JP2014006469A - マスクブランク、転写用マスク、転写用マスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明のマスクブランクは、転写用マスクを作製するために用いられるものであり、基板上に、前記基板側から第1の膜と第2の膜が順に積層した構造を有する。前記第1の膜は、フッ素系ガスによるドライエッチングが可能な材料からなる。前記第2の膜は、下層と上層の積層構造からなる。前記下層は、モリブデンまたはタングステンを含有し、ケイ素の含有量が0at%以上10at%未満である材料からなる。前記上層は、クロムと酸素を含有し、クロムの含有量が50at%未満であり、酸素の含有量が25at%以上である材料からなる。
【選択図】図1
Description
(構成1)
転写用マスクを作製するために用いられるものであり、基板上に、前記基板側から第1の膜と第2の膜が順に積層した構造を有するマスクブランクであって、
前記第1の膜は、フッ素系ガスによるドライエッチングが可能な材料からなり、
前記第2の膜は、下層と上層の積層構造からなり、
前記下層は、モリブデンまたはタングステンを含有し、ケイ素の含有量が0at%以上10at%未満である材料からなり、
前記上層は、クロムと酸素を含有し、クロムの含有量が50at%未満であり、酸素の含有量が25at%以上である材料からなることを特徴とするマスクブランク。
前記下層は、モリブデンまたはタングステンを含有し、ケイ素を含有しない材料からなることを特徴とする構成1記載のマスクブランク。
(構成3)
前記下層は、さらに窒素を含有する材料からなることを特徴とする構成1または2に記載のマスクブランク。
前記第2の膜は、塩素系ガスと酸素ガスとの混合ガスによるドライエッチングが可能な材料からなることを特徴とする構成1から3のいずれかに記載のマスクブランク。
(構成5)
前記第1の膜は、ケイ素を含有する材料、またはケイ素と遷移金属を含有する材料であって、遷移金属の含有量よりもケイ素の含有量の方が多い材料からなることを特徴とする構成1から4のいずれかに記載のマスクブランク。
前記第1の膜は、第2の膜側の表層に酸化層が形成されていることを特徴とする構成1から5のいずれかに記載のマスクブランク。
(構成7)
前記上層の表面に接してレジスト膜が100nm以下の膜厚で形成されていることを特徴とする構成1から6のいずれかに記載のマスクブランク。
前記第1の膜と第2の膜の積層構造は、ArF露光光に対する光学濃度が2.8以上であることを特徴とする構成1から7のいずれかに記載のマスクブランク。
(構成9)
前記第1の膜は、ArF露光光に対する透過率が1%以上の光半透過膜であることを特徴とする構成1から8のいずれかに記載のマスクブランク。
基板上に、前記基板側から第1のパターンを有する第1の膜と第2のパターンを有する第2の膜が順に積層した転写用マスクであって、
前記第1の膜は、フッ素系ガスによるドライエッチングが可能な材料からなり、
前記第2の膜は、下層と上層の積層構造からなり、
前記下層は、モリブデンまたはタングステンを含有し、ケイ素の含有量が0at%以上10at%未満である材料からなり、
前記上層は、クロムと酸素を含有し、クロムの含有量が50at%未満であり、酸素の含有量が25at%以上である材料からなることを特徴とする転写用マスク。
前記下層は、モリブデンまたはタングステンを含有し、ケイ素を含有しない材料からなることを特徴とする構成10記載の転写用マスク。
(構成12)
前記下層は、さらに窒素を含有する材料からなることを特徴とする構成10または11に記載の転写用マスク。
前記第2の膜は、塩素系ガスと酸素ガスとの混合ガスによるドライエッチングが可能な材料からなることを特徴とする構成10から12のいずれかに記載の転写用マスク。
(構成14)
前記第1の膜は、ケイ素を含有する材料、またはケイ素と遷移金属を含有する材料であって、遷移金属の含有量よりもケイ素の含有量の方が多い材料からなることを特徴とする構成10から13のいずれかに記載の転写用マスク。
前記第1の膜は、第2の膜側の表層に酸化層が形成されていることを特徴とする構成10から14のいずれかに記載の転写用マスク。
(構成16)
前記第1の膜と第2の膜の積層構造は、ArF露光光に対する光学濃度が2.8以上であることを特徴とする構成10から15のいずれかに記載の転写用マスク。
前記第1の膜は、ArF露光光に対する透過率が1%以上の光半透過膜であることを特徴とする構成10から16のいずれかに記載の転写用マスク。
構成1から9のいずれかに記載のマスクブランクを用いる転写用マスクの製造方法であって、
前記第2の膜の表面に接して第1のパターンを有するレジスト膜を形成し、塩素系ガスと酸素ガスとの混合ガスを用いるドライエッチングによって、前記第2の膜に第1のパターンを形成する工程と、
前記第1のパターンを有するレジスト膜を剥離した後、第1のパターンを有する第2の膜をマスクとして、フッ素系ガスを用いるドライエッチングによって、第1の膜に第1のパターンを形成する工程と、
前記第2の膜の表面に接して第2のパターンを有するレジスト膜を形成し、塩素系ガスと酸素ガスとの混合ガスを用いるドライエッチングによって、前記第2の膜に第2のパターンを形成する工程と
を備えることを特徴とする転写用マスクの製造方法。
前記第1のパターンを有するレジスト膜は、膜厚が100nm以下であることを特徴とする構成18に記載の転写用マスクの製造方法。
(構成20)
構成10から17のいずれかに記載の転写用マスクを用い、半導体基板上のレジスト膜に第1のパターンを露光転写する工程を有することを特徴とする半導体デバイスの製造方法。
(構成21)
構成18または19に記載の転写用マスクの製造方法で製造された転写用マスクを用い、半導体基板上のレジスト膜に第1のパターンを露光転写する工程を有することを特徴とする半導体デバイスの製造方法。
本発明者らは、遮光膜(第2の膜)に適用する材料として、光学濃度が高い材料であり、かつ塩素系ガスと酸素ガスの混合ガスによるドライエッチングでのエッチングレートが速い材料について鋭意研究を行った。酸素を含有する材料は、光学濃度が低下することを回避することは困難である。このことから、酸素の含有量の少ないあるいは酸素を含有しない材料で、塩素系ガスと酸素ガスの混合ガスによるドライエッチングのエッチングレートが、酸素及びクロムを含有する材料と同等かそれ以上の速さになる材料について探索を行った。その結果、モリブデンやタングステンが前記の条件を満たすものであることが判明した。
また、No.1〜No.9の各材料について光学濃度を測定し、光学濃度(OD)が1.9の薄膜を形成するのに必要な膜厚を算出した。そして、No.1の膜(CrOCN膜)の膜厚を基準とした比を、No.1〜No.9の各材料についてそれぞれ算出した。
さらに、上記で算出したOD1.9に必要な膜厚比を、上記で算出したエッチングレート比で除することで、No.1〜No.9の各材料のNo.1の膜(CrOCN膜)に対するエッチングタイムの比を算出した。
なお、No.7の膜(MoSiN膜)は、ハーフトーン位相シフト膜として適用可能な光学特性を有する膜である。
なお、下層を形成する材料に酸素を含有させる場合については、光学濃度の低下の観点と、耐薬品性の低下の観点から、含有量を30at%以下とすることが好ましく、20at%以下であるとより好ましい。
(実施例1)
[マスクブランクの製造]
主表面の寸法が約152mm×約152mmで、厚さが約6.25mの合成石英ガラスからなる基板1を準備した。この基板1は、端面及び主表面を所定の表面粗さに研磨され、その後、所定の洗浄処理および乾燥処理を施されたものであった。
次に、実施例1のマスクブランク100を用い、以下の手順で実施例1の転写用マスク200を作製した。最初に、スピン塗布法によって第2の膜3の上層32の表面に接して、電子線描画用化学増幅型レジストからなるレジスト膜4を膜厚80nmで形成した(図2(a)参照)。次に、レジスト膜4に対して、DRAM hp32nm世代の転写パターン(線幅40nmのSRAFを含んだ微細パターン)を電子線描画し、所定の現像処理および洗浄処理を行い、第1のパターンを有するレジスト膜4(第1のレジストパターン4a)を形成した(図2(b)参照)。次に、第1のレジストパターン4aをマスクとし、塩素と酸素の混合ガス(ガス流量比 Cl2:O2=4:1)を用いたドライエッチングを行い、第2の膜3に第1のパターン(エッチングマスクパターン3a)を形成した。続いて、第1のレジストパターン4aを除去した(図2(c)参照)。
作製した実施例1の転写用マスク(ハーフトーン型位相シフトマスク)200を、ArFエキシマレーザーを露光光とする露光装置のマスクステージにセットし、半導体デバイス上のレジスト膜に第1の膜パターン2aを露光転写した。露光後の半導体デバイス上のレジスト膜に所定の現像処理を行い、レジストパターンを形成し、そのレジストパターンをマスクとして、下層膜をドライエッチングし、回路パターンを形成した。半導体デバイスに形成した回路パターンを確認したところ、精度不足に起因する回路パターンの配線短絡や断線はなかった。
[マスクブランクの製造]
実施例1の場合と同様の手順で、主表面の寸法が約152mm×約152mmで、厚さが約6.25mの合成石英ガラスからなる基板を準備した。次に、実施例1の場合と同様の手順で、基板上にMoSiN膜(実施例1の第1の膜2に対応する膜)を形成し、加熱処理を行いMoSiN膜の表層に酸化層を形成した。
次に、比較例1のマスクブランクを用い、以下の手順で比較例1の転写用マスクを作製した。最初に、スピン塗布法によってCr系積層膜の表面に接して、電子線描画用化学増幅型レジストからなるレジスト膜を膜厚80nmで形成した。次に、レジスト膜に対して、DRAM hp32nm世代の転写パターン(線幅40nmのSRAFを含んだ微細パターン)を電子線描画し、所定の現像処理および洗浄処理を行い、第1のパターンを有するレジスト膜(第1のレジストパターン)を形成した。次に、第1のレジストパターンをマスクとし、塩素と酸素の混合ガス(ガス流量比 Cl2:O2=4:1)を用いて、Cr系積層膜に第1のパターン(エッチングマスクパターン)を形成するためのドライエッチングを行った。しかし、Cr系積層膜をエッチングしている途中で第1のレジストパターンが消失してしまい、第1のパターンを形成することができなかった。このため、第1のパターンをMoSiN膜に形成することもできなかった。
2 第1の膜
21 本体部
22 酸化層
2a 第1の膜パターン
3 第2の膜
31 下層
32 上層
3a エッチングマスクパターン
3b 第2の膜パターン
4,5 レジスト膜
4a 第1のレジストパターン
5a 第2のレジストパターン
100 マスクブランク
200 転写用マスク
Claims (21)
- 転写用マスクを作製するために用いられるものであり、基板上に、前記基板側から第1の膜と第2の膜が順に積層した構造を有するマスクブランクであって、
前記第1の膜は、フッ素系ガスによるドライエッチングが可能な材料からなり、
前記第2の膜は、下層と上層の積層構造からなり、
前記下層は、モリブデンまたはタングステンを含有し、ケイ素の含有量が0at%以上10at%未満である材料からなり、
前記上層は、クロムと酸素を含有し、クロムの含有量が50at%未満であり、酸素の含有量が25at%以上である材料からなることを特徴とするマスクブランク。 - 前記下層は、モリブデンまたはタングステンを含有し、ケイ素を含有しない材料からなることを特徴とする請求項1記載のマスクブランク。
- 前記下層は、さらに窒素を含有する材料からなることを特徴とする請求項1または2に記載のマスクブランク。
- 前記第2の膜は、塩素系ガスと酸素ガスとの混合ガスによるドライエッチングが可能な材料からなることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載のマスクブランク。
- 前記第1の膜は、ケイ素を含有する材料、またはケイ素と遷移金属を含有する材料であって、遷移金属の含有量よりもケイ素の含有量の方が多い材料からなることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載のマスクブランク。
- 前記第1の膜は、第2の膜側の表層に酸化層が形成されていることを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載のマスクブランク。
- 前記上層の表面に接してレジスト膜が100nm以下の膜厚で形成されていることを特徴とする請求項1から6のいずれかに記載のマスクブランク。
- 前記第1の膜と第2の膜の積層構造は、ArF露光光に対する光学濃度が2.8以上であることを特徴とする請求項1から7のいずれかに記載のマスクブランク。
- 前記第1の膜は、ArF露光光に対する透過率が1%以上の光半透過膜であることを特徴とする請求項1から8のいずれかに記載のマスクブランク。
- 基板上に、前記基板側から第1のパターンを有する第1の膜と第2のパターンを有する第2の膜が順に積層した転写用マスクであって、
前記第1の膜は、フッ素系ガスによるドライエッチングが可能な材料からなり、
前記第2の膜は、下層と上層の積層構造からなり、
前記下層は、モリブデンまたはタングステンを含有し、ケイ素の含有量が0at%以上10at%未満である材料からなり、
前記上層は、クロムと酸素を含有し、クロムの含有量が50at%未満であり、酸素の含有量が25at%以上である材料からなることを特徴とする転写用マスク。 - 前記下層は、モリブデンまたはタングステンを含有し、ケイ素を含有しない材料からなることを特徴とする請求項10記載の転写用マスク。
- 前記下層は、さらに窒素を含有する材料からなることを特徴とする請求項10または11に記載の転写用マスク。
- 前記第2の膜は、塩素系ガスと酸素ガスとの混合ガスによるドライエッチングが可能な材料からなることを特徴とする請求項10から12のいずれかに記載の転写用マスク。
- 前記第1の膜は、ケイ素を含有する材料、またはケイ素と遷移金属を含有する材料であって、遷移金属の含有量よりもケイ素の含有量の方が多い材料からなることを特徴とする請求項10から13のいずれかに記載の転写用マスク。
- 前記第1の膜は、第2の膜側の表層に酸化層が形成されていることを特徴とする請求項10から14のいずれかに記載の転写用マスク。
- 前記第1の膜と第2の膜の積層構造は、ArF露光光に対する光学濃度が2.8以上であることを特徴とする請求項10から15のいずれかに記載の転写用マスク。
- 前記第1の膜は、ArF露光光に対する透過率が1%以上の光半透過膜であることを特徴とする請求項10から16のいずれかに記載の転写用マスク。
- 請求項1から9のいずれかに記載のマスクブランクを用いる転写用マスクの製造方法であって、
前記第2の膜の表面に接して第1のパターンを有するレジスト膜を形成し、塩素系ガスと酸素ガスとの混合ガスを用いるドライエッチングによって、前記第2の膜に第1のパターンを形成する工程と、
前記第1のパターンを有するレジスト膜を剥離した後、第1のパターンを有する第2の膜をマスクとして、フッ素系ガスを用いるドライエッチングによって、第1の膜に第1のパターンを形成する工程と、
前記第2の膜の表面に接して第2のパターンを有するレジスト膜を形成し、塩素系ガスと酸素ガスとの混合ガスを用いるドライエッチングによって、前記第2の膜に第2のパターンを形成する工程と
を備えることを特徴とする転写用マスクの製造方法。 - 前記第1のパターンを有するレジスト膜は、膜厚が100nm以下であることを特徴とする請求項18に記載の転写用マスクの製造方法。
- 請求項10から17のいずれかに記載の転写用マスクを用い、半導体基板上のレジスト膜に第1のパターンを露光転写する工程を有することを特徴とする半導体デバイスの製造方法。
- 請求項18または19に記載の転写用マスクの製造方法で製造された転写用マスクを用い、半導体基板上のレジスト膜に第1のパターンを露光転写する工程を有することを特徴とする半導体デバイスの製造方法。
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