KR20140114352A - 광학용 투명 접착 시트의 제조방법, 광학용 투명 접착 시트 및 이를 이용한 표시 장치 - Google Patents

광학용 투명 접착 시트의 제조방법, 광학용 투명 접착 시트 및 이를 이용한 표시 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20140114352A
KR20140114352A KR1020147018306A KR20147018306A KR20140114352A KR 20140114352 A KR20140114352 A KR 20140114352A KR 1020147018306 A KR1020147018306 A KR 1020147018306A KR 20147018306 A KR20147018306 A KR 20147018306A KR 20140114352 A KR20140114352 A KR 20140114352A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
adhesive sheet
transparent adhesive
optical
adherend
treatment
Prior art date
Application number
KR1020147018306A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101955059B1 (ko
Inventor
요슈케 오노
타츄야 누노카와
마사노리 나츄카
히로쉬 마타키
Original Assignee
타이카 코포레이션
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 타이카 코포레이션 filed Critical 타이카 코포레이션
Publication of KR20140114352A publication Critical patent/KR20140114352A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101955059B1 publication Critical patent/KR101955059B1/ko

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B38/00—Ancillary operations in connection with laminating processes
    • B32B38/0008—Electrical discharge treatment, e.g. corona, plasma treatment; wave energy or particle radiation
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/06—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B27/08—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/28—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42
    • B32B27/283—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42 comprising polysiloxanes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
    • B32B37/14—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers
    • B32B37/24—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers with at least one layer not being coherent before laminating, e.g. made up from granular material sprinkled onto a substrate
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
    • B32B7/023—Optical properties
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/04—Interconnection of layers
    • B32B7/06—Interconnection of layers permitting easy separation
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/04—Interconnection of layers
    • B32B7/12—Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J183/00—Adhesives based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/10—Adhesives in the form of films or foils without carriers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/20—Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
    • C09J7/22—Plastics; Metallised plastics
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
    • B32B2307/412—Transparent
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
    • B32B2307/42—Polarizing, birefringent, filtering
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/50—Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
    • B32B2307/536—Hardness
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/70—Other properties
    • B32B2307/748—Releasability
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2310/00—Treatment by energy or chemical effects
    • B32B2310/08—Treatment by energy or chemical effects by wave energy or particle radiation
    • B32B2310/0806—Treatment by energy or chemical effects by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation
    • B32B2310/0831—Treatment by energy or chemical effects by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation using UV radiation
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2405/00—Adhesive articles, e.g. adhesive tapes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00—Electrical equipment
    • B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2551/00—Optical elements
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
    • B32B37/12—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by using adhesives
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B38/00—Ancillary operations in connection with laminating processes
    • B32B38/0004—Cutting, tearing or severing, e.g. bursting; Cutter details
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B39/00—Layout of apparatus or plants, e.g. modular laminating systems
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2203/00—Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2203/318—Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils for the production of liquid crystal displays
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2301/00—Additional features of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2301/40—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the presence of essential components
    • C09J2301/416—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the presence of essential components use of irradiation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2483/00—Presence of polysiloxane
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/28—Web or sheet containing structurally defined element or component and having an adhesive outermost layer
    • Y10T428/2809—Web or sheet containing structurally defined element or component and having an adhesive outermost layer including irradiated or wave energy treated component

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Adhesive Tapes (AREA)

Abstract

본 발명은 상기 종래 기술의 문제점의 관점에서, 접착성과 재작업성을 둘다 만족시킬 수 있는 광학용 투명 접착 시트를 개시한다.
광학 부품 조립용 실리콘 광학용 투명 접착시트의 제조방법으로서,
상기 광학용 투명 접착 시트의 피착물과 접하는 접착면의 적어도 일부 또는 전체에 자외선 조사에 의한 표면 활성화 처리를 하여, 적층 이전 박리 강도에 비해 피착물에 적층한 이후 박리 강도가 시간에 따라 증가하는 표면 활성화 처리된 면을 형성하는 것을 특징으로 하는 광학용 투명 접착시트의 제조방법 및 그 제조방법으로부터 얻어지는 광학용 투명 접착시트를 제공한다.

Description

광학용 투명 접착 시트의 제조방법, 광학용 투명 접착 시트 및 이를 이용한 표시 장치 {Method for Producing Transparent Adhesive Sheet for Optical Applications, Transparent Adhesive Sheet for Optical Applications, and Display Device Using Same}
본 발명은 광학용 투명 접착 시트(transparent adhesive sheet for optics)의 제조 방법, 광학용 투명 접착 시트 및 이를 이용한 표시 장치(display apparatus)에 관한 것으로, 더욱 상세하게는, 접착성 및 재작업성(rework property)을 모두 만족하는 광학용 투명 접착 시트의 제조 방법, 광학용 투명 접착 시트 및 이를 이용한 표시 장치에 관한 것이다.
종래부터 각종 광학 장비, 전기 장비 또는 전자 장비 (부품 포함)의 어셈블리(assembly)에, 기능성 접착 시트가 적용되어왔다. 그 중에서도 생산성의 관점에서 적층(lamination) 제품의 재작업 (즉, 수리 등을 위해 피착물 (액정 표시 장치나 보호 패널 등)에서 박리하여 다시 적층하는 작업이며, 수리라고도 한다.) 에 응용할 수 있는 접착 시트가 요구되어왔고, 특히 부품이 비싼 액정 표시 장치 (이하 LCD라고도 한다.) 에 대한 적층에서, 재작업에 응용 가능한 접착 시트가 강하게 요구되어 왔다.
한편, 피착물과의 접착성 확보도 요구되지만, 접착성 및 재작업성은 상반되는 특성 때문에 둘다 충족되는 것이 곤란했다.
또한 최근에는, 기능성 접착 시트와 피착물이 적층된 어셈블리 부품의 현실적인 신뢰성의 관점에서, 접착성 (점성)이 더 높은 기능성 접착 시트가 요구되고 있는데, (1) 상기 어셈블리 제품 (예를 들어 LCD / 기능성 접착 시트 / 보호 패널의 적층체) 의 표면으로부터 가압 압자(pressurization element)에 점 하중을 가하여, 기능성 접착 시트의 박리 및 기포 발생을 확인하는 점 가압 시험(point pressurization test)을 통과하기에 충분히 큰 접착성을 확보하면, 다른 한편으로는 (2) 어셈블리의 기능성 접착 시트 표면에 있는 박리 보호 시트의 가벼운 박리성을 유지해서 작업성을 확보하는 것과 (3) 접착 갭(adhesion gap)이나 부품의 수리나 교환의 재작업성이 현저히 감소하게 된다. 따라서 접착성과 재작업을 모두 만족하는 것이 힘들어지고 있다.
상기 상황에서, 상기 (1)의 과제를 개선하거나 해결하기 위한 기술로서, 종래부터 각종 방안들이 제안되고 있다.
즉 (i) 접착성 향상의 관점에서, 접착 시트의 압감 접착 층(pressure sensitive adhesive layer)에 자외선 처리를 실시하여, 기재(substrate)와의 접착성을 향상시키는 각종 기술들이 제안되고 있다 (예를 들면, 특허 문헌 1 내지 3 참조).
예를 들면, 특허 문헌 2에는 기재와 접착 층과의 결합력이 뛰어난 접착 시트의 제조 방법에 있어서, 상기 기재와 결합되는 공지의 각종 접착 층의 표면은 코로나 방전 처리, 플라즈마 처리, 자외선 처리 등의 활성화 처리가 되어 있으며, 자외선 처리의 경우에는 10 mJ/cm 이상의 에너지로 조사하고, 또한 코로나 처리의 경우에는 무첨가 폴리에틸렌 필름의 표면 젖음 지수(surface wetting index)가 34 dyn/cm 이상이며, 바람직하게는 40 dyn/cm 이상으로 처리하는 접착 시트의 제조 방법이 개시되어 있다.
그러나 압감 접착제의 재질에 따라 그 자외선 처리 등에 의한 접착성의 향상 효과와 안정성이 달라 반드시 만능의 방법은 아니다. 특히 투명성과 내열성이 뛰어난 광학용 소재로 주목 받고 있는 실리콘 압감 접착제에 관해서는, 표면 활성화 처리에 의해 친수화 된 실리콘 표면이 신속하게 소수화 되는 실리콘 특유의 성질을 가지기 때문에, 표면 처리 효과가 단시간에 비활성화되므로, 표면 활성화 처리에 의한 접착성 향상은 어렵다고 알려져 있다 (예를 들면, 비 특허 문헌 1 참조).
이 신속하게 소수화되는 소수성 복구(hydrophobic recovery)는 저분자량 실록산(siloxane)의 내부에서 표면으로의 확산이나, 표면에 친수기의 발생으로 농도가 저하된 메틸기 성분이 분자 운동에 의한 방향전환(re-orientation)으로 표면에 나오는 것 등에 의해 발생하며, 일반적으로 예를 들면, 플라즈마 처리 후 거의 24 시간 내에 원래의 소수성 상태로 돌아간다. 따라서 소수성 회복을 억제하고 안정된 친수성 유지를 실현하는 각종 시도가 수행되어 왔지만, 현재 본질적인 해결에 이르지 못하고 있다.
또한, (ii) 표면 보호용 접착 필름에서, 접착 층에 자외선 처리 등을 실시하여, 재작업성과 접착성을 모두 만족하는 방법도 제안되고 있다 (예를 들면, 특허 문헌 4,5 참조).
그러나 상기 표면 보호용 접착 필름은 그 사용 목적의 관점에서, 피착물과 견고하게 접착하는 것이 아니며, 상기의 점 가압 시험을 통과할 수 있는 접착성의 확보가 어렵기 때문에, 기능성 접착 시트에 표면 보호 필름 등의 기술을 적용할 수 있는 것은 아니다.
더욱이, (iii) 본 출원인도 재작업성과 접착성을 모두 만족하는 실리콘 접착 시트를 제안 (특허 문헌 6 참조)하고 있지만, 상기의 점 가압 시험을 통과할 정도의 접착성 확보에는 아직 향상될 여지가 있고, 특히 낮은 경도의 실리콘 겔은 접착성의 확보가 곤란하고, 그 접착성을 향상시키기 위한 기술적 장애물은 높다.
또한 (iv) 상기 점 가압 시험을 통과할 정도의 접착성과 재작업성을 모두 만족하는 수단으로는, 초기에는 피착물에 대해 재작업이 가능하도록 낮은 점성을 가지고, 적층 후 시간 경과에 따라 접착력을 증가시키는 수단이 효과적이며, 예를 들어, 접착제 표면이 계면 접촉 반응에 의해 접착 반응성을 나타내는 작용기로 개질된 접착제 및 그 접착제를 갖춘 접착 시트가 제안 되고 있다 (예를 들면, 특허 문헌 7 참조).
그러나 상기의 수단과 방법들은 각 피착물마다 접착 반응을 나타내는 작용기의 최적화가 필요해서, 많은 노력이 요구되는 문제점이 있다.
상기와 같이, 과제를 개선하거나 해결하기 위한 기술로서 상기 (i) 내지 (iv)의 기술이나 수단(방법)들이 제안되고 있지만, 상기 (1) 접착성의 확보와 (2) 가벼운 박리성의 유지에 의한 작업성 및 (3) 재작업성과의 과제를 해결할 수 있는 기술적 사상으로 충분하지 않고, 상기의 점 가압 시험을 통과할 수 있는 접착성의 확보와 재작업성을 모두 만족할 수 있는 광학용 투명 접착 시트가 절실히 요구되고 있다.
[선행 기술 문헌]
(특허 문헌)
특허 문헌 1: JP-A-07-173448
특허 문헌 2: JP-A-01-081827
특허 문헌 3: JP-A-2009-086452
특허 문헌 4: JP-A-2001-240820
특허 문헌 5: JP-A-2005-200606
특허 문헌 6: JP No. 4500888 (WO/2009/063847)
특허 문헌 7: JP-A-2001-323247
(비특허 문헌)
비특허 문헌 1: M. J. Owen, Australian Journal of Chemistry, Vol.58, p.433 (2005)
본 발명의 목적은 상기 종래 기술의 문제점을 감안하여 접착성과 재작업성을 모두 만족할 수 있는 광학용 투명 접착 시트 및 그 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명자들은 피착물에 대해 초기에는 재작업이 가능하도록 낮은 점성을 가지며, 적층 후 시간 경과에 따라 접착력을 증가시키는 수단에 주목하여 상기 종래의 과제를 해결하기 위해 심도 있는 연구를 해왔고, 실험 결과에 대한 검토와 각종 실험들을 거듭한 결과, 놀랍게도
(A) 접착면에 특정 파장 영역의 에너지 선 조사에 의한 표면 활성화 처리를 실시하면, 실리콘 재료의 표면 처리 특유의 해결하기 어려웠던 소수성 복구를 초래하지 않고도, 표면 처리 효과가 유지되고,
(B) 피착물에 적층 하기에 적당한 접착력과 함께 우수한 작업성 (재작업성 포함)을 가지면서도, 적층 후 시간 경과에 따라 피착물과의 접착성이 증가하는 실리콘 광학용 투명 접착 시트가 제작될 수 있고,
(C) 시간에 따라 피착물과의 접착성이 증가하는 상기 효과는 박리 가능한 특정한 표면층 (즉 활성 유지 층) 을 적층함으로써 시간이 지나도 유지된다는 것,
을 발견하고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
즉, 본 발명의 제 1 발명에 의하면, 광학 부품 조립용 실리콘 광학용 투명 접착 시트의 제조 방법이며,
광학용 투명 접착 시트의 피착물과 접하는 접착면의 적어도 일부 또는 전체에 자외선 조사에 의한 표면 활성화 처리를 하여, 적층 이전 박리 강도에 비해 피착물에 적층한 이후 박리 강도가 시간에 따라 증가하는 표면 활성화 처리된 면을 형성하는 것을 특징으로 하는 광학용 투명 접착 시트의 제조 방법이 제공된다.
본 발명의 제 2 발명에 따르면, 제 1 발명에 있어서, 상기 자외선 조사 처리의 파장이 365 nm 이하이고, 조사 적산 광량(irradiation integrated light quantity)이 30 mJ/cm2 이하인 것을 특징으로 하는 광학용 투명 접착 시트의 제조 방법이 제공된다.
본 발명의 제 3 발명에 따르면, 제 1 또는 2 발명에 있어서, 상기 자외선 조사 처리가 엑시머 자외선 조사 처리인 것을 특징으로 하는 광학용 투명 접착 시트의 제조 방법이 제공된다.
본 발명의 제 4 발명에 따르면, 제 1 발명에 있어서, 상기 피착물에 대한 24 시간 동안 적층 후 박리 강도(B)는, 적층 초기의 박리 강도(A)에 대해, 박리 강도의 증가량(B-A)이 JIS Z0237에 준거한 접착력 시험의 90도 박리 모드에서 1 N/20 mm 이상인 것을 특징으로 하는 광학용 투명 접착 시트의 제조 방법이 제공된다.
본 발명의 제 5 발명에 따르면, 제 1 발명에 있어서, 상기 표면 활성화 처리된 면에 활성 유지 층을 더 적층하는 것을 특징으로 하는 광학용 투명 접착 시트의 제조 방법이 제공된다.
본 발명의 제 6 발명에 따르면, 제 5 발명에 있어서, 상기 활성 유지 층은 알키드 수지계(alkyd resin), 지방족 아미드계(aliphatic amide), 플루오로 실란계(fluoro-silane) 또는 플루오로 실리콘계(fluoro-silicone)로부터 선택되는 박리 처리 층(peel treatment layer)을 가진 박리 필름(release film)인 것을 특징으로 하는 광학용 투명 접착 시트 제조 방법이 제공된다.
본 발명의 제 7 발명에 따르면, 제 1 내지 6 발명 중의 어느 하나에 따른 제조 방법으로 얻어지는 것을 특징으로 하는 광학용 투명 접착 시트가 제공된다.
본 발명의 제 8 발명에 따르면, 제 1 내지 4 발명 중의 어느 하나에 따른 제조 방법으로 얻어지는 광학용 투명 접착 시트의 표면 활성화 처리된 면에 보호 패널, 편광판, 위상차 지연 필름, 확산 필름 또는 액정 표시 장치로부터 선택되는 광학 부품으로 이루어진 피착물을 적층하는 것을 특징으로 하는 적층체의 제조 방법이 제공된다.
본 발명의 제 9 발명에 따르면, 제 8 발명에 따른 제조 방법으로 얻어지는 것을 특징으로 하는 적층체가 제공된다.
본 발명의 제 10 발명에 따르면, 제 7 또는 9 발명에 따른 광학용 투명 접착 시트 또는 적층체를 사용하여 얻어지는 광학 부품이 제공된다.
본 발명의 제 11 발명에 따르면, 제 1 내지 6 발명 중의 어느 하나에 따른 광학용 투명 접착 시트의 제조 방법에 사용되는 것을 특징으로 하는 광학용 투명 접착 시트의 제조 장치가 제공 된다.
본 발명은 상기한 바와 같이, 광학 부품 조립용 실리콘 광학용 투명 접착 시트의 제조 방법 등에 관한 것이지만, 그 바람직한 구체적인 예로서 하기의 것들을 포함한다.
(1) 제 1 발명에 있어서, 실리콘 광학용 투명 접착 시트는 경도가 SRIS 0101 규격의 아스카(Asker) C 경도로 0 내지 30이거나 또는 JIS K2207 “석유 아스팔트”에 준거한 침입도 (25℃)가 20 내지 200 인 실리콘 겔로 이루어진 것을 특징으로 하는 광학용 투명 접착 시트의 제조 방법.
(2) 제 11 발명에 있어서, 표면 활성화 처리 장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 광학용 투명 접착 시트의 제조 장치.
본 발명의 광학용 투명 접착 시트의 제조 방법에 따라서, 얻어진 광학 부품 조립용 실리콘 광학용 투명 접착 시트는 피착물에 적층 하기에 적당한 접착력을 가지며 재작업도 가능하기 때문에, 적층 작업의 생산성이나 비용이 개선되고, 게다가 적층 후 시간이 지남에 따라 피착물과의 접착성이 증가하기 때문에, 박리 등의 문제가 방지되어 안정된 품질을 제공할 수 있다.
또한 적층까지 활성 유지 층 역할을 하는 박리 필름으로 코팅함으로써, 종래의 어려웠던 자외선 처리 효과 등의 표면 활성화 처리 효과를 유지하면서 시간에 따른 박리 강도의 증가를 억제할 수 있으므로, 저장성이 뛰어난 안정된 적층을 실현할 수 있다.
또한, 본 발명은 실리콘 경화체 표면을 자외선 등의 가시 광선 파장보다 작은 파장의 에너지 선 조사 처리를 이용해 표면 활성화 처리하여 피착물과의 접착력 (접착성)이 향상된 광학용 투명 접착 시트의 제조를 계속적으로 가능하게 하고, 더욱이 높은 접착력 (접착성)을 안정적으로 얻을 수 있다는 현저한 효과를 나타낸다.
더욱이, 본 발명은 광학용도에 한정하지 않고, 투명하지 않은 실리콘 접착 시트에도 응용할 수 있어서, 보다 넓은 용도에 사용될 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 광학용 투명 접착 시트 적층체의 구성 예를 설명하는 모식도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 광학용 투명 접착 시트의 제조 방법을 설명하는 모식도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 광학용 투명 접착 시트의 제조 방법의 또 다른 측면을 설명하는 모식도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 광학용 투명 접착 시트의 제조 방법의 또 다른 측면을 설명하는 모식도이다.
도 5는 본 발명의 광학용 투명 접착 시트의 제조 방법의 실시예에 있어서, 박리 강도와 조사 적산 광량과의 관계를 나타내는 그래프이다.
도 6은 본 발명의 광학용 투명 접착 시트의 제조 방법의 실시예에 있어서, 피착물에 적층 후 시간에 따른 박리 강도의 증가량의 변화를 나타낸 그래프이다.
도 7은 본 발명의 광학용 투명 접착 시트의 제조 방법의 실시예에 있어서, 표면 활성 유지 층으로 코팅 한 경우, 시간에 따른 박리 강도의 증가량의 변화를 나타낸 그래프이다.
도 8은 본 발명의 광학용 투명 접착 시트의 제조 방법의 실시예에 있어서, 표면 활성 유지 층으로 코팅한 상태에서, 보관 시간 및 저장 후 피착물 (PMMA)에 대한 박리 강도의 관계를 나타내는 그래프이다.
도 9는 박리 강도 시험 시료의 구성과 시험 양태를 설명하는 모식도이다.
본 발명의 광학 부품 조립용 실리콘 광학용 투명 접착 시트의 제조 방법은 광학용 투명 접착 시트의 피착물과 접하는 접착면의 적어도 일부 또는 전체에 자외선 조사에 의한 표면 활성화 처리를 하여, 적층 이전 박리 강도에 비해 피착물에 적층한 이후 박리 강도가 시간에 따라 증가하는 표면 활성화 처리된 면을 형성하는 것을 특징으로 하는 광학용 투명 접착 시트의 제조 방법이다.
또한, 본 발명의 다른 양태로서, 본 발명의 광학 부품 조립용 실리콘 광학용 투명 접착 시트의 제조 방법은 상기 표면 활성화 처리된 면에 활성 유지 층을 더 적층하는 것을 특징으로 하는 광학용 투명 접착 시트의 제조 방법이다.
이하에서 각 항목마다 설명한다.
1. 광학용 투명 접착 시트
(1) 압감 접착제
본 발명에 따른 광학용 투명 접착 시트는 접착제로 투명 실리콘 겔, 아크릴계(acryl-based) 겔, 폴리올레핀계(polyolefin-based) 겔, 폴리 우레탄계(polyurethane-based gel) 겔, 부타디엔(butadiene gel) 겔, 이소프렌(isoprene) 겔, 부틸 겔, 스티렌 부타디엔(styrene-butadiene) 겔, 에틸렌 초산 비닐(ethylene-vinyl acetate) 공중 중합체 겔, 에틸렌 - 프로필렌 디엔(ethylene-propylene-diene) 삼원 공중 합체 겔 또는 플루오로(fluoro) 겔에서 선택되는 적어도 1 종의 투명 겔로 이루어진 투명 접착제가 사용되며, 특히 실리콘 겔이 바람직하다.
상기 실리콘 겔로는, 특히 점성을 갖는 부가 반응형 실리콘 겔로부터 형성되는 것이 바람직하다.
상기 실리콘 겔의 경도는 SRIS 0101 규격의 아스카 C 경도가 0-30이거나 또는 JIS K2207 “석유 아스팔트”에 준거한 침입도 (25 ℃)가 20 내지 200 인 것이 바람직하다.
또한, 본 발명에 있어서, “투명”은 무색 투명, 착색 투명, 반투명를 포함하며, 본 발명에서 이용되는 투명 실리콘 겔의 파장이 380 내지 780 nm 영역인 가시 광선의 전광선 투과율 (JIS K7105 “플라스틱의 광학적 특성 시험 방법”에 준거)은 80% 이상 인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 85% 이상, 특히 바람직하게는 90% 이상이다.
투과율은 투명 부재의 투명도의 지수이며, 예를 들어 투과율이 80% 미만인 경우에는, 화면에서 나온 빛이 투명 부재를 투과하기 어려워 지므로, 시인성이 저하된다. 또한 투과율이 80% 이상인 파장 영역이 380 nm 내지 780 nm 영역보다 좁은 경우에는 적색 측 (높은 파장 측) 또는 청색 측 (낮은 파장 측)의 빛의 투과성이 저하되므로 바람직하지 않다. 여기서, 투과율은 분광 광도계 등을 사용하여 측정한 값이다.
상기 부가 반응형 실리콘 겔로는, 종래부터 알려져 시판되는 각종 실리콘 재료로서 일반적으로 사용되는 실리콘 화합물을 적절하게 선택하여 사용할 수 있다. 따라서 열경화형 또는 상온 경화형, 경화 메커니즘이 축합 형인 것 또는 첨가형인 것 중 어떤 것이라도 사용할 수 있으며, 특히 첨가형 실리콘 조성물로부터 얻어지는 실리콘 겔이 바람직하다. 또한 실리콘 원자에 결합하는 작용기도 특별히 한정되는 것이 아니라, 예를 들면, 메틸기, 에틸기, 프로필기 등의 알킬기, 사이클로 펜틸기, 사이클로 헥실기 등의 사이클로 알킬기, 비닐기, 알릴기 등의 알케닐기, 페닐기, 톨릴기 등의 아릴기와 그 외에도 이러한 작용기들의 수소 원자가 부분적으로 다른 원자 또는 결합기로 치환된 것을 포함한다.
구체적인 부가 반응형 실리콘 겔 재료로는 (주) 다우 코닝 제 상품명: CF-5106 (침입도 150) 등이 바람직하고, 이 실리콘 겔 재료는 A 액체 및 B 액체으로 나뉘어진 실리콘 수지를 원료로 하며, 이 두 액체를 소정 비율로 혼합하고 가열하여 소망하는 침입도를 갖는 실리콘 겔 재료를 얻을 수 있다.
본 발명에서 사용되는 부가 반응형 (또는 가교) 실리콘 겔의 제법은 특별히 한정되지 않지만, 일반적으로 후술하는 오르가노하이드로겐폴리실록산(organohydrogenpolysiloxane)과 알케닐폴리실록산(alkenylpolysiloxane)을 원료로 하여, 양자를 촉매 존재 하에서 하이드로실릴화(hydrosilylation) 반응 (부가 반응) 시킴으로써 얻어진다.
상기 실리콘 겔은 표면의 비가교 작용기에서 유래하는 점성을 가지나, 예를 들어 MQ 수지 형의 점착 부여 성분을 배합한 것이나, 비반응성 접착성분의 첨가, 또는 비가교 작용기 곁사슬의 길이와 말단 작용기의 종류 등을 조정하여 점성을 발현시키는 등의 공지의 점성 부여 방법을 적용한 것도 사용될 수 있다.
(2) 활성 유지 층
본 발명의 광학용 투명 접착 시트의 제조 방법은 표면 활성화 처리된 면에 활성 유지 층을 더 적층하는 것을 특징으로 한다.
활성 유지 층을 표면 활성화 처리된 면에 적층하여 표면 활성화 처리 효과의 저하를 억제할 수 있다. 그 상세한 메커니즘은 현재 명확하지 않다.
활성 유지 층은 표면 활성화 처리된 면에 적층됨으로써 표면 활성화 처리 효과의 저하를 억제할 수 있는 것과, 표면 활성화 처리된 면으로부터 박리 가능하다는 것이 요구된다. 따라서 활성 유지 층은 박리 필름 (박리 라이너라고도 함) 역할도하기 때문에 공지의 박리 필름을 활성 유지 층으로 사용할 수 있다.
상기 박리 필름은 폴리에테르설폰(polyethersulfone) 수지, 셀룰로오스 아세테이트(cellulose acetate) 수지, 폴리이미드(polyimide) 수지, 폴리에스테르(polyester) 수지, 폴리에테르(polyether) 수지, 에폭시(epoxy) 수지, 페놀 수지, 폴리아마이드(polyamide) 수지, 폴리올레핀(polyolefin) (예를 들면 폴리 프로필렌(polypropylene)) 등의 유기 수지로 이루어진 필름, 이러한 유기 수지를 다른 박리성 유기 수지에 적층하여 이루어지는 필름, 또는 이러한 유기 수지를 비박리성 기재 필름의 표면에 피복하여 이루어지는 필름을 포함할 수 있지만, 본 발명의 실시예에서는, 활성 유지 층으로 사용 되는 박리 필름은 피착물에 적층할 때 박리되어 제거되므로 박리성이 뛰어난 박리 처리된 층을 갖는 박리 필름이 바람직하고, 상기 박리 처리된 층으로는 알키드 수지계, 지방족 아미드계 , 플루오로 실란계 또는 플루오로 실리콘계가 바람직하다.
2. 광학용 투명 접착 시트의 제조 방법
본 발명의 광학용 투명 접착 시트의 제조 방법은 광학용 투명 접착 시트의 피착물과 접하는 접착면의 적어도 일부 또는 전체에 표면 활성화 처리를 하여, 적층 이전 박리 강도에 비해 피착물에 적층한 이후 박리 강도가 시간에 따라 증가하는 표면 활성화 처리된 면을 형성하는 것을 특징으로 한다.
(1) 표면 활성화 처리
본 발명의 광학용 투명 접착 시트의 제조 방법은 광학용 투명 접착 시트의 피착물과 접하는 접착면의 적어도 일부 또는 전체에 표면 활성화 처리를 실시하는 특징이 있으며, 상기 표면 활성화 처리는 적층 이전 박리 강도에 비해 피착물에 적층한 이후 박리 강도가 시간에 따라 증가하는 표면 활성화 처리된 면을 형성하는 것이 가능한 것이라면 특별히 한정되지 않는다.
본 발명에서, 상기 표면 활성화 처리는 공지의 방법, 예를 들면, 자외선 처리, 코로나 방전 처리 (공기 중, 질소 중, 탄산 가스 중 등) 및 플라즈마 처리 (고압, 저압), 알칼리 금속 용액 처리, 고주파 스퍼터링 에칭(sputtering etching) 처리 등 화학적인 표면 처리 방법을 포함하고, 바람직하게는 가시 광선 파장보다 작은 파장을 가지는 에너지 선 조사 처리이다. 가시 광선 파장보다 작은 파장의 에너지 선으로는 자외선, X 선, γ 선, 전자선 등을 적용할 수 있지만, 바람직하게는 자외선이다. 또한 가시 광선 파장보다 작은 파장의 에너지 선은 단일 파장이 바람직하고, 보다 바람직하게는 단일 파장의 자외선 처리이며, 더욱 바람직하게는 엑시머 자외선 처리이다.
또한, 본 발명에서 “단일 파장”은 스펙트럼 강도 - 파장 분포에서 하나의 피크를 가지는 상태를 의미하며, 또한 단일 파장의 값은 상기 피크의 파장이다.
상기 자외선 처리는 저압 수은 램프 또는 엑시머 자외선 램프에서 조사되는 자외선으로 기재 표면을 처리하여 표면 활성화시킨다. 표면 개질에 기여하는 주요 파장은 주파장으로 저압 수은 램프의 경우는 185 nm와 254 nm이며, 고압 수은 램프의 경우 365 nm인 복수의 파장 분포를 구성하고 있지만, 본 발명에서는 단일 파장인 것이 바람직하다.
이 단일 파장 자외선은 자외선 광원에 필터를 결합하는 방법이나 엑시머 자외선 램프를 광원으로 사용하여 얻을 수 있지만, 본 발명은 간이적인 구조의 엑시머 자외선 처리가 보다 바람직하다.
상기 엑시머 자외선은 거의 단일 파장의 자외선이며, 크세논(xenon) 엑시머 자외선의 파장은 172 nm이다. 일반적으로 엑시머 자외선에서는, 대기의 감쇄가 크고, 표면 처리시에는 저압 수은 램프에 비해 광원과 기재의 표면까지의 거리를 가깝게 (수 mm까지) 하는 것이 요구되지만, 반면에 표면 처리에 기여하는 오존의 생성 효율이 높고, 처리 능력이 높다는 특징이 있다.
또한 엑시머 램프는 비간섭성(incoherent) 엑시머 광이며, 유전체 장벽 방전(dielectrics barrier discharge)을 이용한 것, 중공 캐쏘드 방전(hollow cathode discharge)을 이용한 것, 마이크로파 방전(microwave discharge)을 이용한 것 등이 모두 적용될 수 있다. 발광 파장은 램프에 채워진 방전 가스의 종류에 따라 결정되며, 예를 들어 아르곤(argon)을 방전 가스에 사용한 발광 중심 파장은 126 nm이고, 크립톤(krypton)을 방전 가스에 사용한 발광 중심 파장은 146 nm이고, 크세논을 방전 가스에 사용한 발광 중심 파장은 172 nm이고, 염화 크립톤를 방전 가스로 사용한 발광 중심 파장은 222 nm이며, 염화 크세논 방전 가스에 사용한 발광 중심 파장 308 nm이다.
본 발명의 단파장의 자외선으로 파장은 365 nm 이하가 바람직하고, 더욱이 엑시머 자외선 처리를 이용하는 경우에는 310 nm 이하의 파장을 적절하게 이용할 수 있다. 또한 엑시머 자외선 처리로 간섭성(coherent) 엑시머 레이저를 이용한 처리 역시 광원으로 적용되어도 좋다.
또한, 본 발명의 자외선은 근 자외선 (200 내지 380 nm의 파장), 원 자외선 (10 내지 200 nm의 파장) 및 극단 자외선 (1 내지 10 nm의 파장)을 포함하는 것이다.
(2) 가시 광선 파장보다 작은 파장의 에너지 선 조사 조건
본 발명의 자외선 처리 등의 가시 광선 파장보다 작은 파장의 에너지 선 조사는 상기 종래의 에너지 선 조사 조건보다 매우 온화한 조건으로 하는 것에 특징이 있으며, 조사되는 에너지 선의 파장 (또는 파장 영역) 에 따라 적절하게 조정된다. 조사 조건 중 적산 광량은 조사되는 에너지 선의 파장 (또는 파장 영역)에 따라 바람직한 범위를 가지고, 파장 (또는 파장 영역)이 짧아질수록 바람직한 범위의 하한 및 상한 값이 작아진다. 예를 들어, 단일 파장의 자외선 처리, 특히 엑시머 자외선 처리에서는 적산 광량을 30 mJ/cm2 이하로 하는 것이 바람직하고, 크세논 엑시머 자외선 (파장 172 nm)의 경우에는 0.01 내지 30 mJ/cm2로 하는 것이 바람직하고, 0.1 내지 30 mJ/cm2로 하는 것이 보다 바람직하고, 2 내지 15 mJ/cm2로 하는 것이 더욱 바람직하며, 5 내지 12 mJ/cm2로 하는 것이 특히 바람직하다. 또한, 상기 에너지 선의 조도가 높을수록 접착 층 내부에 침투하기 쉽기 때문에, 조도도 함께 조정하는 것이 바람직하다.
더욱이 재작업 시간을 더 길게 확보할 목적으로, 적층 후 접착력의 상승 속도 (특정 접착력에 도달하는 시간) 를 증가시키기 위하여 의도적으로 적산 광량 등을 크게 함으로써, 처리 이전 초기 접착력보다 접착력을 낮추는 처리 조건이 적용되어도 좋다. 이 조건의 다른 응용으로 피착물에 적층 후 시간 변화에 의해 초기 점성에 기초한 접착력 이상의 접착성을 주기 위하여, 원래 접착력이 큰 접착 시트의 초기 점성을 다루기 쉬운 정도로 억제하는 방법도 효과적이다.
본 발명에서 자외선 처리 등의 가시 광선 파장보다 작은 파장의 에너지 선 조사에 의한 표면 활성화 처리에 의해, 종래와는 다른 압감 접착제 층의 접착력 향상 작용과 그 특성의 유지를 발현하는 상세한 메커니즘은 현재 분명하지 않지만, 표면 활성화 처리에 의해 압감 접착제 층의 표면을 조면화 한 결과, 피착물 표면의 슬릿 안에 압감 접착제가 들어가기 쉬워, 슬릿에 침투한 압감 접착제가 닻을 내리는 듯한 방법으로 강한 접착력을 발휘하는 앵커 효과(anchor effect)가 발생하거나, 또는 압감 접착제 표면에 카르보닐기나 카르복실기 등이 발생하여 표면이 극성화됨으로써, 접착력이 향상되도록 복합적으로 작용하는 것으로 고찰된다.
또한 단파장의 에너지 선은 고 에너지이기 때문에, 공간에 있는 공기 나 물질에 흡수되기 쉬운 성질을 가지고 있고, 따라서 단파장의 에너지 선은 압감 접착 층 내로의 투과 깊이가 작고, 또한 적산 광량이 작을수록 압감 접착 층 내로의 투과 깊이가 작아지므로, 본 발명의 특징인 기존보다 작은 에너지 (작은 적산 광량 조건)의 에너지 선 조사에 의해 기존보다 압감 접착 층의 표면의 극히 근방을 변질 (개질)됨을 통해 접착력 향상이나 접착력의 지속성과 같은 본 발명의 특이한 작용 효과의 발현에 관여하는 것으로 추측된다.
또한 표면 처리된 면의 처리 전후의 접촉각을 비교 한 결과, 처리 전후의 차이가 매우 작은 것을 알 수 있으며, 친수화 정도가 종래보다 매우 작은 상태로 되어있는 것도 한 요인인 것으로 추측된다.
또한 표면 활성화 처리된 면에는 상기 활성 유지 층을 더 적층하는 것이 바람직하고, 예를 들면, 실리콘 겔 처리된 면을 박리 필름으로 피복 (시트 형 혹은 롤 형) 해두면, 재작업이 가능할 만한 접착력이 유지되고 피착물에 적층 후 시간이 지남에 따라 접착력이 향상하여 접착성이 확보된다.
(3) 광학용 투명 접착 시트의 제조 방법
본 발명의 광학용 투명 접착 시트의 제조 방법은 표면 활성 처리하는 광학용 투명 접착 시트의 형성 공정 및 표면 활성화 처리 공정으로 이루어지고, 상기 표면 활성화 처리 공정은 표면 활성화가 요구되는 부분에 표면 처리 장치를 이용하여 표면 활성화 처리를 실시하는 공정이며, 한편, 상기 광학용 투명 접착 시트의 형성 공정은 공지의 방법이 적용될 수 있다.
이하에서는, 도 2를 이용하여 열경화형 (실리콘) 광학용 투명 접착 시트를 연속적으로 제조하는 형태를 예로서 구체적으로 설명하지만, 본 발명이 본 실시예에 한정되는 것은 아니다.
도 2는 광학용 투명 접착 시트의 연속적인 제조 장치의 모식도이다.
먼저 박리 필름 상에 미 경화의 압감 접착제 조성물을 소정의 두께로 도포하고, 도포면을 그대로 개방 상태에 두면서 경화 영역에서 경화시키고, 경화 영역에서 배출된 광학용 투명 접착 시트의 도포면을 표면 활성화 처리 장치를 이용하여 표면 활성화 처리한 다음, 활성 유지 층이 되는 박리 필름을 적층하여 활성 유지 층을 적층한 도 1 (a)의 구성을 가지는 광학용 투명 접착 시트를 얻는다.
또 다른 실시예로서 도 3과 같이, 양면에 박리 처리 된 박리 필름 상에 미 경화의 압감 접착제 조성물을 소정의 두께로 도포하고, 도포면을 그대로 개방 상태에 두면서 경화 영역에서 경화시키고, 경화 영역에서 배출된 광학용 투명 접착 시트의 도포면을 표면 활성화 처리 장치를 이용하여 표면 활성화 처리한 다음, 상기 표면 활성화 처리된 면을 상기 박리 필름의 뒷면에 접촉시키면서 롤 형태로 감는 도 1 (b)의 실시예를 얻는다. 이 경우, 상기 박리 필름의 박리 처리 작용 부분이 활성 유지 층으로 작용한다.
더욱이 도 3의 다른 측면으로 도 4와 같이, 다른 기재들에 미경화 압감 접착성 조성물을 끼운 상태에서 경화시킨 후, 기재들 중 하나를 박리하고 경화물의 박리 표면에 표면 활성화 처리를 실시한 것이 실시예로 적용되어도 좋다..
도 2와 도 3의 방식으로 형성되는 표면 활성화 처리 전의 광학용 투명 접착 시트는 기재 접촉 측과 비교하여, 개방되고 경화된 표면에서의 점성이 작고, 전면과 후면 사이의 점성 차이를 표면 활성화 처리 전에 미리 설정할 수 있으므로, 재작업 시의 박리 선택성에서 요구되는 전면과 후면 사이의 점성 차이를 만들기 위해 표면 활성화 처리에만 의존하지 않고, 디자인의 자유도가 넓어서 유용하다. 또한 도 4의 방법에 있어서도, 미 경화의 압감 접착제 조성물의 양면에 접촉시키는 다른 종류의 기재면을 조합하여, 도 2 및 도 3과 같이 전면과 후면 사이의 다른 압감 접착력을 만드는 조정이 가능하다.
3. 광학용 투명 접착 시트의 성질 및 성능
본 발명의 광학용 투명 접착 시트의 제조 방법에 의해 얻어진 광학용 투명 접착 시트는 적어도 일부 또는 전체가 피착물과 접하는 접착면, 적층 이전 박리 강도에 비해 피착물에 적층한 이후 박리 강도가 시간에 따라 증가하는 표면 활성화 처리된 면을 가지고 있기 때문에, 피착물에 적층하기에에 적당한 접착력을 가지며 재작업도 가능하며, 따라서 적층 작업의 생산성이나 비용이 개선되고, 게다가 적층 후 시간에 따라 피착물과의 접착성이 증가하기 때문에, 박리 등의 문제가 방지되어 안정된 품질을 얻을 수 있다. 즉, 본 발명의 광학용 투명 접착 시트는 접착성과 재작업성을 모두 만족할 수 있는 것이다.
기존의 압감 접착제에서도 온도와 피착물과의 호환성 등에 따라서 시간에 따라 접착성이 증가할 수 있지만, 본 발명은 표면 활성화 처리에 의해 시간에 따른 접착성의 증가가 현저하게 촉진되고, 또한 표면 활성화 처리 조건에 따라 시간에 따른 접착성의 증가량을 조정할 수 있다.
본 발명의 일 실시예의 광학용 투명 접착 시트의 표면 활성화 처리된 면은 피착물에 적층되었을 때, 접착 초기의 박리 강도 (A)에 비해 24 시간 경과 후 박리 강도 (B)의 박리 강도의증가량 (B-A)이 JIS Z0237에 준거한 접착력 시험의 90도 박리 모드에서 1 N/20 mm 이상인 것을 특징으로 한다. 이 특징에 의해, 피착물과의 접착성과 적층 작업의 재작업성을 모두 충족하는 것이 더 잘 이루어 질 수 있다. 또한, 상기 접착 초기는 표면 활성화 처리 (피착물에 적층 작업 포함) 후 20 분간을 의미한다. 또한 여기서 말하는 피착물에, 활성 유지 층 역할을 하는 박리 필름은 포함되지 않는다.
또한 피착물에 적층까지 활성 유지 층으로 코팅함으로써, 자외선 처리 등의 표면 활성화 처리에 의한 접착성 향상 효과와 시간에 따른 점성 향상 효과를 유지하면서, 피착물에 적층 이전의 보관 상태에서 활성 유지 층의 시간에 따른 박리 강도의 증가를 억제할 수 있으므로, 활성 유지 층의 박리 안정성을 확보할 수 있고, 따라서 보관성이 뛰어난 안정한 적층도 실현할 수 있다.
4. 광학용 투명 접착 시트 적층체 , 및 그 제조 방법
본 발명의 광학용 투명 접착 시트 적층체는 상기 광학용 투명 접착 시트의 표면 활성화 처리된 면에 피착물로 광학 부품을 빽빽히 적층시킨 것이며, 상기 광학 부품으로는 보호 패널, 편광판, 위상차 지연 필름, 확산 필름, 액정 표시 장치, 도광판, 터치 패널 소자, 면상 발광 장치 등이 사용 목적에 따라 사용될 수 있고, 예를 들어, 표시 장치 유닛과 터치 패널 유닛, 조명 유닛 또는 그것의 구성 부품으로 사용된다. 모식적으로는 도 1 (c)와 같이 광학 부품들을 단면에 첨부한 구성 (다른면에는 박리 필름 (B)가 첨부 되어도 좋고, 예를 들어 사용시에는 박리 필름 (B)가 박리 제거된다) 또는 도 1 (d)와 같이 양면에 광학 부품들이 적층된 구성이다.
광학용 투명 접착 시트 적층체는 표면 활성화 처리 직후의 광학용 투명 접착 시트에 광학 부품이 적층된 것일 수도 있고, 또는 활성 유지 층이 적층된 광학용 투명 접착 시트를 사용하여 활성 유지 층이 박리된 표면 활성화 처리된 면에 적층된 것일 수도 있다.
광학용 투명 접착 시트 및 광학 부품의 적층은 기포가 포획되지 않게 적층할 수 있는 방법이라면 특별히 한정되지 않지만, 롤러 적층(roller lamination) 방법이나 진공 적층(vacuum lamination) 방법 등이 적용될 수 있다.
광학용 투명 접착 시트를 광학 부품에 적층한 뒤 일정 시간 내라면 재적층 (재작업)이 가능하며, 상기 시간이 지난 후 시간에 따라 접착성이 증가하여 광학용 투명 접착 시트 및 광학 부품이 점 가압 시험에서 박리 및 기포가 발생하지 않는 상태에서 견고하게 접착된 광학용 투명 접착 시트 적층체를 얻을 수 있다.
이하, 본 발명을 실시예에 의해 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 특별히 한정되는 것은 아니다.
[실시예 1 내지 14]
다음 과정에 의해 광학용 투명 접착 시트 적층체를 제작하였다.
(i) 미경화 액상 점탄성 재료를 수지 필름 (B)에 공급하여 두께를 설정하는 성형 공정, (ii) 성형 후 박리 필름 (A)를 부착하지 않고 개방상태에서 열경화시키는 가열 공정, 및 (iii) 상기 가열 경화 공정에서 얻어진 경화 시트를 냉각하는 냉각 공정을 거쳐 광학용 투명 접착 시트를 형성하고, (iv) 상기 가열 공정에서 개방상태로 열경화된 면에 엑시머 자외선 처리 장치를 이용하여 표면 활성화 처리된 면을 형성 한 후, 상기 표면 활성화 처리된 면에 활성 유지 층으로 박리 필름 (A)를 부착하는 박리 필름 부착 공정을 거쳐, 박리 필름 (A)와 광학용 투명 접착 시트, 박리 필름 (B)의 순으로 적층된 경도침입도(penetration hardness) 100에서 200 mm × 200 mm × 두께 0.5 mm 크기의 광학용 투명 접착 시트 적층체를 얻었다.
미경화 액체 실리콘 겔 성분은 (주) Wacker Asahikasei Silicone 사에서 제조된, A 액체 (주성분(main agent) + 가교 촉진제(cross-linking promoter))/B 액체(주성분 + 가교제(cross-linking agent))를 55 중량부/45 중량부로 하여, 2 성분 첨가 반응형 실리콘 겔 (모델: SLJ3363, 공기 중의 전광선 투과율 90%)을 배합한 것을 사용하였다.
박리 필름 (A)는 (주) Panac 사에서 제조된 알키드 수지계 박리 필름 (모델: T-9, 필름 두께: 0.1 mm), 한편 박리 필름 (B)는 (주) Unitika 사에서 제조된 플루오로 실리콘계 박리 필름 (모델: FZ, 필름 두께: 0.1 mm)을 사용하였다.
성형 공정 단계에서, (i)의 성형 공정에서의 두께 설정은 평탄한 유리 기판 상에 박리 필름 (B)의 박리 작용면을 위로하여 깔고, 또한 박리 필름 (B) 위에 200 mm × 200 mm × 두께 0.5 mm 크기의 알루미늄 몰드 프레임(mold frame) 스페이서를 놓고, 미경화 실리콘 겔 성분을 상기 몰드 프레임에 가득 흘려보낸 후, 고무 롤러 판(squeegee plate)으로 몰드 프레임 표면을 따라 고무 롤링(squeeze)하여, 과량의 미경화 실리콘 겔 성분을 제거하는 방법으로 실시되었다.
(ii)의 열경화 공정은 열풍 식 오븐에서 75 ℃로 1 시간 동안 열경화하였고, (iii)의 냉각은 목판에서 실온 (25 ℃)으로 자연 냉각하였다.
또한 (iv)의 표면 활성화 처리는 크세논 (Xe) 엑시머 자외선 램프 (파장 172 nm)에 의해 처리하는 엑시머 자외선 처리 장치 (M D. Excimer 제)를 조도 50 mW/cm2 (Hamamatsu Photonics 제, 미터 C8026, 센서 헤드 C8025-172에 의한 대기 중 램프 관 표면에서의 측정 값)에서 이용하여, 조사 강도, 조사 거리, 조사 시간 (또는 이동 시간)을 조정하여 표 1에 나타난 적산 광량 조건 하에 대기 중에서 실시하였다.
[실시예 15 내지 21]
실시예 1에 있어서, (iv)의 표면 활성화 처리를 염화 크립톤 (KrCl) 엑시머 램프 (파장 222 nm)에 의해 처리하는 엑시머 자외선 처리 장치 (M D. Excimer 제)를 조도 27 mW/cm2 에서 이용하여, 표 2에 나타낸 적산 광량 조건 하에 대기 중에서 실시한 것 외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 실시예 15 내지 21의 광학용 투명 접착 시트 적층체들을 제작하였다.
[실시예 22 내지 25]
실시예 1에 있어서, (iv)의 표면 활성화 처리를 염화 크세논 (XeCl) 엑시머 램프 (파장 308 nm, Ushio 제, SUS13)를 조도 4 mW/cm2에서 이용하여, 표 2에 나타낸 적산 광량 조건 하에 대기 중에서 실시한 것 외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 실시예 22 내지 25의 광학용 투명 접착 시트 적층체들을 제작하였다.
[실시예 26 내지 28]
실시예 1에 있어서, 처리되는 광학용 투명 접착 시트의 크기를 24 mm × 200 mm, 두께 0.5 mm로 하고, (iv)의 표면 활성화 처리를 진공 챔버 (1Torr)에서 아르곤 (Ar) 엑시머 램프 (파장 126 nm, Ushio 제, SUS11)를 조도 4 mW/cm2에서 이용하여, 표 2에 나타낸 적산 광량 조건 하에 실시한 것 외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 실시예 26 내지 28의 광학용 투명 접착 시트 적층체들을 제작하였다.
[실시예 29 내지 31]
실시예 1에 있어서, (iv)의 표면 활성화 처리를 금속 할라이드 램프 (파장 250 내지 460 nm, 주 피크 파장 375 nm)에서 처리하는 자외선 처리 장치 (Ushio 제, UVC-1212/IMNLC3-AA03)를 이용하여, 표 2에 나타낸 적산 광량 조건 하에 대기 중에서 실시한 것 외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 실시예 29 내지 31의 광학용 투명 접착 시트 적층체들을 제작하였다.
[비교예 1]
실시예 1에서 표면 활성화 처리를 실시하지 않은 것 외에는 실시예 1과 동일하게 하여 비교예 1의 광학용 투명 접착 시트 적층체들을 제작하였다.
또한, 상기 실시예들 및 비교예에서, 광학용 투명 접착 시트 등에 관한 성능 등은 다음의 평가 방법에 따라 평가했다.
1. 평가 방법
(1) 경도:
경도는 JIS K2207 “석유 아스팔트”에 준거한 침입도 측정법, 또는 SRIS 0101 규격의 아스카 C 경도로 정해졌다.
(2) 박리 강도:
JIS Z0237 “압감 접착 테이프 및 시트 시험 방법”에 준거한 접착력 시험에서 90도 접착력을 인장 속도 300 mm/min의 속도 하에, 90도 박리 시험기로 측정함으로써, 광학용 투명 접착 시트의 표면 활성화 처리된 면과 피착물과의 박리 강도를 측정하였다.
박리 강도의 평가용 시험 시료는 각 실시예들 및 비교예에서 제작된 박리 필름 (B)가 부착된 광학용 투명 접착 시트의 표면 활성화 처리된 면에 박리 필름 (B)를 박리 제거하고, 박리 필름 (B)가 박리된 면에 수지 필름 (Unichika 제, PET, Emblet)을 프라이머 (Shin-Etsu Chemical 제, 프라이머 A)를 통해 적층하여 피착물이 적층된 경우, 및 박리 필름 (A)가 적층된 경우에 대해 각각 도 9 (a), (b)에 모식적으로 나타낸 구성에서 제작하여 시험을 실시했다.
상기 적층 조건으로서, 2 kg의 롤러를 300 mm/min의 속도로 1 번 왕복한 다음, 23 ℃에서 20 내지 40 분간 방치했다.
또한 피착물로서, 두께 1mm의 아크릴 판 (Mitsubishi Rayon 제, MR-200)과 유리 판 (Hiraoka Glass 제, soda glass)이 사용되었다.
(3) 피착물에 적층된 경우의 박리 강도의 시간에 따른 변화:
상기 (2)의 박리 강도 평가 방법에 따라, 도 9 (a)의 구성에서 피착물에 적층된 경우의 박리 강도 평가용 시험 시료와, 도 9 (b)의 구성에서 박리 필름 (A) 에 적층된 경우의 박리 강도 평가용 시험 시료를 표면 활성화 처리 한 후 20 분 이내에 각각 제작하여 소정 시간 방치한 후, 박리 강도를 측정 하였다. 또한 적층 경과 시간의 기준이 되는 초기 값 0시간은, 표면 활성화 처리 (피착물에 적층 작업 포함) 후 20 분으로 설정되었고, 표 3에 나타난 적층 후 경과 시간에서의 박리 강도를 각각 측정하였다.
(4) 박리 필름 (A)로 표면 활성화 처리된 면을 코팅해 보관하는 경우의 박리 강도의 시간에 따른 변화 (활성 유지 층에 의한 활성 유지 효과의 검증):
각 실시예들 및 비교예에서 제작된 박리 필름 (B)가 부착된 광학용 투명 접착 시트의 표면 활성화 처리된 면에 박리 필름 (A)가 적층된 광학용 투명 접착 시트 적층체를 실온 (25 ℃)에서 보관한 후, 보관 시작으로부터 소정의 시간 (보관 경과 시간) 이 되면 박리 필름 (A)를 박리 제거함으로써, 도 9 (a)의 구성에서 피착물과 표면 활성화 처리 면이 적층된 박리 강도 평가용 시험 시료를 제작하였으며, 상기 (2)의 박리 강도 평가 방법에 따라 광학용 투명 접착 시트의 표면 활성화 처리된 면과 피착물의 박리 강도를 측정하였다. 또한 보관 경과 시간의 기준이되는 초기 값 0시간은, 표면 활성화 처리후 20 분으로 설정되었고, 표 4에 나타난 보관 경과 시간에서의 박리 강도를 각각 측정하였다.
Figure pct00001
Figure pct00002
Figure pct00003
Figure pct00004
표 1 및 표 2에 나타낸 바와 같이, 실시예 1 내지 31 및 비교예 1과의 대비에서 알 수 있듯이, 자외선 조사에 의한 표면 활성화 처리함으로써 어떤 실시예서라도 박리 강도가 향상된 것이라고 생각된다. 특히 실시예 1 내지 14의 크세논 엑시머 (172 nm)와 실시예 26 내지 28의 아르곤 엑시머 (126 nm)에서는 특정 적산 광량의 범위에서 박리 강도의 향상이 우수하였다.
이 박리 강도의 적산 광량 의존성에 관하여 크세논 엑시머 (172 nm)의 경우에서 살펴보면, 표 1의 결과를 바탕으로 처리 후의 박리 강도의 적산 광량 의존성을 나타낸 도 5에서 보듯이, 기재가 PMMA (도 5 (a)), 유리 (도 5 (b))인 어떤 경우에도, 미처리 제품과 비교하여 적산 광량이 0.01 mJ/cm2 이상에서 박리 강도가 향상되었고, 10 mJ/cm2 전후로 박리 강도의 피크를 나타내고, 반대로 적산 광량이 많아질수록, 박리 강도의 향상 효과는 작아지고, 적산 광량이 너무 커서, 미처리 품보다 박리 강도가 저하 (PMMA 예에서는 35 mJ/cm2 이상) 된 것을 알 수 있다.
그 결과, 적산 광량을 30 mJ/cm2 이하로 하는 것이, 미처리 제품에 비해 아크릴 기재의 경우 30% 이상, 유리 기판의 경우 최대 10% 이상의 박리 강도 향상 효과 을 확보할 수 있기 때문에 바람직하고, 10±5 mJ/cm2의 범위가 특히 바람직하다는 것을 알 수 있다.
더욱이 도 5 (c)에서, 엑시머 자외선 처리 후의 박리 필름 (A)와 박리 강도의 적산 광량 의존성에 관하여 말하자면, 적산 광량에 관계없이 처리되지 않은 경우와 거의 동등한 가벼운 박리성을 실현할 수 있음을 알 수 있다. 따라서, 박리 필름의 박리성은 바꾸지 않고, 피착물과의 적층시의 접착성만을 향상시킬 수 있으므로 엑시머 자외선 처리 여부에 따라 쉽게 접착성을 조정할 수 있다.
또한, 아르곤 엑시머 (126 nm)의 경우에는 표 2에 나타낸 실시예 26 내지 28의 결과로부터, 적산 광량이 1 mJ/cm2 미만에서 박리 강도가 현저하게 향상된 것을 알 수 있다.
또한, 본 발명의 특징인 적층 후 시간에 따른 접착성에 관해서는, 실시예 7, 10, 12의 광학용 투명 접착 시트와 비교예 1의 광학용 투명 접착 시트를 비교 평가한 결과를 표 3에 나타내었으며, 나아가 PMMA 판, 유리 판, 그리고 박리 필름 (활성 유지 층)으로 적층한 경우에 관해서는, 표 3의 적층 초기의 박리 강도에 대한 박리 강도의 증가량 (차이)과 적층 후 경과 시간의 관계를 각각 도 6 (a), 도 6 (b), 및 도 7에 나타내었다. 또한, 도 6 (a)와 (b)에서 검게 칠한 부분 및 표 3의 진하게 밑줄 쳐진 표기는 광학용 투명 접착 시트의 재료 실폐(material failure)를 나타내는 것이다.
도 6 (a)의 결과로부터, 비교예 1에서 표면 활성화 처리 없이 피착물로 PMMA를 사용한 경우, 시간에 따라 접착성이 완만하게 증가하는 데 비해, 실시예 7, 10, 12의 광학용 투명 접착 시트는 자외선 조사의 적산 광량이 작을수록 피착물과 접착력의 시간에 따른 증가의 정도가 커지고, 특히 적산 광량이 20 mJ/cm2 이하인 실시예 7에서는 단시간에 재료 실폐의 수준까지 접착성이 증가하는 것을 알 수 있다.
또한 유리를 피착물로 사용한 광학용 투명 접착 시트의 경우 도 6 (b)에 나타낸 바와 같이, 표면 활성화 처리되지 않은 비교예 1의 광학용 투명 접착 시트에 비해 엑시머 자외선 처리된 실시예 7, 10, 12 광학용 투명 시트의 접착성이 시간에 따라 촉진되고, 적산 광량이 작을수록 박리 시, 재료 실폐의 수준에 빠르게 도달하는 것을 알 수 있다.
더욱이, 도 6 (a), 도 6 (b) 및 표 3에는 기재하지 않았지만, 피착물에서 박리할 때 광학용 투명 접착 시트의 재료 파괴를 일으키지 않으며, 적층 후 경과 시간 내라면 실시예 7, 10, 12의 광학용 투명 접착 시트는 모두 피착물 인 PMMA 및 유리로부터 박리할 수 있다.
따라서, 피착물의 종류나 자외선 조사에 의한 표면 활성화 처리 조건에 따라 접착력의 시간에 따른 거동에 차이가 있지만, 어떤 표면 활성화 처리에 의해서라도 접착성이 시간에 따라 촉진되며, 또한 적층 후 박리가 가능한 적층 후 경과 시간의 범위에서 재작업이 가능하다는 것을 알 수 있다. 더욱이 표면 활성화 처리 조건을 조정하여 피착물의 종류와 소망하는 재작업 시간에 따라서 접착력을 시간에 따라 조절할 수 있다는 것을 알 수 있다.
또한 도 7의 결과로부터, 박리 필름 (A)가 적층된 경우에는 적층 후 경과 시간에 대한 박리 강도의 변화는 엑시머 자외선 처리의 적산 광량에 관계없이 소량이고, 표면 활성화 처리가 없는 비교예 1의 광학용 투명 접착 시트의 수준에 상응하며, 광학 부품에 적층하기 이전의 보관 상태에서도 박리 필름의 제거 용이성이 변하지 않기 때문에 박리 필름의 안정된 박리성이 유지 되고, 광학 부품에 적층하기 이전의 저장성도 우수하다는 것을 알 수 있다.
더욱이, 표 4의 결과를 토대로, 활성 유지 층 인 박리 필름 (A)으로 표면 활성화 표면을 코팅하여 보관한 광학 투명 접착 적층체에 관해서는, 활성 유지 층으로 코팅된 상태로 보관된 시간과, 박리 필름 (A)를 박리 제거함으로써 박리 필름 (A)를 피착물 (PMMA)에 적층한 때의 박리 강도와의 관계를 도 8에 나타내었다. 또한, 표 4의 증가량은 각 보관 경과 시간의 박리 강도로부터 보관 경과 시간이 0시간일 때의 박리 강도를 뺀 값이다.
이 결과로부터 활성 유지 층으로 코팅된 상태로 보관된 시간에 대해, 1000시간 경과 후에도 피착물과의 박리 강도가 1 N/20 mm 이내로 거의 변화하지 않고, 활성 유지 층으로 코팅 (적층)되어 표면 활성화 처리 효과가 유지되는 것을 알 수 있다.
더욱이 표 1 내지 4에서 설명하고 있지 않지만, 실시예 7에서 자외선 조사에 의한 표면 처리 전후의 접촉각을 측정한 결과, 표면 활성화 처리 전 (비교예 1에 상응)의 접촉각이 124°였던 반면, 표면 활성화 처리 후의 접촉각은 123°이며, 그 차이는 매우 작기 때문에 표면 활성화 처리로 인해 친수화 정도가 매우 작음에도 불구하고, 표면 활성화 처리에 의해 점성이 향상되고 또한 장시간에 걸쳐 그 효과가 지속되고 있는 것으로부터, 본 발명의 작용 효과는 기존과는 다른 메커니즘에 근거한 것임이 시사된다.
[산업상의 이용 가능성]
본 발명의 광학용 투명 접착 시트의 제조 방법에서 얻은 광학용 투명 접착 시트는 접착성과 재작업성을 모두 만족할 수 있기 때문에 휴대폰, LCD 모니터, 액정 TV 등의 표시 장치, 실내 또는 실외 간판 및 광고, 배치 용 등 조명 간판, 조명기구, 테일 램프와 실내 조명 등 차량용 광학 부품 등에 사용될 수 있다. 또한 광학용도에 한정되지 않고, 투명하지 않은 실리콘 접착 시트에도 응용될 수 있어, 보다 넓은 용도에 사용될 수 있다.
<부호에 대한 설명>
1, 10, 100, 101: 광학용 투명 접착 시트 적층체
2: 광학 투명 접착체
21: 표면 활성화 처리된 면
3: 박리 필름 (A)
4: 박리 필름 (B)
4S: 수지 필름
5: 미 경화의 광학용 투명 접착체 원료
6: 피착물
7: 프라이머
75: 권 심
80: 가열 장치 (히터)
81: 닥터 블레이드 (고무 롤러 판)
82: 원료 공급 장치
83: 냉각 장치
84, 841, 842, 843, 844, 845: 전달 장치 (컨베이어)
85: 캘린더 롤
86: 시트 절단 장비
87: 박리 필름 (A) 적층 장치
91: 박리 필름 (B) 공급 장치 (롤)
92: 박리 필름 (A) 공급 장치 (롤)
93: 박리 필름 (A) 박리 제거 장치 (롤)
94: 박리 필름 (A) 적층용 공급 장치 (롤)
95: 표면 활성화 처리 장치 (자외선 처리 장치 / 엑시머 자외선 처리 장치)

Claims (11)

  1. 광학 부품 조립용 실리콘 광학용 투명 접착 시트의 제조 방법으로서, 상기 광학용 투명 접착 시트의 피착물과 접하는 접착면의 적어도 일부 또는 전체에 자외선 조사에 의한 표면 활성화 처리를 하여, 적층 이전 박리 강도에 비해 피착물에 적층한 이후 박리 강도가 시간에 따라 증가하는 표면 활성화 처리된 면을 형성하는 것을 특징으로 하는 광학용 투명 접착 시트의 제조 방법.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 자외선 조사 처리의 파장이 365 nm 이하이고, 조사 적산 광량(irradiation integrated light quantity)이 30 mJ/cm2 이하인 것을 특징으로 하는 광학용 투명 접착 시트의 제조 방법.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 자외선 조사 처리가 엑시머 자외선 조사 처리인 것을 특징으로 하는 광학용 투명 접착 시트의 제조 방법.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 피착물에 대한 24 시간 동안 적층 후 박리 강도(B)는, 적층 초기의 박리 강도(A)에 대해, 박리 강도의 증가량(B-A)이 JIS Z0237에 준거한 접착력 시험의 90도 박리 모드에서 1 N/20 mm 이상인 것을 특징으로 하는 광학용 투명 접착 시트의 제조 방법.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 표면 활성화 처리된 면에 활성 유지 층을 더 적층하는 것을 특징으로 하는 광학용 투명 접착 시트의 제조 방법.
  6. 제 5 항에 있어서, 상기 활성 유지 층은 알키드 수지계(alkyd resin), 지방족 아미드계(aliphatic amide), 플루오로 실란계(fluoro-silane) 또는 플루오로 실리콘계(fluoro-silicone)로부터 선택되는 박리 처리 층(peel treatment layer)을 가진 박리 필름(release film)인 것을 특징으로 하는 광학용 투명 접착 시트 제조 방법.
  7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 하나에 따른 제조 방법으로 얻어지는 것을 특징으로 하는 광학용 투명 접착 시트.
  8. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 하나에 따른 제조 방법으로 얻어지는 광학용 투명 접착 시트의 표면 활성화 처리된 면에 보호 패널, 편광판, 위상차 지연 필름, 확산 필름 또는 액정 표시 장치로부터 선택되는 광학 부품으로 이루어진 피착물을 적층하는 것을 특징으로 하는 적층체의 제조 방법.
  9. 제 8 항에 따른 제조 방법으로 얻어지는 것을 특징으로 하는 적층체.
  10. 제 7 항 또는 제 9 항에 따른 광학용 투명 접착 시트 또는 적층체를 사용하여 얻어지는 광학 부품.
  11. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 하나에 따른 광학용 투명 접착 시트의 제조 방법에 사용되는 것을 특징으로 하는 광학용 투명 접착 시트의 제조 장치.
KR1020147018306A 2012-01-13 2013-01-07 광학용 투명 접착 시트의 제조방법, 광학용 투명 접착 시트 및 이를 이용한 표시 장치 KR101955059B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012005038 2012-01-13
JPJP-P-2012-005038 2012-01-13
PCT/JP2013/050021 WO2013105525A1 (ja) 2012-01-13 2013-01-07 光学用透明粘着シートの製造方法、光学用透明粘着シート及びそれを用いた表示装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20140114352A true KR20140114352A (ko) 2014-09-26
KR101955059B1 KR101955059B1 (ko) 2019-03-06

Family

ID=48781473

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020147018306A KR101955059B1 (ko) 2012-01-13 2013-01-07 광학용 투명 접착 시트의 제조방법, 광학용 투명 접착 시트 및 이를 이용한 표시 장치

Country Status (8)

Country Link
US (1) US9776387B2 (ko)
EP (1) EP2803708B1 (ko)
JP (1) JP5377800B1 (ko)
KR (1) KR101955059B1 (ko)
CN (1) CN104039908B (ko)
HK (1) HK1200862A1 (ko)
TW (1) TWI546361B (ko)
WO (1) WO2013105525A1 (ko)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015182614A1 (ja) * 2014-05-30 2015-12-03 日本ゼオン株式会社 複層フィルム及び巻回体
JP6801948B2 (ja) * 2015-02-20 2020-12-16 住友化学株式会社 樹脂フィルム付光学部材の製造方法
WO2017075823A1 (en) * 2015-11-06 2017-05-11 Wacker Chemicals (China) Company Limited Lamination method of substrates and product prepared thereby
JP6649167B2 (ja) * 2016-04-22 2020-02-19 住友化学株式会社 セパレートフィルム付光学部材の製造方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009074002A (ja) * 2007-09-21 2009-04-09 Seiko Epson Corp 接着シート、接合方法および接合体
JP2011256286A (ja) * 2010-06-09 2011-12-22 Seiko Epson Corp 接合膜付き基材、接合方法および接合体

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6481827A (en) 1987-09-22 1989-03-28 Kanzaki Paper Mfg Co Ltd Production of adhesive sheet
JP3391870B2 (ja) 1993-12-17 2003-03-31 住友ベークライト株式会社 異方導電フィルム
JP2001240820A (ja) 2000-02-29 2001-09-04 Nitto Denko Corp 塗膜保護シート、その製造方法及び施工方法
JP4776060B2 (ja) 2000-05-15 2011-09-21 日東電工株式会社 表面反応性官能基修飾粘着剤及び粘着テープ又はシート
US6730397B2 (en) 2001-12-18 2004-05-04 3M Innovative Properties Company Silicone pressure sensitive adhesives, articles and methods
JP4993651B2 (ja) 2004-01-19 2012-08-08 日東電工株式会社 表面保護シート
JP4514586B2 (ja) * 2004-01-29 2010-07-28 日東電工株式会社 粘着テープの製造方法及びその装置
US7368171B2 (en) * 2004-09-03 2008-05-06 H.B. Fuller Licensing & Financing, Inc. Laminating adhesive, laminate including the same, and method of making a laminate
EP1793938B1 (en) * 2004-09-06 2011-03-30 Coloplast A/S Silicone urisheath with integrated adhesive
US7374619B2 (en) * 2004-11-26 2008-05-20 Nitto Denko Corporation Method and apparatus for producing adhesive tape, and adhesive tape
JP2007098302A (ja) * 2005-10-05 2007-04-19 Nippon Zeon Co Ltd ハードコート層を有するフィルムの製造方法および光学機器
JP5046735B2 (ja) 2007-05-07 2012-10-10 協立化学産業株式会社 フィルム接着装置及び偏光板製造装置
JP2009086452A (ja) 2007-10-01 2009-04-23 Nitto Denko Corp 粘着型光学フィルムの製造方法、粘着型光学フィルムおよび画像表示装置
CN101688088B (zh) * 2007-11-16 2013-10-23 株式会社大华 光学用透明粘合体、光学用透明粘合层叠体及其制造方法
WO2009078195A1 (ja) * 2007-12-14 2009-06-25 Sharp Kabushiki Kaisha 粘着シート及び表示装置
US20110171480A1 (en) 2008-09-16 2011-07-14 Asahi Rubber Inc. Three-dimensional silicone-rubber bonded object
BRPI0919627A8 (pt) * 2008-10-29 2018-12-18 3M Innovative Properties Co materiais de silicone curados com feixe de elétrons
WO2010056544A1 (en) * 2008-10-29 2010-05-20 3M Innovative Properties Company Gentle to skin adhesive
US20100215882A1 (en) * 2009-02-23 2010-08-26 Nitto Denko Corporation Heat-peelable pressure-sensitive adhesive sheet for cutting laminated ceramic sheet and method for cut-processing laminated ceramic sheet
JP4850931B2 (ja) 2009-06-18 2012-01-11 信越化学工業株式会社 付加反応硬化型シリコーン粘着剤組成物および粘着テープ
JP5139410B2 (ja) * 2009-12-18 2013-02-06 日東電工株式会社 粘着テープおよび粘着テープの製造方法
KR101807901B1 (ko) * 2010-08-10 2017-12-11 히타치가세이가부시끼가이샤 수지 조성물, 수지 경화물, 배선판 및 배선판의 제조 방법

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009074002A (ja) * 2007-09-21 2009-04-09 Seiko Epson Corp 接着シート、接合方法および接合体
JP2011256286A (ja) * 2010-06-09 2011-12-22 Seiko Epson Corp 接合膜付き基材、接合方法および接合体

Also Published As

Publication number Publication date
TWI546361B (zh) 2016-08-21
WO2013105525A1 (ja) 2013-07-18
EP2803708B1 (en) 2019-09-18
JP5377800B1 (ja) 2013-12-25
EP2803708A1 (en) 2014-11-19
US9776387B2 (en) 2017-10-03
JPWO2013105525A1 (ja) 2015-05-11
TW201335316A (zh) 2013-09-01
EP2803708A4 (en) 2016-02-24
CN104039908A (zh) 2014-09-10
KR101955059B1 (ko) 2019-03-06
US20150002924A1 (en) 2015-01-01
HK1200862A1 (zh) 2015-08-14
CN104039908B (zh) 2015-09-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101955059B1 (ko) 광학용 투명 접착 시트의 제조방법, 광학용 투명 접착 시트 및 이를 이용한 표시 장치
WO2013137158A1 (ja) 粘着層付き透明面材、表示装置およびそれらの製造方法
US20200263058A1 (en) Method for manufacturing optical member
WO2013035792A1 (ja) 光学用透明粘着シートの製造方法、光学用透明粘着シート及びそれを用いた表示装置
TW201425026A (zh) 附黏著層之透明面材、其製造方法以及顯示裝置
TW201422759A (zh) 透明雙面黏著片及使用其之影像顯示裝置
TWI831835B (zh) 圖像顯示裝置之製造方法
CN111511857A (zh) 粘合片及层叠体的制造方法
WO2017204248A1 (ja) 積層粘着シート
WO2020054745A1 (ja) 粘着シート、積層体及び積層体の製造方法
JP6720473B2 (ja) 発光装置、照明器具及び情報表示装置ならびに発光装置の製造方法
JP2013130618A (ja) 偏光板用活性エネルギー線硬化性接着剤
JP6551151B2 (ja) ガラス積層体、電子デバイス用基板、及び電子デバイス
KR102315065B1 (ko) 디스플레이용 점착력 가변형 점착조성물 및 이를 포함하는 디스플레이용 점착시트
TW201133058A (en) Method for manufacturing liquid crystal display device
JP2020128546A (ja) 光学部材の製造方法
KR102102636B1 (ko) 광학용 점착제 조성물, 광학용 점착제 조성물의 제조방법 및 광학용 점착 필름
JP6923053B1 (ja) 粘着シート及び積層体
WO2020250887A1 (ja) 粘着シート及び積層体
JP6958703B1 (ja) 粘着シート及び積層体
JP2023164830A (ja) 光硬化性樹脂組成物、及び画像表示装置の製造方法
KR101629522B1 (ko) 백라이트 유닛용 점착제 조성물, 백라이트 유닛 및 액정표시 장치

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant