다. 또한, 부생한 농황산은 비점 이하의 온도 범위이어도 액체로서 안정적으로 존재하는 것이 가능하다. 또한, 농황산의 응축의 용이성은 담체의 형상에 의해 크게 영향을 받는 것이 알려져 있다.
담체의 형상이 농황산의 응축에 미치는 영향으로서, 첫째 담체의 세공 반경에 의존하여 액체 증기압이 변화하는 것을 들 수 있다. 상태 변화의 평형은 깁스의 에너지 변화에 의해 결정되는 것으로, 상태 변화 전후에서의 에너지 차에 의존한다. 미세한 세공 내부에서 발생하는 상태 변화에서는 세공 내부의 곡률이 커짐으로써 기액 계면의 계면 에너지에 의한 영향이 증대하고, 그 결과 액체와 평형에 있는 기압의 분압이 저하된다. 이러한 분압의 저하는 액체의 응축이 발생하기 쉬워지는 것을 의미한다. 이 관계를 나타낸 식은 켈빈(Kelvin)의 식으로서 알려져 있고, 이하의 식으로 나타난다. 이러한 켈빈의 식으로부터 세공 반경 r이 작아질수록 증기압 P가 평면 상에서의 증기압 Po에 대하여 작아지는 것을 알 수 있다. 식과 식 중에서 이용되는 기호의 의미를 이하에 나타낸다.
Kelvin의 식: ln(P/P0)=-2γVmCOSθ/(rRT)
P: 증기압 P0: 포화 증기압 γ: 표면 장력[N/m]
Vm: 몰 체적[m3/mol] r: 액적 반경[m]
R: 기체 상수[J/mol·K] T: 절대 온도[K] θ: 접촉각[rad]
담체의 형상이 농황산의 응축에 미치는 영향으로서, 둘째 세공 반경에 의존하여 기체의 확산 속도가 변화하는 것을 들 수 있다. 이산화티타늄 및 산화지르코늄 모두 표면이 황산화하는 것이 알려져 있다. 예를 들어 이산화티타늄의 표면이 황산화함으로써 생성하는 산화 황산 티타늄(Ⅳ)의 경우, 400℃ 이하의 범위에서 수화한 상태에 있다. 이러한 표면 상에는 삼산화유황이나 수증기가 흡착하기 쉽다. 이 때문에, 이들 분자는 흡착과 탈리를 반복하면서 세공 내를 확산하게 되고, 확산이 지연되는 원인이 된다. 기체 가스종을 질소로 하고, 압력을 1기압, 온도 523K로 한 경우에는 기체 분자의 평균 자유 공정은 100nm 이상이 된다. 따라서, 10nm 이하의 세공의 경우에는 기체 분자끼리의 충돌은 거의 무시되고, 기체 분자는 세공 벽면에 대한 충돌을 반복하면서 세공 내를 진행한다(자유 분자류 영역).
자유 분자류 영역이 성립하는 조건에서는 세공 벽면과 기체 분자의 상호 작용에 의한 영향이 나타나기 쉬워진다. 사실 수증기를 흡착하기 쉬운 부분을 세공 내에 포함하는 제올라이트 촉매에서는 수증기를 함유하는 기체 중에 있어서 반응 활성이 크게 저감되는 것이 알려져 있다(예를 들어 상기 비특허문헌 1을 참조). 이산화유황은 세공 내에 존재하는 귀금속 상의 반응에 있어서 삼산화유황에 산화되지만, 상기 이유에 의해 삼산화유황은 세공 내를 확산하여 세공 외에 탈출하기 어려워진다. 그 결과, 삼산화유황은 귀금속을 포함하는 세공 내에서 상대적으로 높은 분압이 된다. 확산 속도는 세공 반경이 작을수록 크게 감소한다.
이상, Kelvin의 식에 따른 제1 요인과 세공 벽면과의 상호 작용에 지배되는 제2 요인에 의해, 세공 내부에서의 농황산의 응축이 발생하기 쉬워지고, 세공의 폐색이 발생하는 것이라고 생각된다.
(본 발명에 대하여)
이상의 검토를 근거로 하여 세공 반경이 큰 세공의 비율이 높은 담체를 이용함으로써 세공 내부에서의 농황산의 폐색을 억제할 수 있다고 생각되었다. 즉, 상기 제1 요인에 대해서는 세공 반경이 커짐으로써 액체의 응축에 필요로 하는 증기압이 커지고, 세공의 폐색이 발생하기 어려워진다고 생각되었다. 상기 제2 요인에 대해서는 평균 자유 공정에 대하여 세공 반경이 커짐에 따라 기상 중을 운동하는 분자끼리의 충돌의 영향이 나타나고, 벽면과의 충돌에 의한 영향이 작아진다. 그 결과, 세공 내에서의 삼산화유황의 확산이 발생하기 쉬워지고, 제2 요인에 대해서도 세공의 폐색이 발생하기 어려워진다고 생각되었다.
따라서, 본 발명자는 상기 검토를 감안하여 세공 반경이 큰 세공의 비율이 높은 담체를 이용한 실험을 행한 결과, 폐색에 의한 영향이 억제되고, 농황산의 비점 미만의 온도 영역에서의 촉매 활성이 높아지고, 농황산 비점 근방에서의 급준한 활성의 변동도 관측되지 않게 되었다. 이때, 이들 현상은 세공 분포와 강한 상관이 있는 것을 알았다. 특히, 세공 반경 10nm 미만과 같은 세공 직경이 작은 세공이 세공 전체에 차지하는 비율이 작은 것 외에, 삼산화유황의 확산을 촉진하기 위해서 세공 반경 20nm 이상과 같은 비교적 큰 세공의 비율이 높은 경우에 있어서 보다 높은 효과가 얻어지는 것이 확인되었다.
본 발명자에 의한 예의 연구의 결과, 세공 반경 2nm 이상 100nm 이하의 범위의 세공으로 형성되는 표면적 중 49% 초과가 세공 반경 10nm 이상의 세공으로 형성되는 산화 촉매를 이용함으로써, 황산화물을 포함하는 가스 중에 있어서도 촉매 활성이 얻어지는 것이 확인되었다. 고려하는 세공 반경의 범위를 2nm 이상 100nm 이하에 한정하는 근거는 후술한다. 또한, 세공 반경 2nm 이상 100nm 이하의 범위의 세공으로 형성되는 표면적 중 세공 반경 10nm 이상의 세공으로 형성되는 표면적의 비율은 50% 이상인 것이 더욱 바람직하고, 60% 이상이면 한층 바람직하고, 80% 이상이면 더한층 바람직하다. 세공 반경 10nm 이상의 세공으로 형성되는 표면적의 비율에 상한은 없고, 100%이어도 본 발명의 효과가 발휘된다고 생각된다. 그러나, 10nm 이하의 크기의 간극을 전혀 갖지 않는 촉매를 제작하는 것은 어려울 것으로 예상된다.
또한, 세공 반경 2nm 이상 100nm 이하의 범위의 세공으로 형성되는 표면적 중, 세공 반경 10nm 이상의 세공으로 형성되는 표면적의 비율뿐만 아니라 세공 반경 20nm 이상의 세공으로 형성되는 표면적의 비율을 20% 이상으로 함으로써 본 발명의 효과가 보다 발휘되고, 세공 반경 10nm 이상의 세공으로 형성되는 표면적의 비율뿐만 아니라 세공 반경 20nm 이상의 세공으로 형성되는 표면적의 비율을 30% 이상으로 함으로써 본 발명의 효과가 더욱 바람직하게 발휘된다. 또한, 세공 반경 2nm 이상 100nm 이하의 범위의 세공으로 형성되는 표면적 중, 세공 반경 80nm 이상의 세공으로 형성되는 표면적의 비율이 2% 이상인 것이 바람직하다.
또한, 산화 촉매용의 일반적인 담체로서 이용되는 BET 비표면적 60m2/g 이상의 담체에서는 세공 분포의 피크는 세공 반경 10nm 미만이고, 세공 반경 10nm 이상의 세공으로 형성되는 표면적의 비율도 작다. 이러한 지견은 다음의 실험예에 나타내는 바와 같다.
본 발명 중에 있어서의 세공 분포의 측정에는 Dollimore-Heal법(DH법)을 이용하였다. DH법은 세공 분포를 계산하는 방법의 하나이고, 비표면적 측정 장치 부속의 해석 소프트에 표준으로 장비되어 있는 것 외에 장치 부속의 안내서에 그 상세가 나타나 있다. 또한, 많은 참고 도서에 상세가 나타나 있다(예를 들어 상기 비특허문헌 2를 참조).
그 외에 세공 분포를 구하는 방법으로서 Barrett-Joyner-Halenda(BJH)법이나 Cranston-Inkley(CI)법 등이 알려져 있고, 모든 방법에 있어서 계산에 이용하는 모델은 기본적으로 동일하다. 어느 것에 있어서나 세공 반경 2nm 이상 100nm 이하의 범위에서는 모델 간의 차가 작고, 장치의 측정 오차에 의한 영향도 작아진다. 따라서, 본 발명에서는 고려에 포함하는 세공 반경의 범위를 2nm 이상 100nm 이하의 범위에 한정하고 있다.
이 범위 내에 있어서 DH법, BJH법, CI법의 차는 작아지기 때문에 임의의 방법을 이용할 수 있다. 단, 모든 경우에 있어서 흡착 과정에서의 측정 데이터를 이용한 해석에 의해 얻어진 세공 분포가 촉매의 활성과 보다 강한 상관이 있는 것이 본 발명자가 행한 실험에서 판명되고 있다.
또한, 측정 정밀도에 대해서도 주의해야 한다. DH법을 포함하는 모든 세공 분포 해석 방법은 흡착 등온선 측정 과정에서의 2개의 측정점 간에 있어서의 질소 흡착량의 차에 기초하여 계산을 행한다. 이 때문에, 측정 간격이 너무 넓어지면, 얻어지는 분포에 대해서도 크게 간격이 벌어져서 세공 분포를 이용한 평가를 행할 수 없다. 따라서, 특히 세공 반경 5nm 이상 15nm 미만의 범위에 해당하는 측정점에 대해서는 세공 분포가 2nm 미만의 간격으로 얻어지는 조건으로 측정을 행하는 것이 바람직하다. 세공 반경이 15nm 이상 30nm 미만의 범위에서는 세공 분포가 5nm 미만의 간격으로 얻어지는 조건에서 측정을 행하는 것이 바람직하다. 세공 반경이 30nm 이상 60nm 미만의 범위에서는 세공 분포가 10nm 미만의 간격으로 얻어지는 조건으로 측정을 행하는 것이 바람직하다. 세공 반경이 60nm 이상 100nm 미만의 범위에서는 세공 분포가 15nm 미만의 간격으로 얻어지는 조건으로 측정을 행하는 것이 바람직하다. 이하에 나타내는 실험예에서는 모두 이 조건하에서 측정을 행하고 있다. 단, 이것으로부터 얻어지는 세공 분포의 간격이 넓은 경우에도 세공 분포의 모습을 판별하기에 충분한 측정 수가 얻어지고 있다고 판별되는 경우에는 문제는 없다.
일반적으로는 세공 반경이 작고 비표면적이 큰 담체를 이용할수록 활성이 높은 촉매를 제작할 수 있다고 말해지고 있다. 이는 촉매 개발의 기본에 준한 사고 방식이고, 많은 참고 도서에서도 다루어져 있다(예를 들어 상기 비특허문헌 3을 참조). 그 주된 사고 방식은 이하와 같다.
고체의 불균일 촉매를 이용한 경우, 촉매 반응은 촉매 활성을 나타내는 활성점 상에서 진행한다. 촉매 피독은 이들 활성점의 일부 또는 모두에 피독 물질이 흡착함으로써, 촉매 반응에 기여하는 부분의 비율을 저감시키거나 인접하는 활성점의 활성을 저감한다. 이 촉매 피독에 대한 대항책으로서 활성점의 수를 증가시킴으로써, 피독 물질 존재하에서도 활성을 유지하는 활성점의 절대수를 증가시킨다는 시도가 행하여진다. 활성점을 증가시키기 위해서 담체에 담지시키는 활성 금속종의 담지량을 증대시키게 되고, 다량의 활성 금속종을 고분산으로 담지시키기 위해서는 큰 비표면적이 필요해진다. 비표면적을 크게 하기 위해서는 보다 요철이 많은 구조가 요구되고, 세공 반경이 작은 구조가 요구된다.
상기 이유로부터 촉매 개발에 있어서는 촉매 담체의 비표면적에 중점을 둔 연구가 행하여지는 것이 일반적이다. 담체의 구성 원소에 관계없이 60m2/g 이상의 담체를 이용하는 것이 일반적이고, 비표면적이 20m2/g 이하라는 비표면적이 작은 담체가 이용되는 경우는 드물다. 그러나, 본 발명의 산화 촉매에서는 황산화물을 포함하는 가스 중에서의 촉매 안정성을 실현하기 위해서, 비표면적이 작은 담체를 이용함으로써 바람직하게는 비표면적이 50m2/g 이하, 보다 바람직하게는 비표면적이 20m2/g 이하인 산화 촉매를 실현한다.
또한, 이산화티타늄 담체의 경우에는 큰 비표면적을 얻기 쉬운 아나타제형 구조가 이용되는 경우가 많고, 높은 비표면적을 얻기 어려운 루틸형 담체가 이용되는 경우는 적다. 다른 구조 파라미터로서 세공 용적에 착안한 연구도 존재하지만, 기계적 강도에 관한 논의가 행해지고 있는 경우가 많다. 가루 상태의 촉매를 성형하였을 때에 발생하는 1마이크로미터를 초과하는 마크로한 세공이나 촉매를 도포하는 하니컴의 형상에 대해서는 더스트나 미스트의 영향에 대한 관점에서 검토가 행하여지고 있지만, 100nm 미만의 세공 반경을 갖는 미크로한 세공 분포와 황산화물을 포함하는 가스 중에서의 촉매 안정성을 관계지은 연구는 알려져 있지 않다.
다음 실험예에 나타내는 바와 같이 산화알루미늄, 산화티타늄, 산화지르코늄의 모두에 있어서 세공 반경과 활성 변화의 거동에 마찬가지의 경향이 보이고, 담체의 조성에 관계없다고 생각된다. 단, 산화알루미늄은 반응 중에 황산염화하고, 서서히 비표면적이 저하되는 것이 확인되고 있다. 장기적인 안정성을 기대하는 것이라면 산화티타늄, 산화지르코늄을 포함하는 담체로 하는 것이 바람직하다. 또한, 실리카 담체도 내산성이 높은 담체로서 알려져 있고, 이용이 가능하다고 생각된다.
다음의 실험예에 나타내는 바와 같이 이산화티타늄을 담체로서 이용한 경우에는 담체의 종류에 따라 얻어지는 촉매의 활성에 차이가 있었다. 황산법으로 제작된 담체끼리로 비교하면, 루틸형에서는 백금이 산화되어 있는 경향이 높고, 높은 활성을 얻기 위해서는 환원 처리가 필요하였다. 이로부터 이산화티타늄 담체의 결정 구조로서는 아나타제형 구조가 보다 바람직하다. 이산화티타늄 담체는 루틸형과 아나타제형의 혼합체로서 얻어지는 경우가 많지만, 분말 엑스선 회절 측정의 최강 회절선의 상대비로부터 계산한 질량비로 50% 이상이 아나타제형 구조인 것이 바람직하다. 계속해서, 아나타제형 구조끼리의 비교에서는 염소법으로 제작한 아나타제형 구조의 담체와 황산법으로 제작한 아나타제형 구조의 담체를 비교하면, 염소법으로 제조된 담체를 이용한 경우에는 제조 후의 백금이 산화되어 있고, 환원 처리를 행하지 않으면 활성이 얻어지지 않았다. 이로부터 이산화티타늄 담체로서는 황산법으로 제작된 담체를 이용하여 촉매의 제작을 행하는 것이 바람직하다.
농황산에 의한 세공의 폐색에서는 피처리 가스와 촉매 활성점인 금속 활성종의 접촉이 방해되게 된다. 금속 활성종을 활성점으로 하는 촉매 반응에서는 어떠한 반응에서도 금속 표면 상에서 반응이 진행한다(예를 들어 상기 비특허문헌 4를 참조). 폐색이 발생하면, 애당초 귀금속에 반응 물질이 접촉하지 않게 되는 것이고, 세공 폐색의 영향이 있는 조건에서는 어떠한 반응에서도 활성은 저하되게 된다. 이산화유황이 산화되는 조건에서의 반응에 있어서 공학적인 이용이 가능한 것은 산화 반응이고, 이러한 산화 반응으로서 일산화탄소, 일산화질소, 메탄의 산화 반응을 들 수 있다. 이들 어느 산화 반응도 귀금속 표면 상에서 반응이 진행하고, 귀금속이 없는 상태에서는 반응이 진행하기 어려운 것이 알려져 있다.
활성 금속종은 특별히 한정되지 않지만, 이산화유황과 용이하게 반응하는 것에서는 세공 폐색이 일어나지 않아도 활성종 자체가 활성을 잃어버리고, 활성이 얻어지지 않는다. 산화 촉매로서 활성이 높은 금속종으로서 예를 들어 코발트, 니켈, 구리, 루테늄, 로듐, 팔라듐, 백금, 금 등이 알려진다. 이산화유황과 반응하여 황산화물이 되기 어려운 것으로서, 산화물의 표준 생성 엔탈피를 지표로 하여 이용하는 것이 가능하고, 표준 생성 엔탈피의 절댓값이 작을수록 산화되기 어려운 물질이라고 판단할 수 있다. 표준 생성 엔탈피의 값은 서적 외에 인터넷 상의 데이터베이스에도 공개되어 있다(예를 들어 상기 비특허문헌 5를 참조).
이 관점에서 활성 금속종으로서 금, 백금, 팔라듐, 로듐이 바람직하고, 특히 백금, 금이 바람직하다. 단, 금을 단독으로 담지한 촉매에 있어서는 금 미립자와 산화물 담체의 계면 부분에 있어서 높은 산화 활성이 얻어지는 것이 알려져 있고, 산화물 담체의 표면이 황산염화함으로써 크게 활성이 저하된다. 따라서, 금을 이용하는 경우에는 다른 전이 금속과 조합하여 이용하거나 백금을 이용하는 것이 보다 바람직하다. 또한, 백금, 금과 비교하여 황산염이 되기 쉬운 팔라듐이나 로듐을 이용하는 경우에는 팔라듐, 로듐 입자의 표면을 백금으로 덮고, 코어 셸형 구조로서 이용하면, 황산염의 생성을 억제할 수 있는 것 외에 백금 사용량을 저감할 수 있고, 저비용화가 가능하다.
활성 금속종을 담지시키는 양은 특별히 한정되지 않지만, 경제적인 관점에서 한정된다. 일반적으로 담지량을 증대시킬수록 활성점이 증대하여 촉매 활성이 증대하는 한편, 담지 금속 미립자의 입자 직경이 증대하고, 반응에 기여하지 않는 부분의 비율이 증대하는 경향이 있다. 또한, 귀금속 입자 자신이 세공의 폐색·협착을 일으키고, 전술한 농황산에 의한 세공 폐색의 영향이 발생하기 쉬워지는 점에서 반응에 기여하지 않는 부분의 비율이 더욱 증대한다.
또한, 백금을 담지한 경우에는 백금의 담지량을 증대시킴에 따라 이산화유황이 삼산화유황에 산화되는 비율이 증대하는 것도 알려져 있다. 백금 입자 직경이 커질수록 활성 금속 입자 상에서 이 부반응의 속도가 증대하는 것도 알려져 있고(예를 들어 상기 비특허문헌 6을 참조), 귀금속 담지량을 억제함으로써 삼산화유황의 생성을 억제할 수 있다. 사실, 실험실에서의 반응 시험에서 백금 담지량이 적은 조건에서는 반응 시험 후에 반응관 내벽에 부착되는 황산 미스트의 양이 적어져 있었다. 한편, 담지량을 일정 이상 적게 하여도 금속 미립자의 가일층의 미세화는 기대할 수 없고, 단위량의 활성 금속종당 촉매 활성점은 증대하지 않는다. 백금의 담지량과 백금 입자의 미세화의 관계를 조사한 연구에 있어서는 10m2/g당 0.4질량% 정도까지의 담지량이라면 백금 입자의 미세화가 달성된다고 보고되어 있다(예를 들어 상기 비특허문헌 7을 참조). 따라서, 예를 들어 0.04질량%의 백금 담지량이라면 1m2/g 정도의 비표면적이어도 촉매 활성 발현에 충분한 만큼의 분산도가 얻어진다고 생각된다. 결과적으로 담지량이 너무 적으면 필요해지는 담체의 양이 증가하고, 전체적으로 촉매량이 증대하게 되고, 오히려 비용이 증대한다. 촉매 담체로서 1m2/g 미만의 비표면적의 담체를 이용하는 것은 생각하기 어렵고, 반응시의 백금 미립자 응집을 억제하는 효과를 목표로 하여 담지량을 억제하는 경우에도 담지량은 0.01질량% 이상으로 하는 것이 바람직하다. 또한, 하기 실험예에 나타내는 바와 같이 본 발명에 의해 높은 내황성을 발현한 촉매는 모두 비표면적이 50m2/g 이하인 점으로부터, 백금의 담지량을 2.0질량% 이하로 하면 백금 입자의 미세화가 달성된다고 생각되어 바람직하다.
본 발명의 산화 촉매는 많은 피처리 가스 중에서 높은 활성을 나타내지만, 특히 황산화물과 수증기를 포함하는 가스 중에 있어서 그 효과가 발휘된다. 피처리 가스 중에 이들 가스가 포함되는 상태에서 산화 반응을 진행시키면, 그 농도에 관계없이 부반응으로서 농황산이 생성하고, 세공의 폐색이 발생한다. 이 세공 폐색의 영향을 억제함으로써 활성의 저하가 억제된다고 기대된다.
그러나, 황산화물은 금속 활성종에 강하게 흡착하는 것이 알려져 있고, 그 분압이 너무 높은 경우에는 금속 활성종에 대한 일산화탄소, 일산화질소, 메탄의 흡착이 거의 발생하지 않게 되고, 세공 폐색의 영향이 억제되어도 반응이 진행하지 않을 가능성이 있다. 따라서, 피처리 가스 중의 황산화물의 체적비는 적어도 일산화탄소, 일산화질소, 메탄의 체적비의 합보다도 작은 것이 바람직하다.
한편, 황산화물의 분압이 너무 작은 경우에는 세공 분포에 관계없이 세공 폐색이 발생하지 않을 것이 예상된다. 따라서, 특히 황산화물의 체적비가 1ppm 이상이면 본 발명의 효과가 발휘되게 되고, 피처리 가스로서 적합하다.
피처리 가스의 온도에 대해서는 모든 온도에 있어서 종래 촉매와 동등 이상의 활성이 얻어진다고 기대되지만, 반응 온도를 상승시켜 농황산의 비점 이상으로 하면 세공 반경의 차이에 의한 차가 생기기 어렵다. 농황산의 비점은 그 농도에 따라 크게 변화하고, 피처리 가스 중의 수증기의 농도에 따라서도 영향을 받는 점에서 일의적으로 결정하기는 어렵다. 그러나, 400℃ 이상에서는 모든 농도의 농황산에 있어서 수증기와 황화수소산의 분압의 합이 1기압 이상이 되는 점에서(예를 들어 상기 비특허문헌 8을 참조), 피처리 가스와의 반응 온도는 적어도 400℃ 이하로 되는 것이 바람직하다.
한편, 반응 온도가 너무 낮으면, 애당초 반응이 진행하지 않고, 촉매량을 증대시킬 필요가 생기고, 비용이 증대하는 원인이 된다. 여기서, 이산화유황의 존재하에서는 백금·금을 금속 활성종으로서 이용하고, 질량비로 1% 담지한 경우에도 200℃ 정도까지 반응 온도를 상승시켜야만 높은 활성이 얻어지는 것이 알려져 있다(예를 들어 상기 비특허문헌 9를 참조). 따라서, 본 발명에 따른 방법에 있어서도 반응 온도를 200℃ 이상으로 상승시키는 것이 바람직하다.
또한, 반응 속도를 높이고, 필요한 촉매량을 억제한다는 관점에서, 반응 온도는 250℃ 이상이 보다 바람직하다. 또한, 하기 실험예에 나타내는 바와 같이 300℃ 이상의 온도에서는 본 발명의 효과가 나오기 어려워지는 점으로부터 반응 온도는 300℃ 이하이면 보다 바람직하다.
나중에 실시예에 나타내는 바와 같이 촉매 담체의 세공 분포와, 이러한 담체를 이용하여 제작한 촉매의 세공 분포의 사이에는 강한 상관이 있고, 세공 반경이 큰 세공의 비율이 높은 담체를 이용하여 촉매를 제작한 경우에는 얻어지는 촉매도 세공 반경이 큰 세공의 비율이 높아진다. 단, 촉매 담체는 촉매 제조에 수반하는 열처리로 변형을 초래하지 않도록 촉매 제조시에 도달하는 최고 온도 이상에서 가열 소성해 두는 것이 중요하고, 이러한 열처리 후의 시점에서의 세공 분포가 그 후 얻어지는 촉매의 성능과 강한 상관을 갖는다.
활성 금속종을 담지하는 방법은 특별히 한정되지 않지만, 석출 환원법에서는 담체에 대한 여분의 열처리를 피할 수 있고, 기대대로의 세공 분포가 얻어지기 쉽다고 생각된다. 그러나, 석출 환원법에서는 담지하는 활성 금속종의 양을 제조하기가 어려운 점에서, 담체에 변성이 발생하지 않는 범위에서의 가열 처리만 수반하는 경우에는 함침법을 이용하는 것이 가장 간편하다. 활성 금속종으로서 백금을 함침법으로 담지하는 경우에는 염화백금산을 전구체로서 이용하고, 500℃ 정도에서 소성 처리를 행함으로써 백금 담지 촉매를 얻는 경우가 많다. 따라서, 500℃까지 승온하였을 때의 구조 변화가 작은 담체를 이용하는 것이 바람직하다.
구체적으로는 고체 표면의 원자가 확산을 개시한다고 여겨지는 경험적 지표인 탐만 온도가 500℃ 이상인 담체를 이용하면 된다. 탐만 온도는 경험적인 식으로서 절대 온도 표기로 융점의 1/2 정도의 온도가 되는 점에서, 융점이 1300℃ 이상이 되는 담체를 이용하는 것이 바람직하다. 이러한 담체의 예로서는 이산화티타늄, 산화지르코늄, 산화알루미늄, 이산화규소 등을 들 수 있다.
이산화티타늄을 담체로서 이용한 경우에는 이산화티타늄은 상전이를 발생하기 쉬운 점에서, 소성 온도가 적절하지 않은 경우에는 세공의 분포가 변화한다. 다음의 실험예에는 나타나 있지 않지만, 대기하에서 650℃에서 5시간의 소성을 행한 경우에는 세공 반경이 작지만 비율이 증대한다. 한편, 대기하에서 500℃에서 1시간의 소성을 행한 경우에는 비표면적이 저하되고, 세공 반경 10nm 이하의 세공이 감소함과 함께 세공 반경 10nm 이상의 세공에서는 세공 반경이 작아지는 방향으로 변화한다. 이에 의해, 세공 반경과 비표면적의 관계가 변화한다. 세공 분포가 변화하여도 세공 반경 10nm 이상의 세공 비표면적이 크게 유지되도록 충분히 세공 반경이 큰 세공을 갖는 담체를 이용하도록 하는 것이 중요하다. 구체적으로는 미리 열처리해 둠과 함께 귀금속 전구체도 생각하여 650℃ 이상으로 가열하는 것을 피하는 것이 바람직하다. 이러한 귀금속 전구체로서 예를 들어 금을 이용할 때에는 염화금(Ⅲ)산수화물 등이 적합하고, 백금을 이용하는 경우에는 염화백금(Ⅳ)산수화물 등이 적합하고, 팔라듐을 이용하는 경우에는 디아민디니트로팔라듐(Ⅱ) 등이 적합하고, 로듐을 이용하는 경우에는 염화로듐(Ⅲ)수화물 등이 적합하다.
상기와 같은 성질을 갖는 촉매를 이용하여 수증기를 포함하는 배기 가스 중의 미연소 성분을 연소시키는 연소 촉매부를 갖는 배기 가스 처리 장치를 실현할 수도 있다. 즉, 배기 가스 처리 장치에 설치된 연소 촉매부에 본 발명에 따른 산화 촉매가 충전된다. 이 배기 가스 처리 장치는 배기 가스 중의 미연소 성분인 일산화탄소나 질소산화물 등의 제거 장치나 미연소 성분의 연소에 의한 발생 열량을 회수·이용하는 폐열 회수 설비 또는 에너지 절약 프로세스로서 적용할 수 있다.
이들 배기 가스 처리 장치에 있어서 본 실시 형태에 따른 산화 촉매를 이용하여 실시되는 미연소 성분의 산화 연소 반응은 상압 내지 0.2MPa 정도의 압력하에서 실시된다. 상압 내지 0.2MPa 정도에서 반응이 실시되기 때문에, 연소 촉매부에 있어서의 배기 가스의 진행 방향은 수평 방향 또는 연직 방향 상방부터 하방을 향하는 방향으로 하는 것이 바람직하다. 또한, 이러한 배기 가스 처리 장치의 연소 촉매부에서는 배기 가스의 현열을 이용하여 반응이 진행되기 때문에, 배수 처리 프로세스와는 달리 연소 촉매부 자체를 가열할 필요는 없다.
또한, 연소 촉매부에 있어서의 본 발명에 따른 산화 촉매의 충전 방법에 대해서는 특별히 한정되는 것은 아니라, 본 발명에 따른 산화 촉매를 하니컴 형상으로 형성하여 충전하는 등, 공지된 여러 가지 방법을 이용할 수 있다. 이때 하니컴 형상으로 형성한 담체에 대하여 상기와 같은 전이 원소를 담지시켜도 되고, 상기와 같은 산화 촉매에 각종 결합제 등을 첨가한 후, 산화 촉매 그 자체를 하니컴 형상으로 형성하여도 된다.
이러한 배기 가스 처리 장치의 적용처의 일례로서 가연성 가스를 포함하는 배기 가스 탈질법을 실시하는 프로세스 설비가 있다. 이 프로세스에서는 탈질 촉매에 의해 암모니아와 질소산화물의 반응을 진행시키기 위해서, 탈질 촉매에 유입하는 배기 가스를 가열 승온할 필요가 있다. 이 가열은 통상 천연 가스 등의 연소열을 이용하여 행한다. 여기서, 이러한 가열을 본 발명에 따른 산화 촉매에 의해 얻어지는 가연성 가스 성분의 연소열로 대체함으로써 비용의 저감이 가능해진다. 도 1 및 도 2에 이러한 배기 가스 탈질법을 실시하는 프로세스의 개략을 나타낸다.
도 1에 도시한 프로세스는 열교환부(1)와, 열교환부(1)의 후단에 설치된 가스 가열부의 일례인 가스 가열 버너(2)와, 가스 가열 버너(2)의 후단에 설치된 연소 촉매부(3)와, 연소 촉매부(3)의 후단에 설치된 탈질부의 일례인 탈질 장치부(4)를 구비하고 있다. 열교환부(1)에 도입된 배기 가스는 후단의 탈질 장치부(4)에서 발생한 열을 이용하여 열교환된 후, 가스 가열 버너(2)에 유입한다. 가스 가열 버너(2)에서 가열된 배기 가스는 본 발명에 따른 산화 촉매가 충전된 연소 촉매부(3)에 유입하고, 배기 가스 중에 포함되는 미연소 성분이 본 발명에 따른 산화 촉매에 의해 산화 연소된다. 그 결과, 발생한 연소열에 의해 배기 가스가 더욱 가열된다. 미연소 성분의 연소한 배기 가스는 암모니아와 함께 탈질 장치부(4)에 유입하고, 탈질 촉매에 의해 암모니아와 질소산화물의 반응이 진행한다. 또한, 탈질 처리가 종료한 배기 가스는 열교환부(1)에 공급되어 열교환된다.
도 2에 도시한 프로세스는 열교환부(11)와, 열교환부(11)의 후단에 설치된 가스 가열부의 일례인 가스 가열 버너(12)와, 가스 가열 버너(12)의 후단에 설치된 탈질부의 일례인 탈질 장치부(13)와, 탈질 장치부(13)의 후단에 설치된 연소 촉매부(14)를 구비하고 있다. 열교환부(11)에 도입된 배기 가스는 후단의 연소 촉매부(14)에서 발생한 연소열을 이용하여 열교환된 후, 가스 가열 버너(12)에 유입한다. 가스 가열 버너(12)에서 가열된 배기 가스는 암모니아와 함께 탈질 장치부(13)에 유입하고, 탈질 촉매에 의해 암모니아와 질소산화물의 반응이 진행한다. 탈질 처리가 종료한 배기 가스는 본 발명에 따른 산화 촉매가 충전된 연소 촉매부(14)에 유입하고, 탈질 처리가 종료한 배기 가스 중에 포함되는 미연소 성분이 본 발명에 따른 산화 촉매에 의해 산화 연소된다. 발생한 연소열은 열교환부(1)에 공급된다.
도 1 및 도 2에 도시한 바와 같이 연소 촉매부의 설치 장소는 탈질 장치의 상류, 하류 중 어느 것이어도 된다. 탈질 촉매부에서의 반응을 진행시키기 위해서 필요해지는 온도는 일정한 점에서, 도 1의 프로세스에서는 연소 촉매부의 입구에서의 반응 온도는 200 내지 250℃가 되고, 도 2의 프로세스에서는 연소 촉매부의 입구에서의 반응 온도는 250 내지 300℃ 정도가 된다.
그 외의 배기 가스 처리 장치의 적용처의 예로서 리제너러티브 버너나 라디언트 튜브 등의 축열 연소 버너가 있다. 이들 축열 연소 버너에 있어서의 프로세스는 버너 및 축열체의 1세트를 한 쌍으로서 사용하고, 한쪽 세트에서 버너 분사하고 있을 때의 배기 가스 배기 열을 다른 쪽 세트의 축열체에 축적하는 프로세스이다.
도 3에 이러한 축열 연소 버너에 있어서의 프로세스의 개략을 도시한다. 이러한 프로세스는 주된 구성 요소로서 배기 공기 유로 전환기(21), 축열체 및 연소 촉매를 함유하는 축열부(22a, 22b), 연료 가스 공급부(23a, 23b), 연소 공기와 연료 가스의 혼합기를 분사하는 혼합기 분사부(24a, 24b), 버너 분사로 가열되는 공간(25), 공기 도입 경로(26), 및 배기 가스 경로(27)를 구비하고 있다. 여기서, 축열부(22a, 22b)에 함유되는 연소 촉매에 본 발명에 따른 산화 촉매가 이용된다. 즉, 도 3에 도시한 축열 연소 버너에 있어서 축열부(22a, 22b)는 축열체와 연소 촉매부로 구성되어 있다고 말할 수 있다. 또한, 도 3에서는 혼합기 분사부(24a)에서 버너 분사하고, 혼합기 분사부(24b)로부터 배기 가스를 취출하는 경우의 프로세스를 나타내고 있다.
이러한 버너는 배기 공기 유로 전환기(21)를 제어하여 축열부(22a)에 공기 도입 경로(26)로부터 공기를 도입하고, 축열부에서 가열된 공기와 연료 가스 공급부(23a)로부터 공급되는 연료 가스의 혼합기를 혼합기 분사부(24a)로부터 분사한다. 그 후, 혼합기 분사부(24b)를 통하여 배출된 배기 가스를 축열부(22b)에 도입하고, 2차 공기 도입부(28b)로부터 도입시킨 공기와 배기 가스 중 미연소 성분을 연소 촉매에 의해 연소시키고, 얻어진 열을 축열부(22b)에 축열한 후에 배기 가스 경로(27)로부터 배기 가스를 배기한다.
축열부(22a)의 온도가 저하되고, 또한 축열부(22b)의 온도가 상승하면, 배기 공기 전환기(21)를 전환하여 축열부(22a, 22b) 및 버너 분사부(24a, 24b)의 흐름을 역회전시킨다. 이러한 제어를 세트마다 반복함으로써, 혼합기 분사부(24a, 24b)로부터 분사된 배기 가스 중의 미연소 성분을 이용하여 산화 촉매 상에서 연소 가열을 행하고, 축열체에 축적하는 현열의 열량을 향상시킬 수 있다.
일반적인 버너에 있어서의 축열부(22a, 22b)의 온도는 공간(25)에 가까운 부분일수록 높고, 최고 1200℃ 정도에 달하는 한편, 배기 공기 유로 전환기(21)에 가까운 부분일수록 온도는 낮아지고, 최고 250℃ 정도까지만 도달한다. 축열부(22a, 22b)에 충전되는 연소 촉매는 촉매의 열화를 억제하는 관점에서, 최고 도달 온도가 600℃ 미만의 부분에 충전되는 것이 바람직하고, 500℃ 미만이 되는 부분이면 보다 바람직하다. 이러한 축열부(22a, 22b)에 있어서, 비교적 낮은 온도 영역을 갖는 부분에서는 300℃를 하회하는 온도가 되는 시간이 길어진다고 생각된다. 그 때문에, 본 발명에 따른 산화 촉매를 연소 촉매로서 이용함으로써 농황산에 의한 활성 저하 방지의 효과를 얻을 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 축열 연소 버너의 구조는 상기와 같은 구조에 한정되지 않는다. 예를 들어 상기 구조에 있어서는 축열체와, 본 발명에 따른 산화 촉매가 충전된 연료 촉매부가 동일한 장소에 설치되어 있지만, 축열체와 연소 촉매부를 별개의 구성으로서 분할하고, 축열부와 연료 촉매부가 서로 독립한 구성으로 하여도 된다. 또한, 도 3에서는 축열부가 2계통으로 이루어지는 경우를 도시하고 있지만, 유로를 배기 공기 전환기(21)로부터 3계통 이상으로 분기시켜 3개 이상의 축열부를 갖도록 구성하고, 복수의 유로를 동시에 전환하는 구성으로 하여도 된다.
또한, 본 발명의 배기 가스 처리 장치를 이용한 폐열 회수 설비의 적용처는 상기 배기 가스 탈질법 및 축열 연소 버너에 한정되는 것은 아니라 그 외의 프로세스에 있어서의 폐열 회수 장치에도 적용할 수 있다. 특히 연료 중에 황분을 포함하는 프로세스의 연소 배기 가스 중에는 다량의 황산화물이 함유되는 점에서 본 발명의 촉매 적용처로서 적합하다.
<실시예>
이어서, 실시예 및 비교예 및 시험예에 기초하여 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 당해 실시예 및 비교예 및 시험예에 의해 전혀 한정되는 것은 아니다.
[촉매 담체의 제작]
(담체 1 내지 11)
산화티타늄 담체 TIO-2(촉매 학회 참조 촉매), 산화티타늄 담체 TIO-6(촉매 학회 참조 촉매), 산화지르코늄 담체 ZRO-4(촉매 학회 참조 촉매), 산화티타늄 담체 TIO-4(촉매 학회 참조 촉매), 산화티타늄 담체 TIO-8(촉매 학회 참조 촉매), 산화티타늄 담체 TIO-7(촉매 학회 참조 촉매), 산화티타늄 담체 ST-01(이시하라산교), 산화티타늄 담체 FTL-110(이시하라산교), 산화티타늄 담체 FTL-200(이시하라산교), 산화지르코늄 담체 ZRO-3(촉매 학회 참조 촉매), 산화알루미늄 담체 ALO-1(촉매 학회 참조 촉매)을 준비하고, 각각을 대기 분위기하 500℃에서 1시간 소성하였다. 얻어진 담체를 각각 담체 1 내지 11로 하였다.
또한, 소성 후의 담체는 모두 스테인리스 체를 이용하여 입경 75㎛ 이상 150㎛ 미만으로 하고, 이후의 실험에 이용하였다. 담체의 형상은 모두 가루 상태이다. 담체 1 내지 8의 각 담체의 물성을 이하의 표 1에 정리하여 나타낸다. 담체의 결정 구조는 분말 엑스선 회절 측정에 의해 결정하고, 가능한 경우에는 각 상의 최강 회절선의 상대 강도를 이용하여 존재 비율을 계산하였다. 액체 질소 온도에서의 질소 흡착 등온선을 이용하여 BET법에 의해 비표면적 결정을 행하고, 흡착 과정의 데이터를 이용하여 DH법에 의한 세공 분포 결정을 행하였다. 흡착 등온선의 상대 분압 0.99의 값을 이용하여 세공 용적을 계산하였다. 이후, 모든 실시예 및 비교예에서 마찬가지의 방법으로 물성값을 얻었다.
[촉매의 제작]
(실시예 1: 백금 담지 촉매)
헥사클로로백금산 0.00265g을 0.20ml, 0.45ml, 0.20ml, 0.35ml의 순수 각각에 용해시켰다. 얻어진 백금 전구체 용액을 담체 1 내지 5의 산화물 담체 각 1.00g에 대하여 충분한 혼합을 행하면서 각각 적하하고, 함침시켰다. 얻어진 분말을 100℃에서 10시간, 500℃에서 1시간 소성하고, 얻어진 촉매를 시료 1, 4 내지 7로 하였다. 백금의 담지량은 모두 금속 상태의 백금 환산으로 0.1질량%였다.
시료 1, 4 내지 7에 대하여 BET 비표면적 측정을 행하고, 얻어진 데이터로부터 DH법으로 계산한 면적 분포(dV/dr) 표시에서의 세공 분포와, 세공 반경 2nm 이상, 100nm 이하의 범위의 세공으로 형성되는 표면적 중, 각 세공 반경 이하의 세공으로 형성되는 표면적의 비율(Ar/A2-100nm)의 누적값을 도 4a 내지 도 4c에 나타낸다. 각각에 대하여 세공 반경 2nm 이상, 100nm 이하의 범위의 세공으로 형성되는 표면적 중, 세공 반경 10nm 이상의 세공으로 형성되는 표면적의 비율을 계산한 값을 표 2에 나타낸다. 이 값은 세공 반경 10nm에 있어서의 Ar/A2-100nm의 값을 100로부터 차감함으로써 계산하였다.
(실시예 2: 팔라듐 담지 촉매)
디니트로디아민팔라듐(고지마가가쿠야쿠힌) 0.00220g을 질산 15ml에 용해하고, 담체 1의 산화물 담체 1.00g을 첨가하였다. 1시간 교반을 행한 후에 핫 스터러 상 80℃에서 교반을 행하고, 증발 건고하였다. 얻어진 고체를 대기하 120℃에서 10시간 건조시킨 후에 400℃까지 승온하여 30분 소성하였다. 냉각 후 얻어진 촉매를 시료 2로 하였다. 시료 2에 대하여 실시예 1의 경우와 마찬가지로 측정한 물성값을 표 2에 나타낸다.
(실시예 3: 로듐 담지 촉매)
염화로듐(Ⅲ)3수화물 0.00256을 0.20ml의 순수에 용해시켰다. 얻어진 로듐 전구체 수용액을 담체 1의 산화물 담체 1.00g에 대하여 충분한 혼합을 행하면서 각각 적하하고, 함침시켰다. 얻어진 분말을 100℃에서 10시간, 500℃에서 1시간 소성하고, 얻어진 촉매를 시료 3으로 하였다. 로듐의 담지량은 금속 상태의 로듐 환산으로 0.1질량%였다. 시료 3에 대하여 실시예 1의 경우와 마찬가지로 측정한 물성값을 표 2에 나타낸다.
(실시예 4: 저담지량 백금 담지 촉매)
헥사클로로백금산 0.00265g을 1.0ml의 순수에 용해시켰다. 얻어진 백금 전구체 용액 중 0.30ml를 담체 1의 산화물 담체 각 1.00g에 대하여 충분한 혼합을 행하면서 적하하고, 함침시켰다. 얻어진 분말을 100℃에서 10시간, 500℃에서 1시간 소성하고, 얻어진 촉매를 시료 8로 하였다. 백금의 담지량은 금속 상태의 백금 환산으로 0.03질량%였다. 시료 8에 대하여 실시예 1의 경우와 마찬가지로 측정한 물성값을 표 2에 나타낸다.
(실시예 5: 고담지량 백금 담지 촉매)
헥사클로로백금산 0.02589g, 0.05178을 각각 0.45ml의 순수에 용해시켰다. 얻어진 백금 전구체 용액을 각각 담체 2의 산화물 담체 1.00g에 대하여 충분한 혼합을 행하면서 각각 적하하고, 함침시켰다. 얻어진 분말을 100℃에서 10시간, 500℃에서 1시간 소성하고, 얻어진 촉매를 각각 시료 9, 10으로 하였다. 백금의 담지량은 각각 금속 상태의 백금 환산으로 1질량%, 2질량%였다. 시료 9, 10에 대하여 실시예 1의 경우와 마찬가지로 측정한 물성값을 표 2에 나타낸다.
(비교예 1: 백금 담지 촉매)
헥사클로로백금산 0.00265g을 표 1에 나타내는 담체 6 내지 11의 세공 용적과 동량의 순수에 용해시켰다. 얻어진 백금 전구체 용액을 각각 담체 6 내지 11의 산화물 담체 각 1.00g에 대하여 충분한 혼합을 행하면서 각각 적하하고, 각 담체에 함침시켰다. 얻어진 분말을 100℃에서 10시간, 500℃에서 1시간 소성하고, 얻어진 촉매를 시료 A 내지 F로 하였다. 백금의 담지량은 모두 금속 상태의 백금 환산으로 0.1질량%였다.
시료 A 내지 D에 대하여 BET 비표면적 측정을 행하고, 얻어진 데이터로부터 DH법으로 계산한 면적 분포(dV/dr) 표시에서의 세공 분포와, 세공 반경 2nm 이상, 100nm 이하의 범위의 세공으로 형성되는 표면적 중 각 세공 반경 이하의 세공으로 형성되는 표면적의 비율(Ar/A2-100nm)을 도 5a 내지 도 5c에 나타낸다. 시료 A 내지 F에 대하여 실시예 1의 경우와 마찬가지로 측정한 물성값을 표 3에 나타낸다.
(비교예 2: 팔라듐 담지 촉매)
디니트로디아민팔라듐(고지마가가쿠야쿠힌) 0.00220g을 질산 15ml에 용해하고, 담체 6의 산화물 담체 1.00g을 첨가하였다. 1시간 교반을 행한 후에 핫 스터러 상 80℃에서 교반을 행하고, 증발 건고하였다. 얻어진 고체를 대기하 120℃에서 10시간 건조시킨 후에 400℃까지 승온하여 30분 소성하였다. 냉각 후 얻어진 촉매를 시료 G로 하였다. 시료 G에 대하여 실시예 1의 경우와 마찬가지로 측정한 물성값을 표 3에 나타낸다.
(비교예 3: 로듐 담지 촉매)
염화로듐(Ⅲ)3수화물 0.00256을 0.20ml의 순수에 용해시켰다. 얻어진 로듐 전구체 수용액을 담체 6의 산화물 담체 1.00g에 대하여 충분한 혼합을 행하면서 각각 적하하고, 함침시켰다. 얻어진 분말을 100℃에서 10시간, 500℃에서 1시간 소성하고, 얻어진 촉매를 시료 H로 하였다. 로듐의 담지량은 금속 상태의 로듐 환산으로 0.1질량%이다. 시료 H에 대하여 실시예 1의 경우와 마찬가지로 측정한 물성값을 표 3에 나타낸다.
[촉매 성능 평가]
(시험예 1: 환원 전처리 후 가속 시험)
시료 1, 4 내지 10 및 시료 A 내지 F에 대하여 일산화탄소 산화 반응 시험을 행하였다.
우선 시료 1, 4 내지 7, 9, 10, A 내지 F의 각 촉매 10mg 각각에 대하여 20mg의 담체 1, 2, 3, 4, 5, 2, 2, 6, 7, 8, 9, 10, 11을 각각 혼합하여 희석하고, 각각 석영 유리관에 충전하였다. 귀금속 담지량이 적은 시료 8에 대해서는 33mg 칭량하고, 희석하지 않고 석영 유리관에 충전하였다.
이어서, 60cm3/분의 수소 기류 중 500℃에서 1시간 환원 처리를 행한 후에 250℃까지 강온하였다. 100cm3/분의 질소 기류 중에서 10분간 퍼지를 행한 후에 반응 온도 250℃, 대기압에서 유량 100cm3/분으로 표 4에 나타내는 조성의 가스를 흘려 반응을 행하였다.
가스와 촉매량의 상대비를 나타내는 공간 속도는 대강 600000cm3·시간(hour)-1·촉매 질량(g)- 1이다. 일반적으로 반응에 이용되는 공간 속도의 값은 상기 공간 속도의 약 1/10 정도의 값이다. 일반적인 값보다도 높은 공간 속도로 활성 시험을 행함으로써, 본 발명의 촉매의 높은 안정성을 명시하기로 하였다. 가스 유량 및 조성의 조정은 매스 플로우 컨트롤러를 이용하여 행하고, 가스원이 되는 가스봄베는 일산화탄소 5%+질소 95%, 이산화유황 200ppm+일산화질소 200ppm+질소 잔량부, 산소(순도 99.9999 이상), 질소(순도 99.9999% 이상)의 4종류를 준비하였다. 또한, 수증기는 송수 펌프로 소요량의 순수를 도입함으로써 조정하였다. 이하, 모든 시험에서 마찬가지로 하여 가스 조성을 조정하였다.
반응 시험의 결과를 도 6a에 내지 도 6d에 나타낸다.
시료 9, 10에 대해서는 도 6a 내지 도 6d에 기재하고 있지 않지만, 양자 모두 반응 개시부터 종료시까지 일산화탄소 전화율은 100%에서 추이하였다. 발명예의 시료 1, 4 내지 10과 비교예의 시료 A 내지 F에서는 그 일산화탄소의 전화율의 시간 의존성에 큰 차이가 있고, 시료 1, 4 내지 10에서는 반응 시간 15시간 경과 시점에 있어서도 높은 활성이 얻어지고 있지만, 시료 A 내지 F에서는 15시간 경과 시점에 있어서 활성이 크게 저하되어 있는 것을 알 수 있다.
시료 6에서는 다른 발명예 시료 1, 4, 5와 비교하여 15시간 경과 시점에서의 활성이 낮고, 시료 7에 대해서는 활성이 불안정해지고 있다. 표 2에 기재된 세공 분포를 보면, 시료 6에서는 다른 발명예에 비하여 세공 반경 10nm 이상의 세공으로 형성되는 표면적의 비율이 낮아지고 있고, 세공 반경 10nm 이상의 세공으로 형성되는 비표면적의 비율이 클수록 높은 일산화탄소 전화율이 얻어지는 것이라고 생각된다.
또한, 시료 7에 대하여 표 2에 기재된 세공 분포를 보면, 세공 반경 10nm 이상의 세공으로 형성되는 표면적의 비율은 높지만, 세공 반경 20nm 이상의 세공으로 형성되는 표면적의 비율이 시료 1, 4 내지 6과 비교하여 현저하게 낮아져 있다. 또한, 세공 반경 80nm 이상의 세공으로 형성되는 표면적의 비율도 시료 1, 4 내지 6과 비교하여 낮아져 있는 것을 알 수 있다. 세공 반경 10nm 이상의 세공으로 형성되는 비표면적의 비율이 높은 경우에도 세공 반경 20nm 이상의 비교적 큰 세공 및 세공 반경 80nm 이상의 보다 큰 세공으로 형성되는 비표면적의 비율이 낮은 경우에는 부생 농황산의 탈리 속도가 불충분해지기 쉬운 것이 원인이라고 추정된다.
이로부터 촉매가 안정된 활성을 유지하기 위해서는 세공 반경 10nm 이상의 세공으로 형성되는 표면적의 비율이 큰 것 외에, 세공 반경 20nm 이상의 세공으로 형성되는 표면적의 비율이 높은 쪽이 보다 바람직한 것을 알 수 있다. 또한, 세공 반경 80nm 이상의 세공으로 형성되는 표면적의 비율이 높은 쪽이 보다 바람직한 것을 알 수 있다.
시료 B에서는 한번 일산화탄소 전화율이 저하된 이후에도 간헐적으로 활성이 높아지는 현상이 관측되고 있다. 이로부터 시료 B의 세공 분포가 약간 변화하여 세공 반경 2nm 이상 100nm 이하의 범위의 세공에 있어서 이러한 범위의 세공의 전체 표면적에 차지하는 세공 반경 10nm 이상의 세공의 표면적의 비율이 40% 초과가 되면, 활성의 대폭적인 저하를 피할 수 있을 가능성이 있다.
귀금속 담지량이 적은 시료 8에 대해서는 사용하는 촉매의 양을 증대시키고, 다른 시료와 동량의 귀금속을 포함하는 양의 촉매를 이용한 결과, 시료 1과 동일 정도의 활성이 얻어지고 있는 것을 알 수 있다. 이로부터 귀금속 담지량을 감소시킨 경우에도 단위 귀금속량당에서 보면 동일 정도의 활성이 얻어지는 것이라고 추정된다.
또한, 시료 F에서는 일산화탄소 전화율이 대폭 저하될 때까지 필요로 하는 시간이 시료 A 내지 E보다도 길어져 있는 것을 알 수 있다. 이는 크게 2가지 요인에 의해 발생하고 있다고 생각된다.
첫째 큰 세공 용적이다. 평균 세공 직경이 작고, 세공 용적이 큰 점에서, 시료 전체적으로 세공의 총 연장 거리가 길어져 있다고 이해할 수 있다. 비표면적이 큰 것도 고려하면, 세공이 매우 복잡한 그물눈 구조를 이루고 있다고 예상할 수 있고, 세공이 완전히 폐색할 때까지 필요해지는 시간이 길어진 것이라고 생각된다. 상기와 마찬가지의 논의에서 시료 B와 시료 C, D에서의 거동의 차이도 설명할 수 있다고 생각된다. 즉, 세공 반경 2nm 이상 100nm 이하의 범위의 세공에 있어서, 이러한 범위의 세공의 전체 표면적에 차지하는 세공 반경 10nm 이상의 세공의 표면적의 비율에 착안한 경우에는 시료 C, D는 시료 B보다도 높은 안정성이 기대되지만, 시료 C, D는 시료 B에 비하여 세공 용적이 현저하게 작기 때문에 세공이 폐색하는 데 필요한 시간이 짧았다고 생각된다.
둘째 알루미나 담체 자체가 농황산과 반응하여 황산염이 되는 것을 들 수 있다. 다른 티타니아나 지르코니아 담체에서는 담체의 최표면만 농황산과 반응하기 때문에, 부생성물로서 생성한 농황산이 그대로 농황산으로서 머물고, 세공을 폐색시키는 작용을 한 것이라고 생각된다. 한편, 알루미나 담체는 농황산과 반응하여 황산염을 형성하고, 농황산으로서 머무는 황산염의 양이 상대적으로 감소한다. 이들 요인에 의해 일산화탄소 전화율이 저하될 때까지 필요로 하는 시간이 많아진 것이라고 생각된다. 그러나, 알루미나 담체의 경우에 있어서는 담체와 복제한 농황산이 반응하는 것이 원인이 되고, 반응 시간이 길어짐에 따라 완만하게 활성 저하가 발생한다. 또한, 반응 후에는 대폭적인 비표면적의 저하가 발생하고 있는 것이 발명자가 실시한 실험에서 확인되어 있고, 장기적인 이용에는 적합하지 않다고 이해할 수 있다.
(시험예 2: 산화 반응의 온도 의존성)
발명예인 시료 1, 4 및 비교예인 시료 B에 대하여 일산화탄소 산화 활성의 온도 의존성을 조사하였다.
3종류의 각 촉매 1mg 각각에 대하여 30mg의 담체 1, 2, 7을 각각 혼합하여 희석하고, 각각 석영 유리관에 충전하였다.
60cm3/분의 수소 기류 중, 500℃에서 1시간 환원 처리를 행한 후에 250℃까지 강온하였다. 100cm3/분의 질소 기류 중에서 10분간 퍼지를 행한 후에 유량 100cm3/분으로 표 4에 나타내는 조성의 가스를 흘려 반응을 행하였다. 본 시험에서는 다른 시험예에 비하여 촉매량이 상대적으로 적은 조건에서 반응 시험을 행하였다. 가스와 촉매량의 상대비를 나타내는 공간 속도는 대강 6000000cm3·시간(hour)-1·촉매 질량(g)- 1이다. 반응 온도 250℃, 대기압에서 20시간 반응을 행한 후에 반응 온도를 상승시키고, 일산화탄소 전화율을 측정하였다.
결과를 도 7에 나타낸다. 시료 B에서는 300℃ 전후에 있어서 일산화탄소 전화율이 급준하게 변화하고 있다. 본 실험 조건에서의 수증기 분압과 300℃에서 평형에 달하는 농도의 농황산은 비점이 약 300℃ 정도이고(예를 들어 상기 비특허문헌 8을 참조), 온도의 상승에 의해 농황산에 의한 세공의 폐색에 의한 영향이 없어진 것이라고 생각된다.
또한, 300℃ 미만의 온도 영역에 있어서는 실시예와 비교예의 차가 커져 있고, 시료 B의 촉매 활성이 매우 낮아져 있는 것을 알 수 있다. 농황산의 포화 증기압이 낮은 영역에서 세공 폐색에 의한 영향이 현재화된 것이라고 생각된다. 이들 점으로부터도 실시예에서는 농황산에 의한 세공 폐색의 영향이 작고, 높은 활성이 얻어지고 있다고 생각된다.
또한, 백금의 담지량이 0.03질량% 이하인 경우에 대해서는 백금 미립자가 임계 입경 정도의 미세 입자로서 존재한다고 생각되고, 0.03질량% 이하의 귀금속 담지량의 경우에도 단위 귀금속당으로 환산하면 동일 정도의 촉매 활성이 얻어질 것으로 예상된다. 예를 들어 담지량 0.01%의 촉매에 있어서도 당 발명의 효과가 발휘되고, 세공 반경 10nm 이상의 세공이 차지하는 표면적의 비율이 높은 촉매를 이용함으로써, 300℃ 이하의 범위에서의 활성이 세공 반경 10nm 이상의 세공이 차지하는 표면적의 비율이 낮은 촉매에 비하여 높아진다고 생각된다.
(시험예 3: 이산화유황 농도, 수증기 농도의 영향)
시료 B에 대하여 시험예 1과 마찬가지의 측정을 행하였다. 그 후에 표 4에 나타내는 가스 조성으로부터 이산화유황을 20ppm으로 또는 수증기량을 10%로 한 각각의 경우에서 측정을 행하였다. 그 결과, 각각 일산화탄소 전화율은 9.4%, 7.4%이고, 가스 조성을 바꾸기 전의 8.4%와 크게 차가 없는 값이 되었다. 이 점에서 시료 B에서 보인 농황산에 의한 세공의 폐색은 이산화유황과 수증기의 농도가 상이하여도 발생하는 것이라고 생각된다.
(시험예 4: Pt, Rh, Pd 담지 촉매)
시료 1 내지 3, 시료 G, H에 대하여 일산화탄소 산화 반응 시험을 행하였다. 시료 1 내지 3의 각 촉매 10mg 각각에 대하여 20mg의 담체 1을 각각 혼합하여 희석하고, 각각 석영 유리관에 충전하였다. 또한, 시료 G, H의 각 촉매 10mg 각각에 대하여 20mg의 담체 5를 각각 혼합하여 희석하고, 각각 석영 유리관에 충전하였다. 100cm3/분의 질소 기류 중에서 250℃까지 승온하였다. 온도가 안정된 것을 확인한 후에 유량 100cm3/분으로 표 4에 나타내는 조성의 가스를 흘려 반응을 행하였다. 가스와 촉매량의 상대비를 나타내는 공간 속도는 대강 600000cm3·시간(hour)-1·촉매 질량(g)-1이다.
결과를 도 8에 나타낸다. 시료 1 내지 3을 보면, 담지한 금속종에 따라 크게 활성이 상이하고, 특히 백금에서 높은 일산화탄소 전화율이 얻어지고 있는 것을 알 수 있다. 또한, 시료 2, 3과 시료 G, H를 비교하면, 담지한 귀금속종이 Pd, Rh인 경우에 있어서도 세공 반경 10nm 이상의 세공으로 형성되는 표면적의 비율이 높은 담체에 있어서 더 높은 CO 전화율이 얻어지고 있는 것을 알 수 있다.
(시험예 5: 이산화티타늄 담체종의 영향)
시료 1, 4, 6에 대하여 일산화탄소 산화 반응 시험을 행하였다. 3종류의 각 촉매 10mg 각각에 대하여 20mg의 담체 1, 2, 4를 각각 혼합하여 희석하고, 각각 석영 유리관에 충전하였다. 반응 개시 전에 500℃, 60cm3/분의 수소 기류하에서의 환원 처리를 행한 것과 행하지 않은 것의 양쪽에 대하여 반응 온도 250℃, 유량 100cm3/분으로 표 4에 나타내는 조성의 가스를 흘려 반응을 행하였다.
결과를 도 9a 내지 도 9c에 나타낸다. 시료 1에서는 환원 처리의 유무에 관계없이 동일 정도의 일산화탄소 전화율이 얻어지고 있지만, 시료 4, 6에서는 환원 처리의 유무에 따라 크게 활성이 변화하고, 환원 처리를 행하지 않은 경우에서는 활성이 나오지 않았다. 시료 1에서 이용된 이산화티타늄 담체는 황산법으로 제작된 아나타제형 구조의 담체이고, 시료 5의 루틸형 구조에 비하여 산소 결손량이 적고, 담지된 백금을 산화하기 어려운 것이 알려져 있고, 환원 처리가 없는 경우에도 높은 활성이 나오기 쉬운 것이라고 생각된다. 또한, 황산법으로 제작된 아나타제형 구조는 시료 6의 염소법으로 제작된 아나타제형 구조에 비하여 500℃ 이상의 온도에서의 상전이가 발생하기 어려운 것이 알려져 있다. 이 때문에, 시료 1에서는 환원 처리가 없는 경우에도 환원 처리가 있는 경우와 동일 정도의 일산화탄소 전화율이 얻어진 것이라고 생각된다.
(시험예 6: 탈질 프로세스에 대한 적용)
시료 1, 2, 5의 분말 각각을 4.2mm 피치(벽 두께 0.5mm)의 코디에라이트제 하니컴 소재에 대하여 기재 표면적당 200g/m2로 코팅하고, 하니컴 형상 촉매 1, 2, 3을 얻었다. 탈질 촉매에는 3.3mm 피치의 코디에라이트제 하니컴에 대하여 이산화티타늄계 탈질 촉매를 기재 표면적당 200g/m2로 코팅한 격자 형상 촉매를 이용하였다.
상기 하니컴 형상 촉매 1, 2, 3 각각을 이용하여 도 1에 도시하는 탈질 프로세스의 검토를 행하였다. 도 1의 장치 구성에 있어서 가스 가열 버너(2) 대신에 투입형의 전열 히터를 사용하고, 열교환부(1)에는 쉘 앤드 튜브형의 열교환기를 이용하였다. 장치 전체를 충분히 보온한 상태에서 탈질 반응 시험을 행하였다. 연소 촉매부(3)에 충전하는 연소 촉매로서는 상기 하니컴 형상 촉매 1, 2, 3을 이용하고, 충전량은 1.2L로 하였다. 또한, 탈질 촉매부(4)에는 상기 격자 형상 촉매를 5L 충전하였다. 배기 가스의 조성은 철강 제조 프로세스의 소결로 배기 가스를 모의한 표 5 기재의 조성의 가스를 이용하였다.
본 발명의 하니컴 형상 산화 촉매 1, 2, 3을 1.2L, 탈질 촉매를 1.6L 충전하고, 열교환부의 입구로부터 표 5의 조성을 갖는 60℃의 배기 가스를 30Nm3/시간(hour)으로 유입시켰다. 전열 히터의 전원을 넣고, 연소 촉매부 입구의 온도가 200℃에 도달한 시점에서 탈질 장치부(4)의 상류로부터 암모니아를 일산화질소에 대한 유량비가 0.9가 되도록 주입을 개시하고, 전열 히터의 전원을 껐다. 하니컴 형상 촉매 1, 2, 3의 모든 경우에 있어서 양호한 탈질율이 유지되었다. 그 결과를 표 6에 나타낸다.
(시험예 7: 탈질 프로세스에 대한 적용)
시료 1, 2, 5의 분말 각각을 4.2mm 피치(벽 두께 0.5mm)의 코디에라이트제 하니컴 소재에 대하여 기재 표면적당 200g/m2로 코팅하고, 하니컴 형상 촉매 1, 2, 3을 얻었다.
상기 하니컴 형상 촉매 1, 2, 3 각각을 이용하여 도 2에 도시하는 탈질 프로세스의 검토를 행하였다. 도 2의 장치 구성에 있어서 가스 가열 버너(12) 대신에 투입형의 전열 히터를 사용하고, 열교환부(11)에는 쉘 앤도 튜브형의 열교환기를 이용하였다. 탈질 촉매부(13)에는 3.3mm 피치의 이산화티타늄계 격자 형상 촉매를 충전하고, 장치 전체를 충분히 보온한 상태에서 탈질 반응 시험을 행하였다. 연소 촉매부(14)에 충전하는 연소 촉매로서는 상기 하니컴 형상 촉매 1, 2, 3을 이용하고, 배기 가스의 조성은 시험예 6과 마찬가지로 표 5 기재의 조성의 가스를 이용하였다.
하니컴 형상 촉매 1, 2, 3을 1.2L, 탈질 촉매를 1.6L 충전하고, 열교환부의 입구로부터 표 5의 조성을 갖는 60℃의 배기 가스를 30Nm3/시간(hour)으로 유입시켰다. 전열 히터의 전원을 넣고, 연소 촉매부 입구의 온도가 280℃에 도달한 시점에서 탈질 장치부(13)의 상류로부터 암모니아를 일산화질소에 대한 유량비가 0.9가 되도록 주입을 개시하고, 전열 히터의 전원을 껐다. 하니컴 형상 촉매 1, 2, 3의 모든 경우에 있어서 양호한 탈질율이 유지되었다. 그 결과를 표 7에 나타낸다.
또한, 탈질 장치부에서는 NO가 NH3와 반응함으로써 탈질되지만, NO의 농도가 낮고, 발열량도 높지 않은 점에서, 탈질 장치부의 입구와 출구에서의 온도 차는 얼마 되지 않는다.
이상, 첨부 도면을 참조하면서 본 발명의 적합한 실시 형태에 대하여 상세하게 설명하였지만, 본 발명은 이러한 예에 한정되지 않는다. 본 발명이 속하는 기술의 분야에 있어서의 통상의 지식을 갖는 사람이라면, 특허 청구 범위에 기재된 기술적 사상의 범주 내에서 각종 변경예 또는 수정예에 상도할 수 있는 것은 명확해지고, 이들에 대해서도 당연히 본 발명의 기술적 범위에 속하는 것이라고 이해된다.
1 : 열교환부
2 : 가스 가열 버너
3 : 연소 촉매부
4 : 탈질 장치부
11 : 열교환부
12 : 가스 가열 버너
13 : 탈질 장치부
14 : 연소 촉매부
21 : 배기 공기 유로 전환기
22a, 22b : 축열부
23a, 23b : 연료 가스 공급부
24a, 24b : 혼합기 분사부
25 : 공간
26 : 공기 도입 경로
27 : 배기 가스 경로
28a, 28b : 2차 공기 도입 경로
2 : 가스 가열 버너
3 : 연소 촉매부
4 : 탈질 장치부
11 : 열교환부
12 : 가스 가열 버너
13 : 탈질 장치부
14 : 연소 촉매부
21 : 배기 공기 유로 전환기
22a, 22b : 축열부
23a, 23b : 연료 가스 공급부
24a, 24b : 혼합기 분사부
25 : 공간
26 : 공기 도입 경로
27 : 배기 가스 경로
28a, 28b : 2차 공기 도입 경로
Claims (23)
- 담체에 백금, 팔라듐, 로듐으로 이루어지는 군에서 선택되는 전이 원소 중 적어도 1종이 담지된 산화 촉매로서,
상기 산화 촉매에 있어서의 세공 반경 2nm 이상 100nm 이하의 범위의 세공에 있어서, 당해 범위의 세공의 전체 표면적에 차지하는 세공 반경 10nm 이상의 세공으로 형성되는 표면적의 비율이 49% 초과인, 산화 촉매. - 담체에 백금, 팔라듐, 로듐으로 이루어지는 군에서 선택되는 전이 원소 중 적어도 1종이 담지된 가스 중의 가연 성분을 산화하는 산화 촉매로서,
상기 산화 촉매에 있어서의 세공 반경 2nm 이상 100nm 이하의 범위의 세공에 있어서, 당해 범위의 세공의 전체 표면적에 차지하는 세공 반경 10nm 이상의 세공으로 형성되는 표면적의 비율이 49% 초과인, 산화 촉매. - 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 범위의 세공의 전체 표면적에 차지하는 세공 반경 10nm 이상의 세공으로 형성되는 표면적의 비율이 60% 이상인, 산화 촉매.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 범위의 세공의 전체 표면적에 차지하는 세공 반경 20nm 이상의 세공으로 형성되는 표면적의 비율이 20% 이상인, 산화 촉매.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 범위의 세공의 전체 표면적에 차지하는 세공 반경 20nm 이상의 세공으로 형성되는 표면적의 비율이 30% 이상인, 산화 촉매.
- 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 범위의 세공의 전체 표면적에 차지하는 세공 반경 80nm 이상의 세공으로 형성되는 표면적의 비율이 2% 이상인, 산화 촉매.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 비표면적이 20m2/g 이하인, 산화 촉매.
- 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 산화 촉매에 담지되는 상기 전이 금속이 백금인, 산화 촉매.
- 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 산화 촉매에 담지되는 상기 전이 원소의 비율이 당해 전이 원소의 금속 환산의 질량비의 합으로서 상기 산화 촉매의 전체 질량에 대하여 0.01% 이상 2.0% 이하인, 산화 촉매.
- 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 산화 촉매의 담체가 융점 1300℃ 이상의 산화물 담체인, 산화 촉매.
- 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 산화 촉매의 담체가 이산화티타늄 또는 산화지르코늄 중 어느 하나인, 산화 촉매.
- 제11항에 있어서, 상기 산화 촉매의 담체가 아나타제형 구조의 이산화티타늄인, 산화 촉매.
- 제11항 또는 제12항에 있어서, 상기 이산화티타늄은 황산법으로 제조된 이산화티타늄인, 산화 촉매.
- 촉매를 이용하여 피처리 가스 중에 포함되는 미연소 성분을 연소시키는 연소 촉매부를 구비하고,
상기 연소 촉매부에 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 기재된 산화 촉매가 충전되어 있는, 배기 가스 처리 장치. - 제14항에 있어서, 상기 연소 촉매부의 전단에 설치되고, 상기 피처리 가스의 온도를 상승시키는 가스 가열부와, 상기 연소 촉매부의 후단에 설치되고, 상기 피처리 가스 중의 질소산화물을 제거하는 탈질부를 더 구비하는, 배기 가스 처리 장치.
- 제14항에 있어서, 상기 연소 촉매부의 전단에 설치되고, 상기 피처리 가스 중의 질소산화물을 제거하는 탈질부와, 상기 탈질부의 전단에 설치되고, 상기 피처리 가스의 온도를 상승시키는 가스 가열부를 더 구비하고, 상기 연소 촉매부에서 발생한 연소열이 상기 가스 가열부에 공급되는 상기 피처리 가스의 가열에 이용되는, 배기 가스 처리 장치.
- 연료 및 연소 공기의 혼합기를 분사하는 혼합기 분사부와, 축열체가 배치되어 있고, 피처리 가스를 유통시켜 현열을 축열체에 축열하고, 축열 후에 연소 공기를 유통시켜 축열한 열량으로 당해 연소 공기를 가열하는 축열부를 구비하고,
상기 축열부와 상기 혼합기 분사부의 사이에 설치된 연소 촉매부 또는 상기 축열부에는 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 기재된 산화 촉매가 충전되어 있는, 축열 연소 버너. - 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 기재된 산화 촉매를 이용하여 수증기 및 황산화물을 포함하는 피처리 가스 중의 일산화탄소, 일산화질소, 메탄으로 이루어지는 군에서 선택되는 가연 성분을 산화하는, 가스 중의 가연 성분을 산화하는 방법.
- 제18항에 있어서, 상기 피처리 가스와 상기 산화 촉매의 접촉하는 온도가 250℃ 이상 300℃ 미만인, 가스 중의 가연 성분을 산화하는 방법.
- 피처리 가스의 온도를 상승시키는 가스 가열부와, 피처리 가스 중의 질소산화물을 제거하는 탈질부를 갖는 가스 처리 프로세스를 이용하고, 질소산화물을 포함함과 함께 수증기와 황산화물과 가연성 가스를 포함하는 피처리 가스 중의 질소산화물을 제거하는 방법으로서,
상기 가스 가열부와 상기 탈질부의 사이에 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 기재된 산화 촉매가 충전된 연소 촉매부를 배치하고,
당해 연소 촉매부에 상기 가스 가열부에서 가열된 상기 피처리 가스를 통과시켜 상기 피처리 가스 중의 가연 성분을 연소하고, 그 연소열에 의해 상기 피처리 가스의 온도를 더 상승시키는, 가스 중의 질소산화물의 제거 방법. - 제20항에 있어서, 상기 가스 가열부로서 열교환기와 가스 가열 버너 또는 전열 히터를 이용하고, 상기 탈질부로부터 배출된 가스를 상기 열교환기의 고온 가스로서 사용하는, 가스 중의 질소산화물의 제거 방법.
- 제20항에 있어서, 상기 가스 가열부로서 열교환기와, 가스 가열 버너 또는 전열 히터를 이용하고, 상기 연소 촉매부의 위치를 상기 가스 가열부와 상기 탈질부의 사이로부터 상기 가스 가열부 및 상기 탈질부의 후단에 배치를 바꾸고, 상기 연소 촉매부로부터 배출된 가스를 상기 열교환기의 고온 가스로서 사용하는, 가스 중의 질소산화물의 제거 방법.
- 제20항 내지 제22항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 피처리 가스가 철강 제조 프로세스에 있어서의 소결로의 배기 가스인, 가스 중의 질소산화물의 제거 방법.
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