KR20150059610A - 표시 장치 제조용의 위상 시프트 마스크 블랭크, 표시 장치 제조용의 위상 시프트 마스크 및 그 제조 방법, 및 표시 장치의 제조 방법 - Google Patents

표시 장치 제조용의 위상 시프트 마스크 블랭크, 표시 장치 제조용의 위상 시프트 마스크 및 그 제조 방법, 및 표시 장치의 제조 방법 Download PDF

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유따까 요시까와
마사오 우시다
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호야 가부시키가이샤
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180076296A (ko) * 2016-12-27 2018-07-05 호야 가부시키가이샤 위상 시프트 마스크 블랭크 및 이것을 사용한 위상 시프트 마스크의 제조 방법, 및 표시 장치의 제조 방법
KR20180084635A (ko) * 2017-01-16 2018-07-25 호야 가부시키가이샤 표시 장치 제조용 위상 시프트 마스크 블랭크, 표시 장치 제조용 위상 시프트 마스크의 제조 방법 및 표시 장치의 제조 방법
KR20180099601A (ko) * 2015-09-26 2018-09-05 호야 가부시키가이샤 포토마스크의 제조 방법, 포토마스크 및 표시 장치의 제조 방법

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6767735B2 (ja) * 2015-06-30 2020-10-14 Hoya株式会社 フォトマスク、フォトマスクの設計方法、フォトマスクブランク、および表示装置の製造方法
JP6626813B2 (ja) * 2016-03-16 2019-12-25 エスアンドエス テック カンパニー リミテッド 位相反転ブランクマスク及びフォトマスク
CN108319104B (zh) * 2017-01-16 2023-05-02 Hoya株式会社 显示装置制造用相移掩模坯料、显示装置制造用相移掩模的制造方法及显示装置的制造方法
CN108319103B (zh) * 2017-01-16 2023-11-28 Hoya株式会社 相移掩模坯料及使用其的相移掩模的制造方法、以及显示装置的制造方法
JP7176843B2 (ja) * 2017-01-18 2022-11-22 Hoya株式会社 表示装置製造用の位相シフトマスクブランク、表示装置製造用の位相シフトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法
KR102568807B1 (ko) * 2017-03-28 2023-08-21 호야 가부시키가이샤 위상 시프트 마스크 블랭크 및 그것을 사용한 위상 시프트 마스크의 제조 방법, 그리고 패턴 전사 방법
CA3081777A1 (en) 2017-11-06 2019-05-09 Asml Netherlands B.V. Metal-silicide-nitridation for stress reduction
JP7037919B2 (ja) * 2017-11-14 2022-03-17 アルバック成膜株式会社 マスクブランク、ハーフトーンマスクおよびその製造方法
JP2018173644A (ja) * 2018-05-31 2018-11-08 Hoya株式会社 位相シフトマスクブランク及びこれを用いた位相シフトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法
JP6927177B2 (ja) * 2018-09-26 2021-08-25 信越化学工業株式会社 位相シフト型フォトマスクブランク及び位相シフト型フォトマスク
JP6840807B2 (ja) * 2019-09-10 2021-03-10 Hoya株式会社 フォトマスクの設計方法および製造方法、並びに表示装置の製造方法
JP2021149101A (ja) 2020-03-16 2021-09-27 Hoya株式会社 フォトマスク、及び表示装置の製造方法
US20220390827A1 (en) * 2021-06-07 2022-12-08 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Lithography mask and methods
JP7346527B2 (ja) * 2021-11-25 2023-09-19 Hoya株式会社 マスクブランク、転写用マスク、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、及び表示装置の製造方法
US20230317452A1 (en) * 2022-03-31 2023-10-05 Nanya Technology Corporation Hard mask structure

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5674647A (en) * 1992-11-21 1997-10-07 Ulvac Coating Corporation Phase shift mask and manufacturing method thereof and exposure method using phase shift mask
US7011910B2 (en) * 2002-04-26 2006-03-14 Hoya Corporation Halftone-type phase-shift mask blank, and halftone-type phase-shift mask
JP3727331B2 (ja) * 2002-04-30 2005-12-14 松下電器産業株式会社 パターン形成方法
US7045255B2 (en) * 2002-04-30 2006-05-16 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Photomask and method for producing the same
JP4249509B2 (ja) * 2003-02-27 2009-04-02 大日本印刷株式会社 位相シフトレチクルの製造方法および位相シフター欠陥修正方法
KR101143005B1 (ko) * 2004-12-14 2012-05-08 삼성전자주식회사 마스크 및 이를 이용한 반도체 소자의 제조 방법 및 박막트랜지스터 표시판의 제조 방법
JP2007271696A (ja) * 2006-03-30 2007-10-18 Hoya Corp グレートーンマスクブランク及びフォトマスク
JP4840879B2 (ja) * 2007-08-10 2011-12-21 エスアンドエス テック カンパニー リミテッド グレートーンブランクマスク及びグレートーンフォトマスク並びにそれらの製造方法
JP4849276B2 (ja) * 2008-08-15 2012-01-11 信越化学工業株式会社 グレートーンマスクブランク、グレートーンマスク、及び製品加工標識又は製品情報標識の形成方法
WO2010032753A1 (ja) * 2008-09-18 2010-03-25 株式会社ニコン 開口絞り、光学系、露光装置及び電子デバイスの製造方法
TWI440964B (zh) * 2009-01-27 2014-06-11 Hoya Corp 多調式光罩、多調式光罩之製造方法及圖案轉印方法
JP5662032B2 (ja) * 2010-02-05 2015-01-28 アルバック成膜株式会社 マスクブランクス及びハーフトーンマスク
TWI461833B (zh) * 2010-03-15 2014-11-21 Hoya Corp 多調式光罩、多調式光罩之製造方法及圖案轉印方法
JP5357341B2 (ja) * 2010-09-30 2013-12-04 Ｈｏｙａ株式会社 マスクブランク及びその製造方法並びに転写用マスク
KR101151685B1 (ko) * 2011-04-22 2012-07-20 주식회사 에스앤에스텍 블랭크 마스크 및 포토마스크
JP5286455B1 (ja) * 2012-03-23 2013-09-11 Ｈｏｙａ株式会社 マスクブランク、転写用マスクおよびこれらの製造方法
JP5538513B2 (ja) * 2012-12-12 2014-07-02 Ｈｏｙａ株式会社 多階調フォトマスク、パターン転写方法及び薄膜トランジスタの製造方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180099601A (ko) * 2015-09-26 2018-09-05 호야 가부시키가이샤 포토마스크의 제조 방법, 포토마스크 및 표시 장치의 제조 방법
KR20180076296A (ko) * 2016-12-27 2018-07-05 호야 가부시키가이샤 위상 시프트 마스크 블랭크 및 이것을 사용한 위상 시프트 마스크의 제조 방법, 및 표시 장치의 제조 방법
KR20180084635A (ko) * 2017-01-16 2018-07-25 호야 가부시키가이샤 표시 장치 제조용 위상 시프트 마스크 블랭크, 표시 장치 제조용 위상 시프트 마스크의 제조 방법 및 표시 장치의 제조 방법

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