KR20130111360A

KR20130111360A - 점착성 조성물, 점착제 및 점착 시트

Info

Publication number: KR20130111360A
Application number: KR1020130032013A
Authority: KR
Inventors: 유키 오자와; 타다시 마타노; 타카유키 아라이; 사토루 쇼시
Original assignee: 린텍 가부시키가이샤
Priority date: 2012-03-30
Filing date: 2013-03-26
Publication date: 2013-10-10
Also published as: TW201339263A; CN103360997B; KR102071644B1; TWI591143B; JP2013209586A; JP5844201B2; CN103360997A

Abstract

본 발명은 편광판 등의 광학부재로의 사용에 적합한, 응력완화성이 뛰어난 점착성 조성물, 점착제 및 점착 시트를 제공한다.
중합체를 구성하는 모노머 단위로서, 카르복실기를 갖는 모노머를 함유하는, 중량평균 분자량이 50만∼300만인 (메타)아크릴산 에스테르 중합체(A)와, 중합성 이중 결합을 갖는 환상 올리고당을, 환상 분자로서 갖는 반응성 폴리로텍산 화합물(B)을 함유하는 점착성 조성물을 특징으로 한다.

Description

점착성 조성물, 점착제 및 점착 시트{ADHESIVE COMPOSITION, ADHESIVE AND ADHESIVE SHEET}

본 발명은, 점착성 조성물, 점착제(점착성 조성물을 경화시킨 재료) 및 점착 시트에 관한 것으로서, 특히, 편광판 등의 광학부재용으로 적합한 점착성 조성물, 점착제 및 점착 시트에 관한 것이다.

일반적으로, 액정 패널에서는, 편광판이나 위상차판을 액정셀의 유리기판 등에 접착하는데 점착제 조성물로 형성된 점착제층이 사용되는 경우가 많다. 그러나, 편광판이나 위상차판 등의 광학부재는 열 등에 의해 수축되기 쉽기 때문에, 열이력에 의해 수축이 발생되고, 그 결과, 해당 광학부재에 적층되어 있는 점착제층이 그 수축을 추종할 수 없어, 계면에서 벗겨짐(소위 들뜸, 박리)이 발생되거나, 광학부재의 수축시의 응력에 기인해서 광학부재의 광학축이 벗어나는 것에 의한 광누설(소위 백발(白拔))이 발생되는 문제가 지적되고 있다.

이것을 방지하기 위한 방법으로서는, (1)점착력이 높고, 동시에, 형태안정성이 뛰어난 점착제층을 편광판 등의 광학부재에 첩합함으로써 광학부재의 수축 자체를 억제하는 방법, 혹은, (2)광학부재의 수축시의 응력이 작은 점착제층을 이용하는 방법을 들 수 있다. (1)의 방법으로는, 특허문헌 1에 게시된 바와 같이 저장 탄성률이 높은 점착제층을 이용하는 것이 유효하다. 한편, (2)의 방법으로는, 광학부재의 변형에 유연하게 대응할 수 있는 응력완화성이 뛰어난 점착제층을 이용하는 것이 유효하다. 그러나, 종래, 이러한 응력완화성이 뛰어난 점착제층을 형성하려고 하는 경우, 그 점착제층 중의 가교 밀도를 낮게 설계 할 필요가 있었다. 그렇게 하면 점착제층 자체의 응집력이 저하되어, 내구성이 악화되는 문제가 있었다.

그래서, 특허문헌 2∼4에서는, 점착제층의 가교 밀도를 낮게 하는 대신에 가소제, 유동 파라핀, 우레탄 엘라스토머 등을 아크릴계 점착제에 첨가함으로써, 얻어지는 점착제 조성물을 적당히 부드럽게 해서 점착제층에 응력완화성을 부여하고, 그것에 의해서 내광누설성 및 내구성을 얻으려고 하고 있다.

[특허문헌1]특개 2006-235568호 공보 [특허문헌2]특개평 5-45517호 공보 [특허문헌3]특개평 9-137143호 공보 [특허문헌4]특개 2005-194366호 공보

그렇지만, 가소제 또는 유동 파라핀을 첨가한 점착제 조성물은, 형성되는 점착제층이 시간이 경과함에 따라 가소제나 유동 파라핀을 브리드 아웃(breed out)하는 난점을 갖고 있었다. 그리고, 이것에 의해, 접착 내구성이 저하되거나, 피착체가 되는 액정셀이 오염되는 등, 여러가지 문제가 염려되고 있었다. 또한, 우레탄 엘라스토머를 첨가한 점착제 조성물은, 상용성을 유지하고자 하면 우레탄 엘라스토머의 첨가량의 상한이 제한된다. 그러므로, 상기 점착제 조성물로부터 얻어지는 점착제층에서는, 응력완화성의 개선은 불충분하게 되는 경향이 있었다. 나아가서, 응력완화성을 향상시키기 위해서 우레탄 엘라스토머의 첨가량을 많게 하면, 아크릴계 점착제와의 상용성이 저하되어, 백탁 등의 문제가 발생되었다. 이와 같이, 종래의 기술에서는, 광학부재용의 점착제 조성물로 형성되는 점착제층의 응력완화성을 근본적으로 개선하는 것은 곤란하였다.

본 발명은 이러한 실정에 비추어서 이루어진 것으로, 편광판 등의 광학부재로의 사용에 적합한, 응력완화성이 뛰어난 점착성 조성물, 점착제 및 점착 시트를 제공하는 것을 목적으로 한다.

상기 목적을 달성하기 위해서, 첫번째로 본 발명은, 중합체를 구성하는 모노머 단위로서, 카르복실기를 갖는 모노머를 함유하는, 중량평균 분자량이 50만∼300만인 (메타)아크릴산 에스테르 중합체(A)와, 중합성 이중 결합을 갖는 환상 올리고당을, 환상 분자로서 갖는 반응성 폴리로텍산 화합물(B)을 함유하는 것을 특징으로 하는 점착성 조성물을 제공한다(발명1).

상기 발명(발명1)에 따른 점착성 조성물을 경화시킨 점착제는, 환상 분자가 직쇄상 분자상을 자유롭게 이동하는 기계적 결합을 포함하는 반응성 폴리로텍산 화합물(B)에 의해 형성되는 삼차원망상구조와, 상기 삼차원망상구조에 삽입되어 구속된 (메타)아크릴산 에스테르 중합체(A)에 의해 형성되는 의사적인 가교 구조가 조합된 구조를 갖고, 그 구조에 의해, 뛰어난 응력완화성을 발휘한다. 한편, (메타)아크릴산 에스테르 중합체(A)는, 카르복실기 함유 모노머를 구성 모노머 단위로 함으로써, 상기 삼차원망상구조에 양호하게 삽입된다.

상기 발명(발명1)에서, 상기 반응성 폴리로텍산 화합물(B)의 환상 올리고당이 갖는 중합성 이중 결합은, 이소시아네이트를 통해서 상기 환상 올리고당에 도입된 (메타)아크릴로일기에 포함되는 것이 바람직하다(발명2).

상기 발명(발명1,2)에서, 상기 반응성 폴리로텍산 화합물(B)은, 관능기를 갖는 환상 올리고당을 환상 분자로서 갖는 폴리로텍산 화합물(b1)과, 상기 관능기와 반응하는 치환기를 갖는 중합성 이중 결합 함유 화합물(b2)을 반응시켜서 얻어지는 것이며, 상기 중합성 이중 결합 함유 화합물(b2)의 양은, 상기 폴리로텍산 화합물(b1)의 상기 관능기에 대하여 10∼60mol%인 것이 바람직하다(발명3).

상기 발명(발명1∼3)에서, 상기 (메타)아크릴산 에스테르 중합체(A) 100중량부에 대한 상기 반응성 폴리로텍산 화합물(B)의 비율은, 5∼60중량부인 것이 바람직하다(발명4).

상기 발명(발명1∼4)에서, 상기 (메타)아크릴산 에스테르 중합체(A)는, 상기 중합체를 구성하는 모노머 단위로서, 상기 카르복실기를 갖는 모노머를 1∼30중량% 함유하는 것이 바람직하다(발명5).

상기 발명(발명1∼5)에서, 상기 점착성 조성물은, 광중합 개시제(C)를 더 함유하는 것이 바람직하다(발명6).

상기 발명(발명6)에서, 상기 광중합 개시제(C)의 함유량은, 상기 반응성 폴리로텍산 화합물(B) 100중량부에 대하여, 1∼15중량부인 것이 바람직하다(발명7).

두번째로 본 발명은, 상기 점착성 조성물(발명1∼7)을, 활성 에너지선의 조사에 의해 경화시켜 이루어진 점착제를 제공한다(발명8).

상기 발명(발명8)에서는, 상기 활성 에너지선의 조사량이, 10∼1000mJ/cm²인 것이 바람직하다.

세번째로 본 발명은, 기재와, 점착제층을 구비한 점착 시트로서, 상기 점착제층이 상기 점착제(발명8)로 이루어지는 것을 특징으로 하는 점착 시트를 제공한다(발명9).

상기 발명(발명9)에서, 상기 기재는, 광학부재인 것이 바람직하다(발명10).

네번째로 본 발명은, 2장의 박리 시트와, 상기 2장의 박리 시트의 박리면과 접하도록 상기 박리 시트에 협지된 점착제층을 구비한 점착 시트로서, 상기 점착제층이 상기 점착제(발명8)로 이루어지는 것을 특징으로 하는 점착 시트를 제공한다(발명11).

본 발명에 따른 점착성 조성물을 경화시킨 점착제에서는, 활성 에너지선의 조사에 의해, 복수의 반응성 폴리로텍산 화합물이, 그 환상 분자끼리 결합해서 삼차원망상구조를 형성하고, 상기 삼차원망상구조에, 복수의 (메타)아크릴산 에스테르 중합체가 삽입됨으로써, 그 중합체끼리는 구속되어, 상기 중합체간에 의사적인 가교 구조가 형성되는 것으로 추정된다. 여기에서, 폴리로텍산 화합물은, 그 환상 분자가 직쇄상 분자상을 자유롭게 이동하는 기계적 결합을 갖기 때문에, 상기의 삼차원망상구조는 상기 기계적 결합을 포함하는 것이다. 그러한 기계적 결합을 포함하는 삼차원망상구조와 의사적인 가교 구조가 조합된 구조에 의해, 얻어지는 점착제는, 뛰어난 응력완화성을 발휘한다. 한편, 상기(메타)아크릴산 에스테르 중합체는, 카르복실기 함유 모노머를 구성 모노머 단위로 함으로써, 상기 삼차원망상구조에 양호하게 삽입된다.

또한, 본 발명에 따른 점착성 조성물은, 활성 에너지선의 조사에 의해, 점착제층 형성 직후부터 점착제의 경화가 실질적으로 완료되기 때문에, 에이징이 불필요하고, 또한, 점착제층 형성 직후부터 점착제의 제물성이 안정된다. 그것에 의해, 상기 점착제로 이루어지는 점착제층을 구비한 부재의 출하나 다음 공정 투입을 신속하게 수행할 수 있고, 중간재료의 재고부담이나 생산성의 면에서 대단히 유리하다.

도 1은 본 발명의 제1 실시형태에 따른 점착시트의 단면도.
도 2는 본 발명의 제2 실시형태에 따른 점착시트의 단면도.
도 3은 실시예 1의 반응성 폴리로텍산 화합물(B)에 관한 퓨리에 변환 적외 분광 광도계에 의한 측정 결과(FT-IR 스펙트럼)를 도시한 도면.

이하, 본 발명의 실시 형태에 대해서 설명한다.

〔점착성 조성물〕

본 실시 형태에 따른 점착성 조성물(이하 「점착성 조성물(P)」라고 한다. ) 은, 중합체를 구성하는 모노머 단위로서, 카르복실기를 갖는 모노머(카르복실기 함유 모노머)를 함유하는, 중량평균 분자량(Mw)이 50만∼300만인 (메타)아크릴산 에스테르 중합체(A)(이하, 단순히「중합체(A)」라고 하는 경우가 있다.)와, 중합성 이중 결합을 갖는 환상 올리고당을, 환상 분자로서 갖는 반응성 폴리로텍산 화합물(B)을 함유하고, 바람직하게는, 광중합 개시제(C)를 더 함유한다. 한편, 본 명세서에서, (메타)아크릴산 에스테르는, 아크릴산 에스테르 및 메타크릴산 에스테르의 양쪽을 의미한다. 다른 유사 용어도 동일하다. 또한, 「중합체」에는 「공중합체」의 개념도 포함되는 것으로 한다.

상기 점착성 조성물(P)은, 활성 에너지선의 조사 전에는 경화(가교)반응이 진행되지 않기 때문에, 취급이 용이하고, 도공성이 뛰어난다. 점착성 조성물(P)에 대하여 활성 에너지선을 조사하면, 복수의 반응성 폴리로텍산 화합물(B)은, 후술하는 기계적 결합을 포함하는 삼차원망상구조를 신속하게 형성한다. 복수의 (메타)아크릴산 에스테르 중합체(A)는, 그 삼차원망상구조에 삽입되어 구속되어, 중합체(A)끼리간에 의사적인 가교 구조가 형성되는 것으로 추정된다. 상기 기계적 결합을 포함하는 삼차원망상구조와 의사적인 가교 구조가 조합된 구조(이하 「구조X」라고 한다.) 에 의해, 얻어지는 점착제는, 충분한 응집력을 가지면서 대단히 뛰어난 응력완화성을 발휘하고, 구체적으로는, 후술하는 바와 같은 적절한 겔 분률을 가지면서 높은 파단 신장률을 나타낸다. 한편, 상기 (메타)아크릴산 에스테르 중합체(A)는, 카르복실기 함유 모노머를 구성 모노머 단위로 함으로써, 상기 삼차원망상구조에 양호하게 삽입된다.

또한, 활성 에너지선의 조사에 의한 점착성 조성물(P)의 경화는, 활성 에너지선의 조사 직후에 실질적으로 완료되기 때문에, 점착제층 형성 후의 에이징이 불필요하고, 또한, 점착제층 형성 직후부터 점착제의 점착력 등의 제물성은 안정된다.

(메타)아크릴산 에스테르 중합체(A)는, 카르복실기 함유 모노머를 필수적인 구성 성분으로 하는 중합체이다. 중합체(A)가 카르복실기를 가짐으로써, 후술의 반응성 폴리로텍산 화합물(B)과의 상용성을 적합한 것으로 할 수 있다.

카르복실기 함유 모노머로서는, 예를 들면, 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤 산, 말레인산, 이타콘산, 시트라콘산 등의 에틸렌성 불포화 카르본산을 들 수 있다. 이것들은 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 좋다.

또한, (메타)아크릴산 에스테르 중합체(A)는, 점착성을 발현시키기 위해서, 상기 중합체를 구성하는 모노머 단위로서, 알킬기의 탄소수가 1∼20의 (메타)아크릴산 알킬 에스테르를 함유하는 것이 바람직하다. 알킬기의 탄소수가 1∼20의 (메타)아크릴산 알킬 에스테르로서는, 예를 들면, (메타)아크릴산 메틸, (메타)아크릴산 에틸, (메타)아크릴산 프로필, (메타)아크릴산 n-부틸, (메타)아크릴산 n-펜틸, (메타)아크릴산 n-헥실, (메타)아크릴산 2-에틸 헥실, (메타)아크릴산 이소옥틸, (메타)아크릴산 n-데실, (메타)아크릴산 n-도데실, (메타)아크릴산 미리스틸, (메타)아크릴산 팔미틸, (메타)아크릴산 스테아릴 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 점착성을 보다 향상시키는 관점에서, 알킬기의 탄소수가 4∼8의 (메타)아크릴산 알킬 에스테르가 바람직하고, (메타)아크릴산 n-부틸 또는 (메타)아크릴산 2-에틸 헥실이 특히 바람직하다. 한편, 이것들은 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 좋다.

(메타)아크릴산 에스테르 중합체(A)는, 상술한 카르복실기 함유 모노머 및 알킬기의 탄소수가 1∼20의 (메타)아크릴산 알킬 에스테르 이외에도, 본 발명의 효과를 손상하지 않는 범위에서, 적당히, 다른 모노머를 구성 단위로 할 수 있다.

　상기 다른 모노머는, 카르복실기 이외의 반응성 관능기를 갖는 모노머(반응성 관능기 함유 모노머)이어도 좋고, 비반응성의 모노머이어도 좋다. 반응성 관능기 함유 모노머로서는, 분자내에 수산기를 갖는 모노머(수산기 함유 모노머), 분자내에 아미노기를 갖는 모노머(아미노기 함유 모노머) 등을 들 수 있고, 1종을 단독으로, 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.

수산기 함유 모노머로는, 예를 들면, (메타)아크릴산 2-하이드록시 에틸, (메타)아크릴산 2-하이드록시 프로필, (메타)아크릴산 3-하이드록시 프로필, (메타)아크릴산 2-하이드록시 부틸, (메타)아크릴산 3-하이드록시 부틸, (메타)아크릴산 4-하이드록시 부틸 등의 (메타)아크릴산 하이드록시 알킬 에스테르 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 좋다.

아미노기 함유 모노머로는, 예를 들면, (메타)아크릴산 아미노 에틸, (메타)아크릴산 n-부틸아미노 에틸 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상을 조합해 사용해도 좋다.

비반응성의 모노머로서는, 예를 들면, (메타)아크릴산 메톡시메틸, (메타)아크릴산 메톡시에틸, (메타)아크릴산 에톡시메틸, (메타)아크릴산 에톡시에틸 등의 알콕시알킬기 함유(메타)아크릴산 에스테르, (메타)아크릴산 시클로 헥실 등의 지방족환을 갖는 (메타)아크릴산 에스테르, (메타)아크릴산 페닐 등의 방향족환을 갖는 (메타)아크릴산 에스테르, 아크릴 아미드, 메타크릴아미드 등의 비가교성의 아크릴 아미드, (메타)아크릴산 n, N-디메틸아미노에틸, (메타)아크릴산 n, N-디메틸아미노프로필 등의 비가교성의 3급 아미노기를 갖는 (메타)아크릴산 에스테르, 초산 비닐, 스틸렌 등을 들 수 있다. 이것들은 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 좋다.

(메타)아크릴산 에스테르 중합체(A)는, 상기 중합체를 구성하는 모노머 단위로서, 상기 카르복실기 함유 모노머를, 1∼30중량% 함유하는 것이 바람직하고, 특히 3∼25중량% 함유하는 것이 바람직하고, 나아가서는 5∼20 중량% 함유하는 것이 바람직하다. 카르복실기 함유 모노머를 상기 범위에서 함유함으로써, (메타)아크릴산 에스테르 중합체(A)는, 반응성 폴리로텍산 화합물(B)과의 상용성이 향상되어, 반응성 폴리로텍산 화합물(B)이 형성하는 삼차원망상구조에 양호하게 삽입된다. 카르복실기 함유 모노머의 함유량이 1중량% 미만에서는, 상기 구조X가 양호하게 형성되지 않아, 충분한 응집력이 얻어지지 않는 경우가 있다. 한편, 카르복실기 함유 모노머의 함유량이 30중량%를 넘으면, 얻어지는 점착제의 리워크성이 저하될 우려가 있다.

(메타)아크릴산 에스테르 중합체(A)는, 상기 중합체를 구성하는 모노머 단위로서, 알킬기의 탄소수가 1∼20의 (메타)아크릴산 알킬 에스테르를, 30∼99중량% 함유하는 것이 바람직하고, 특히 50∼98중량% 함유하는 것이 바람직하고, 나아가서는 70∼95중량% 함유하는 것이 바람직하다. 상기 (메타)아크릴산 알킬 에스테르의 함유량이 30중량% 미만에서는, 점착력이 과도하게 낮아질 우려가 있다. 한편, 상기 (메타)아크릴산 알킬 에스테르의 함유량이 99중량%를 넘으면, 상기 카르복실기 함유 모노머의 배합 비율이 부족할 경우가 있다.

(메타)아크릴산 에스테르 중합체(A)의 중합 방식은, 랜덤 공중합체이어도 좋고, 블록 공중합체이어도 좋다.

(메타)아크릴산 에스테르 중합체(A)의 중량평균 분자량은 50만∼300만이며, 바람직하게는 60만∼250만이며, 특히 바람직하게는 80만∼200만이다. 한편, 본 명세서에서의 중량평균 분자량은, 겔퍼미에이션 크로마토그래피(GPC)법에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 값이다.

(메타)아크릴산 에스테르 중합체(A)의 중량평균 분자량이 50만 미만이면, 얻어지는 점착제가 내구성 및 리워크성이 뒤떨어질 우려가 있다. 또한, (메타)아크릴산 에스테르 중합체(A)의 중량평균 분자량이 300만을 넘으면, 반응성 폴리로텍산 화합물(B)과의 상용성이 악화되는 동시에, 얻어지는 점착제의 응력완화성이 저하될 우려가 있다.

다음에, 점착성 조성물(P)은, 반응성 폴리로텍산 화합물(B)을 함유하는 것을 특징으로 한다. 본 실시 형태에 따른 반응성 폴리로텍산(B)은, 활성 에너지선의 조사에 의해 경화하는 반응성의 폴리로텍산이며, 적어도 2개의 환상 분자의 개구부에 직쇄상 분자가 관통하고, 동시에, 직쇄상 분자의 양말단에 블록기를 갖게 되고, 환상 분자로서, 중합성 이중 결합을 갖는 환상 올리고당을 갖는 화합물이다.

상기 반응성 폴리로텍산 화합물(B)에서는, 환상 분자가 직쇄상 분자상을 자유롭게 이동하는 것이 가능하지만, 블록기에 의해 환상 분자는 직쇄상 분자에서 빠져 나갈 수 없는 구조로 되어 있다. 다시 말해, 직쇄상 분자 및 환상 분자는, 공유결합 등의 화학결합이 아니고, 소위 기계적 결합에 의해 그 형태를 유지하는 것으로 되어 있다. 이 반응성 폴리로텍산 화합물(B)에 대하여 활성 에너지선을 조사하면, 복수의 반응성 폴리로텍산 화합물(B)은, 환상 분자에 존재하는 중합성 이중 결합의 개열에 의해, 환상 분자를 통해서 서로 결합하여, 삼차원망상구조를 형성한다. 반응성 폴리로텍산 화합물(B)은 상기의 기계적 결합을 갖기 때문에, 형성되는 삼차원망상구조도 상기 기계적 결합을 포함하여, 높은 응력완화성이 발휘되는 것이 된다.

반응성 폴리로텍산 화합물(B)의 환상 분자로서 환상 올리고당을 사용함으로써, 적절한 환경(環徑)의 선택이 가능해지고, 그것에 의해, 직쇄상 분자상에서 환상 분자가 이동하는 것에 의한 효과가 발현되기 쉽다. 또한, 환상 올리고당은 수산기를 갖는 것으로부터, 상기 수산기를 이용하여, 또는 상기 수산기와의 반응에 의해 도입한 치환기 등을 이용하여, 중합성 이중 결합을 도입하는 것이 용이하다. 게다가, 환상 올리고당이라면, 입수도 용이한 이점도 있다. 한편, 본 명세서에서,「환상 분자」 또는「환상 올리고당」의 「환상」은, 실질적으로 「환상」인 것을 의미한다. 다시 말해, 직쇄상 분자상에서 이동 가능하면, 환상 분자는 완전히 폐환이 아니어도 좋고, 예를 들면 나선구조이어도 좋다.

환상 올리고당으로서는, α-시클로 덱스트린, β-시클로 덱스트린, γ-시클로 덱스트린 등의 시클로 덱스트린이 바람직하게 들 수 있고, 그 중에서도 특히 α-시클로 덱스트린이 바람직하다. 반응성 폴리로텍산 화합물(B)의 환상 분자는, 반응성 폴리로텍산 화합물(B) 중 또는 점착제 조성물 중에서 2종 이상 혼재하고 있어도 좋다.

환상 분자에 중합성 이중 결합을 갖는 반응성 폴리로텍산 화합물(B)은, 관능기를 갖는 환상 올리고당을 환상 분자로서 갖는 폴리로텍산 화합물(b1)과, 상기 관능기와 반응하는 치환기를 갖는 중합성 이중 결합 함유 화합물(b2)을 반응시킴으로써, 바람직하게 얻을 수 있다. 상기의 폴리로텍산 화합물(b1)은, 종래 공지된 방법(예를 들면, 특개 2005-154675에 기재된 방법)에 의해 얻을 수 있다.

환상 올리고당이 갖는 관능기로서는, 수산기, 카르복실기, 아미노기, 치환 아미노기, 에폭시기 등을 들 수 있고, 그 중에서도 수산기가 바람직하다. 수산기는, 환상 올리고당이 최초상태(수식(修飾) 전의 상태를 의미한다. )로 갖는 수산기이어도 좋고, 환상 올리고당에 치환기로서 도입된 수산기이어도 좋다. 수산기 이외의 관능기는, 환상 올리고당이 최초상태로 갖는 수산기와의 반응에 의해, 환상 올리고당에 도입할 수 있다.

또한, 상기 관능기는, 환상 올리고당에 치환기를 통해서 존재하고 있어도 좋고, 나아가서는, 환상 올리고당이 최초상태로 갖는 수산기를 통해서 다른 2종류 이상의 치환기를 결합하고, 그 중의 어느 쪽인가의 치환기에 관능기를 갖고 있어도 좋다.

상기 치환기로서는, 예를 들면, 아세틸기, 알킬기, 트리틸기, 토실기, 트리메틸실란기, 페닐기 등의 이외에, 폴리에스테르쇄, 옥시에틸렌쇄, 알킬쇄, 에테르쇄, 에스테르쇄, 아크릴산 에스테르쇄 등을 들 수 있다. 치환기의 분자량(혹은 수평균 분자량)은, 100∼10,000이 바람직하고, 특히 400∼2,000이 바람직하다. 환상 올리고당의 수산기로의 상기 치환기의 도입율(치환도)은, 10∼90%인 것이 바람직하고, 특히 30∼70%인 것이 바람직하다.

한편, 중합성 이중 결합 함유 화합물(b2)이 갖는 치환기는, 폴리로텍산 화합물(b1)의 환상 분자가 갖는 관능기의 종류에 따라 적당히 선택할 수 있다. 예를 들면, 관능기가 수산기, 아미노기 또는 치환 아미노기인 경우, 치환기로서는 이소시아네이트기 또는 에폭시기가 바람직하고, 관능기가 카르복실기인 경우, 치환기로서는 아지리디닐기, 에폭시기 또는 옥사졸린기가 바람직하고, 관능기가 에폭시기인 경우, 치환기로서는 아미노기, 카르복실기 또는 아지리디닐기가 바람직하다. 이러한 치환기는, 중합성 이중 결합 함유 화합물(b2) 1분자마다 하나씩 포함된다.

또한, 중합성 이중 결합 함유 화합물(b2)에는, 중합성 이중 결합(탄소-탄소 이중 결합)이, 1분자마다 통상 1∼5개, 바람직하게는 1∼2개 포함된다. 이러한 중합성 이중 결합 함유 화합물(b2)로서는, 예를 들면, 메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트, 메타-이소프로페닐-α, α-디메틸벤질이소시아네이트, 메타크릴로일이소시아네이트, 아릴이소시아네이트; 디이소시아네이트 화합물 또는 폴리이소시아네이트 화합물과, 하이드록시에틸(메타)아크릴레이트와의 반응에 의해 얻어지는 아크릴로일모노이소시아네이트 화합물; 디이소시아네이트 화합물 또는 폴리이소시아네이트 화합물과, 폴리올 화합물과, 하이드록시에틸(메타)아크릴레이트와의 반응에 의해 얻어지는 아크릴로일모노이소시아네이트 화합물; 글리시딜(메타)아크릴레이트; (메타)아크릴산, 2-(1-아지리디닐)에틸(메타)아크릴레이트, 2-비닐-2-옥사졸린, 2-이소프로페닐-2-옥사졸린 등을 들 수 있다.

중합성 이중 결합 함유 화합물(b2)로서는, 상기 중에서도, 치환기로서 이소시아네이트기를 갖고, 중합성 이중 결합을 함유하는 기로서, 에틸렌성 이중 결합을 함유하는 기, 특히 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물이 바람직하고, 구체적으로는, (메타)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트, 특히 메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트가 바람직하다.

중합성 이중 결합 함유 화합물(b2)은, 폴리로텍산 화합물(b1)의 상기 관능기에 대하여, 10∼60mol%, 특히 15∼50mol%, 나아가서는 20∼40mol%의 비율로 사용되는 것이 바람직하다.

또한, 중합성 이중 결합 함유 화합물(b2)은, 폴리로텍산 화합물(b1)을 구성하는 환상 올리고당 1분자당, 바람직하게는 0.01∼10분자, 더욱 바람직하게는 0.05∼5분자, 특히 바람직하게는 0.5∼2분자의 비율로 부가되고 있다.

폴리로텍산 화합물(b1)과 중합성 이중 결합 함유 화합물(b2)의 반응은, 통상은 상압, 불활성 가스 분위기 하에서, 실온 또는 40∼70℃의 가온에서, 초산 에틸 등의 유기용매 중에서 12∼48시간 정도 행해진다. 반응에 즈음해서는, 촉매나 중합 금지제 등을 적당히 사용할 수 있다. 예를 들면, 환상 분자가 갖는 관능기가 수산기인 폴리로텍산 화합물(b1)과, 치환기가 이소시아네이트기인 중합성 이중 결합 함유 화합물(b2)의 반응의 경우는, 디부틸주석라우레이트 등의 유기주석계의 촉매를 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 관능기와 치환기의 조합에 따라, 반응의 온도, 압력, 용매, 시간, 촉매의 유무, 촉매의 종류를 적당히 선택할 수 있다. 이것에 의해, 폴리로텍산 화합물(b1)의 환상 분자에 존재하는 관능기와, 중합성 이중 결합 함유 화합물(b2)내의 치환기가 반응하여, 환상 분자에 중합성 이중 결합이 도입된 반응성 폴리로텍산 화합물(B)을 얻을 수 있다. 이 반응에서의 관능기와 치환기의 반응율은, 통상 70% 이상, 바람직하게는 80% 이상이며, 미반응의 관능기가 반응성 폴리로텍산 화합물(B)의 환상 분자 중에 잔류하고 있어도 좋다.

반응성 폴리로텍산 화합물(B)의 직쇄상 분자는, 환상 분자로서의 환상 올리고당에 포접되어, 공유결합 등의 화학결합이 아닌 기계적인 결합으로 일체화할 수 있는 분자 또는 물질이며, 직쇄상의 것이라면, 특별히 한정되지 않는다. 한편, 본명세서에서, 「직쇄상 분자」의 「직쇄」는, 실질적으로 「직쇄」인 것을 의미한다. 다시 말해, 직쇄상 분자상에서 환상 분자가 이동가능하면, 직쇄상 분자는 분기쇄를 갖고 있어도 좋다.

반응성 폴리로텍산 화합물(B)의 직쇄상 분자로서는, 예를 들면, 폴리에틸렌 글리콜, 폴리프로필렌 글리콜, 폴리이소프렌, 폴리에틸렌 이소부틸렌, 폴리에틸렌 부타디엔, 폴리테트라하이드로퓨란, 폴리에틸렌 아크릴산 에스테르, 폴리디메틸실록산, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등이 바람직하고, 이 직쇄상 분자는, 점착제 조성물 내에 2종 이상 혼재하고 있어도 좋다.

반응성 폴리로텍산 화합물(B)의 직쇄상 분자의 수평균 분자량은, 3,000∼300,000인 것이 바람직하고, 특히 10,000∼200,000인 것이 바람직하고, 나아가서는 20,000∼100,000인 것이 바람직하다. 수평균 분자량이 3,000 미만이면, 환상 분자의 직쇄상 분자상에서의 이동량이 작아져서, 점착제의 응력완화성이 충분히 얻어지지 않을 우려가 있다. 또한, 수평균 분자량이 300,000을 넘으면, 반응성 폴리로텍산 화합물(B)의 용매로의 용해성이나, 후술하는 (메타)아크릴산 에스테르 중합체(A)과의 상용성이 악화될 우려가 있다.

반응성 폴리로텍산 화합물(B)의 블록기는, 환상 분자가 직쇄상 분자에 의해 꼬치 모양으로 된 형태를 유지할 수 있는 기라면, 특별히 한정되지 않는다. 이러한 기로서는, 부피가 큰 기, 이온성 기 등을 들 수 있다.

구체적으로는, 반응성 폴리로텍산 화합물(B)의 블록기는, 디니트로페닐기류, 시클로 덱스트린류, 아다만탄기류, 트리틸기류, 플루오레세인류, 피렌류, 안트라센류 등, 혹은, 수평균 분자량 1,000∼1,000,000의 고분자의 주쇄 또는 측쇄 등이 바람직하고, 이 블록기는, 반응성 폴리로텍산 화합물(B)내 또는 점착제 조성물 내에 2종 이상 혼재하고 있어도 좋다.

상기의 수평균 분자량 1,000∼1,000,000의 고분자로서는, 예를 들면, 폴리아미드, 폴리이미드, 폴리우레탄, 폴리디메틸실록산, 폴리에틸렌 아크릴산 에스테르 등을 들 수 있다.

직쇄상 분자가 2 이상의 환상 분자에 의해 꼬치 모양으로 포접될 때에 환상 분자의 최대포접량을 100%로 했을 경우, 환상 분자의 포접량은, 바람직하게는 0.1∼60%, 특히 바람직하게는 1∼50%, 더 바람직하게는 5∼40%이다.

한편, 환상 분자의 최대포접량은, 직쇄상 분자의 길이와 환상 분자의 두께에 의해 결정할 수 있다. 예를 들면, 직쇄상 분자가 폴리에틸렌 글리콜이며, 환상 분자가 α-시클로 덱스트린 분자의 경우, 최대포접량은, 실험적으로 요구되고 있다 (Macromolecules 1993, 26, 5698-5703참조).

이상 설명한 반응성 폴리로텍산(B)은, 점착성 조성물(P)에서, 1종을 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 좋다.

본 실시 형태에 따른 점착제 조성물 내에서의 반응성 폴리로텍산 화합물(B)의 함유량은, (메타)아크릴산 에스테르 중합체(A) 100중량부에 대하여, 5∼60중량부인 것이 바람직하고, 특히 7∼45중량부인 것이 바람직하고, 나아가서는 10∼30중량부인 것이 바람직하다. 상기 비율로 (메타)아크릴산 에스테르 중합체(A) 및 반응성 폴리로텍산 화합물(B)을 함유하는 점착성 조성물(P)로부터 얻어지는 점착제는, 상기 구조X를 양호하게 형성하는 것이라고 추정된다.

또한, 반응성 폴리로텍산 화합물(B)의 함유량이 5중량부 미만이면, 해당 반응성 폴리로텍산 화합물(B)에 의한 구조X의 생성 비율이 과도하게 적어서, 겔 분률이 저하되고, 응집력이 불충분하게 되는 우려가 있다. 한편, 반응성 폴리로텍산 화합물(B)의 함유량이 60중량부를 넘으면, 상대적으로 (메타)아크릴산 에스테르 중합체(A)의 함유량이 과도하게 낮아져서, 점착력이 저하되는 우려가 있다.

여기에서, 점착성 조성물(P)에 대하여 조사하는 활성 에너지선으로서 자외선을 사용하는 경우에는, 점착성 조성물(P)은, 광중합 개시제(C)를 함유하는 것이 바람직하다. 이렇게 광중합 개시제(C)를 함유함으로써, 반응성 폴리로텍산 화합물(B)을 효율이 양호하게 경화시킬 수 있고, 또한 중합 경화 시간 및 활성 에너지선의 조사량을 적게 할 수 있다.

이러한 광중합 개시제(C)로서는, 구체적으로는, 벤조페논, 아세토페논, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르, 벤조인안식향산, 벤조인안식향산메틸, 벤조인디메틸케탈, 2, 4-디에틸티옥산손, 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤, 벤딜디페닐설파이드, 테트라메틸티우람모노설파이드, 아조비스이소부틸니트릴, 벤질, 디벤질, 디아세틸, β-클로로안트라퀴논, (2, 4, 6-트리메틸벤딜디페닐)포스핀옥사이드, 2-벤조티아졸-N, N-디에틸디티오카바메이트 등을 들 수 있다. 이것들은 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 좋다.

광중합 개시제(C)는 반응성 폴리로텍산 화합물(B) 100중량부에 대하여, 1∼15중량부, 특히 2∼10중량부의 범위의 양으로 사용되는 것이 바람직하다.

점착성 조성물(P)은, 더욱 실란커플링제(D)를 함유해도 좋다. 이 실란커플링제 (D)를 함유하면, 얻어지는 점착제의 유리기판에 대한 밀착성을 향상시킬 수 있다. 예를 들면, (메타)아크릴산 에스테르 중합체(A)가 반응성 관능기로서 카르복실기를 갖는 경우, 실란커플링제(D)의 유기반응성기 등과 (메타)아크릴산 에스테르 중합체(A)의 카르복실기가 반응하고, 타방에서 실란커플링제(D)의 알콕시시릴기 등이 유리기판 등의 피착체면에 작용한다. 이것 때문에, 예를 들면 편광판을 액정 유리 셀 등에 첩합하는 경우에, 점착제와 액정 유리 셀의 사이의 밀착성이 보다 양호하게 된다. 한편, 중합체(A)의 반응성 관능기가, 카르복실기 이외인 경우에는, 해당 반응성 관능기와 작용하는 유기반응성기를 갖는 실란커플링제(D)가 적당히 선택된다.

실란커플링제(D)로서는, 분자내에 알콕시시릴기를 적어도 1개 갖는 유기 규소화합물이며, 점착제 성분과의 상용성이 좋고, 또한 광투과성을 갖는 것, 예를 들면 실질상 투명한 것이 적합하다. 이러한 실란커플링제(D)의 배합량은, (메타)아크릴산 에스테르 중합체(A) 100중량부에 대하여 0.01∼1.0중량부인 것이 바람직하고, 특히 0.05∼0.5중량부인 것이 바람직하다.

실란커플링제(D)의 구체예로서는, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 메타크릴록시프로필트리메톡시실란 등의 중합성 불포화기 함유 규소화합물, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 2-(3, 4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란 등의 에폭시 구조를 갖는 규소화합물, 3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란 등의 아미노기 함유 규소화합물, 3-메르캅토프로필트리메톡시실란 등의 티올기 함유 규소화합물, 3-클로로프로필트리메톡시실란 등의 할로겐화 알킬기 함유 규소화합물, 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란 등의 이소시아네이트기 함유 실란화합물, 상기 실란화합물의 가수분해물, 상기 실란화합물과 테트라에톡시실란 등의 테트라알콕시실란과의 공가수분해물 등을 들 수 있다. 이것들은, 1종을 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 좋다.

점착성 조성물(P)은, 점착제층 형성후에 에이징을 필요로 하는 열가교계의 가교제, 예를 들면 이소시아네이트계 가교제나 에폭시계 가교제를 함유하지 않는 것이 바람직하다. 타방에서, 점착제층 형성후에 에이징을 필요로 하지 않는 가교제, 예를 들면 아지리딘계 가교제를 함유하는 것은 바람직하다.

상기 점착성 조성물(P)에는, 소망에 의해, 아크릴계 점착제에 통상 사용되고 있는 각종 첨가제, 예를 들면 점착 부여제, 대전 방지제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 광안정제, 연화제, 충전제, 굴절율 조정제 등을 첨가할 수 있다.

〔점착성 조성물의 제조 방법〕

점착성 조성물(P)은, (메타)아크릴산 에스테르 중합체(A) 및 반응성 폴리로텍산 화합물(B)의 각각을 제조하고, 그것들을 혼합하는 동시에, 소망에 의해, 임의의 단계에서 광중합 개시제(C) 등을 첨가함으로써 제조할 수 있다.

(메타)아크릴산 에스테르 중합체(A)는, 통상의 라디칼 중합법에 의해 제조할 수 있다. (메타)아크릴산 에스테르 중합체(A)의 중합은, 소망에 의해 중합 개시제를 사용하고, 용액중합법 등에 의해 수행할 수 있다. 중합 용매로서는, 예를 들면, 초산에틸, 초산 n-부틸, 초산이소부틸, 톨루엔, 아세톤, 헥산, 메틸에틸케톤 등을 들 수 있고, 2종류 이상을 병용해도 좋다.

중합 개시제로서는, 아조계 화합물, 유기과산화물 등을 들 수 있고, 2종류 이상을 병용해도 좋다. 아조계 화합물로서는, 예를 들면, 2, 2'-아조비스이소부티로니트릴, 2, 2'-아조비스(2-메틸부티로니트릴), 1, 1'-아조비스(시클로헥산1-카보니트릴, 2, 2'-아조비스(2, 4-디메틸발레로니트릴), 2, 2'-아조비스(2, 4-디메틸 -4-메톡시발레로니트릴), 디메틸 2, 2'-아조비스(2-메틸프로피오네이트), 4, 4'-아조비스(4-시아노바레릭산), 2, 2'-아조비스(2-하이드록시메틸프로피오니트릴), 2, 2'-아조비스[2- (2-이미다졸린-2-일)프로판] 등을 들 수 있다.

유기과산화물로서는, 예를 들면, 과산화벤조일, t-부틸퍼벤조에이트, 쿠멘하이드록퍼옥사이드, 디이소프로필퍼옥시디카보네이트, 디-n-프로필퍼옥시디카보네이트, 디(2-에톡시에틸)퍼옥시디카보네이트, t-부틸퍼옥시네오데카노에이트, t-부틸퍼옥시비바레이트, (3, 5, 5-(트리메틸헥사노일)퍼옥사이드, 디프로피오닐퍼옥사이드, 디아세틸퍼옥사이드 등을 들 수 있다.

한편, 상기 중합 공정에서, 2-메르캅토에탄올 등의 연쇄 이동제를 배합함으로써, 얻어지는 중합체의 중량평균 분자량을 조절할 수 있다.

한편, 반응성 폴리로텍산 화합물(B)은, 상술한 바와 같이, 관능기를 갖는 환상 올리고당을 환상 분자로서 갖는 폴리로텍산 화합물(b1)과 중합성 이중 결합 함유 화합물(b2)을 반응시키는 것에 의해 제조할 수 있다.

(메타)아크릴산 에스테르 중합체(A) 및 반응성 폴리로텍산 화합물(B)이 얻어지면, 중합체(A) 및 반응성 폴리로텍산 화합물(B)의 용액을 혼합하고, 소망에 의해, 희석 용매를 첨가한다. 그 후, 소망에 의해, 광중합 개시제(C) 등을 첨가하고, 충분히 혼합함으로써, 용매로 희석된 점착성 조성물(도포 용액)을 얻는다.

점착성 조성물을 희석하여 도포 용액으로 하기 위한 희석 용제로서는, 예를 들면, 헥산, 헵탄, 시클로헥산 등의 지방족 탄화수소, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소, 염화 메틸렌, 염화 에틸렌 등의 할로겐화 탄화수소, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 1-메톡시-2-프로판올 등의 알코올, 아세톤, 메틸에틸케톤, 2-펜탄온, 이소포론, 시클로헥산온 등의 케톤, 초산 에틸, 초산 부틸 등의 에스테르, 에틸셀로솔브 등의 셀로솔브계 용제 등을 사용할 수 있다.

이와 같이 하여 제조된 도포 용액의 농도·점도로서는, 코팅 가능한 범위라면 좋고, 특별히 제한되지 않고, 상황에 따라서 적당히 선정할 수 있다. 예를 들면, 점착성 조성물의 농도가 10∼40중량%가 되도록 희석한다. 한편, 도포 용액을 얻을 때, 희석 용제 등의 첨가는 필요조건이 아니고, 점착성 조성물이 코팅 가능한 점도 등이라면, 희석 용제를 첨가하지 않아도 좋다. 이 경우, 점착성 조성물이 그대로 도포 용액이 된다.

〔점착제〕

본 실시 형태에 따른 점착제는, 점착성 조성물(P)을 소망의 대상물에 도포해 건조시킨 후, 활성 에너지선의 조사에 의해 점착성 조성물(P)을 경화시키는 것에 의해, 바람직하게 얻을 수 있다.

점착성 조성물(P)의 건조는, 풍건에 의해 행하여도 좋지만, 통상은 가열 처리 (바람직하게는, 열풍건조)에 의해 행한다. 가열 처리를 할 경우, 가열 온도는, 50∼150℃인 것이 바람직하고, 특히 70∼120℃인 것이 바람직하다. 또한, 가열 시간은, 10초∼10분인 것이 바람직하고, 특히 50초∼2분인 것이 바람직하다.

활성 에너지선으로서는, 통상, 자외선, 전자선 등을 사용할 수 있다. 활성 에너지선의 조사량은, 에너지선의 종류에 의해 다르지만, 예를 들면 자외선의 경우에는, 광량으로 50∼1000mJ/cm²이 바람직하고, 특히 100∼500mJ/cm²이 바람직하다. 또한, 전자선의 경우에는, 10∼1000krad 정도가 바람직하다.

점착성 조성물(P)에 대하여 상기 활성 에너지선을 조사하면, 상기 구조X가 형성되는 것으로 추정된다. 이렇게 점착성 조성물(P)을 경화해서 얻어지는 점착제는, 상기 구조X에 의해, 충분한 응집력을 가지면서, 뛰어난 응력완화성을 발휘한다고 생각된다. 또한, 활성 에너지선의 조사에 의한 점착성 조성물(P)의 경화는 신속하게 행하여지기 때문에, 에이징의 필요는 없고, 얻어지는 점착제의 점착력 등의 제물성은 초기 단계부터 안정된다. 그것에 의해, 해당 점착제로 이루어지는 점착제층을 구비한 부재의 출하나 다음 공정투입을 신속하게 행할 수 있고, 중간재료의 재고부담이나 생산성의 면에서 대단히 유리하다.

본 실시 형태에 따른 점착제는, 점착제층 형성 직후(측정까지의 타임 래그를 고려하여, 본 명세서에서의 「점착제층 형성 직후」는, 활성 에너지선 조사로부터 반나절 정도내를 의미한다.)의 겔 분률을 G1, 점착제층 형성으로부터 23℃, 50% RH의 환경 하에서 7일간 보관한 후의 겔 분률을 G2로 했을 때에, 이하의 식

겔 분률 변동률(%)=|(G2-G1)/G2|×100

으로부터 산출되는 겔 분률 변동률이, 10% 이내인 것이 바람직하다. 겔 분률의 측정 방법은, 후술하는 시험 예에 가리키는 바와 같다. 상기한 바와 같이 겔 분률 변동률이 10% 이내라고 하는 것은, 점착제층 형성 직후로부터 점착제의 경화가 실질적으로 완료되고 있는 것을 나타낸다.

점착제층 형성 직후의 겔 분률 G1 및 상기 7일간 보관후의 겔 분률 G2은, 각각 20∼90%인 것이 바람직하고, 특히 30∼70%인 것이 바람직하다. 겔 분률이 20% 미만이면, 점착제의 응집력이 부족하고, 내구성 및 리워크성이 저하될 경우가 있다. 또한, 겔 분률이 90%를 넘으면, 점착제의 응력완화성이 저하되는 것에 의해 파단 신장률이 저하되는 경우가 있다.

본 실시 형태에 따른 점착제는, 점착제층 형성 직후의 점착력과, 점착제층 형성으로부터 23℃, 50% RH의 환경 하에서 7일간 보관한 후의 점착력과의 차이가,±3.0N/25mm 이내인 것이 바람직하고, 특히 ±2.5N/25mm 이내인 것이 바람직하다.

한편, 여기에서 말하는 점착력은, JIS Z0237에 준한 180°당겨떼냄 점착력(박리 속도 300mm/min)을 의미하고, 피착체에 첩부하여, 0.5MPa, 50℃로 20분 가압한 후, 23℃, 50%RH의 조건 하에서 24시간 방치하고나서 측정하는 것으로 한다. 상기한 바와 같이 점착력 차이가 ±3.0N/25mm 이내이면, 점착제층 형성 직후로부터 안정된 점착력을 발휘하는 것이 된다.

또한, 본 실시 형태에 따른 점착제의 점착력은, 점착제층 형성 직후 및 7일간 보관후의 어느 경우도, 예를 들면 편광판을 기재로서, 무알칼리 유리에 대한 점착력이, 0.1∼50N/25mm인 것이 바람직하고, 특히 0.5∼30N/25mm인 것이 바람직하다. 점착력이 상기의 범위내에 있음으로써, 유리기판으로부터의 들뜸이나 박리 등을 방지하는 동시에, 리워크성도 뛰어난 점착 시트로 할 수 있다.

본 실시 형태에 따른 점착제의 헤이즈 값(JIS K7105에 준해서 측정한 값)은, 10% 이하인 것이 바람직하고, 특히 7% 이하인 것이 바람직하고, 나아가서는 4% 이하인 것이 바람직하다. 헤이즈 값이 10% 이하이면, 투명성이 높고, 광학용도로서 적합한 것이 된다.

본 실시 형태에 따른 점착제의 인장시험에 의한 파단 신장률은, 2000% 이상인 것이 바람직하고, 특히 3000% 이상인 것이 바람직하고, 나아가서는 4000% 이상인 것이 바람직하다. 파단 신장률이 이러한 값인 것은, 점착제가 뛰어난 응력완화성을 갖는 것을 가리킨다.

한편, 상기 인장시험은, 적층 등에 의해 폭 10mm, 길이 20mm 및 두께 500μm으로 한 점착제편(기재 등을 동반하지 않는 단독의 점착제층)을, 인장시험에 의해 200mm/분의 속도로 신장시켜서 한다.

본 실시 형태에 따른 점착제는, 광학부재용으로서 바람직하게 사용할 수 있고, 예를 들면, 편광판(편광 필름)과 위상차판(위상차 필름) 등의 광학부재끼리의 접착, 혹은 편광판(편광 필름)이나 위상차판(위상차 필름)과 유리기판의 접착에 적합하다.

〔점착 시트〕

도1에 도시한 바와 같이, 제1 실시 형태에 따른 점착 시트(1A)는, 아래로부터 순서대로, 박리 시트(12)와, 박리 시트(12)의 박리면에 적층된 점착제층(11)과, 점착제층(11)에 적층된 기재(13)로 구성된다.

또한, 도2에 도시한 바와 같이, 제2 실시 형태에 따른 점착 시트(1B)는, 2장의 박리 시트(12a, 12b)와, 그것들 2장의 박리 시트(12a, 12b)의 박리면과 접하도록 상기 2장의 박리 시트(12a, 12b) 사이에 끼워진 점착제층(11)으로 구성된다. 한편, 본 명세서에서의 박리 시트의 박리면이란, 박리 시트에서 박리성을 갖는 면을 의미하고, 박리 처리를 실시한 면 및 박리 처리를 실시하지 않더라도 박리성을 나타내는 면의 모두를 포함하는 것이다.

어느 점착 시트(1A,1B)에서도, 점착제층(11)은 상술한 점착성 조성물을 경화시켜 이루어지는 점착제로 된다.

점착제층(11)의 두께는 점착 시트(1A,1B)의 사용 목적에 따라 적절히 결정되지만, 통상 5∼100μm, 바람직하게는 10∼60μm의 범위이며, 예를 들면, 광학부재, 특히 편광판용의 점착제층으로서 사용하는 경우에는, 10∼50μm, 특히 10∼30μm인 것이 바람직하다.

기재(13)로서는 특별히 제한은 없고, 통상의 점착 시트의 기재 시트로서 사용되는 것은 모두 사용할 수 있다. 예를 들면, 소망의 광학부재 이외에, 레이온, 아크릴, 폴리에스테르 등의 섬유를 사용한 직포 또는 부직포; 합성지; 상질지, 글라신지, 함침지, 코팅지 등의 종이류; 알루미늄, 구리 등의 금속박; 우레탄 발포체, 폴리에틸렌 발포체 등의 발포체; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르 필름, 폴리우레탄 필름, 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스 필름, 폴리염화비닐 필름, 폴리염화비닐리덴 필름, 폴리비닐알코올 필름, 에틸렌-초산비닐공중합체 필름, 폴리스티렌 필름, 폴리카보네이트 필름, 아크릴 수지 필름, 노르보르넨계 수지 필름, 시클로올레핀 수지 필름 등의 플라스틱 필름; 이러한 2종 이상의 적층체 등을 들 수 있다. 플라스틱 필름은 1축 연장 또는 2축 연장된 것이라도 좋다.

광학부재로서는, 예를 들면, 편광판(편광 필름), 편광자, 위상차판(위상차 필름), 시야각보상 필름, 휘도향상 필름, 콘트래스트 향상 필름, 액정 폴리머 필름, 확산 필름, 반투과 반사 필름 등을 들 수 있다.

기재(13)의 두께는 그 종류에 의해서도 다르지만, 예를 들면 광학부재의 경우에는 통상 10μm ~500μm 이고, 바람직하게는 50μm ~300μm 이다.

박리 시트(12,12a,12b)로서는, 예를 들면, 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리부텐 필름, 폴리부타디엔 필름, 폴리메틸펜텐 필름, 폴리염화비닐 필름, 염화비닐공중합체 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리에틸렌나프탈레이트 필름, 폴리부틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리우레탄 필름, 에틸렌 초산비닐 필름, 아이오노머 수지 필름, 에틸렌·(메타)아크릴산공중합체 필름, 에틸렌·(메타)아크릴산에스테르공중합체 필름, 폴리스티렌 필름, 폴리카보네이트 필름, 폴리이미드 필름, 불소수지 필름 등을 사용할 수 있다. 또한, 이러한 가교 필름도 사용할 수 있다. 나아가서, 이러한 적층 필름이어도 좋다. 한편, 박리 시트(12,12a,12b)는 활성 에너지선 투과성인 것이 바람직하다.

상기 박리 시트의 박리면(특히 점착제층(11)에 접하는 면)에는, 박리 처리가 실시되어 있는 것이 바람직하다. 박리 처리에 사용되는 박리제로서는, 예를 들면, 알키드계, 실리콘계, 불소계, 불포화 폴리에스테르계, 폴리올레핀계, 왁스계의 박리제를 들 수 있다.

박리 시트(12,12a,12b)의 두께에 대해서는 특별히 제한은 없지만, 통상 20∼150μm 정도이다.

상기 점착 시트(1A)를 제조하기 위해서는, 박리 시트(12)의 박리면에, 점착성 조성물(P)을 포함하는 용액(도포 용액)을 도포·건조하고, 점착제 조성물(P)의 도막층을 형성한 후, 그 도막층 위에 기재(13)를 적층한다. 그리고, 박리 시트(12) 너머에 상기 도막층에 활성 에너지선을 조사함으로써, 점착제층(11)을 형성한다. 활성 에너지선 조사후, 에이징은 불필요하다. 한편, 활성 에너지선의 조건에 대해서는, 상술한 바와 같다.

또한, 상기 점착 시트(1B)를 제조하기 위해서는, 한쪽의 박리 시트(12a)(또는 (12b))의 박리면에, 상기 점착성 조성물을 포함하는 도포 용액을 도포·건조하고, 점착성 조성물(P)의 도막층을 형성한 후, 그 도막층 위에 다른쪽의 박리 시트(12b)(또는 (12a))를 적층한다. 그리고, 박리 시트(12a)(또는 (12b)) 너머에 상기 도막층에 활성 에너지선을 조사함으로써, 점착제층(11)을 형성한다.

또한, 상기한 바와 같이 박리 시트 너머에 활성 에너지선을 조사해서 점착제층(11)을 형성하는 것으로 교체하고, 박리 시트 위에 점착성 조성물(P)의 도막층을 형성하고, 그 도막층이 노출된 상태 그대로, 활성 에너지선을 조사해서 점착제층(11)을 형성하고, 그 후, 해당 점착제층(11)에 기재나 박리 시트를 적층해도 좋다. 나아가서는, 기재 위에, 직접 점착성 조성물(P)의 도막층을 형성하고, 해당 도막층에 활성 에너지선을 조사해서 점착제층(11)을 형성해도 좋다.

상기 도포 용액을 도포하는 방법으로서는, 예를 들면 바 코팅법, 나이프 코팅법, 롤 코팅법, 블레이드 코팅법, 다이 코팅법, 그라비어 코팅법 등을 사용할 수 있다.

여기에서, 예를 들면, 액정 셀과 편광판으로 구성되는 액정표시장치를 제조하는데는, 점착 시트(1A)의 기재(13)로서 편광판을 사용하고, 해당 점착 시트(1A)의 박리 시트(12)를 박리하고, 노출한 점착제층(11)과 액정 셀을 첩합하면 좋다.

또한, 예를 들면, 액정 셀과 편광판의 사이에 위상차판이 배치되는 액정표시장치를 제조하는데는, 하나의 예로서, 우선, 점착 시트(1B)의 한쪽의 박리 시트(12a)(또는 (12b))를 박리하고, 점착 시트(1B)의 노출된 점착제층(11)과 위상차판을 첩합한다. 그 다음에, 기재(13)로서 편광판을 사용한 점착 시트(1A)의 박리 시트(12)를 박리하고, 점착 시트(1A)의 노출된 점착제층(11)과 상기 위상차판을 첩합한다. 나아가서, 상기 점착 시트(B)의 점착제층(11)으로부터 다른쪽의 박리 시트(12b)(또는 (12a))를 박리하고, 점착 시트(B)의 노출된 점착제층(11)과 액정 셀을 첩합한다.

이상의 점착 시트(1A,1B)에 의하면, 점착제층(11)이 응력완화성이 뛰어나기 때문에, 예를 들면 편광판의 접착에 적용했을 경우라도, 내구성이 높고, 접착 계면에서 들뜸이나 박리가 발생하지 않게 된다.

이상 설명한 실시 형태는, 본 발명의 이해를 용이하게 하기 위해서 기재된 것이며, 본 발명을 한정하기 위해서 기재된 것이 아니다. 따라서, 상기 실시 형태에 공개된 각 요소는, 본 발명의 기술적 범위에 속하는 모든 설계 변경이나 균등물도 포함하는 취지이다.

예를 들면, 점착 시트(1A)의 박리 시트(12)는 생략되어도 좋고, 점착 시트(1B)에서의 박리 시트(12a,12b)의 어느 한쪽은 생략되어도 좋다.

〔실시예〕

이하, 실시예 등에 의해 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하지만, 본 발명의 범위는 이들 실시예 등에 한정되는 것이 아니다.

〔실시예1〕

1. (메타)아크릴산 에스테르 중합체의 제조

교반기, 온도계, 환류 냉각기, 적하 장치 및 질소도입관을 구비한 반응 용기에, 아크릴산 n-부틸 95중량부, 아크릴산 5중량부, 초산 에틸 200중량부 및 2, 2'-아조비스이소부틸니트릴 0.08중량부를 넣고, 상기 반응 용기내의 공기를 질소 가스로 치환했다. 이 질소분위기 하에서 휘저으면서, 반응 용액을 60℃로 승온하고, 16시간 반응시킨 후, 실온까지 냉각했다. 여기에서, 얻어진 용액의 일부를 후술하는 방법으로 분자량을 측정하고, 중량평균 분자량(Mw) 200만의 (메타)아크릴산 에스테르 중합체(중합체(A))의 생성을 확인했다.

2. 반응성 폴리로텍산 화합물(B)의 제조

직쇄상 분자가 폴리에틸렌 글리콜이며, 환상 분자가, 하이드록시프로필기 및 카프락톤쇄를 갖고, 해당 카프락톤쇄의 말단에 수산기를 갖는 α-시클로 덱스트린이며, 블록기가 아다만탄기인 폴리로텍산 화합물(b1;어드반스트·소프트머티어리얼즈사제, SeRM 슈퍼 폴리머 A1000, 중량평균 분자량 60만, 수산기값 72mgKOH/g, 고형분농도 100중량%)을, 톨루엔에서 고형분농도 20중량%가 되도록 희석했다.

상기 폴리로텍산 화합물(b1)의 용액에, 중합성 이중 결합 함유 화합물(b2)로서의 메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트(MOI:쇼와덴코사제, 카렌즈(Karenz) MOI)를, 해당 MOI의 양이 폴리로텍산 화합물(b1)의 수산기에 대하여 20mol%가 되도록 첨가하는 동시에, 촉매로서 디부틸주석라우레이트를 MOI에 대하여 10중량% 첨가하고, 질소분위기 하에서, 23℃로 24시간 반응시켜서, 중합성 이중 결합을 포함하는 메타크릴로일기를 갖는 α-시클로 덱스트린을 환상 분자로서 갖는 반응성 폴리로텍산 화합물(B)을 얻었다. 이 반응성 폴리로텍산 화합물(B)이 생성한 것은, 퓨리에 변환 적외 분광 광도계(FT-IR)에 의한 측정에서, MOI의 이소시아네이트기와 폴리로텍산 화합물(b1)의 수산기의 반응에 의해 형성되는 우레탄 결합 유래의 피크 (3350cm^-1부근, 1650cm^-1,및 1500cm^-1)가 확인된 것(도 3에 도시한 FT-IR 스펙트럼 참조) 및 후술하는 점착성 조성물에 자외선을 조사했을 때에 겔 분률이 상승한 것부터 확인할 수 있었다.

3. 점착성 조성물의 제조

상기 공정(1)에서 얻어진 (메타)아크릴산 에스테르 중합체(중합체(A)) 100중량부(고형분 환산 값)에 대하여, 상기 공정(2)에서 얻어진 반응성 폴리로텍산 화합물(B) 20중량부를 혼합한 후, 광중합 개시제(C)로서 벤조페논 및 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤을 1:1의 중량비로 혼합한 것(지바·스페셜리티케미컬즈사제, 일가큐어(IRGACURE) 500) 0.5중량부를 첨가하고, 충분히 교반함으로써, 점착성 조성물의 도포 용액을 얻었다.

여기에서, 해당 점착성 조성물의 배합을 표1에 나타낸다. 한편, 표1에 기재된 약호 등의 상세한 것은 아래와 같다.

[중합체(A)]

BA:아크릴산 n-부틸

AA:아크릴산

HEA:아크릴산 2-하이드록시에틸

[이소시아네이트계 가교제]

코로네이트L:트리메틸올프로판의 트릴렌디이소시아네이트 부가물(저팬폴리우레탄사제, 상품명 「코로네이트L」)

타케네이트D-110N:트리메틸올프로판의 크실렌디이소시아네이트 부가물(미쓰이카가쿠 폴리우레탄사제, 상품명 「타케네이트D-110N」) [에폭시계 가교제]

TETRAD-X:N, N, N', N'-테트라글리시딜-m-크실렌디아민(미쓰비시가스케미컬사제, 상품명 「TETRAD-X」)

[가소제]

아데카사이저C-8:트리메리트산 에스테르계 가소제(트리스(2에틸 헥실)트리메리테이트)(아사히덴카코교우사제, 상품명 「아데카사이저C-8」)

4. 점착제층 부착 편광판의 제조

얻어진 점착성 조성물의 도포 용액을, 폴리에틸렌테레프탈레이트필름의 한 면을 실리콘계 박리제로 박리 처리한 박리 시트(린텍사제, SP-PET3811, 두께:38μm)의 박리 처리면에 나이프 코터로 도포하고, 90℃로 1분간 가열 처리함으로써, 점착성 조성물의 도막층을 형성했다.

그 다음에, 디스크틱 액정층 부착 편광 필름으로 이루어지는, 편광 필름과 시야각확대 필름이 일체화한 편광판을, 상기 도막층의 노출 표면과 디스크틱 액정층의 표면이 접하게 첩합하였다. 그 후, 박리 시트 너머에 이하의 조건으로 자외선을 조사하고, 상기 도막층을 점착제층으로 함으로써, 점착제층 부착 편광판을 얻었다. 한편, 점착제층의 두께는 25μm이었다.

<자외선조사 조건>

·퓨전사제 무전극 램프 H밸브 사용

·조도 600mW/cm², 광량 150mJ/cm²

·UV조도·광량계는 아이그라픽스사제 「UVPF-36」을 사용

〔실시예 2∼5, 비교예 1∼2〕

(메타)아크릴산 에스테르 중합체를 구성하는 각 모노머의 종류 및 비율 및 반응성 폴리로텍산 화합물(B) 및 광중합 개시제(C)의 배합량을 표1에 나타낸 바와 같이 변경하는 것 이외에는, 실시예 1과 같이 해서 점착제층 부착 편광판을 제조했다.

〔비교예3∼4〕

(메타)아크릴산 에스테르 중합체를 구성하는 각 모노머의 종류 및 비율을 표1에 나타낸 바와 같이 변경하는 동시에, 반응성 폴리로텍산 화합물(B) 및 광중합 개시제(C)를 사용하지 않고, 표1에 나타낸 바와 같이 가교제 또는 가소제를 사용하고, 자외선을 조사하지 않는 것 이외에, 실시예 1과 같이 해서 점착제층 부착 편광판을 제조했다.

여기에서, 상술한 중량평균 분자량(Mw)은, 겔퍼미에이션 크로마토그래피(GPC)를 사용해서 이하의 조건으로 측정(GPC측정)한 폴리스티렌 환산의 중량평균 분자량이다.

<측정 조건>

·GPC측정 장치:토소사제, HLC-8020

·GPC칼럼(이하의 순서대로 통과):토소사제

·TSK guard column HXL-H

·TSK gel GMHXL(×2)

·TSK gel G2000 HXL

·측정 용매:테트라하이드로퓨란

·측정 온도:40℃

〔시험예1〕(겔 분률의 측정)

실시예 또는 비교예에서 점착제층 부착 편광판의 제작에 사용한 편광판으로 바꾸고, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 한 면을 실리콘계 박리제로 박리 처리한 박리 시트(린텍사제, SP-PET3801, 두께:38μm)를 사용하여, 점착 시트를 제작했다. 구체적으로는, 실시예 또는 비교예의 제조 과정으로 얻어진 박리 시트/점착성 조성물의 도막층으로 이루어지는 구성체의 노출되어 있는 도막층 위로, 상기 박리 시트를 박리 처리면측이 접하도록 적층하고, 박리 시트 너머에 상기와 같은 조건으로 자외선을 조사했다. 이것에 의해, 박리 시트/점착제층/박리 시트의 구성으로 이루어지는 점착 시트를 제작했다. 한편, 점착제층의 두께는 25μm이었다.

상기한 바와 같이 제작한 점착 시트를, 제작후 곧(자외선 조사후, 반나절 경과전에), 80mm×80mm의 사이즈로 샘플링하고, 그 점착제층을 폴리에스테르제 메쉬(메쉬 사이즈200)로 휘감아 싸서, 점착제만의 중량을 정밀 천칭으로 칭량했다. 또한, 상기한 바와 같이 제작한 점착 시트를, 23℃, 50% RH의 조건 하에서 7일간 보관하고, 그 후, 상기와 같이 해서 점착제만의 중량을 칭량했다. 이 중량을 M1로 한다.

그 다음에, 상기 폴리에스테르제 메쉬로 휘감아 싸여진 점착제를, 실온 하(23℃)에서 초산 에틸에 24시간 침지시켰다. 그 후 점착제를 꺼내고, 온도 23℃, 상대 습도 50%의 환경 하에서, 24시간 풍건시키고, 나아가서 80℃의 오븐중에서 12시간 건조시켰다. 건조후의 점착제만의 중량을, 정밀 천칭으로 칭량했다. 이 때의 중량을 M2로 한다.

얻어진 M1 및 M2로부터, 이하의 식

겔 분률(%)=(M2/M1)×100

에 의해, 점착 시트 제작 직후(점착제층 형성 직후)의 겔 분률G1(%) 및 점착 시트 제작(점착제층 형성)으로부터 23℃, 50% RH의 환경 하에서 7일간 보관한 후의 겔 분률G2(%)을 산출했다.

또한, 얻어진 G1 및 G2로부터, 이하의 식

겔 분률 변동률(%)=|(G2-G1)/G2|×100

에 의해, 겔 분률 변동률(%)을 산출했다. 결과를 표2에 나타낸다.

〔시험예2〕(점착력의 측정)

실시예 또는 비교예에서 얻어진 점착제층 부착 편광판을 재단하고, 25mm 폭, 100mm 길이의 샘플을 제작했다. 샘플로서는, 점착제층 부착 편광판 제작 직후(점착제층 형성 직후, 다시 말해 자외선조사로부터 반나절 정도내)의 것과, 점착제층 부착 편광판 제작(점착제층 형성)으로부터 23℃, 50% RH의 환경 하에서 7일간 보관한 후의 것을 준비했다. 이들 샘플로부터 박리 시트를 벗기고, 노출된 점착제층을 통해서 무알칼리 유리(코닝사제, 이글XG)에 해당 샘플을 첩부한 뒤, 쿠리하라 제작소사제 오토클레이브에서 0.5MPa, 50℃로, 20분 가압했다. 그 후, 23℃, 50% RH의 조건 하에서 24시간 방치하고나서, 인장시험기(오리엔테크사제, 텐시론)를 사용하여, 박리 속도 300mm/min, 박리 각도 180°의 조건으로, 점착제층 형성 직후의 점착력(S1:N/25mm) 및 7일간 보관후의 점착력(S2:N/25mm)을 측정했다. 또한, 7일간 보관후의 점착력(S2)으로부터 점착제층 형성 직후의 점착력(S1)을 차감한 점착력 차이(ΔS)를 산출했다. 결과를 표2에 나타낸다.

〔시험예3〕 (헤이즈 값의 측정)

측정 샘플로서, 겔 분률의 측정에 사용한 점착 시트와 같은 점착 시트(7일간 보관완료)를 준비했다. 해당 점착 시트의 점착제층에 대해서, 헤이즈 미터(니폰덴쇼구코교우사제, NDH2000)를 사용하고, JIS K7105에 준해서 헤이즈 값(%)을 측정했다. 결과를 표2에 나타낸다.

〔시험 예4〕 (인장시험)

상기 겔 분률의 측정에서 제작한 점착 시트와 같이 해서, 박리 시트/점착제층/박리 시트의 구성으로 이루어지는 점착 시트를 제작했다.

상기 점착 시트에서의 점착제층의 합계 두께가 500μm가 되도록, 또한 적층체의 최표층의 박리 시트만이 남도록 상기 점착제층을 복수층 적층했다. 그 후(비교예 3,4는 23℃, 50% RH의 분위기 하에서 2주간 방치한 후), 상기 점착제층을 복수층 적층한 점착 시트로부터 10mm 폭×75mm 길이의 샘플을 잘라내서, 적층체의 최표층에 적층된 박리 시트를 벗기고, 샘플 측정 부위가 10mm 폭×20mm 길이(신장 방향)가 되도록 샘플을 세트하고, 23℃, 50% RH의 환경 하에서 인장시험기 (오리엔테크사제, 텐시론)를 사용해서 인장속도 200mm/분으로 신장시켜, 파단 신장률(%)을 측정했다. 결과를 표2에 나타낸다.

표2로부터 알 수 있는 바와 같이, 실시예에서 얻어진 점착제층의 점착제는, 대단히 높은 파단 신장률을 나타내고, 또한, 점착제층 형성 직후 및 7일간 보관후에, 겔 분률 및 점착력의 변동이 미소했다.

본 발명의 점착성 조성물 및 점착제는, 광학부재, 예를 들면 편광판이나 위상차판의 접착에 적합하고, 또한, 본 발명의 점착 시트는, 편광판이나 위상차판 등의 광학부재용의 점착 시트로서 적합하다. 또한, 본 발명의 반응성 폴리로텍산은, 상기 점착성 조성물의 일성분으로서 바람직하게 사용할 수 있다.

1A, 1B…점착 시트
11…점착제층
12, 12a, 12b…박리 시트
13…기재

Claims

중합체를 구성하는 모노머 단위로서, 카르복실기를 갖는 모노머를 함유하는, 중량평균 분자량이 50만∼300만인 (메타)아크릴산 에스테르 중합체(A)와,
중합성 이중 결합을 갖는 환상 올리고당을, 환상 분자로서 갖는 반응성 폴리로텍산 화합물(B)을 함유하는 것을 특징으로 하는 점착성 조성물.
청구항 1에 있어서,
상기 반응성 폴리로텍산 화합물(B)의 환상 올리고당이 갖는 중합성 이중 결합은, 이소시아네이트를 통해서 상기 환상 올리고당에 도입된 (메타)아크릴로일기에 포함되는 것을 특징으로 하는 점착성 조성물.
청구항 1에 있어서,
상기 반응성 폴리로텍산 화합물(B)은, 관능기를 갖는 환상 올리고당을 환상 분자로서 갖는 폴리로텍산 화합물(b1)과, 상기 관능기와 반응하는 치환기를 갖는 중합성 이중 결합 함유 화합물(b2)을 반응시켜서 얻어지는 것이며,
상기 중합성 이중 결합 함유 화합물(b2)의 양은, 상기 폴리로텍산 화합물(b1)의 상기 관능기에 대하여 10∼60mol%인 것을 특징으로 하는 점착성 조성물.
청구항 1에 있어서,
상기 (메타)아크릴산 에스테르 중합체(A) 100중량부에 대한 상기 반응성 폴리로텍산 화합물(B)의 비율은, 5∼60중량부인 것을 특징으로 하는 점착성 조성물.
청구항 1에 있어서,
상기 (메타)아크릴산 에스테르 중합체(A)는, 상기 중합체를 구성하는 모노머 단위로서, 상기 카르복실기를 갖는 모노머를 1∼30중량% 함유하는 것을 특징으로 하는 점착성 조성물.
청구항 1에 있어서,
상기 점착성 조성물은, 광중합 개시제(C)를 더 함유하는 것을 특징으로 하는 점착성 조성물.
청구항 6에 있어서,
상기 광중합 개시제(C)의 함유량은, 상기 반응성 폴리로텍산 화합물(B) 100중량부에 대하여, 1∼15중량부인 것을 특징으로 하는 점착성 조성물.
청구항 1∼7 중 어느 하나의 항에 기재된 점착성 조성물을, 활성 에너지선의 조사에 의해 경화시켜 이루어진 점착제.
기재와, 점착제층을 구비한 점착 시트로서,
상기 점착제층은 청구항 8에 기재된 점착제로 이루어지는 것을 특징으로 하는 점착 시트.
청구항 9에 있어서,
상기 기재는, 광학부재인 것을 특징으로 하는 점착 시트.
2장의 박리 시트와,
상기 2장의 박리 시트의 박리면과 접하도록 상기 박리 시트에 협지된 점착제층을 구비한 점착 시트로서,
상기 점착제층은 청구항 8에 기재된 상기 점착제로 이루어지는 것을 특징으로 하는 점착 시트.